JP2000282012A - テクスチャ加工液調製用組成物及びテクスチャ加工液 - Google Patents
テクスチャ加工液調製用組成物及びテクスチャ加工液Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ディスクのテクスチャ加工に使用するテ
クスチャ加工液調製用組成物、及びそれを用いたテクス
チャ加工液を提供すること。 【解決手段】 下記成分を含有するテクスチャ加工液調
製用組成物。 （Ａ）炭素原子数１０〜６０のジカルボン酸、及び
（Ｂ）該ジカルボン酸を中和、水溶化するのに必要な塩
基性物質。
クスチャ加工液調製用組成物、及びそれを用いたテクス
チャ加工液を提供すること。 【解決手段】 下記成分を含有するテクスチャ加工液調
製用組成物。 （Ａ）炭素原子数１０〜６０のジカルボン酸、及び
（Ｂ）該ジカルボン酸を中和、水溶化するのに必要な塩
基性物質。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスクの精
密研磨（テクスチャ）加工に使用するテクスチャ加工液
調製用組成物、それを用いたテクスチャ加工液に関す
る。さらに詳細には、表面粗さ、最大突起高さ、ランナ
ウト等の非常に優れた（値の小さい）、磁気ディスクを
製造する為に有用なテクスチャ加工液、及びそれを調製
するための組成物に関する。
密研磨（テクスチャ）加工に使用するテクスチャ加工液
調製用組成物、それを用いたテクスチャ加工液に関す
る。さらに詳細には、表面粗さ、最大突起高さ、ランナ
ウト等の非常に優れた（値の小さい）、磁気ディスクを
製造する為に有用なテクスチャ加工液、及びそれを調製
するための組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンピューターの高性能化に伴ない、コ
ンピューター自身が取り扱う情報量は指数関数的に増大
している。その結果、コンピューターの主要部品である
磁気記憶装置（ハードディスク装置）においても記憶密
度の向上が著しく要求されてきている。この装置は、高
速回転する磁気ディスクとディスク表面上のディジタル
信号を判読、記録する磁気ヘッドより構成される。そし
てこの磁気ディスクと磁気ヘッドの間隔（浮揚高さ）
は、記憶密度の向上と共に、従来の約2μｍから約0.15
μｍと、約1/10となっている。このため、磁気ディスク
の表面粗さ、平坦度が非常に重要視されてきている。さ
らに、磁気ディスクと磁気ヘッドの間隔が0.15μｍと非
常に狭い（小さい）ため、時々磁気ヘッドがディスク表
面に吸着し、コンピューターに異常が発生し問題となる
ことがある。
ンピューター自身が取り扱う情報量は指数関数的に増大
している。その結果、コンピューターの主要部品である
磁気記憶装置（ハードディスク装置）においても記憶密
度の向上が著しく要求されてきている。この装置は、高
速回転する磁気ディスクとディスク表面上のディジタル
信号を判読、記録する磁気ヘッドより構成される。そし
てこの磁気ディスクと磁気ヘッドの間隔（浮揚高さ）
は、記憶密度の向上と共に、従来の約2μｍから約0.15
μｍと、約1/10となっている。このため、磁気ディスク
の表面粗さ、平坦度が非常に重要視されてきている。さ
らに、磁気ディスクと磁気ヘッドの間隔が0.15μｍと非
常に狭い（小さい）ため、時々磁気ヘッドがディスク表
面に吸着し、コンピューターに異常が発生し問題となる
ことがある。
【０００３】更に近年の同記憶装置では、磁気ディスク
と磁気ヘッド界面が完全に接触した状態でディスクの回
転停止が行なわれる Contact Start Stop (C.S.S.)方式
が採用されており、磁気ディスク表面の表面粗さ、平坦
度等が従来にまして重要視されてきている。これらの要
求に対処するため、磁気表面に精密研磨加工（テクスチ
ャ加工）を行ない、要求される所定の表面粗さ、平坦度
を得て、磁気ヘッドの吸着防止を行なっている。テクス
チャ加工とは、磁気ディスク表面に、砥粒を含む研磨テ
ープを押し付け、そのテープに微細粒径の研磨材粒子
(砥粒)が分散されたテクスチャ加工液を滴下しながら研
磨加工し、磁気ディスク表面に均一な条痕を形成させ、
さらに所定の表面粗さ、平坦度を得るものである。
と磁気ヘッド界面が完全に接触した状態でディスクの回
転停止が行なわれる Contact Start Stop (C.S.S.)方式
が採用されており、磁気ディスク表面の表面粗さ、平坦
度等が従来にまして重要視されてきている。これらの要
求に対処するため、磁気表面に精密研磨加工（テクスチ
ャ加工）を行ない、要求される所定の表面粗さ、平坦度
を得て、磁気ヘッドの吸着防止を行なっている。テクス
チャ加工とは、磁気ディスク表面に、砥粒を含む研磨テ
ープを押し付け、そのテープに微細粒径の研磨材粒子
(砥粒)が分散されたテクスチャ加工液を滴下しながら研
磨加工し、磁気ディスク表面に均一な条痕を形成させ、
さらに所定の表面粗さ、平坦度を得るものである。
【０００４】砥粒としては、従来よりAl2O3 、Fe2O3 等
の金属酸化物、SiC等の炭化物、立方晶窒化硼素(Cubic
Boron Nitrite)等のホウ化物、ダイヤモンド等が用いら
れ、特にAl2O3 、ダイヤモンドが一般的である。また、
テクスチャ加工液としてはこれ等砥粒を、一般の水溶性
研削剤を純水で２〜１００倍程度に希釈した希釈液に分
散して使用している(例えば、特開平７−５７２５３号
公報)。しかし、この様な方法で調整した砥粒混入テク
スチャ加工液は、もともと研削油剤自身が微細砥粒を液
中に均一に分散する能力を有していない為、砥粒が液中
で均一に分散されず、又、微細砥粒の二次凝集が生じ実
際のアルミニウム基板（例えばＮｉ−Ｐ表面処理アルミ
ニウム合金）のテクスチャ加工を行った場合、しばしば
表面粗さの増大、平坦度の低下、テクスチャリング条痕
のバラツキ（不均一性）が発生し問題があった。
の金属酸化物、SiC等の炭化物、立方晶窒化硼素(Cubic
Boron Nitrite)等のホウ化物、ダイヤモンド等が用いら
れ、特にAl2O3 、ダイヤモンドが一般的である。また、
テクスチャ加工液としてはこれ等砥粒を、一般の水溶性
研削剤を純水で２〜１００倍程度に希釈した希釈液に分
散して使用している(例えば、特開平７−５７２５３号
公報)。しかし、この様な方法で調整した砥粒混入テク
スチャ加工液は、もともと研削油剤自身が微細砥粒を液
中に均一に分散する能力を有していない為、砥粒が液中
で均一に分散されず、又、微細砥粒の二次凝集が生じ実
際のアルミニウム基板（例えばＮｉ−Ｐ表面処理アルミ
ニウム合金）のテクスチャ加工を行った場合、しばしば
表面粗さの増大、平坦度の低下、テクスチャリング条痕
のバラツキ（不均一性）が発生し問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、磁気ディスクの精密研磨（テクスチャ）加工に使用
するテクスチャ加工液調製用組成物を提供することであ
る。本発明の他の目的は、磁気ディスクのテクスチャ加
工に使用する砥粒分散性の優れたテクスチャ加工液を提
供することである。
は、磁気ディスクの精密研磨（テクスチャ）加工に使用
するテクスチャ加工液調製用組成物を提供することであ
る。本発明の他の目的は、磁気ディスクのテクスチャ加
工に使用する砥粒分散性の優れたテクスチャ加工液を提
供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は下記成分を含有
するテクスチャ加工液調製用組成物を提供するものであ
る。 （Ａ）炭素原子数１０〜６０のジカルボン酸、及び
（Ｂ）該ジカルボン酸を中和、水溶化するのに必要な塩
基性物質。
するテクスチャ加工液調製用組成物を提供するものであ
る。 （Ａ）炭素原子数１０〜６０のジカルボン酸、及び
（Ｂ）該ジカルボン酸を中和、水溶化するのに必要な塩
基性物質。
【０００７】本発明はまた下記成分（Ａ）〜（Ｃ）を含
有するテクスチャ加工液調製用組成物を提供するもので
ある。 （Ａ）炭素原子数１０〜６０のジカルボン酸、（Ｂ）該
ジカルボン酸を中和、水溶化するのに必要な塩基性物
質、及び（Ｃ）炭素数２〜４００の多価アルコール又は
その重縮合体。本発明はさらに上記テクスチャ加工液調
製用組成物及び研磨材を含有するテクスチャ加工液を提
供するものである。
有するテクスチャ加工液調製用組成物を提供するもので
ある。 （Ａ）炭素原子数１０〜６０のジカルボン酸、（Ｂ）該
ジカルボン酸を中和、水溶化するのに必要な塩基性物
質、及び（Ｃ）炭素数２〜４００の多価アルコール又は
その重縮合体。本発明はさらに上記テクスチャ加工液調
製用組成物及び研磨材を含有するテクスチャ加工液を提
供するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明に使用する成分（Ａ）のジ
カルボン酸は、直鎖又は側鎖、飽和又は不飽和の、脂肪
族又は脂環基を有するジカルボン酸であり、炭素原子数
が１０〜６０のもの（例えば、セバシン酸からオクタ−
ペンタコンタンジカルボン酸）、好ましくは炭素原子数
１０〜４０のもの（例えば、セバシン酸からオクタ−ト
リアコンタンジカルボン酸）、最も好ましくは炭素原子
数１２〜２２のもの(例えば、デカンジカルボン酸から
エイコサンジカルボン酸)である。
カルボン酸は、直鎖又は側鎖、飽和又は不飽和の、脂肪
族又は脂環基を有するジカルボン酸であり、炭素原子数
が１０〜６０のもの（例えば、セバシン酸からオクタ−
ペンタコンタンジカルボン酸）、好ましくは炭素原子数
１０〜４０のもの（例えば、セバシン酸からオクタ−ト
リアコンタンジカルボン酸）、最も好ましくは炭素原子
数１２〜２２のもの(例えば、デカンジカルボン酸から
エイコサンジカルボン酸)である。
【０００９】具体例としては、セバシン酸、ウンデカン
酸、ドデカン二酸、トリデカン二酸、ダイマー酸、脂環
構造のノナデカンジカルボン酸、等が挙げられる。炭素
原子数９以下のジカルボン酸（例えば、スベリン酸）の
塩基性塩は、砥粒分散性が劣る。一方、炭素原子数６１
以上のジカルボン酸の塩基性塩は、水に対する溶解度が
小さく、テクスチャ加工液として使用出来ない。
酸、ドデカン二酸、トリデカン二酸、ダイマー酸、脂環
構造のノナデカンジカルボン酸、等が挙げられる。炭素
原子数９以下のジカルボン酸（例えば、スベリン酸）の
塩基性塩は、砥粒分散性が劣る。一方、炭素原子数６１
以上のジカルボン酸の塩基性塩は、水に対する溶解度が
小さく、テクスチャ加工液として使用出来ない。
【００１０】成分（Ａ）のテクスチャ加工液調製用組成
物中の含有量は、好ましくは0.５〜３０重量％、より好
ましくは0.５〜２０重量％である。0.５重量％未満では
加工液中の砥粒分散性に劣り、３０重量％を超えても砥
粒分散性が飽和され、製品コストが上昇するだけで経済
的でない。残部は水その他任意の添加成分である。成分
（Ｂ）の塩基性物質は、成分（Ａ）のジカルボン酸を中
和し、水に可溶化する為に添加するものであり、さらに
該組成物のさび止め性を良好に維持するという作用も有
している。
物中の含有量は、好ましくは0.５〜３０重量％、より好
ましくは0.５〜２０重量％である。0.５重量％未満では
加工液中の砥粒分散性に劣り、３０重量％を超えても砥
粒分散性が飽和され、製品コストが上昇するだけで経済
的でない。残部は水その他任意の添加成分である。成分
（Ｂ）の塩基性物質は、成分（Ａ）のジカルボン酸を中
和し、水に可溶化する為に添加するものであり、さらに
該組成物のさび止め性を良好に維持するという作用も有
している。
【００１１】この様な塩基性物質の例としては、有機ア
ミンやアルカリ金属水酸化物が挙げられる。有機アミン
としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノール
アミン、メチルジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエタノ
ールアミン等のアルカノールアミン；ジシクロヘキシル
アミン、ジシクロヘキシルアミン等の脂環式アミンにエ
チレンオキサイドを１〜１０モル付加した合成アミン、
１，３ビスアミノメチルシクロヘキシルアミン等の脂環
族アミン；メタキシレンジアミン等の芳香族アミン；炭
素数８〜１８の第１級又は第２級のアルキルアミン（例
えば２−エチルヘキシルアミン、ラウリルアミン、オレ
イルアミン、イソステアリルアミン等）にエチレンオキ
サイドを１〜１０モル付加した合成脂肪族アミン；ベン
ジルアミンやメタキシレンジアミンに同様にエチレンオ
キサイドを１〜１０モル付加した合成芳香族アミン等が
挙げられる。
ミンやアルカリ金属水酸化物が挙げられる。有機アミン
としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノール
アミン、メチルジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエタノ
ールアミン等のアルカノールアミン；ジシクロヘキシル
アミン、ジシクロヘキシルアミン等の脂環式アミンにエ
チレンオキサイドを１〜１０モル付加した合成アミン、
１，３ビスアミノメチルシクロヘキシルアミン等の脂環
族アミン；メタキシレンジアミン等の芳香族アミン；炭
素数８〜１８の第１級又は第２級のアルキルアミン（例
えば２−エチルヘキシルアミン、ラウリルアミン、オレ
イルアミン、イソステアリルアミン等）にエチレンオキ
サイドを１〜１０モル付加した合成脂肪族アミン；ベン
ジルアミンやメタキシレンジアミンに同様にエチレンオ
キサイドを１〜１０モル付加した合成芳香族アミン等が
挙げられる。
【００１２】又、アルカリ金属水酸化物としてはLiOH、
NaOH、KOH 等が挙げられる。尚、磁気ディスクの基板が
アルミニム系合金である為、塩基性物質としてはアルカ
リ金属水酸化物（無機アルカリ）よりも、有機アミンの
方が好ましく特にアルカリ性のマイルドなアルカノール
アミン、とりわけトリエタノールアミン、トリイソプロ
パノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン等
が好ましい。
NaOH、KOH 等が挙げられる。尚、磁気ディスクの基板が
アルミニム系合金である為、塩基性物質としてはアルカ
リ金属水酸化物（無機アルカリ）よりも、有機アミンの
方が好ましく特にアルカリ性のマイルドなアルカノール
アミン、とりわけトリエタノールアミン、トリイソプロ
パノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン等
が好ましい。
【００１３】成分(Ｂ)のテクスチャ加工液調製用組成物
中の含有量は、好ましくは0.５〜５0.０重量％、更に好
ましくは0.５〜２０重量％である。該組成物中の成分
(Ａ)及び(Ｂ)の合計の含有量は、好ましくは１〜５０重
量％であり、更に好ましくは１〜３０重量％、最も好ま
しくは１〜１５重量％である。１重量％未満では量が少
なすぎて効果が不充分であり、５０重量％を超えても効
果が飽和し、組成物のコストが高くなり経済的でない。
残部は水、及び/又は他の任意の添加成分である。
中の含有量は、好ましくは0.５〜５0.０重量％、更に好
ましくは0.５〜２０重量％である。該組成物中の成分
(Ａ)及び(Ｂ)の合計の含有量は、好ましくは１〜５０重
量％であり、更に好ましくは１〜３０重量％、最も好ま
しくは１〜１５重量％である。１重量％未満では量が少
なすぎて効果が不充分であり、５０重量％を超えても効
果が飽和し、組成物のコストが高くなり経済的でない。
残部は水、及び/又は他の任意の添加成分である。
【００１４】本発明に使用する成分（Ｃ）の多価アルコ
ール又は多価アルコール重縮合体は炭素原子数２〜４０
０、好ましくは炭素原子数２〜１００、さらに好ましく
は炭素原子数２〜５０、最も好ましくは炭素原子数２〜
３０の化合物である。このような化合物の例としては、
エチレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトー
ル、ソルビトール、ヘキシレングリコール等の単体化合
物、ポリエチレングリコール、ポリグリセリン等の重縮
合物が挙げられる。炭素原子数が４００を超えると、水
に対する増粘性が強く、加工液とした場合、粘性が高く
なり好ましくない。
ール又は多価アルコール重縮合体は炭素原子数２〜４０
０、好ましくは炭素原子数２〜１００、さらに好ましく
は炭素原子数２〜５０、最も好ましくは炭素原子数２〜
３０の化合物である。このような化合物の例としては、
エチレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトー
ル、ソルビトール、ヘキシレングリコール等の単体化合
物、ポリエチレングリコール、ポリグリセリン等の重縮
合物が挙げられる。炭素原子数が４００を超えると、水
に対する増粘性が強く、加工液とした場合、粘性が高く
なり好ましくない。
【００１５】本発明のテクスチャ加工液調製用組成物中
の成分（Ｃ）の含有量は、好ましくは１〜９９重量％、
さらに好ましくは１０〜９０重量％、最も好ましくは３
０〜９０重量％である。成分（Ｃ）は、テクスチャ加工
液の粘度を高くし、砥粒の親水化を促進することによ
り、テクスチャ加工液中の砥粒の分散を安定化する効果
を有する。したがって、成分（Ｃ）の含有量が１重量％
未満では上記作用が充分に発揮されない。
の成分（Ｃ）の含有量は、好ましくは１〜９９重量％、
さらに好ましくは１０〜９０重量％、最も好ましくは３
０〜９０重量％である。成分（Ｃ）は、テクスチャ加工
液の粘度を高くし、砥粒の親水化を促進することによ
り、テクスチャ加工液中の砥粒の分散を安定化する効果
を有する。したがって、成分（Ｃ）の含有量が１重量％
未満では上記作用が充分に発揮されない。
【００１６】尚、必要に応じ、本発明のテクスチャ加工
液調製用組成物には、水を含有させることができる。水
の含有量は、０〜９９重量％、好ましくは１〜９５重量
％、さらに好ましくは１０〜９０重量％が適当である。
さらに、本発明のテクスチャ加工液調製用組成物には、
アニオン系、カチオン系、ノニオン系、両性系の界面活
性剤、消泡剤、アルコール、アルコールエーテル等のカ
ップリング剤、デンプン、アラビヤゴム、ポリプロプレ
ン−ポリエチレン系高分子化合物等の水溶性増粘剤、防
黴剤、殺菌剤、無機系化合物（例えば、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム、硼酸、モリブデン酸ナトリウム)、等
を添加することができる。
液調製用組成物には、水を含有させることができる。水
の含有量は、０〜９９重量％、好ましくは１〜９５重量
％、さらに好ましくは１０〜９０重量％が適当である。
さらに、本発明のテクスチャ加工液調製用組成物には、
アニオン系、カチオン系、ノニオン系、両性系の界面活
性剤、消泡剤、アルコール、アルコールエーテル等のカ
ップリング剤、デンプン、アラビヤゴム、ポリプロプレ
ン−ポリエチレン系高分子化合物等の水溶性増粘剤、防
黴剤、殺菌剤、無機系化合物（例えば、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム、硼酸、モリブデン酸ナトリウム)、等
を添加することができる。
【００１７】本発明のテクスチャ加工液は、上記テクス
チャ加工液調製用組成物に、研磨剤を添加し、超音波振
動器等を用いて完全に分散しスラリー状とすることによ
り容易に製造できる。研磨剤としては、従来より使用さ
れているAl2O3 、Fe2O3 等の金属酸化物、SiC等の炭化
物、立方晶窒化硼素等のホウ化物、ダイヤモンド等の砥
粒が挙げられ、好ましくはAl2O3、ダイヤモンドであ
る。研磨剤粒子の粒径は0.01〜５μｍ程度が好ましい。
テクスチャ加工液中の研磨剤の含有量は、好ましくは0.
１〜１０重量％、さらに好ましくは0.１〜５重量％、最
も好ましくは0.１〜3.０重量％である。
チャ加工液調製用組成物に、研磨剤を添加し、超音波振
動器等を用いて完全に分散しスラリー状とすることによ
り容易に製造できる。研磨剤としては、従来より使用さ
れているAl2O3 、Fe2O3 等の金属酸化物、SiC等の炭化
物、立方晶窒化硼素等のホウ化物、ダイヤモンド等の砥
粒が挙げられ、好ましくはAl2O3、ダイヤモンドであ
る。研磨剤粒子の粒径は0.01〜５μｍ程度が好ましい。
テクスチャ加工液中の研磨剤の含有量は、好ましくは0.
１〜１０重量％、さらに好ましくは0.１〜５重量％、最
も好ましくは0.１〜3.０重量％である。
【００１８】本発明の加工液は、磁気ディスク表面に、
砥粒を含む研磨テープを押し付け、そのテープ上にこの
加工液を自然滴下、自動供給滴下、スプレー供給等によ
り供給し、磁器ディスク表面のテクスチャ加工を行なう
ものである。尚、必要に応じ、テクスチャ加工液（原
液）を水（蒸留水、イオン交換水、水道水等）で２〜１
００倍に希釈し、これに上記研磨剤粒子を分散しスラリ
ー状として使用する事もできる。
砥粒を含む研磨テープを押し付け、そのテープ上にこの
加工液を自然滴下、自動供給滴下、スプレー供給等によ
り供給し、磁器ディスク表面のテクスチャ加工を行なう
ものである。尚、必要に応じ、テクスチャ加工液（原
液）を水（蒸留水、イオン交換水、水道水等）で２〜１
００倍に希釈し、これに上記研磨剤粒子を分散しスラリ
ー状として使用する事もできる。
【００１９】
【実施例】以下、本発明のテクスチャ加工液調製用組成
物及びテクスチャ加工液についてさらに詳細に説明す
る。表１及び表２に示す組成のテクスチャ加工液調製用
組成物に所定粒径の砥粒を所定量添加し、超音波洗浄器
で均一に分散させ、テクスチャ加工液（スラリー）とし
た。このスラリーについて性能試験（砥粒分散性、テク
スチャ加工性）を行った。
物及びテクスチャ加工液についてさらに詳細に説明す
る。表１及び表２に示す組成のテクスチャ加工液調製用
組成物に所定粒径の砥粒を所定量添加し、超音波洗浄器
で均一に分散させ、テクスチャ加工液（スラリー）とし
た。このスラリーについて性能試験（砥粒分散性、テク
スチャ加工性）を行った。
【００２０】砥粒分散性試験 表１、表２のテクスチャ加工液調製用組成物２０ml（原
液）を４０ml試験管に採取し、次いで、平均粒径1.０μ
ｍのダイヤモンド砥粒６０mg（0.３重量％）を加え、超
音波洗浄器(ブランソニック５２００ヤマト化学製)を用
いて、15分間分散させ、室温に放置し、1日後の分散状
態を確認した。また、この砥粒分散液を光学顕微鏡にて
観察し、砥粒の凝集状態を確認した。 ◎：十分分散している。 ：一部凝集し、沈降している。 △：半分以上沈降している。 ×：殆ど沈降している。
液）を４０ml試験管に採取し、次いで、平均粒径1.０μ
ｍのダイヤモンド砥粒６０mg（0.３重量％）を加え、超
音波洗浄器(ブランソニック５２００ヤマト化学製)を用
いて、15分間分散させ、室温に放置し、1日後の分散状
態を確認した。また、この砥粒分散液を光学顕微鏡にて
観察し、砥粒の凝集状態を確認した。 ◎：十分分散している。 ：一部凝集し、沈降している。 △：半分以上沈降している。 ×：殆ど沈降している。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【表２】
【００２３】上記試験において良好な分散性が確認され
た実施例3〜5の砥粒分散加工液を実際のテクスチャ加工
に使用したところ、磁気ディスクの表面粗さ、平坦度は
非常に小さく、バリの発生も減少し、優れたテクスチャ
加工結果が得られた。
た実施例3〜5の砥粒分散加工液を実際のテクスチャ加工
に使用したところ、磁気ディスクの表面粗さ、平坦度は
非常に小さく、バリの発生も減少し、優れたテクスチャ
加工結果が得られた。
【発明の効果】本発明のテクスチャ加工液は、砥粒が均
一に分散し、さらに砥粒間の二次凝集を生ずる事もな
い。このため、テクスチャ加工に適用した場合、加工さ
れた磁気ディスクの加工面の表面粗さ、最大突起高さ、
ランナウト等が小さい（優れた）磁気ディスクを製造す
る事ができる。
一に分散し、さらに砥粒間の二次凝集を生ずる事もな
い。このため、テクスチャ加工に適用した場合、加工さ
れた磁気ディスクの加工面の表面粗さ、最大突起高さ、
ランナウト等が小さい（優れた）磁気ディスクを製造す
る事ができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 服部 幸恵 神奈川県藤沢市辻堂神台１丁目４番地１号 協同油脂株式會社内 (72)発明者 小林 博人 愛知県名古屋市西区則武新町３丁目１番36 号 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 内 (72)発明者 佐藤 誠 愛知県名古屋市西区則武新町３丁目１番36 号 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 内 Ｆターム(参考） 3C058 AA07 CB10 DA02 DA17 5D112 AA02 AA24 BA06 GA02 GA09
Claims (7)
- 【請求項１】 下記成分を含有するテクスチャ加工液調
製用組成物。 （Ａ）炭素原子数１０〜６０のジカルボン酸、及び
（Ｂ）該ジカルボン酸を中和、水溶化するのに必要な塩
基性物質。 - 【請求項２】 成分（Ａ）の含有量が０．５〜５０重量
％であり、成分（Ｂ）の含有量が０．５〜５０重量％で
ある請求項１記載のテクスチャ加工液調製用組成物。 - 【請求項３】 成分（Ａ）の含有量が０．５〜５０重量
％であり、成分（Ｂ）の含有量が０．５〜５０重量％で
あり、水の含有量が０〜９９重量％である請求項１記載
のテクスチャ加工液調製用組成物。 - 【請求項４】 下記成分（Ａ）〜（Ｃ）を含有するテク
スチャ加工液調製用組成物。 （Ａ）炭素原子数１０〜６０のジカルボン酸、（Ｂ）該
ジカルボン酸を中和、水溶化するのに必要な塩基性物
質、及び（Ｃ）炭素数２〜４００の多価アルコール又は
その重縮合体。 - 【請求項５】 成分（Ａ）の含有量が0.５〜３０重量％
であり、成分（Ｂ）の含有量が0.５〜５０重量％であ
り、成分（Ｃ）の含有量が１〜９９重量％である請求項
４記載のテクスチャ加工液調製用組成物。 - 【請求項６】 成分（Ａ）の含有量が0.５〜３０重量％
であり、成分（Ｂ）の含有量が0.５〜５０重量％であ
り、成分（Ｃ）の含有量が１〜９９重量％であり、水の
含有量が０〜９８重量％である請求項４記載のテクスチ
ャ加工液調製用組成物。 - 【請求項７】 請求項１〜６のいずれか１項記載のテク
スチャ加工液調製用組成物及び研磨材を含有するテクス
チャ加工液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8864699A JP2000282012A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | テクスチャ加工液調製用組成物及びテクスチャ加工液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8864699A JP2000282012A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | テクスチャ加工液調製用組成物及びテクスチャ加工液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000282012A true JP2000282012A (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=13948595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8864699A Pending JP2000282012A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | テクスチャ加工液調製用組成物及びテクスチャ加工液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000282012A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004306248A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-11-04 | Neos Co Ltd | テクスチャ加工用潤滑液組成物 |
-
1999
- 1999-03-30 JP JP8864699A patent/JP2000282012A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004306248A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-11-04 | Neos Co Ltd | テクスチャ加工用潤滑液組成物 |
| JP4675049B2 (ja) * | 2003-03-25 | 2011-04-20 | 株式会社ネオス | テクスチャ加工用潤滑液組成物 |
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