JP2004268403A - 加飾シートおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【効果】パターン化された低光線透過率金属膜層の部分は、従来の金属膜層と同様の金属光沢および色相を示すが、高光線透過率金属膜層のみの部分においては、金属光沢は従来の金属膜層と同程度に保持されるものの、色相は背景色の影響を受け従来の金属膜層と異なる。したがって、全面にほぼ同一の金属光沢があり、かつ文字や模様などが認識できる意匠が容易に形成できる効果がある。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、通信機器、自動車部品、建材、電気製品等の製品に用いる加飾シートおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
最近、意匠性の多様化に伴い、全面にほぼ同一の金属光沢感があり、かつその中で文字や模様などが認識できる意匠にしたいというニーズが出てきている。しかし、ほとんどの金属膜は類似した色合を示すため、異種の金属を選定し金属膜を並列形成しても意匠のバリエーションに乏しく、形成する際の見当合わせなどに労力がかかる。そこで、本発明者は、当初、単一の金属膜層上に、透明の着色顔料を含む印刷インキ層をパターン形成し、色相を変えることで、所望の意匠を得ることを検討していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記方法は、印刷インキ層に含まれる着色顔料によって入射光が散乱し、印刷インキ層が形成された部分の金属膜層の光沢が、印刷インキ層が形成されていない部分の金属膜層の光沢と比べて低下するという問題があった。着色顔料の含有量を低くすれば、光沢の低下は少なくなるが、それに応じて文字や模様などの認識ができなくなる問題があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】
そこで、上記課題を解決するために、本発明者は、少なくとも高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層が基体シート上に形成された加飾シートを発明した。
【0005】
パターン化された低光線透過率金属膜層の部分は、従来の金属膜層と同様の金属光沢および色相を示す。しかし、高光線透過率金属膜層のみの部分においては、金属光沢は従来の金属膜層と同程度に保持されるものの、色相は背景色の影響を受け従来の金属膜層と異なってくる。
【0006】
したがって、高光線透過率金属膜層の背後に従来の着色顔料を含む印刷インキ層等を配置すれば、着色顔料による入射光の散乱を招くことがなく、背後の印刷インキ層等の色相を反映させることができる。
【0007】
このような構成にすることにより、全面にほぼ同一の金属光沢があり、かつ文字や模様などが認識できるニーズに合致した意匠が形成できる。また、本発明者は、この加飾シートの効率的な製造方法として以下の発明をした。
【0008】
すなわち、本発明は、基体シート上に高光線透過率金属膜層を形成し、その上に剥離レジスト層をパターン形成し、その上に低光線透過率金属膜層を形成した後、剥離レジスト層を剥離することにより、前記高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層を基体シート上に形成する加飾シートの製造方法である。
【0009】
また、本発明は、基体シート上に剥離レジスト層をパターン形成し、その上に低光線透過率金属膜層を形成し、剥離レジスト層を剥離した後、高光線透過率金属膜層を形成することにより、前記高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層を基体シート上に形成する加飾シートの製造方法である。
【0010】
また、本発明は、基体シート上に低光線透過率金属膜層を形成し、その上に保護レジスト層をパターン形成し、保護レジスト層のない部分の低光線透過率金属膜層を除去後、その上に高光線透過率金属膜層を形成することにより、前記高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層を基体シート上に形成する加飾シートの製造方法である。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、本発明の加飾シートおよびその製造方法を説明する。本発明の加飾シートAは,基体シート1上に、少なくとも高光線透過率金属膜層31とパターン化された低光線透過率金属膜層32とを含む加飾層3が積層された加飾シートである(図1参照)。
【0012】
基体シート1は加飾層3等を形成するための下地となる層である。基体シート1の材質は、プラスチックシートや紙などを挙げることができ、特定の材質に限定されることはない。例えばプラスチックシートの場合、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、アクリルフィルム等などがある。基体シート1の厚みは、作業性のよい5μm〜500μmが好ましい。
【0013】
なお、加飾シートAは、剥離層2を基体シート1と加飾層3の間に配置し、加飾シートAを、基体シート1を残して剥離層2と加飾層3等を製品基材に加飾形成する転写シートとしてもよい(図2参照)。なお、加飾層3が基体シート1から直接剥離できる場合は剥離層2を省略してもよい。
【0014】
剥離層2の材質は、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、フッ素系樹脂、ビニロン系樹脂、アセテート系樹脂、ポリアミド系樹脂を挙げることができ、基体シート1との剥離性に応じて、適宜、好ましい材料を選択すればよい。剥離層2の膜厚は0.5μm〜50μmが好ましい。
【0015】
加飾層3は、少なくとも高光線透過率金属膜層31とパターン化された低光線透過率金属膜層32とを含む。ここで、本発明における高光線透過率金属膜層31とは、光線透過率が7〜70%の金属膜層のことを言い、低光線透過率金属膜層32とは、光線透過率が7%未満の金属膜層のことを言う。なお、加飾層3上に接着層を設けてもよい。
【0016】
本発明の効果をさらに発揮させるためには、高光線透過率金属膜層31の光線透過率を10〜50%にし、低光線透過率金属膜層32の光線透過率を5%未満の範囲にしたほうが好ましい。高光線透過率金属膜層31と低光線透過率金属膜層32の光線透過率に差があるほど、低光線透過率金属膜層32のパターンが明瞭になるからである。なお、光線透過率が50%を越えると金属光沢感が低下して所望の意匠が得にくくなる。
【0017】
高光線透過率金属膜層31の膜厚は、金属の材質によって多少異なるものの、3nm〜30nm程度の範囲になる。高光線透過率金属膜層32の膜厚は、金属の材質によって多少異なるものの、20nm〜120nm程度の範囲になる。
【0018】
高光線透過率金属膜層31および低光線透過率金属膜層32の形成方法は、真空蒸着、スパッターリング、メッキなどがある。
【0019】
高光線透過率金属膜層31および低光線透過率金属膜層32の材質としては、アルミニウム、クロム、錫、金、銀、ニッケル、インジウム、硫化亜鉛などを挙げることができる。
【0020】
低光線透過率金属膜層32をパターン化する方法は、▲1▼剥離レジスト層41をパターン形成しその上に低光線透過率金属膜層32を形成した後(図4参照)、剥離レジスト層41を剥離する方法と、▲2▼低光線透過率金属膜層32を形成しその上に保護レジスト層42をパターン形成し(図5参照)、保護レジスト層42のない部分の低光線透過率金属膜層32を除去する方法、とがある。
【0021】
高光線透過率金属膜層31および低光線透過率金属膜層32を各々別々にパターン形成する方法もあるが、その場合にはパターンの見当ずれによる不良が発生しやすい問題がある。それに対し、上記▲1▼または▲2▼の方法はその問題がないという点で優れた方法である。
【0022】
▲1▼剥離レジスト層41をパターン形成しその上に低光線透過率金属膜層32を形成した後、剥離レジスト層41を剥離する方法は、ポリビニルアルコール系樹脂やアクリル樹脂などの水溶性樹脂などからなる剥離レジスト層41を汎用印刷方法によってパターン形成し、剥離レジスト層41とその上に形成された低光線透過率金属膜層32のみを水やアルコール等によって剥離することによってパターン化するものである。剥離レジスト層41の膜厚は0.5μm〜50μmが好ましい。
【0023】
この方法の場合、高光線透過率金属膜層31は、低光線透過率金属膜層32の形成前に形成してもよいし(図4参照)、低光線透過率金属膜層32をパターン形成した後に形成してもよい。また、高光線透過率金属膜層31と低光線透過率金属膜層32との密着性を高めるために、これらの層の間にアンカー層を設けてもよい。
【0024】
▲2▼低光線透過率金属膜層32を形成しその上に保護レジスト層42をパターン形成し、保護レジスト層42のない部分の低光線透過率金属膜層32を剥離する方法は、エポキシ系樹脂やアルキッド系樹脂などの耐食性樹脂などからなる保護レジスト層42を汎用印刷方法によってパターン形成し、保護レジスト層42が形成されていない低光線透過率金属膜層32のみをエッチング等によって除去することによってパターン化するものである。
【0025】
この方法の場合、高光線透過率金属膜層31は低光線透過率金属膜層32の後に形成する。また、保護レジスト層42と高光線透過率金属膜層31および低光線透過率金属膜層32との密着性が弱い場合には、これらの層の間にアンカー層を設けてもよい。
【0026】
また、高光線透過率金属膜層31および低光線透過率金属膜層32の形成前に、金属膜層のクラック発生を防止するためのアンカー層を設けてもよい。その場合のアンカー層の材質は、密着性のみならず耐熱性や柔軟性もよい硬化型のウレタン樹脂等が好ましい。アンカー層の膜厚は0.5μm〜50μmが好ましい。
【0027】
なお、これらの保護レジスト層42およびアンカー層は、形成された金属膜層表面の酸化を防止するという作用もある。とくに、金属膜層の膜厚が薄くなるほど酸化されやすいため、保護レジスト層42およびアンカー層を設けることの意義が高まる。
【0028】
なお、加飾層3は、高光線透過率金属膜層31とパターン化された低光線透過率金属膜層32以外に、印刷インキ層33、着色シート層34等を設けてもよい。また、加飾層3上にオーバーコート層や接着層5等を設けてもよい。
【0029】
印刷インキ層33、着色シート層34等は、高光線透過率金属膜層31の金属光沢度を低下させずに、高光線透過率金属膜層31を所望の色に着色するための層である。オーバーコート層は加飾層3を保護するための層であり、接着層5は加飾層3を被接着物に接着させるための層である。加飾層3の総膜厚は、0.5μm〜300μmが好ましい。
【0030】
なお、印刷インキ層33、着色シート層34等は、ロゴなどのように一部のパターンとして形成してもよい。そして、その部分には金属光沢がなくても構わない。
【0031】
得られた加飾シートAには、すでに所望の意匠からなる加飾層3が形成されていて、熱ラミネート法、ドライラミネート法、ロール転写法、成形同時加飾法などにより、加飾シートと製品基材とを接着させて、製品基材に所望の意匠を形成することができる。したがって、汎用の印刷、塗装などにより、製品基材に直接加飾層3を設ける方法よりも効率的でかつ生産性に優れている。
【0032】
とくに、製品基材表面が三次元形状を有するものであり、その表面に沿って加飾したい場合には、製品基材に直接加飾層3を設ける方法は技術的に困難であるところ、本発明の加飾シートAを用いて、真空成形法、圧空成形法、プラグアシスト成形法、真空プレス法、プレス法等により製品基材表面の形状に沿って加工し、接着すれば容易に形成することができる。
【0033】
【実施例】
(実施例1 成形同時転写シート)基体シート1として38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、その表面に電離放射線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂からなるグラビアインキを用い、5μmの剥離層2を形成した。次に、その剥離層2上に下記の高光線透過率金属膜層31を形成した後、水溶性アクリル樹脂からなる剥離レジスト層41をグラビア印刷法によってパターン形成し、その上に下記の低光線透過率金属膜層32を形成した(図4参照)。
【0034】
<高光線透過率金属膜層31>
材質 アルミニウム
形成方法 真空蒸着法
光線透過率 25〜50%
膜厚 0.008〜0.015μm
【0035】
<低光線透過率金属膜層32>
材質 アルミニウム
形成方法 真空蒸着法
光線透過率 3〜5%
膜厚 0.06〜0.08μm
【0036】
低光線透過率金属膜層32を形成した後、温水でもって、水溶性アクリル樹脂からなる剥離レジスト層41を剥離し、低光線透過率金属膜層32を所定の文字パターンに形成した。その後、青色顔料を多く含む塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂インキ層33を全面にグラビア印刷でもって形成し、その後アクリル系樹脂からなる接着層5をグラビア印刷にて形成した(図2参照)。
【0037】
得られた成形同時転写シートAには、所定の文字部分で銀色を呈する低光線透過率金属膜層32と、文字の周囲部分で薄い青みがかかった色を呈する高光線透過率金属膜層31とからなる加飾層3が形成されている。この所定の文字部分と文字の周囲部分との光沢度の違いは4%であり、目視ではほとんど区別がつかない優れたものであった。
【0038】
(実施例2 花柄模様化粧シート)基体シート1として50μmの淡黄色透明ポリ塩化ビニルフィルムを用い、その表面に下記の低光線透過率金属膜層32を形成した後、エポキシ樹脂からなる保護レジスト層42をスクリーン印刷法によって所定の花柄模様のパターンに形成し(図5参照)、エッチング液に浸漬した。
【0039】
<低光線透過率金属膜層32>
材質 アルミニウム
形成方法 真空蒸着法
光線透過率 1〜3%
膜厚 0.08〜0.1μm
【0040】
エッチング後、下記の高光線透過率金属膜層31を形成した後、ウレタン系樹脂からなるラミネート接着剤を介して、50μmの青色ポリ塩化ビニルフィルム34とラミネートした(図3)。
【0041】
<高光線透過率金属膜層31>
材質 アルミニウム
形成方法 真空蒸着法
光線透過率 15〜40%
膜厚 0.01〜0.025μm
【0042】
得られた花柄模様化粧シートAには、花柄模様部分で淡黄色を呈する低光線透過率金属膜層32と、花柄模様の周囲部分で緑っぽい色を呈する高光線透過率金属膜層31とからなる加飾層3が形成されている。この花柄模様部分と花柄模様の周囲部分との光沢度の違いは6%であり、目視ではほとんど区別がつかない優れたものであった。
【0043】
【発明の効果】
本発明は、少なくとも高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層が基体シート上に形成された加飾シートであり、パターン化された低光線透過率金属膜層の部分は、従来の金属膜層と同様の金属光沢および色相を示すが、高光線透過率金属膜層のみの部分においては、金属光沢は従来の金属膜層と同程度に保持されるものの、色相は背景色の影響を受ける。
【0044】
したがって、背景色の色相も反映させることができため、全面にほぼ同一の金属光沢があり、かつ文字や模様などが認識できる意匠が容易に形成できる効果がある。
【0045】
また、本発明は、基体シート上に高光線透過率金属膜層を形成し、その上に剥離レジスト層をパターン形成し、その上に低光線透過率金属膜層を形成した後、剥離レジスト層を剥離することにより、前記高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層を基体シート上に形成する加飾シートの製造方法である。また、本発明は、基体シート上に剥離レジスト層をパターン形成し、その上に低光線透過率金属膜層を形成し、剥離レジスト層を剥離した後、高光線透過率金属膜層を形成することにより、前記高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層を基体シート上に形成する加飾シートの製造方法であるまた、本発明は、基体シート上に低光線透過率金属膜層を形成し、その上に保護レジスト層をパターン形成し、保護レジスト層のない部分の低光線透過率金属膜層を除去後、その上に高光線透過率金属膜層を形成することにより、前記高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層を基体シート上に形成する加飾シートの製造方法である。
【0046】
したがって、これらの加飾シートの製造方法は、前記加飾シートを効率的に製造できる効果がある。
【0047】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る加飾シートの一実施例を示す断面図である。
【図2】本発明に係る加飾シートの一実施例を示す断面図である。
【図3】本発明に係る加飾シートの一実施例を示す断面図である。
【図4】本発明に係る加飾シートの製造過程の一実施例を示す断面図である。
【図5】本発明に係る加飾シートの製造過程の一実施例を示す断面図である。
【符号の説明】
A 加飾シート
1 基体シート
2 剥離層
3 加飾層
31 高光線透過率金属膜層
32 低光線透過率金属膜層
33 印刷インキ層
34 着色シート層
41 剥離レジスト層
42 保護レジスト層
5 接着層
Claims (4)
- 少なくとも高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層が基体シート上に形成された加飾シート
- 基体シート上に高光線透過率金属膜層を形成し、その上に剥離レジスト層をパターン形成し、その上に低光線透過率金属膜層を形成した後、剥離レジスト層を剥離することにより、高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層を基体シート上に形成することを特徴とする加飾シートの製造方法。
- 基体シート上に剥離レジスト層をパターン形成し、その上に低光線透過率金属膜層を形成し、剥離レジスト層を剥離した後、高光線透過率金属膜層を形成することにより、高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層を基体シート上に形成することを特徴とする加飾シートの製造方法。
- 基体シート上に低光線透過率金属膜層を形成し、その上に保護レジスト層をパターン形成し、保護レジスト層のない部分の低光線透過率金属膜層を除去後、その上に高光線透過率金属膜層を形成することにより、高光線透過率金属膜層とパターン化された低光線透過率金属膜層とを含む加飾層を基体シート上に形成することを特徴とする加飾シートの製造方法。
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