JPH1158581A - 偽造防止用積層材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 視角によって色が明確に変化し、真偽判断を
容易に行うことができる偽造防止用積層材料を得る。 【解決手段】 偽造防止用積層材料１Ａを、第１の金属
層３、低屈折率材料層４及び第２の金属層５を積層した
多層干渉膜６から構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、視角により色の変
化する多層干渉膜を、偽造、複製あるいは改ざん（以
下、単に偽造と略す）防止のために用いた積層材料に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、物品の偽造を防止するための
手法としては、物品自体に偽造が困難な外観をもたせる
ことや、偽造の形跡を発見し易くし、本物と偽造品とを
容易に識別できるようにすることなどが挙げられる。具
体的には、株券などの有価証券や紙幣のように、そのも
の自体に極めて微細な加工（例えば、微細印刷や微細エ
ンボス）を施したり、色見本にないような色調のインク
で彩色したり、特殊なインクを用いて印刷したり、特殊
な素材を使用したりすることなどにより、模造、複製品
の印刷あるいは複写機による複写を困難にし、それによ
り偽造を防止している。

【０００３】しかし、特殊な素材やインクを使用するこ
とは物品の製造コストを増大させるので現実的ではな
い。また、微細加工を施したとしても、近年の印刷複製
技術の進歩並びに複写機におけるデジタル技術の飛躍的
進歩に伴い、本物に施されている微細加工や任意の色彩
を再現することが可能になっている。そこで、偽造防止
のためには、よりいっそう高度に微細化した微細加工を
行うことがなされている。

【０００４】一方、それ自体の偽造が困難であると共
に、物品の識別を可能とする情報を読み取れるようにし
たものとして、特定の回折格子からなるバーコードパタ
ーンを物品（ＩＤカード、プリペイドカード等）の表面
に形成し、これにレーザー光を照射したときの反射光の
検出により、そのバーコードがもつ情報を読み取れるよ
うにしたものがある。

【０００５】また、レリーフ型ホログラム、体積位相型
ホログラム等を物品に形成し、これにレーザー光又は白
色光を照射したときの反射画像又は透過画像により、そ
のホログラムがもつ情報をよみとれるようにする技術が
実用化されている。この場合、ホログラムは、識別しよ
うとする物品の表面に直接形成してもよく、接着層を有
する基材上に形成してホログラムを有するシールを作製
し、これを物品の表面に貼付してもよく、あるいはホロ
グラムを転写箔に形成し、これを物品の表面に転写して
もよい。

【０００６】さらにこのようなホログラムや上述の回折
格子からなるバーコードパターンとしては、屈折率の異
なるセラミックあるいは有機樹脂の積層体から形成し、
見る角度に応じて固有のカラーシフトを起こす多層干渉
膜となるようにしたものがある。多層干渉膜が形成され
るようにすると、これらホログラムやバーコードは観察
する位置によって異なる色に見えることとなる。よっ
て、そのような色の変化の有無を確認することにより本
物か偽造品かを判断することが可能となる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、偽造防
止のために高度に微細化した微細加工を物品に施すと、
本物かあるいは偽造品かの真偽判断において、微細加工
を施した箇所を拡大観察するか、あるいは真偽判断をす
る当該物品と本物とを並べて比較するなど、余程注意し
て観察しなければ真偽判断を誤ってしまう。また、高度
に微細加工されている部分の真偽判断のためには、明る
い場所と十分な判断時間を確保することが必要となるな
ど、手軽で迅速に真偽判断を行えることが要請されてい
る現状に合致しなくなっている。

【０００８】また、偽造防止のために特殊な素材を使用
することについても、全く特異な素材とすることは効果
を低下させることがあるためにできず、コスト的にも高
くなりすぎるので現実的でない。

【０００９】さらに、屈折率の異なるセラミックあるい
は有機樹脂の積層体から形成した多層干渉膜を利用した
従来のホログラムやバーコードパターンでは、ある程度
のカラーシフトを生じさせることはできるが十分とはい
えず、より大きなカラーシフトを生じさせることが望ま
れている。

【００１０】本発明は、以上のような従来技術の課題を
解決しようとするものであり、カラーシフトの大きい多
層干渉膜を有することにより、視角によって色が明確に
変化し、真偽判断を容易に行うことができる偽造防止用
積層材料を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、第１の金属層、低屈折率材料層及び第２
の金属層が積層されていることを特徴とする偽造防止用
積層材料を提供する。

【００１２】特に、この偽造防止用積層材料において、
低屈折率材料層が、印刷などによりパターン状に形成さ
れている態様や、第１の金属層と低屈折率材料層との
間、又は低屈折率材料層と第２の金属層との間に、印刷
などによりパターン状に形成された光非透過性又は低透
過性層が形成されている態様を提供する。

【００１３】またこれらの偽造防止用積層材料におい
て、第１の金属層又は第２の金属層上に接着層が形成さ
れている態様や、第１の金属層又は第２の金属層が、基
材上に形成されている態様、さらには、第１の金属層及
び第２の金属層のうち一方の金属層が剥離層を介して基
材上に形成されており、他方の金属層上に接着層が形成
されている態様を提供する。

【００１４】本発明の偽造防止用積層材料によれば、第
１の金属層、低屈折率材料層及び第２の金属層が積層さ
れているので、この積層構造が多層干渉膜として機能
し、可視光領域において特定の波長の光に対して吸収を
示し、明瞭にカラーシフトを生じさせるものとなる。し
たがって、従来の回折格子からなるホログラムを利用し
た偽造防止用積層材料よりも簡素な構造で正確に真偽判
断を行うことが可能となる。

【００１５】さらに本発明においては、この多層干渉膜
を構成する層として、第１の金属層及び第２の金属層と
いう金属層を用いており、これら金属層は、従来の多層
干渉膜に用いられているセラミック層や有機樹脂層に比
して反射率が高い。このため、本発明によれば反射光を
観察した場合の色の変化が顕著となる。したがって、本
発明によれば、色の変化の程度によっても容易に本物か
偽造品かの真偽判断を行うことが可能となる。特に、本
発明において、第１の金属層の光透過率を３０％以上と
し、且つ第２の金属層の光反射率を８０％以上とした場
合には、第１の金属層側から観察する場合に顕著な色の
変化が認められるようになり、いっそう、真偽判断を容
易に行うことが可能となる。

【００１６】また、この多層干渉膜が示す色調は、第１
の金属層、低屈折率材料層及び第２の金属層のそれぞれ
の光学膜厚を変えることにより、容易に変えることが可
能となる。

【００１７】以上のような本発明の偽造防止用積層材料
が有する特性は、その多層干渉膜の構造に由来するもの
であるから、静電複写等により単に複写しても得られる
複写物に複写されることはない。本発明の偽造防止用積
層材料の複写物は、視角を変えても色が変化することな
く、単色を示すものとなる。より具体的には、本発明に
おいては、金属層、特に第２の金属層が反射層として機
能とするため、通常、複写物は黒化し、ますます本物と
複写物との外観の差異が大きくなる。よって、本発明に
よれば、複写物に対する真偽判断が容易となる。

【００１８】また、本発明において、低屈折率材料層
が、パターン状に形成されている態様によれば、その低
屈折率材料層のパターンのある部分が多層干渉膜として
機能するので、カラーシフトの生じる部分も低屈折率材
料層のパターンに合わせてパターン状となる。よって、
この態様によれば、カラーシフトの生じる部分を任意の
図柄に形成することができ、他の物品との区別化を図る
ことができる。

【００１９】また、本発明において、第１の金属層と低
屈折率材料層との間、又は低屈折率材料層と第２の金属
層との間に、印刷などによりパターン状に形成された光
非透過性又は低透過性層が形成されている態様によれ
ば、この光非透過性又は低透過性層のある部分では多層
干渉膜としての機能が阻害され、光非透過性又は低透過
性層のない部分が多層干渉膜としての機能を発揮するこ
ととなる。したがって、この態様によっても、カラーシ
フトの生じる部分を任意の図柄に形成することができ、
他の物品との区別化を図ることができる。

【００２０】さらに、本発明の偽造防止用積層材料にお
いて、第１の金属層又は第２の金属層上に接着層が形成
されている態様によれば、本発明の偽造防止用積層材料
はシール状となり、偽造防止を図る任意の物品に容易に
貼着することが可能となる。

【００２１】また、第１の金属層又は第２の金属層が、
基材上に形成されている態様によれば、偽造防止用積層
材料に機械的強度を付与することができる。

【００２２】さらに、第１の金属層及び第２の金属層の
うち一方の金属層が剥離層を介して基材上に形成されて
おり、他方の金属層上に接着層が形成されている態様に
よれば、本発明の偽造防止用積層材料は転写箔となり、
本発明の偽造防止用積層材料が有する多層干渉膜として
の機能を任意の物品に容易に転写することが可能とな
る。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を用いて詳細
に説明する。なお、各図中、同一符号は同一又は同等の
構成要素を表している。

【００２４】図１は本発明の偽造防止用積層材料の一つ
の態様の層構成を示す断面図であり、図２はそれを観察
した場合の状態の説明図である。

【００２５】この図１の偽造防止用積層材料１Ａは、基
材２上に第１の金属層３、低屈折率材料層４及び第２の
金属層５が順次積層され、この第１の金属層３、低屈折
率材料層４及び第２の金属層５から多層干渉膜６が構成
されている。

【００２６】ここで、基材２は、偽造防止用積層材料１
Ａに機械的強度をもたせる等のため、必要に応じて設け
られている。したがって、基材２の形成材料としては、
ある程度の剛性および表面の平滑性が必要とされる。ま
た、この偽造防止用積層材料１Ａが、当該偽造防止用積
層材料の使用態様により真偽判断時に第２の金属層５側
から観察される場合には、基材２の透明性の有無は問題
とならないが、第１の金属層３側から観察される場合、
即ち、基材２を通して観察される場合には、基材２は透
明材料から形成する。

【００２７】なお、物品の真偽判断時に偽造防止用積層
材料１Ａにその効果を十分に発揮させるためには、後述
するように第１の金属層３の光透過率を３０％以上と
し、第２の金属層５の光反射率を８０％以上とし、真偽
判断時に偽造防止用積層材料１Ａが第１の金属層３側か
ら観察されるようにすることが好ましい。

【００２８】基材２の形成材料の具体例としては、例え
ば、ポリエステルフィルム、ポリオレフィンフィルム等
の高分子フィルムをあげることができる。

【００２９】第１の金属層３の形成材料としては、特に
限定されるものではないが、ハーフミラーを形成すると
いう光学的な点及び腐食性の点から、クロム又はアルミ
ニウムあるいはこれらと同等の屈折率及び反射率を有す
る金属から形成することが好ましい。

【００３０】また、第１の金属層３においては、上述し
た形成材料及び層厚を適宜選択することにより、その光
透過率が３０％以上となるようにすることが好ましい。
これにより、第２の金属層５の光反射率を８０％以上に
することと相まって、偽造防止用積層材料１Ａを第１の
金属層３側から基材２を通して観察した場合に、多層干
渉膜６の反射光に明瞭なカラーシフトを得ることができ
る。

【００３１】そこで、第１の金属層３の層厚は、透過性
の確保の点から、通常、１００〜３００Å程度とするこ
とが好ましい。

【００３２】第１の金属層３の形成方法は、形成材料等
に応じて適宜定めることができ、通常の真空蒸着法、ス
パッタリング法等の物理的気相折出法やＣＶＤ法のよう
な化学的気相折出法を用いることができる。

【００３３】一方、低屈折率材料層４は、第１の金属層
３及び第２の金属層５に比して屈折率の低い材料から形
成し、好ましくは屈折率１．７以下、より好ましくは屈
折率１．５以下の材料から形成する。このような形成材
料としては、特に限定されるものではなく、無機物、有
機物を問わない。無機物としては、酸化アルミニウム、
酸化タングステン、二酸化珪素、フッ化マグネシウム、
フッ化アルミニウム、フッ化リチウム、フッ化ネオジ
ム、フッ化イットリウムあるいはフッ化セリウムなどを
使用することができる。また、有機物であれば、アクリ
ル樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。

【００３４】また、低屈折率材料層４の層厚は、必要と
する光学的特性に応じて決定されるが、通常、３０００
〜４０００Å程度とする。

【００３５】本発明においては、低屈折率材料層４を所
望のパターン（例えば、文字、数字、模様等）に形成す
ることができ、この図１の偽造防止用積層材料１Ａにお
いては、低屈折率材料層４を図２にドットで塗りつぶし
たような「ＴＯＰ」の文字列にパターン形成している。

【００３６】低屈折率材料層４をパターン状に形成する
方法としては、その形成材料に応じて適宜定めることが
できるが、例えば、低屈折率材料層４をアクリル樹脂、
シリコーン樹脂等の樹脂から形成する場合、スクリーン
印刷、グラビア印刷など従来公知の印刷方法や塗布方法
を用いることができる。この場合、低屈折率材料層４の
下層には透明なアンカー層を形成してもよい。

【００３７】第２の金属層５は、上述したように第１の
金属層３の光透過率を３０％以上とすることと相まっ
て、その光反射率を８０％以上とすることが好ましい。
これにより、偽造防止用積層材料１Ａを基材２側から観
察した場合に、多層干渉膜６の反射光として、明瞭なカ
ラーシフトを得ることができる。

【００３８】そこで第２の金属層５は、特に限定される
ものではないが、反射率の点から、クロム、アルミニウ
ム、金、アルミ青銅又は真鍮あるいはこれらと同等の屈
折率及び反射率を有する金属から形成することが好まし
い。

【００３９】また、第２の金属層５の層厚は、光線が反
射されるようにする等のため、通常、７００〜１０００
Å程度とすることが好ましい。

【００４０】第２の金属層５の形成方法は、形成材料等
に応じて適宜定めることができ、通常の真空蒸着法、ス
パッタリング法等の物理的気相折出法やＣＶＤ法のよう
な化学的気相折出法を用いることができる。

【００４１】以上の層構成を有する図１の偽造防止用積
層材料１Ａは、それを基材２側から観察した場合、図２
に示したように、低屈折率材料層４の形成パターンであ
る「ＴＯＰ」の文字列が、見る角度に応じて異なる色に
変化するものとなる。したがって、偽造防止を図りたい
物品にこの積層材料１Ａを貼着等により取り付けること
により、本物か否かの真偽判断を容易に行うことが可能
となる。

【００４２】本発明の偽造防止用積層材料には、必要に
応じて接着層を設けることができる。これにより、偽造
防止を図る物品に、その接着層を押し当て、本発明の偽
造防止用積層材料を簡便に貼着することが可能となる。
このような接着層の形成位置は、偽造防止を図る当該物
品に対する本発明の偽造防止用積層材料の使用態様に応
じて定めることができる。例えば、図３の偽造防止用積
層材料１Ｂのように、図１の偽造防止用積層材料１Ａの
第１の金属層３と反対側の基材２の面上に接着層７を設
けてもよく、また、図４の偽造防止用積層材料１Ｃのよ
うに、図１の偽造防止用積層材料１Ａの第２の金属層５
上に接着層７を設けてもよい。

【００４３】ここで接着層７の形成材料としては、多層
干渉膜６の性能を阻害しないものでなければ、いかなる
接着剤から構成してもよい。例えば、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、アクリル系接着剤、ポリエステル系ポ
リアミド等をあげることができる。

【００４４】図５は、さらに異なる本発明の偽造防止用
積層材料１Ｄの層構成を示す断面図である。この偽造防
止用積層材料１Ｄは、図４の偽造防止用積層材料１Ｃに
対し、その基材２と第１の金属層３との間の剥離を容易
とすると共に、剥離後に第１の金属層３の保護層となる
剥離層８を設けたものである。なお図示していないが、
本発明においては、偽造防止用積層材料の使用態様等に
応じて、第２の金属層５が基材２上に設けられている場
合に、第２の金属層５と基材２との間に剥離層５をもう
けてもよい。

【００４５】このように一方の金属層と基材２との間に
剥離層８を設け、他方の金属層上に接着層７を設けるこ
とにより、偽造防止用積層材料１Ｄを転写箔として構成
することができる。

【００４６】剥離層８の形成材料としては、加工工程上
安定性を有し、かつ第１の金属層３あるいは第２の金属
層５と反応することなく、第１の金属層３あるいは第２
の金属層５を保護できる材料とする限り特に限定はな
い。有機材料又は無機材料のいずれも使用することがで
きる。有機材料としては、例えば、熱可塑性アクリル樹
脂、塩化ゴム系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
樹脂、セルロース系樹脂、塩素化ポリプロピレン、ある
いはこれらにオイルシリコーン、脂肪酸アミド、ステア
リン酸亜鉛を添加したものなどをあげることができる。

【００４７】以上、図１〜図５には低屈折率材料層４を
パターン状に形成した例を示したが、本発明の偽造防止
用積層材料においては、低屈折率材料層４をパターン状
に形成することなく、第１の金属層３と低屈折率材料層
４との間、又は低屈折率材料層４と第２の金属層５との
間に、パターン状に形成された光非透過性又は低透過性
層を形成してもよい。これにより、この光非透過性又は
低透過性層のある部分では多層干渉膜の機能が阻害さ
れ、光非透過性又は低透過性層のない部分が多層干渉膜
の機能を発揮する。したがって、この態様によっても多
層干渉膜によりカラーシフトの生じる部分を任意の図柄
（例えば、文字、数字、模様等）に形成することがで
き、他の物品との区別化を図ることができる。

【００４８】なお、光非透過性又は低透過性層を、第１
の金属層又は第２の金属層とそれに接する基材との間に
形成した場合でも、その基材側から偽造防止用積層材料
を観察した場合には、多層干渉膜によりカラーシフトが
生じる部分を任意の図柄に形成することができる。

【００４９】図６の偽造防止用積層材料１Ｅは、パター
ン状に形成された光非透過性又は低透過性層９を用い
て、カラーシフトの生じる部分を任意の図柄に形成する
場合の一例であり、基材２上に形成された第１の金属層
３上に、パターン状に光非透過性又は低透過性層９を形
成し、その上に、ベタで低屈折率材料層４、第２の金属
層５及び接着層７を順次形成する。あるいは、第７図に
示した偽造防止用積層材料１Ｆのように、基材２上に形
成された第１の金属層３及び低屈折率材料層４の上に、
パターン状に光非透過性又は低透過性層９を形成し、そ
の上に、ベタで第２の金属層５及び接着層７を順次形成
する。ここで、光非透過性又は低透過性層９を、図８に
ドットで塗りつぶしたようなパターンに形成すると、偽
造防止用積層材料１Ｅ、１Ｆには、塗りつぶししていな
い領域である「ＴＯＰ」の文字列のパターンにカラーシ
フトを生じさせることができる。

【００５０】この光非透過性又は低透過性層９の色につ
いては特に制限はないが、例えば、光非透過性又は低透
過性層９の色を、光非透過性又は低透過性層９を設けな
い場合において偽造防止用積層材料１Ｅ、１Ｆを上方向
から見たときに観察される色あるいは極めてそれに近い
色とすることができる。これにより、偽造防止用積層材
料１Ｅ、１Ｆを見る角度によっては、偽造防止用積層材
料１Ｅ、１Ｆ全体が均一な単一色に見え、視角を変えた
場合に初めて光非透過性又は低透過性層９のパターンが
認識されるようになる。したがって、光非透過性又は低
透過性層９のパターンを隠し文字のように使用し、これ
によりいっそう当該物品と他の物品とを区別化し、偽造
防止を図ることができる。

【００５１】光非透過性又は低透過性層９の形成材料と
しては、第１の金属層３、低屈折率材料層４及び第２の
金属層５からなる多層干渉膜６の機能を阻害することが
できる程度の遮光性を有している限り、その形成材料に
は特に制限はない。例えば、有色のインク等から形成す
ることができる。

【００５２】光非透過性又は低透過性層９をパターン状
に形成する方法としては、例えば、スクリーン印刷、グ
ラビア印刷など従来公知の印刷方法や塗布方法を使用す
ることができる。また光非透過性又は低透過性層９の下
層には透明なアンカー層を形成してもよい。

【００５３】なお、図６又は図７に示したように、パタ
ーン状の光非透過性又は低透過性層９を設ける態様にお
いて、第１の金属層３、低屈折率材料層４及び第２の金
属層５それ自体は、前述の低屈折率材料層４それ自体を
パターン状にする場合と同様に、それぞれ種々の無機物
又は有機物から形成することができる。

【００５４】ただし、この態様において、低屈折率材料
層４は、パターン状とすることなくベタに薄膜に形成す
ればよいので、通常の真空蒸着法、スパッタリング法等
の物理的気相折出法やＣＶＤ法のような化学的気相折出
法を好ましく用いることができる。また、低屈折率材料
層４を有機物から形成する場合には、湿式コーティング
法を採用することもできる。

【００５５】また、基材２や接着層７も、前述の低屈折
率材料層４それ自体をパターン状に形成する場合と同様
に、それぞれ本発明において必要に応じて設けられる。

【００５６】剥離層８も、低屈折率材料層４それ自体を
パターン化する場合と同様に、パターン状の光非透過性
又は低透過性層９を設ける態様においても、必要に応じ
て設けられる。例えば、図９に示した偽造防止用積層材
料１Ｇのように、基材２上に剥離層８を介して第１の金
属層３を形成し、さらにその上に低屈折率材料層４、パ
ターン状の光非透過性又は低透過性層９、第２の金属層
５及び接着層７を順次形成することができる。

【００５７】

【実施例】次に本発明を、実施例を挙げて具体的に説明
する。

【００５８】実施例１ 図４の層構成の偽造防止用積層材料１Ｃを次のようにし
て作製した。

【００５９】基材２として厚さ１２μｍの透明ポリエス
テルフィルムを使用し、その上に第１の金属層３とし
て、スパッタリング法によりクロム層を１０ｎｍの膜厚
で形成し、次いで、低屈折率材料層４として、図２に示
すような「ＴＯＰ」の文字を、スクリーン印刷法により
アクリル系樹脂で３５０ｎｍの厚さに印刷した。さら
に、第２の金属層５として、スパッタリング法によりク
ロム層を１００ｎｍの膜厚で形成し、これら第１の金属
層３、低屈折率材料層４、第２の金属層５からなる多層
干渉膜６を形成した。さらに第２の金属層５上に、塩化
ビ−酢酸ビ系の接着層７をグラビアコーターを用いて形
成し、偽造防止用積層材料１Ｃを、偽造防止を図る物品
に貼着するシールとして形成した。

【００６０】得られた偽造防止用積層材料１Ｃの低屈折
率材料層４が形成されている部分の反射光は基材２に対
して垂直に見た場合には黄色であり、４５度斜めより見
た場合には青色であった。

【００６１】実施例２ 図５の層構成の偽造防止用積層材料１Ｄを次のようにし
て作製した。

【００６２】基材２として厚さ１２μｍの透明ポリエス
テルフィルムを使用し、その上にシリコーン樹脂系塗料
を塗布して剥離層８を形成し、第１の金属層３として、
スパッタリング法によりアルミニウム層を１０ｎｍの膜
厚で形成し、次に、低屈折率材料層４として、図２に示
すような「ＴＯＰ」の文字をスクリーン印刷法によりア
クリル系樹脂で３５０ｎｍの厚さに印刷した。さらに第
２の金属層５としてスパッタリング法によりアルミニウ
ム層を１００ｎｍの膜厚で積層し、これら第１の金属層
３、低屈折率材料層４、第２の金属層５からなる多層干
渉膜６を形成した。さらに第２の金属層５上に、塩化ビ
−酢酸ビ系の接着層７をグラビアコーターを用いて形成
し、偽造防止用積層材料１Ｄを、その多層干渉膜６を物
品に転写する転写箔として構成した。

【００６３】得られた偽造防止用積層材料１Ｄのカード
に転写したところ、その転写性は良好であった。また、
得られた偽造防止用積層材料１Ｄをカードに転写した後
の低屈折率材料層４の部分の反射光は基材２に対して垂
直に見た場合には黄色であり、４５度斜めより見た場合
には青色であった。

【００６４】実施例３ 図９の層構成の偽造防止用積層材料１Ｇを次のようにし
て作製した。

【００６５】基材２として厚さ１２μｍの透明ポリエス
テルフィルムを使用し、その上にシリコーン樹脂系塗料
を塗布して剥離層８を形成し、第１の金属層３として、
スパッタリング法によりクロム層を１０ｎｍ形成し、次
に低屈折率材料層４として、真空蒸着法により二酸化珪
素を光学膜厚で５４０ｎｍ形成し、その後、スクリーン
印刷法で図８に示すように「ＴＯＰ」を抜き字で白色イ
ンクで印刷して厚さ５０ｎｍの光非透過性又は低透過性
層９を形成し、その上に第２の金属層５としてスパッタ
リング法によりアルミ青銅層を１００ｎｍの膜厚で形成
し、多層干渉膜６を形成した。さらに第２の金属層５上
に、塩化ビ−酢酸ビ系の接着層７をグラビアコーターを
用いて形成し、偽造防止用積層材料１Ｇを、その多層干
渉膜６を物品に転写する転写箔として構成した。

【００６６】得られた偽造防止用積層材料１Ｇをカード
に転写したところ、その転写性は良好であった。また、
得られた偽造防止用積層材１Ｇの光非透過性又は低透過
性層９の抜き字部分の多層干渉膜６の反射スペクトルを
紫外・可視分光光度計により測定したところ、図１０に
示すスペクトルとなった。さらに、得られた偽造防止用
積層材料１Ｇを物品に転写した後の光非透過性又は低透
過性層９の抜き字部分の多層干渉膜６の反射光は、基材
２に対して垂直に見た場合は金色であり、基材２に対し
て４５度斜めより見た場合には青色であった。これに対
し、光非透過性又は低透過性層９を形成した部分の色
は、光非透過性又は低透過性層９の抜き字部分に比べ
て、金色が薄く、色の変化も小さかった。

【００６７】実施例４ 図９の層構成の偽造防止用積層材料１Ｇを次のようにし
て作製した。

【００６８】基材２として厚さ１２μｍの透明ポリエス
テルフィルムを使用し、その上にシリコーン樹脂系塗料
を塗布して剥離層８を形成し、第１の金属層３として、
スパッタリング法によりクロム層を１０ｎｍ形成し、次
に低屈折率材料層４として、マイクログラビア法により
アクリル樹脂を光学膜厚で５００ｎｍ形成し、その後、
スクリーン印刷法で図８に示すように「ＴＯＰ」を抜き
字で白色インクで印刷して光非透過性又は低透過性層９
を形成し、その上に第２の金属層５としてスパッタリン
グ法によりアルミ青銅層を１００ｎｍの膜厚で形成し、
多層干渉膜６を形成した。さらに第２の金属層５上に、
塩化ビ−酢酸ビ系の接着層７をグラビアコーターを用い
て形成し、偽造防止用積層材料１Ｇを、その多層干渉膜
６を物品に転写する転写箔として構成した。

【００６９】得られた偽造防止用積層材料１Ｇをカード
に転写したところ、その転写性は良好であった。また、
得られた偽造防止用積層材１Ｇの光非透過性又は低透過
性層９の抜き字部分の多層干渉膜６の反射スペクトルは
図１０に示すスペクトルと同様であった。さらに、得ら
れた偽造防止用積層材料１Ｇを物品に転写した後の光非
透過性又は低透過性層９の抜き字部分の多層干渉膜６の
反射光は、基材２に対して垂直に見た場合は金色であ
り、基材２に対して４５度斜めより見た場合には青色で
あった。これに対し、光非透過性又は低透過性層９を形
成した部分の色は、光非透過性又は低透過性層９の抜き
字部分に比べて、金色が薄く、色の変化も小さかった。

【００７０】実施例５ 図７の層構成の偽造防止用積層材料１Ｆを次のようにし
て作製した。

【００７１】基材２として厚さ１２μｍの透明ポリエス
テルフィルムを使用し、その上に第１の金属層３とし
て、スパッタリング法によりクロム層を１０ｎｍ形成
し、次に低屈折率材料層４として、真空蒸着法により二
酸化珪素を光学膜厚で５４０ｎｍ形成し、その後、スク
リーン印刷法で図８に示すように「ＴＯＰ」を抜き字で
白色インクで印刷して厚さ５０ｎｍの光非透過性又は低
透過性層９を形成し、その上に第２の金属層５としてス
パッタリング法によりアルミ青銅層を１００ｎｍの膜厚
で形成し、多層干渉膜６を形成した。さらに第２の金属
層５上に、塩化ビ−酢酸ビ系の接着層７をグラビアコー
ターを用いて形成し、偽造防止用積層材料１Ｆを、偽造
防止を図る物品に貼着するシールとして形成した。

【００７２】得られた偽造防止用積層材料１Ｆをカード
に転写したところ、その転写性は良好であった。また、
得られた偽造防止用積層材１Ｆをカードに転写した後の
光非透過性又は低透過性層９の抜き字部分の多層干渉膜
６の反射光は、基材２に対して垂直に見た場合は金色で
あり、基材２に対して４５度斜めより見た場合には青色
であった。これに対し、光非透過性又は低透過性層９を
形成した部分の色は、光非透過性又は低透過性層９の抜
き字部分に比べて、金色が薄く、色の変化も小さかっ
た。

【００７３】実施例６ 図７の層構成の偽造防止用積層材料１Ｆを次のようにし
て作製した。

【００７４】基材２として厚さ１２μｍの透明ポリエス
テルフィルムを使用し、その上に第１の金属層３とし
て、スパッタリング法によりアルミニウム層を１０ｎｍ
の膜厚で形成し、次に低屈折率材料層４として、マイク
ログラビア法によりアクリル樹脂を光学膜厚で５００ｎ
ｍ形成し、その後、スクリーン印刷法で図８に示すよう
に「ＴＯＰ」を抜き字で白色インクで印刷して厚さ５０
ｎｍの光非透過性又は低透過性層９を形成し、その上に
第２の金属層５としてスパッタリング法によりアルミ青
銅層を１００ｎｍの膜厚で形成し、多層干渉膜６を形成
した。さらに第２の金属層５上に、塩化ビ−酢酸ビ系の
接着層７をグラビアコーターを用いて形成し、偽造防止
用積層材料１Ｆを、偽造防止を図る物品に貼着するシー
ルとして形成した。

【００７５】得られた偽造防止用積層材料１Ｆをカード
に転写したところ、その転写性は良好であった。また、
得られた偽造防止用積層材１Ｆをカードに転写した後の
光非透過性又は低透過性層９の抜き字部分の多層干渉膜
６の反射光は、基材２に対して垂直に見た場合は金色で
あり、基材２に対して４５度斜めより見た場合には青色
であった。これに対し、光非透過性又は低透過性層９を
形成した部分の色は、光非透過性又は低透過性層９の抜
き字部分に比べて、金色が薄く、色の変化も小さかっ
た。

【００７６】

【発明の効果】本発明の偽造防止用積層材料によれば、
第１の金属層、低屈折率材料層及び第２の金属層が積層
されているので、この積層構造が多層干渉膜として機能
し、反射光の色が視角により変わるカラーシフトが明確
に生じるようになる。したがって、従来の回折格子から
なるホログラムを利用した偽造防止用積層材料よりも簡
素な構造で正確に真偽判断を行うことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の偽造防止用積層材料の一つの態様の層
構成を示す断面図である。

【図２】本発明の偽造防止用積層材料を形成する低屈折
率材料層のパターンの説明図である。

【図３】本発明の偽造防止用積層材料の他の態様の層構
成を示す断面図である。

【図４】本発明の偽造防止用積層材料の他の態様の層構
成を示す断面図である。

【図５】本発明の偽造防止用積層材料の他の態様の層構
成を示す断面図である。

【図６】本発明の偽造防止用積層材料の他の態様の層構
成を示す断面図である。

【図７】本発明の偽造防止用積層材料の他の態様の層構
成を示す断面図である。

【図８】本発明の偽造防止用積層材料を形成する光非透
過性又は低透過性層のパターンの説明図である。

【図９】本発明の偽造防止用積層材料の他の態様の層構
成を示す断面図である。

【図１０】本発明の実施例の多層干渉膜の反射スペクト
ル図である。

【符号の説明】

１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ 偽造
防止用積層材料 ２ 基材 ３ 第１の金属層 ４ 低屈折率材料層 ５ 第２の金属層 ６ 多層干渉膜 ７ 接着層 ８ 剥離層 ９ 光非透過性又は低透過性層

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１の金属層、低屈折率材料層及び第２
   の金属層が積層されていることを特徴とする偽造防止用
   積層材料。
2. 【請求項２】 低屈折率材料層が、パターン状に形成さ
   れている請求項１記載の偽造防止用積層材料。
3. 【請求項３】 パターン状に形成された低屈折率材料層
   が、印刷層である請求項２記載の偽造防止用積層材料。
4. 【請求項４】 第１の金属層と低屈折率材料層との間、
   又は低屈折率材料層と第２の金属層との間に、パターン
   状に形成された光非透過性又は低透過性層が形成されて
   いる請求項１記載の偽造防止用積層材料。
5. 【請求項５】 光非透過性又は低透過性層が、印刷層で
   ある請求項４記載の偽造防止用積層材料。
6. 【請求項６】 低屈折率材料層が屈折率１．７以下であ
   る請求項１〜５のいずれかに記載の偽造防止用積層材
   料。
7. 【請求項７】 第１の金属層の光透過率が３０％以上で
   あり且つ第２の金属層の光反射率が８０％以上である請
   求項１〜６のいずれかに記載の偽造防止用積層材料。
8. 【請求項８】 第１の金属層が、クロム又はアルミニウ
   ムからなり、第２の金属層が、クロム、アルミニウム、
   金、アルミ青銅又は真鍮からなる請求項７記載の偽造防
   止用積層材料。
9. 【請求項９】 第１の金属層又は第２の金属層上に接着
   層が形成されている請求項１〜８のいずれかに記載の偽
   造防止用積層材料。
10. 【請求項１０】 第１の金属層又は第２の金属層が、基
    材上に形成されている請求項１〜９のいずれかに記載の
    偽造防止用積層材料。
11. 【請求項１１】 第１の金属層及び第２の金属層のうち
    一方の金属層が剥離層を介して基材上に形成されてお
    り、他方の金属層上に接着層が形成されている請求項１
    ０記載の偽造防止用積層材料。