JP2009181690A - 基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 メモリーハードディスクの仕上げ研磨や半導体素子の研磨用として、研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、かつ突起やスクラッチ、特にマイクロマックスで観察されるようなナノスクラッチや幅が10〜50μmと非常に広く、深さが5nm以下の浅い幅広スクラッチを顕著に低減し、しかも効率的な研磨が可能な基板の製造方法、研磨方法、及びスクラッチの低減方法を提供すること。
【解決手段】 研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が1〜25μmで、気孔径の最大値が60μm以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】 研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が1〜25μmで、気孔径の最大値が60μm以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明は、研磨液組成物と研磨パッドを用いる基板の製造方法、研磨方法及びスクラッチの低減方法に関する。
近年のメモリーハードディスクドライブには、高容量・小径化が求められ記録密度を上げるために磁気ヘッドの浮上量を低下させたり、単位記録面積を小さくすることが強いられている。それに伴い、磁気ディスク用基板の製造工程においても研磨後に要求される表面品質は年々厳しくなってきており、ヘッドの低浮上化に対応して、表面粗さ、微小うねり、ロールオフ、突起の低減や単位記録面積の減少に対応して許容されるスクラッチ、ピットの大きさと深さがますます小さくなってきている。
また、半導体分野においても、高集積化、高速化に伴って配線の微細化が進んでいる。半導体デバイスの製造プロセスにおいても、フォトレジストの露光の際、配線の微細化に伴い焦点深度が浅くなるため、パターン形成面のより一層の平滑化が望まれている。
このような要求に対して、表面粗さ(Ra、Rmax)、スクラッチ、ピット、突起等に起因する表面品質を向上させた研磨液組成物が提案されている(特許文献1、2、3等)。しかしながら、年々向上する記録密度の増大に伴い、後工程のテクスチャー工程の取り代も減少し、基板の研磨工程後の許容スクラッチレベルはますます厳しくなっているため、従来の研磨液組成物と研磨パッドの組み合わせではスクラッチが取りきれなくなってきており、所望の品質が達成できなくなっている。
本発明の目的は、メモリーハードディスクの仕上げ研磨や半導体素子の研磨用として、研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、かつ突起やスクラッチ、特にマイクロマックスで観察されるようなナノスクラッチや幅が10〜50μmと非常に広く、深さが5nm以下の浅い幅広スクラッチを顕著に低減し、しかも効率的な研磨が可能な基板の製造方法、研磨方法、及びスクラッチの低減方法を提供することにある。
即ち、本発明の要旨は、
〔1〕 研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が1〜25μmで、気孔径の最大値が60μm以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法、
〔2〕 研磨材の一次粒子の平均粒径が、40nm以下である、前記〔1〕記載の基板の製造方法、
〔3〕 酸のpK1が2以下である、前記〔1〕又は〔2〕記載の基板の製造方法、
〔4〕 酸が、無機酸及び/又は有機ホスホン酸を含有する、前記〔1〕〜〔3〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔5〕 酸及びその塩の含有量が、研磨液組成物中0.0001〜5重量%である、前記〔1〕〜〔4〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔6〕 酸化剤の含有量が、研磨液組成物中0.01〜5重量%である、前記〔1〕〜〔5〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔7〕 研磨液組成物の酸価が0.2〜20mgKOH/gである、前記〔1〕〜〔6〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔8〕 研磨液組成物のpHが、1.0〜4.5である、前記〔1〕〜〔7〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔9〕 研磨材の含有量が、研磨液組成物中1〜15重量%である、前記〔1〕〜〔8〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔10〕 研磨液組成物の流量が、基板1枚あたり130cc/min以下である、前記〔1〕〜〔9〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔11〕 基板が、Ni−Pメッキされたアルミニウム合金基板である、前記〔1〕〜〔10〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔12〕 研磨後の廃液のpHが、5以下である、前記〔1〕〜〔11〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔13〕 研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が1〜25μmで、気孔径の最大値が60μm以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の研磨方法、
〔14〕 研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が1〜25μmで、気孔径の最大値が60μm以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板のスクラッチの低減方法
に関する。
〔1〕 研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が1〜25μmで、気孔径の最大値が60μm以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法、
〔2〕 研磨材の一次粒子の平均粒径が、40nm以下である、前記〔1〕記載の基板の製造方法、
〔3〕 酸のpK1が2以下である、前記〔1〕又は〔2〕記載の基板の製造方法、
〔4〕 酸が、無機酸及び/又は有機ホスホン酸を含有する、前記〔1〕〜〔3〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔5〕 酸及びその塩の含有量が、研磨液組成物中0.0001〜5重量%である、前記〔1〕〜〔4〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔6〕 酸化剤の含有量が、研磨液組成物中0.01〜5重量%である、前記〔1〕〜〔5〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔7〕 研磨液組成物の酸価が0.2〜20mgKOH/gである、前記〔1〕〜〔6〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔8〕 研磨液組成物のpHが、1.0〜4.5である、前記〔1〕〜〔7〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔9〕 研磨材の含有量が、研磨液組成物中1〜15重量%である、前記〔1〕〜〔8〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔10〕 研磨液組成物の流量が、基板1枚あたり130cc/min以下である、前記〔1〕〜〔9〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔11〕 基板が、Ni−Pメッキされたアルミニウム合金基板である、前記〔1〕〜〔10〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔12〕 研磨後の廃液のpHが、5以下である、前記〔1〕〜〔11〕いずれか記載の基板の製造方法、
〔13〕 研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が1〜25μmで、気孔径の最大値が60μm以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の研磨方法、
〔14〕 研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が1〜25μmで、気孔径の最大値が60μm以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板のスクラッチの低減方法
に関する。
本発明の基板の製造方法により、研磨後の被研磨物のナノスクラッチ、幅広スクラッチが共に低減したメモリーハードディスクや半導体素子を製造することができるという効果が奏される。
本発明の基板の製造方法は、前記のように、研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、平均気孔径が0.01〜35μmの表面部材を有する研磨パッドを用いることに特徴があり、本発明においては、前記のような研磨液組成物と研磨パッドを用いることで、メモリーハードディスクの仕上げ研磨や半導体素子の研磨用として、研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、かつ突起やスクラッチを顕著に低減し、しかも効率的に研磨することができるという効果が発現される。
ここで、スクラッチとしては、ナノスクラッチと幅広スクラッチの2種類がある。ナノスクラッチは、「マイクロマックスVMX−2100」(ビジョンサイテック製)という装置で観察可能な幅が0.5μm以下、深さが3nm以下のナノオーダーのスクラッチのことであり、幅広スクラッチとは、微分干渉式顕微鏡で観察可能な幅が10〜50μm、深さが5nm以下の幅の広いスクラッチのことである。
中でも、本発明においては、前記のような特定の表面部材を有する研磨パッドを使用することにより、研磨液組成物を研磨パッドに適度に保持することができるため、高い研磨速度を維持しながら、被研磨物の表面粗さが小さく、かつ突起やスクラッチ、特にマイクロマックスで観察されるようなナノスクラッチや幅が10〜50μmと非常に広く、深さが5nm以下の浅い幅広スクラッチを顕著に低減して、高品質のメモリーハードディスクや半導体素子を製造することができるという効果が発現される。
本発明に用いられる研磨パッドとしては、平均気孔径が0.01〜35μmの表面部材を有するものであれば、その構造について特に限定はなく、例えば、「CMP技術基礎実例講座シリーズ第2回メカノケミカルポリシング(CMP)の基礎と実例(ポリシングパッド編)1998年5月27日資料 グローバルネット株式会社編」、「CMPのサイエンス 柏木正広編 株式会社サイエンスフォーラム 第4章」に記載されるようなスエードタイプ、不織布タイプ、ポリウレタン独立発泡タイプ及びこれらを積層した二層構造タイプがあるが、表面粗さ、微小うねり、表面欠陥であるマイクロスクラッチ、幅広スクラッチを低減する観点からは、スエードタイプが好ましい。ここで、スエードタイプとは、少なくともベース層と発泡した表面層とを有する構造の研磨パッドをいう。ベース層の材質としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の高硬度樹脂が好ましい。また、表面層の材質としてはポリウレタンが好ましい。スエードタイプの研磨パッドの例としては、特に限定はなく、例えば、特開平11−335979号公報、特開2001−62704号公報に記載のものが挙げられる。
研磨パッドの表面部材の平均気孔径は、スクラッチ及び/又は微小うねり低減の観点から、35μm以下であり、好ましくは30μm以下、より好ましくは27μm以下、さらに好ましくは25μm以下である。パッドの研磨液保持性の観点から、気孔で研磨液を保持し液切れを起こさないようにするために、平均気孔径は0.01μm以上であり、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.5μm以上、さらに好ましくは1μm以上である。また、研磨パッドの気孔径の最大値は、スクラッチ及び/又は微小うねり低減の観点から、100μm以下が好ましく、より好ましくは70μm以下、さらに好ましくは60μm以下、特に好ましくは50μm以下である。
また、本発明で用いられる研磨液組成物は、研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有する研磨液組成物であって、該研磨材は、研磨用に一般に使用されている研磨材を使用することができる。該研磨材として、金属;金属又は半金属の炭化物、窒化物、酸化物、ホウ化物;ダイヤモンド等が挙げられる。金属又は半金属元素は、周期律表(長周期型)の2A、2B、3A、3B、4A、4B、5A、6A、7A又は8A族由来のものである。研磨材の具体例として、酸化アルミニウム、炭化珪素、ダイヤモンド、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、シリカ等が挙げられ、これらを1種以上使用することは研磨速度を向上させる観点から好ましい。中でも、酸化アルミニウム、シリカ、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等が、半導体ウエハや半導体素子、磁気記録媒体用基板等の精密部品用基板の研磨に適している。酸化アルミニウムについては、α、θ、γ等種々の結晶系が知られているが、用途に応じ適宜選択、使用することができる。この内、シリカ、特にコロイダルシリカは、より高度な平滑性を必要とする高記録密度メモリー磁気ディスク用基板の最終仕上げ研磨用途や半導体デバイス基板の研磨用途に適している。
また、本発明においては、表面粗さ(Ra 、Rmax) や微小うねり(Wa)を低減し、スクラッチ等の表面欠陥を減少させて、表面品質を向上させる観点から、研磨材としてシリカを用いることがより好ましい。シリカとしては、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、表面修飾したシリカ等が挙げられ、中でも、コロイダルシリカが好ましい。なお、コロイダルシリカは、例えば、ケイ酸水溶液から生成させる製法により得ることができる。
なお、一次粒子の平均粒径は、表面粗さ(Ra、Rmax)や微小うねりの低減、スクラッチ等の表面欠陥を減少させる観点から、200nm以下が好ましく、120nm以下がより好ましく、80nm以下がさらに好ましく、40nm以下が特に好ましい。
中でも、表面粗さ(Ra、Rmax)や微小うねりの低減、スクラッチ等の表面欠陥を減少させる観点から、研磨材全量中における粒子径5nm〜120nmの粒子の含有量が50体積%以上であり、該研磨材として粒子径が5nm〜40nm未満の小粒径粒子を粒子径5〜120nmの粒子全量に対して10〜100体積%含有し、粒子径が40nm〜80nm未満の中粒径粒子を粒子径5〜120nmの粒子全量に対して0〜70体積%含有し、粒子径が80nm〜120nmの大粒径粒子を粒子径5〜120nmの粒子全量に対して0〜40体積%含有するものであることが好ましい。
前記研磨材の粒径分布は、以下の方法により求めることができる。即ち、研磨材粒子を日本電子製透過型電子顕微鏡(TEM)「JEM−2000FX」(80kV、1〜5万倍)で観察した写真をパソコン(PC)にスキャナで取込み、解析ソフト「WinROOF」(販売元、三谷商事)を用いて1個1個の粒子の円相当径を求め、それを直径とし、1000個以上の粒子データを解析した後、それをもとに表計算ソフト「EXCEL」(マイクロソフト社製)にて粒子直径から粒子体積に換算する。まず、全粒子中における5nm以上120nm以下(5〜120nm)の粒子の割合(体積基準%)を計算し、さらに5nm以上120nm以下の粒子の集合全体における5nm以上40nm未満(5nm〜40nm未満)、40nm以上80nm未満(40nm〜80nm未満)、80nm以上120nm以下(80nm〜120nm)の3つの領域の割合(体積基準%)を求める。
前記研磨材の平均粒子径(r)、個数基準の標準偏差(δ)は、前記粒径分布を測定する際に求めた1000個以上の研磨材粒子の円相当径を直径とし、表計算ソフト「EXCEL」(マイクロソフト社製)で処理することで、個数基準の平均粒子径(r)及び標準偏差値(σ)をそれぞれ得ることができる。
研磨液組成物中における研磨材の含有量は、研磨速度を向上させる観点から、好ましくは0.5 重量%以上、より好ましくは1重量%以上、さらに好ましくは3重量%以上、特に好ましくは5重量%以上であり、また、表面品質を向上させる観点、及び経済性の観点から、好ましくは20重量%以下、より好ましくは15重量%以下、さらに好ましくは13重量%以下、特に好ましくは10重量%以下である。すなわち、該含有量は、好ましくは0.5 〜20重量% 、より好ましくは1 〜15重量% 、さらに好ましくは3 〜13重量% 、特に好ましくは5 〜10重量% である。
また、本発明に用いられる研磨液組成物は、研磨速度の向上と表面粗さ(Ra、Rmax)や微小うねりの低減の観点から、さらに酸化剤を含有する。酸化剤としては、共立出版刊「化学大辞典3」P910に記載されている酸化剤を使用できる。この中でも、過酸化水素、硝酸鉄(III)、過酢酸、ペルオキソ二硫酸アンモニウム、硫酸鉄(III)及び硫酸アンモニウム鉄(III)が好ましい。表面に金属イオンが付着せず汎用に使用され安価であるという観点から過酸化水素が特に好ましい。これらの酸化剤は、単独で又は2種以上を混合して使用してもよい。
研磨速度を向上させる観点から、研磨液組成物中の酸化剤の含有量は、好ましくは0.002 重量% 以上、より好ましくは0.005 重量% 以上、さらに好ましくは0.007 重量% 以上、特に好ましくは0.01重量% 以上であり、表面粗さや微小うねりを低減し、ピット、スクラッチ等の表面欠陥を減少させて表面品質を向上させる観点及び経済性の観点から、好ましくは20重量% 以下、より好ましくは15重量% 以下、さらに好ましくは10重量% 以下、特に好ましくは5 重量% 以下である。該含有量は、好ましくは0.002 〜20重量% 、より好ましくは0.005 〜15重量% 、さらに好ましくは、0.007 〜10重量% 、特に好ましくは0.01〜5 重量% である。
また、前記研磨液組成物は、研磨速度の向上、表面粗さ(Ra、Rmax)や微小うねりの低減及びスクラッチ等の表面欠陥を減少させる観点から、酸及び/又はその塩を含有する。酸及び/又はその塩としては、幅広スクラッチを低減する観点から、その酸のpK1が2以下の化合物が好ましく、より好ましくはpK1が1.5以下、更に好ましくは1以下、最も好ましくはpK1で表せない程の強い酸性を示す化合物である。その例としては、改訂4版 化学便覧(基礎編)II、pp316−325(日本化学会編)に記載の酸が挙げられ、中でも、幅広スクラッチを低減する観点から、無機酸や有機ホスホン酸が好ましい。また、無機酸の中では、硝酸、硫酸、塩酸、過塩素酸がより好ましい。有機ホスホン酸の中では、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)がより好ましい。
塩としては、特に限定はなく、具体的には、金属、アンモニウム、アルキルアンモニウム、有機アミン等との塩が挙げられる。金属の具体例としては、周期律表(長周期型)1A、1B、2A、2B、3A、3B、4A、6A、7A又は8族に属する金属が挙げられる。これらの中でも、幅広スクラッチ低減の観点から1A族に属する金属又はアンモニウムとの塩が好ましい。これらの酸及びその塩は単独で又は2種以上を混合して用いてもよい。
前記酸及びその塩の研磨液組成物中における含有量は、充分な研磨速度を発揮する観点および表面品質を向上させる観点から、0.0001〜5重量%が好ましく、より好ましくは0.0003〜3重量%であり、さらに好ましくは0.001 〜2重量%、特に好ましくは0.0025〜1重量%である。
研磨液組成物中の水は、媒体として使用されるものであり、例えば、蒸留水、イオン交換水、超純水等が使用される。その含有量は、被研磨物を効率よく研磨する観点から、好ましくは55〜99.4979 重量% 、より好ましくは67〜98.9947 重量% 、さらに好ましくは75〜96.992重量% 、特に好ましくは84〜94.9875 重量% である。
尚、前記研磨液組成物中の研磨材、水、酸化剤、酸及び/又はその塩等の各成分の濃度は、該組成物製造時の濃度及び使用時の濃度のいずれであってもよい。通常、濃縮液として研磨液組成物は製造され、これを使用時に希釈して用いる場合が多い。
また、本発明の研磨液組成物には、必要に応じて他の成分を配合することができる。該他の成分としては、増粘剤、分散剤、防錆剤、塩基性物質、界面活性剤等が挙げられる。
本発明の研磨液組成物は、前記研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、水、必要に応じて他の成分等を公知の方法で混合することにより調製することができる。
本発明の研磨液組成物の酸価(Y)は、研磨液組成物中にpK1が2以下の酸として無機酸以外の酸、特に有機ホスホン酸が含有されている場合、幅広スクラッチを低減する観点から、酸価(Y)としては、20mgKOH/g以下が好ましく、15mgKOH/g以下がより好ましく、10mgKOH/g以下が更に好ましく、7mgKOH/g以下が特に好ましく、3mgKOH/g以下が最も好ましい。pK1が2以下の酸として無機酸が含有されている場合、幅広スクラッチを低減する観点から、5mgKOH/g以下が好ましく、3mgKOH/g以下がより好ましく、1.8mgKOH/g以下が特に好ましく、1.5mgKOH/g以下が最も好ましい。
また、研磨速度を向上させる観点から、酸価(Y)としては、0.2mgKOH/g以上が好ましく、0.5mgKOH/g以上が更に好ましく、0.75mgKOH/g以上が特に好ましく、1.0mgKOH/g以上が最も好ましい。
即ち、酸価(Y)としては、幅広スクラッチ低減と研磨速度向上の観点から、0.2〜20mgKOH/gであることが好ましく、中でも、研磨液組成物中にpK1が2以下の酸として無機酸以外の酸、特に有機ホスホン酸が含有されている場合、酸価(Y)としては、0.5〜20mgKOH/gがより好ましく、0.75〜20mgKOH/gが更に好ましく、1〜20mgKOH/gが特に好ましく、1〜15mgKOH/gが最も好ましく、pK1が2以下の酸として無機酸が含有されている場合、0.2〜5mgKOH/gがより好ましく、0.5〜5mgKOH/gが更に好ましく、0.75〜5mgKOH/gが特に好ましく、1〜5mgKOH/gが最も好ましい。
酸価(Y)はJIS K 1557に従って測定され、研磨液組成物1gあたりの中和に必要な水酸化カリウム量(mg)として求められる。
また、本発明の研磨液組成物の酸価(Y)としては、幅広スクラッチを低減する観点から、式(1):
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+19.45 (1)
(但し、Xは研磨液組成物中における研磨材の個数濃度を示す)
を満たすことが好ましい。
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+19.45 (1)
(但し、Xは研磨液組成物中における研磨材の個数濃度を示す)
を満たすことが好ましい。
幅広スクラッチは、今まで注目されていなかった表面欠陥であるが、その発生は、研磨液組成物の腐食性の程度と、研磨時において研磨パッドと被研磨物とが直接接触する程度とのバランスに依存していることを発見した。具体的には、研磨液組成物の腐食性の程度を酸価で示し、研磨パッドと被研磨物との直接接触の程度を研磨材の個数濃度で示す、前記式(1)の関係を満たす研磨液組成物を用いることにより、幅広スクラッチを有意に低減し得ることを発見した。
本発明において、研磨液組成物の酸価(Y)と研磨材の個数濃度が式(1)の関係を満たす場合、被研磨物に対するメカニカル因子(パッドと被研磨物の直接接触)とケミカル因子(腐食性)とのバランスがとれるため、幅広スクラッチが有意に低減するという効果が発現される。ここで式(1)は、メカニカル因子である研磨材の個数濃度(X)とケミカル因子である酸価(Y)との関係を示しており、この酸価(Y)が右辺の研磨材濃度の一次関数より導き出される値以下であることは、ある特定の研磨材の個数濃度(X)においてパッドと被研磨物との直接接触の条件が決まると、幅広スクラッチを顕著に低減し得る腐食性の強さ(酸価(Y))の上限が決まることを意味する。
特に前記式(1)の関係を満たす研磨液組成物を用いて基板を研磨することにより、後述の実施例のように、幅広スクラッチをその深さの程度に応じて「大」、「中」、「小」の三段階にさらに細かく分類した場合に、基板上から3種類の幅広スクラッチを実用上何の影響もない程度にまで低減する効果が発現される。
特に前記式(1)の関係を満たす研磨液組成物を用いて基板を研磨することにより、後述の実施例のように、幅広スクラッチをその深さの程度に応じて「大」、「中」、「小」の三段階にさらに細かく分類した場合に、基板上から3種類の幅広スクラッチを実用上何の影響もない程度にまで低減する効果が発現される。
なお、研磨液組成物中における研磨材の個数濃度(個/g):Xは、次式(2)により求められる。
研磨材の真比重は、例えばシリカの場合「The Chemistry OfSilica」(Iler、Ralph K. 、1979 John Wiley & Sons,Inc.)よりアモルファスシリカの2.2g/cm3 を使用できる。文献値のない場合は、一次粒子の平均粒径とBET 法による比表面積の実験値により求めることができ、その際使用する一次粒子の平均粒径は、前記のように透過型又は走査型電子顕微鏡で観察(好適には3000〜100000倍)した画像を解析して、一次粒子の小粒径側からの積算粒径分布(個数基準)が50%となる粒径(D50)を用いることができる。
Yを式(1)を満たすように調整する方法としては、例えば、あらかじめ計算により研磨材の個数濃度より求められる酸価(Y)の上限値をKOH1モルの重量56110mgで割って、〔モル/g〕に換算し、得られた換算値に使用する酸〔硝酸等〕の分子量をかけて、〔重量%〕に換算し直して得られた値を酸の添加量の上限値として研磨液組成物を調製する方法等が挙げられる。
また、研磨液組成物が無機酸及び/又はその塩を含有する場合は、幅広スクラッチを低減する観点から、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+3.00を満たすことが好ましく、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+1.77を満たすことが更に好ましく、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+1.67を満たすことが特に好ましく、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+1.47を満たすことが最も好ましい。
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+3.00を満たすことが好ましく、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+1.77を満たすことが更に好ましく、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+1.67を満たすことが特に好ましく、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+1.47を満たすことが最も好ましい。
研磨液組成物が無機酸以外の酸及び/又はその塩、特に有機ホスホン酸及び/又はその塩を含有する場合は、幅広スクラッチを低減する観点から、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+14.45を満たすことがより好ましく、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+9.45を満たすことが更に好ましく
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+6.45を満たすことが特に好ましく、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+2.45を満たすことが最も好ましい。
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+14.45を満たすことがより好ましく、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+9.45を満たすことが更に好ましく
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+6.45を満たすことが特に好ましく、
Y(mgKOH/g )≦5.7×10−17 × X(個/g)+2.45を満たすことが最も好ましい。
本発明の研磨液組成物のpHは、被加工物の種類や要求性能に応じて適宜決定することが好ましい。被研磨物の材質により一概に限定はできないが、ニッケル−リン(Ni−P)メッキされたアルミニウム合金基板等の金属を主対象とした精密部品基板においては、研磨速度の観点から、pHは1.0 〜4.5 が好ましく、より好ましくは1.2 〜4.0 、さらに好ましくは1.4 〜3.5 、特に好ましくは1.6 〜3.0 である。pHは硝酸、硫酸等の無機酸やシュウ酸等の有機酸、アンモニウム塩、アンモニア水、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、アミン等の塩基性物質を適宜、所望量で配合することにより調整することができる。
本発明の研磨液組成物が対象とする基板の材質は、例えば、シリコン、アルミニウム、ニッケル、タングステン、銅、タンタル、チタン等の金属又は半金属およびこれらの合金、及びガラス、ガラス状カーボン、アモルファスカーボン等のガラス状物質、アルミナ、二酸化珪素、窒化珪素、窒化タンタル、炭化チタン等のセラミック材料、ポリイミド樹脂等の樹脂等が挙げられる。これらの中では、アルミニウム、ニッケル、タングステン、銅等の金属及びこれらの金属を主成分とする合金が基板であるか、又は半導体素子等の半導体基板のような、それらが金属を含んだ基板が好適で、例えば、Ni−Pメッキされたアルミニウム合金基板や結晶化ガラス、強化ガラス等のガラス基板がより適しており、Ni−Pメッキされたアルミニウム合金基板が特に適している。
基板の形状には特に制限がなく、例えば、ディスク状、プレート状、スラブ状、プリズム状等の平面部を有する形状や、レンズ等の曲面部を有する形状が本発明の研磨液組成物を用いた研磨の対象となる。その中でも、ディスク状の基板の研磨に特に優れている。
本発明の基板の製造方法としては、例えば、前記研磨パッドを用いて被研磨基板を研磨する際に、前記研磨液組成物を用いる方法が挙げられる。被研磨基板の研磨方法としては、前記研磨液組成物を用いて、あるいは前記研磨液組成物の組成となるように各成分を混合して研磨液組成物を調製し、かかる研磨液組成物を研磨パッドに供給して被研磨基板を研磨する工程を有しており、特にメモリーハードディスク用基板等の精密部品用基板を好適に製造することができる。また、かかる方法により、スクラッチを顕著に低減して高い研磨速度を発揮することができる。したがって、本発明は、基板の研磨方法および基板のスクラッチの低減方法に関する。
本発明に用いられる基板の製造方法は、幅広スクラッチ低減と経済性の観点から、研磨液組成物の流量が基板1枚あたり300cc/min以下が好ましく、200cc/min以下がより好ましく、150cc/min以下がさらに好ましく、130cc/min以下が特に好ましい。
また、研磨後の廃液のpHとしては、スクラッチ低減の観点から、7以下が好ましく、5以下がより好ましく、2.5以下がさらに好ましく、2.2以下が特に好ましい。
本発明の基板の製造方法により、研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、かつ突起やスクラッチ、特にマイクロマックスで観察されるようなナノスクラッチや幅が10〜50μmと非常に広く、深さが5nm以下の浅い幅広スクラッチを顕著に低減したメモリーハードディスクや半導体素子を製造することができるという効果が発現される。
(基板)
基板として、Ni−Pメッキされた基板をアルミナ研磨材を含有する研磨液であらかじめ粗研磨し、基板表面粗さ(Ra)1nmとした厚さ1.27mmの95mmφのアルミニウム合金基板を用いて研磨評価を行った。
基板として、Ni−Pメッキされた基板をアルミナ研磨材を含有する研磨液であらかじめ粗研磨し、基板表面粗さ(Ra)1nmとした厚さ1.27mmの95mmφのアルミニウム合金基板を用いて研磨評価を行った。
実施例1〜8及び比較例1〜10
市販の研磨材であるコロイダルシリカ(シリカA:「シリカドール30G」、日本化学工業製;シリカB:「サイトン520」、デュポン製)、35%過酸化水素水(旭電化製)、67.5%硝酸(要薬品工業製)、60% 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(HEDP)(商品名「ディクエスト2010」、ソルーシア・ジャパン製)の各成分を所定量と、残部イオン交換水を添加、混合することにより、表1に記載の組成を有する研磨液組成物を調製した。混合する順番としては、コロイダルシリカスラリーをイオン交換水で希釈した水溶液に硝酸又はHEDPを加え、最後に過酸化水素水を混合した。ゲル化しないように常時攪拌しながら操作を行った。次いで得られた研磨液組成物と表2に示す研磨パッドを表1に記載のように組み合わせ、以下の条件で前記基板を研磨した。なお、研磨液組成物の酸価、研磨材の個数濃度、研磨後の基板表面のナノスクラッチ、幅広スクラッチを以下の方法に基づいて測定・評価し、その結果を表1に示す。
市販の研磨材であるコロイダルシリカ(シリカA:「シリカドール30G」、日本化学工業製;シリカB:「サイトン520」、デュポン製)、35%過酸化水素水(旭電化製)、67.5%硝酸(要薬品工業製)、60% 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(HEDP)(商品名「ディクエスト2010」、ソルーシア・ジャパン製)の各成分を所定量と、残部イオン交換水を添加、混合することにより、表1に記載の組成を有する研磨液組成物を調製した。混合する順番としては、コロイダルシリカスラリーをイオン交換水で希釈した水溶液に硝酸又はHEDPを加え、最後に過酸化水素水を混合した。ゲル化しないように常時攪拌しながら操作を行った。次いで得られた研磨液組成物と表2に示す研磨パッドを表1に記載のように組み合わせ、以下の条件で前記基板を研磨した。なお、研磨液組成物の酸価、研磨材の個数濃度、研磨後の基板表面のナノスクラッチ、幅広スクラッチを以下の方法に基づいて測定・評価し、その結果を表1に示す。
〔研磨条件〕
両面研磨機:スピードファム社製 両面9B−V型
研磨パッド:表2に記載
下定盤回転数:32.5r/min
研磨液流量:120cc/min
研磨時間:4min
研磨荷重:7.8kPa
投入した基板の枚数:10枚/回
両面研磨機:スピードファム社製 両面9B−V型
研磨パッド:表2に記載
下定盤回転数:32.5r/min
研磨液流量:120cc/min
研磨時間:4min
研磨荷重:7.8kPa
投入した基板の枚数:10枚/回
(酸価の測定)
100 ml容のコレクションバイアルに研磨液組成物を約50g 天秤 (BP221S Sartorius社製) を用いて秤取し、小数点以下4桁まで記録した。次にテフロン(登録商標)製の攪拌子を入れ攪拌しながら、3点校正(pH=4.01 (25 ℃:フタル酸塩pH標準液 (東亜電波工業製))、pH=6.86 (25 ℃:中性りん酸塩 (東亜電波工業製))、pH=9.18 (25 ℃:ホウ酸塩pH標準液 (片山化学工業製))) したpHメーター (HM−30G (東亜電波工業製) 、電極:GST−5721C)でpHを測定した。これに10ml容の滴定管を用いて0.1mol/L水酸化カリウム水溶液 (ファクター1.000 ;シグマ アルドリッチ ジャパン製) を滴下し、pHが7.00を示す量(ml)を求めた(通常pH7.00前後4点のデータから内挿法により算出する)。研磨液量(g)と必要な水酸化カリウムの量(ml)から1g当たりの研磨液組成物を中和するのに必要な水酸化カリウムの量を算出し、これを酸価 (mgKOH/g) とした。なお、表中、式(1)の右辺計算値とは、後述のようにして得られた研磨材の個数濃度を前記式(1)の右辺の一次関数に代入して得られる値をいう。
100 ml容のコレクションバイアルに研磨液組成物を約50g 天秤 (BP221S Sartorius社製) を用いて秤取し、小数点以下4桁まで記録した。次にテフロン(登録商標)製の攪拌子を入れ攪拌しながら、3点校正(pH=4.01 (25 ℃:フタル酸塩pH標準液 (東亜電波工業製))、pH=6.86 (25 ℃:中性りん酸塩 (東亜電波工業製))、pH=9.18 (25 ℃:ホウ酸塩pH標準液 (片山化学工業製))) したpHメーター (HM−30G (東亜電波工業製) 、電極:GST−5721C)でpHを測定した。これに10ml容の滴定管を用いて0.1mol/L水酸化カリウム水溶液 (ファクター1.000 ;シグマ アルドリッチ ジャパン製) を滴下し、pHが7.00を示す量(ml)を求めた(通常pH7.00前後4点のデータから内挿法により算出する)。研磨液量(g)と必要な水酸化カリウムの量(ml)から1g当たりの研磨液組成物を中和するのに必要な水酸化カリウムの量を算出し、これを酸価 (mgKOH/g) とした。なお、表中、式(1)の右辺計算値とは、後述のようにして得られた研磨材の個数濃度を前記式(1)の右辺の一次関数に代入して得られる値をいう。
(研磨材の個数濃度の算出)
前記式(2)において比重をアモルファスシリカの2.2g/cm3とし算出した。
前記式(2)において比重をアモルファスシリカの2.2g/cm3とし算出した。
(幅広スクラッチの測定方法)
微分干渉式顕微鏡システム(金属顕微鏡:BX60M (オリンパス光学工業製)、対物レンズ:UMPlan FI 5 ×/0.15 BD P、CCD カラーカメラ:ICD−500AC (池上通信機製)、カラーモニター:UCM−1000 REV.8 (池上通信機製)) にて被研磨基板 10 枚の全面を観察し、 10 枚中で幅広スクラッチ(深さ0.1nm以上、5nm未満、幅10μm以上、50μm未満、長さ10μm以上、1mm未満)の発生している枚数を、幅広スクラッチの発生の程度を目視により大/中/小に分類して数えた。なお、大、中、小の評価基準は以下のとおり。
「大」:(深さ)1.0nm以上5.0nm未満、(幅)10μm以上50μm未満、(長さ)10μm以上1mm未満、
「中」:(深さ)0.5nm以上1.0nm未満、(幅)10μm以上50μm未満、(長さ)10μm以上1mm未満、
「小」:(深さ)0.1nm以上0.5nm未満、(幅)10μm以上50μm未満、(長さ)10μm以上1mm未満
微分干渉式顕微鏡システム(金属顕微鏡:BX60M (オリンパス光学工業製)、対物レンズ:UMPlan FI 5 ×/0.15 BD P、CCD カラーカメラ:ICD−500AC (池上通信機製)、カラーモニター:UCM−1000 REV.8 (池上通信機製)) にて被研磨基板 10 枚の全面を観察し、 10 枚中で幅広スクラッチ(深さ0.1nm以上、5nm未満、幅10μm以上、50μm未満、長さ10μm以上、1mm未満)の発生している枚数を、幅広スクラッチの発生の程度を目視により大/中/小に分類して数えた。なお、大、中、小の評価基準は以下のとおり。
「大」:(深さ)1.0nm以上5.0nm未満、(幅)10μm以上50μm未満、(長さ)10μm以上1mm未満、
「中」:(深さ)0.5nm以上1.0nm未満、(幅)10μm以上50μm未満、(長さ)10μm以上1mm未満、
「小」:(深さ)0.1nm以上0.5nm未満、(幅)10μm以上50μm未満、(長さ)10μm以上1mm未満
(ナノスクラッチの測定方法)
測定をしたい基板を「マイクロマックスVMX−2100CSP」(ビジョンサイテック製)(250Wメタルハライド光源×2台、180Wメタルハライド光源×1台)で外周部を1周、26.6倍に拡大して観察し、スクラッチの数を測定した。基板5枚の両面、計10面について測定を行い、1面あたりの数を測定した。
測定をしたい基板を「マイクロマックスVMX−2100CSP」(ビジョンサイテック製)(250Wメタルハライド光源×2台、180Wメタルハライド光源×1台)で外周部を1周、26.6倍に拡大して観察し、スクラッチの数を測定した。基板5枚の両面、計10面について測定を行い、1面あたりの数を測定した。
〔研磨パッドの気孔径の測定方法〕
測定したい研磨パッド表面をKEYENCE製「デジタルマイクロスコープVH−D8000」(高倍率ズームレンズ「VH−Z450」)で450倍に拡大して観察し、深度合成処理を行い、画像をファイルに取り込んだ。次に、取り込んだ画像を用いてPCにて画像解析ソフト「WinROOF」(三谷商事)で気孔径を計測した。1つの気孔を楕円とみなした場合の長径と短径の平均値を気孔径とし、これを100個以上の気孔に対して行い、その平均気孔径、気孔径の最大値を算出した。
測定したい研磨パッド表面をKEYENCE製「デジタルマイクロスコープVH−D8000」(高倍率ズームレンズ「VH−Z450」)で450倍に拡大して観察し、深度合成処理を行い、画像をファイルに取り込んだ。次に、取り込んだ画像を用いてPCにて画像解析ソフト「WinROOF」(三谷商事)で気孔径を計測した。1つの気孔を楕円とみなした場合の長径と短径の平均値を気孔径とし、これを100個以上の気孔に対して行い、その平均気孔径、気孔径の最大値を算出した。
(平均粒子径と標準偏差の算出方法)
研磨材粒子を日本電子製透過型電子顕微鏡(商品名「JEM−2000FX」、80kV、観察倍率1〜5万倍)で観測した写真をスキャナでPCに取込み、三谷商事販売の解析ソフト「WinRoof」を用いて1個1個のシリカ粒子の円相当径を求め、直径とし、1000個以上のシリカ粒子データを解析した後、それをもとにEXCEL上で個数基準の平均粒子径(μ)、標準偏差(σ)を算出した。
研磨材粒子を日本電子製透過型電子顕微鏡(商品名「JEM−2000FX」、80kV、観察倍率1〜5万倍)で観測した写真をスキャナでPCに取込み、三谷商事販売の解析ソフト「WinRoof」を用いて1個1個のシリカ粒子の円相当径を求め、直径とし、1000個以上のシリカ粒子データを解析した後、それをもとにEXCEL上で個数基準の平均粒子径(μ)、標準偏差(σ)を算出した。
表1、2の結果より、平均気孔径が0.01〜35μmの表面部材を有する研磨パッドを用いた実施例1〜8では、平均気孔径が41.4μmのものを用いた比較例1〜10と比べて、ナノスクラッチ、幅広スクラッチが共に低減した研磨を行うことができることがわかる。
Claims (14)
- 研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が1〜25μmで、気孔径の最大値が60μm以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法。
- 研磨材の一次粒子の平均粒径が、40nm以下である、請求項1記載の基板の製造方法。
- 酸のpK1が2以下である、請求項1又は2記載の基板の製造方法。
- 酸が、無機酸及び/又は有機ホスホン酸を含有する、請求項1〜3いずれか記載の基板の製造方法。
- 酸及びその塩の含有量が、研磨液組成物中0.0001〜5重量%である、請求項1〜4いずれか記載の基板の製造方法。
- 酸化剤の含有量が、研磨液組成物中0.01〜5重量%である、請求項1〜5いずれか記載の基板の製造方法。
- 研磨液組成物の酸価が0.2〜20mgKOH/gである、請求項1〜6いずれか記載の基板の製造方法。
- 研磨液組成物のpHが、1.0〜4.5である、請求項1〜7いずれか記載の基板の製造方法。
- 研磨材の含有量が、研磨液組成物中1〜15重量%である、請求項1〜8いずれか記載の基板の製造方法。
- 研磨液組成物の流量が、基板1枚あたり130cc/min以下である、請求項1〜9いずれか記載の基板の製造方法。
- 基板が、Ni−Pメッキされたアルミニウム合金基板である、請求項1〜10いずれか記載の基板の製造方法。
- 研磨後の廃液のpHが、5以下である、請求項1〜11いずれか記載の基板の製造方法。
- 研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が1〜25μmで、気孔径の最大値が60μm以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の研磨方法。
- 研磨材、酸化剤、酸及び/又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が1〜25μmで、気孔径の最大値が60μm以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板のスクラッチの低減方法。
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- 2009-04-02 JP JP2009090547A patent/JP2009181690A/ja active Pending
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