TWI447033B - 製造多層體的方法及多層體 - Google Patents

Description

製造多層體的方法及多層體

本發明關於一種製造多層體的方法，該多層體具體至少一部分形成的功能層及至少另一部分成形的功能層。該功能層與另一功能層對準，此外本發明特別關於一種具有這種多層體之防偽文件及有價文件用的防偽元件。

光學防偽元件往往用於使文件或產品更難拷貝及非法使用以及儘可能防止這種情事。因此光學元件常用於將文件、鈔片、信用卡、金融卡、證件、包裝及類似物作防偽。在此，習知技術有用光學變化元件，它們用習用拷貝方法不能複製，也有習知技術將防偽元件設以一構造化的金屬層，它設計成一文書、圖樣(Logo)或其他圖案形式，例如，要由利用濺鍍(Sputtern)平面施覆的金屬層產生一構造化的金屬層需要許多程序，特別是要產生細微金屬層(它們具有高防偽安全性)尤然。因此，舉例而言，習用技術有將整面施覆的金屬層利用正/負蝕刻或用雷射燒蝕除去一部分金屬並因此構造化，如不採此方式，也可使用蒸鍍遮罩將金屬層呈已構造化的形式施覆到一載體上。

製造防偽元件的製造步驟越多，則當將防偽元件相對於在防偽元件上已存在的特徵或構造形成之時，個別程度步驟的配合準確性或個別工具的定位準確性就越重要。

英專利GB 2136352 A提到製造一種具有一全像圖(當作防偽特徵)的密封膜的製法。在此一塑膠膜在將一繞射性浮雕構進鐫印進去後，整面鍍金屬，然後準確配合地對該鐫印進去的繞射性浮雕構造局部地除金屬。此準確配合的除金屬作業成本很高，且可達成之解析度受到調整誤差及所用程序限制。

歐洲專利EP0 537 439 B2提到具有貴金屬絲細編工(filigran，英：filigree)圖案的防偽元件的方法。圖安由被一金屬層蓋住的繞射性構造形成，且被透明區域(在這些區域金屬層被除去)包圍，貴金屬絲細編工圖案的輪廓呈凹陷部形式做入一鍍金屬的載體材料中，在此，同時將凹陷部的底設以繞射構造，然後收凹陷部用一護漆填充，過量的護漆要利用一刮除刀除去。施覆護漆後，將未受保護之區域的金屬層用蝕刻除去。

本發明的目的在提供一種特別難複製的多層以及一種製造這種多層體的方法，其中形成一個部分形成的功能層，與另一部分地形成的層呈完全或近乎完全的對準。

這種目的，達成之道係利用一種製造一多層體的方法，該多層體具有至少一部分形成之功能層，與至少另一部分形成的層對準，其中，在該多層體的一複製層的一第一區域中形成一第一浮雕構造，其中將一第一層施到該第一區域及至少一第二區的製層上，在該第二區域中第一浮雕構造不形成在該複製層中；且利用該第一浮雕構造作一定之構造化，其方式係將第一區域的第一層除去，但在至少一第二區域的第一層不除去；或者將至少一第二區域中的第一層除去，但在第一區域中的第一層不除去；且其中直接將該至少一個部分地形成的功能層形成，且/或使用該構造化的第一層當作一多層體，隨後將該至少一個部分地形成的功能層形成，在此該第一層特別是整面地施覆到該製層上。但也可只作局部施覆，例如呈條帶或類似物的方式。

此外這種目的也依一種第一多層體達成，該多層體係依本發明的方法得到者，具有至少一個部分地形成的功能層，與至少另一個部分地形成的層對齊，其中在該多層體的一複製層的一第一區形成一第一浮雕構造，其中該至少一功能層依第一浮雕構造作構造化而在該第一區域或在至少一第二區域(在這些區域中第一浮雕構造不在複製層中形成)施到複製層上。

利用本發明形成之部分地形成的功能層或其他層，可達到很高的解析度，所能達成之對齊度及解析度約比用習知方法所能達成者高100倍。由於第一浮雕構造的構造元件的寬度可在可見光的波長範圍(約380到780奈米)，但也可更低，因此可形成很細的輪廓、圖案或線條。因此，在這方面也可達成比迄今所用方法多得多的優點，且利用本發明可製造具有高得多的防止拷貝及偽造的安全性的防偽元件。

依此可產生具有高解析度的線條及/或像素(Pixel)或影像點(Bildpunkt，英：image point)(畫素)，例如其寬度或直徑小於50μm，特別是在0.5μm~10μm，但在極端情形甚至小到約200奈米，產生之解析度宜在約0.5μm~5μm範圍，且特別為約1μm。而用一些習知方法(它們將工具調整對齊)，要做到線寬度小於10μm，只能用很高的成本達成。

這種目的也用第二種製造多層體的方法達成，該多層體至少具有一個部分地形成的功能層，與至少另一個部分地形成的層對齊，其中在一載體層上形成一第一層，呈一第一感光漆(Photoresist)的層的形式且部分地曝光，將曝光過皂第一層顯影並構造化，然後使用該構造化的第一層當作遮罩層，該遮造層形成至少一個部分地形的功能層及/或該至少另一部分地形成的層。這種方法同樣可形成具特別高防偽安全性的多層體。

這種目的另外利用一種第二多層體達成，它係用本發明之第二方法得到者，具有至少一個部分地形成的功能層，與至少另一個部分地形成的層對齊，其中在一載體層上形成一第一層，呈圖案式構造化成一感光漆層的形式，且使用該構造化的第一層當作遮罩層，它至少形成一個部分地形成的功能層及/或至少另一部分形成的層。

此處，「功能層」一詞係指該層或在一定波長時顯示一可見之顏色印象或者它的存在可用電、磁或化學方式檢出。舉例而言，它可為一種含著色劑(如有色之色素或顏料)的層且在正常之白天光下呈彩色，特別是多色者。但也可為一種含特殊著色劑的層，例如含有光色(photochrom)或熱色(thermochrom)物料、發光物料、一種產生光學變化效果的物料如干涉色素、液晶、位變異構(同分異構)(metamer)色素等、反應性的顏料、指示劑顏料(它們與其他物質反應發生可逆或不可逆之顏色變化)、吊燈(Ampel)色素(它們在用不同波長的輻射線激發時發出不同的顏色)、磁性物質、導電物質、在電場或磁場中顏色會改變的物質－－所謂的電墨水(E－ink)及類似物。

「複製層」(Replizierschicht)一般指表面可做成浮雕構造的層，其例子例如：有機層(如塑膠層或漆層)或無機層〔例如無機塑膠(例如矽力康)、玻璃層、半導體層、金屬層等〕或其組合。

特別是利用一工具〔特別是一壓模(Stempel)或一滾子〕在表面將一浮雕構造鐫印到一個塑膠層或漆層(特別是由一種在UV照射下硬化的漆構成的複製層)中。也可用射出成形成而形成表面浮雕構造或使用光刻板(Photolithographie)程序。特別是在表面將一浮雕構造在一複製層(它設計成玻璃層、半導體層或金屬層形式)上形成，其方法係使用光刻板程序，將一光敏層施覆，經一遮罩(Maske)曝光及顯影。光敏層之留在複製層上的部分當作蝕刻遮罩之用，可藉蝕刻在複製層中形成一浮雕構造，然後宜將光敏層除去，各依所用之製造方法及所形成之多層體以後之使用目的而變，可使用透光性或不透光性的複製層，特別是對人眼透明或不透明的複製層。

在複製層的至少一第二區域中，宜形成至少一第二浮雕構造，其深度對寬度比例h/d與第一浮雕構造不同。第二浮雕構造的形成特別用與第一浮雕構造相似之方式形成。此外，在該至少一第一區域中可形成至少二個不同的第二浮雕構造。

如果第一浮雕構造的深度對寬度比做成比該至少一第二浮雕構造大，且其透光性特別是第一層的透明度在第一區域中比起第一層在至少一第二區域的透光性(特別是透明度)更大，則甚有利。

該第一及/或至少一第二浮雕構造宜設計成一繞射浮雕構造的形式。在第一區域中形成的第一浮雕構造尤宜為一繞射浮雕構造，其個別構造元件的深度對寬度比>0.3。第一浮構造的空間頻率特別在>300條線/每mm範圍，尤宜>1000條線/mm範圍。此外第一浮雕構造的空間頻率與浮雕深度的乘積可大於第二浮雕構造的空間頻率與浮雕深度的乘積。如此，也可利用在第一區域及第二區域中的複製層的浮雕構造之構形，使得在第一區域中施到複製層上的第一層的透光性比在第二區域施覆的層更大。

第一浮雕構造及/或該至少一第二浮雕構造可設計成光繞射式及/或光折射式及/或光散射性及/或光聚焦式的微米或奈米構造，或呈各向同性(isotrop)或各向異性毛玻璃構造、或二元式或連續式的韮斯涅透鏡形式，或設計成微稜鏡構造、閃耀格(Blazegitter)、巨視構造形式，或其組合。

此外也可使第一浮雕構造及/或該至少一第二浮雕構造為一種線狀或交叉的正弦波格(Sinusgitter)。在此，正弦波格的空間頻率在>300條線/每mm範圍。此外也可使正弦波格基於一種轉換的線網格，例如在一波形或圖形的網格上定方向(orientieren)。在交叉正弦波網格，方位角的差宜為90°，但也可包含5°~85°的角度範圍。在此，正弦波格表示：浮雕構造的表面浮雕呈正弦形，防弓正弦形表面浮雕外，也可有其他種類表面浮雕的浮雕構造，例如二元(二進位式)波(矩形波)、三角波等浮雕形狀。

設到複製層中的浮雕構造也可選設成使它們可用於使液晶(聚合物)對準。因此複製層及/或第一層可用於當作液晶的定方向層。舉例而言，將溝槽形構造設入這些定向層中，液晶在這些位置中由於交聯或以其他方式使其朝向固定之前，先在該溝槽構造上對準。交聯的液晶層可形成該至少另一個部分地形成的層。

定方向層可有一些區域，在其中該構造之朝向的方向一直改變。如果一個利用這種繞射構造形成的區域用一個例如具有旋轉的極化方向的極化器觀看，則由於該區域的極化方向呈線性改變而產生不同之易識別的防偽特徵，例如運動效果。也可使該定方向層具有繞射構造以使液晶定方向，它們在局部的朝向不同，因此液晶在極化光下觀看呈現一資訊，例如一圖樣(Logo)。

藉著使用繞射式浮雕構造，當適當地選設第一層的厚度時，可在第一區域及第二區域中的第一層的光密度上造成很大的差異，用肉眼已可識別。但出乎意料地我們發現，在第一及第二區域中透過性之如此大的差異對於本發明方法的轉換並非強迫性者。深度比寬度比的差異小的構造在層厚度小時一般在透光性有較小的差異。但即使是小小的相對差異也可藉第一層及厚度加大以及平均光學密度加大加強。因此，第一區域及第二區域中的第一層的透光性有很子的差異性，已可達成良好的結果。

這種無向量的「深度對寬度比」係為構造(特別是週期性構造)的表面加大的一種代表性特點，例如具有Sin平方形式的走勢。此處「深度」表示這種構造之前後相隨的最高點與最低點之間的距離，換言之，係為「波峯」及「波谷」間的落差。「寬度」係指二個相鄰的最高度(即二個「波峯」)之間的距離。「深度對寬度比例」越大，則波峯側翼越陡，且在波峯側翼上析出的第一層越薄，即使在具有垂直側翼的構造(例如長方格)，也可看到「深度對寬度比」增加時，透過性(特別是透明性)越高的效應。但也可為其他一些構造，這種模型不能用到其上。舉例而言，可為不同分佈的線狀區域但它們也可為都只做成一「波谷」的不同的分佈的區域。其中二個「波谷」間的距離比「波谷」的深度大許多倍。在正式使用上述定義時，如此所計算的「深度對寬度比」近乎為零，且並不反映此特性物理比例。因此，當不同排列的構造大致都只由一「波谷」形成時，則「波谷」的深度對「波谷」的寬度就要設成比例。

如所示，此處並將第一層在高的「深度對寬度比」的區域中設計成透明。此處構造舉例而言，也可構成一全像圖或動態圖防偽特徵的光學活性區域。此處只是使這些區域對其他區域利用其透過性質或較小或較大的密度作限制。

該第一及第二浮雕構造係為一些不同的浮雕構造，例如一種動態圖，其中一個或數個浮雕參數(例如方向性、細度或廓形的形狀)改變，俾產生所要的繞射性質。這種構造因此不但有將一些區域(在其中浮雕構造形成到複製波層中)將第一層的透過性質改變的目的，而且另外還具有一功能－－在具有一浮雕層或一光學分離層的背景當變化之設計元件的作用。如果除了這種第一浮雕構造外，還將一第二浮雕構造形成到複製漆層中，則第一及第二浮雕構造在一個或數個與第一層的透過性質相關的參數互相不同，舉例而言，在浮雕深度或「深度對寬度比例」不同。因此，舉例而言可將二個具有貴金屬絲細編工(filigran)的線圖案的動態圖防偽特徵部分重疊地形成到複製層中。第一動態圖形成第一浮雕構造，第二動態圖形成第二浮雕構造。二個設計的浮雕構造不同處在典型的「深度對寬度比」，而其餘構造參數相似。因此有三「組」的構造，即：第一動態圖中的組I、第二動態圖中的組II，及背景中的組III的構造成無構造。第一層(例如一蒸鍍上去的金屬層，如銅層)留在一第一層中的第一設計的動態圖區域中，其餘部分則除去。然後，舉例而言，將一彩色功能層整面施覆，並利用適當程序過程在背景區域中除去。用此方式得到二保持對齊的設計。

實驗顯示，由於浮雕構造的不同設計，在第一及第二區域中所能達成之第一層的透過性質的差異在紫外線頻域特別顯著。因此當使用紫外線照射，可達成特佳的結果。

第一層可為很薄的層，在幾奈米的度量級。當第一層在具有高「深度對寬度比」的區域中相對於被複製層張設的平面以恆定之單位面積密度析出時，由於表面積較大，因此比起在具小的「深度對寬度比」的區域來要比得多。第一層宜設計成金屬層或金屬合金構成的層。這些層可利用有效的方法如濺鍍(Sputtern)施覆，俾使它們在很小層厚度已有充分光學密度。但第一層也可為具有一功能層材料的層或一個非金屬層，舉例而言，它可著色，特別是作成雜色，且可摻雜，或可設有奈米粒子或奈米小球，以提高其光學密度。此外，如將第一層由一種含液晶材料的物質形成，則甚有利。

對於此第一方法，如果第一層相對於該被複製層所跨越的平面以恆定之單位面積密度施覆，且將第一層在一道蝕刻程序將第一區域及至少一第二區域用一蝕刻劑(特別是一種酸或苛性鹼)作用，直到第一區域中第一層除去為止，或至少一直到第一層在第一區域中的透過性(特別是透明度)比起在至少一第二區域中的第一層的透過性(特別是透明度)更高為止，或反之。則甚有利。

第一層所用蝕刻劑，舉例而言，可為苛性鹼或酸。此外，第一層可以只部分地拿掉，且預定透明度達到，可將蝕刻作業中斷。如此，舉例而言，產生之防偽特徵可基於局部不同的透明性。舉例而言，如果用鋁做為第一層，則可使用苛性鹼如NaOH或KOH當作各向同性作用的蝕刻劑。也可使用酸性介質，如PAN(磷酸、硝酸與水的混合物)。

典型的方式中反應速度隨苛性鹼濃度及溫度增加而上升。程序參數的選擇係依程序的可重現性及多層體的抵抗性而定。當用苛性鹼蝕刻時，典型的影響因素為蝕刻槽的組成、特別是蝕刻劑濃度、蝕刻槽溫度、以及蝕刻槽中要蝕刻的層的流動條件。蝕刻槽中蝕刻劑濃度的典型參數範圍在0.1%~10%範圍，溫度在20℃~80℃範圍。

第一層的蝕刻過程可受電化學方式幫助，施加一電壓可加強蝕刻過程，此作用之典型方式為各向同性(isotrop)，因此與構造有關之表面增大作用另外加強了蝕刻效果。典型之電化學添加物，如交聯劑(Netzmittel)緩衝物質、抑制劑、活化劑、催化劑及類似物，可幫助蝕刻程序，例如將氧化物層除去。

在蝕刻過程時，在鄰界到第一層的界面，蝕刻劑會減少，而蝕刻產物會增加，如此使蝕刻速度變慢。藉著形成一股液流或用超音波調節，可使蝕刻劑強迫混合，而可改善蝕刻性質。

此外蝕刻程序可具有一附加之溫度分佈曲線廓形，俾使蝕刻結果最佳化。因此，開如可以為冷蝕刻，而隨著蝕刻作用時間增加，溫度上升。在蝕刻槽中，這點宜利用一空間溫度梯度實施，其中該多層體被拉動經過具有不同溫度區域長形蝕刻槽。

第一層的最後那幾奈米的部分，在蝕刻程序中，可顯得較頑強且對蝕刻較有抵抗力。因此要將第一層的剩餘部分除去，蝕刻程序宜稍微利用一點機械作用幫助。其頑強性係由於第一層可能有少許其他組成，可能是當第一層形成在複製層上時的界面現像所致。在此情形，第一層的最後那幾奈米宜利用一道刷洗程序除去，其方法係將該多層體經一個滾子(它張設有細的巾布)通過。此巾布將第一層之剩餘部分拭除，而不會損壞多層體。

「蝕刻」並不必為用液體作的製造步驟。它亦可為一「乾程序」，例如電漿蝕刻。

但也可使第一層並完全地部分拿掉，而只將其層厚度減少，如果要形成互相重疊的層，例如為了將光學及/或電性質改變或形成裝飾效果，則這種實施方式特別有利。

此外，對於第一方法，如果該第一層相對於一個由複製層張設成的平以恆定之單位面積密度施覆，並將第一層本身用於當作吸收層以將第一層部分地除去(其方法係將第一層在第一區域及第二區域施雷射光)，則甚有利。

在具有大的「深度對寬度比」的構造，特別是一些浮雕構造(其中二個相鄰之隆起部之間的典型距離小於入射光的波長)－－所謂的「零階構造」，入射光大部分可被吸收，即使在一如鏡之反射區域中的反射層的反射程度很大亦然。利用一道聚焦之雷射光束將一設計成反射層形式的第一層照射，其中在強力吸收的區域(它們具有上述高「深度對寬度比」的浮雕構造)中雷射光束多被吸收，而此反射層對應地發熱。當高能量加入時，反射層可局部易位，其中該設計成反射層形式的第一層被除去或燒蝕(Ablation)，或該反射層或第一層的材料凝結(Koagulation)。如果用雷射只短時將能量加入而導熱效果因此很小，則燒蝕或凝結作用只在用浮雕構造預定特的區域。

在雷射燒蝕時的影響因素為：浮雕構造的形態(週期、深度、朝向、廓形)、入射之雷射光束的波長、極化作用及入射角度、作用期間(與時間有關的功率)及雷射光束之作用劑量、第一層的性質及吸收比例、以及第一層上方及下方的其他層，例如構造化之光敏層或洗漆層。

Nd：YAG雷射顯示適合作雷射處理之用，它們在約1064奈米發射，且宜呈脈動式操作，此外可使用雷射二極體。藉著改變頻率，例如將頻率加倍，可改變雷射光束的波長。

雷射光束利用一所謂之掃瞄裝置(例如利用電流計面鏡及會聚透鏡)在多層體上導引經過。奈秒(Nanosekunde)到微秒(Mikrosekunde)範圍期間的脈波在掃瞄過程時發出，並使第一層造上上述燒蝕或凝結作用(這些作用係由構造預定者)。典型之脈波期間在厘秒(msec)以下，且宜在數微秒範圍或更小。因此也可使用奈米到飛秒(10^－18 sec)(Femtosekunde)脈波期間，雷射光束不須準確定位，因為只要該呈構造化狀態存在的光敏層或洗漆層部分地阻止雷射光束到達第一層，此程序係為自身參考(selbstreferenzierend)者。此程序宜藉適當選擇雷射光束廓形及相鄰脈波的重疊而進一步最佳化。

但同樣地也可將雷射沿多層體上的路徑控制而對準該設在複製層中的浮雕構造或光敏層或洗漆層中的開口，因此只有在光敏層或洗漆層中具有相同浮雕構造或具有/不具開口的區域才被照射。舉例而言，作這種控制可用攝影機系統。

如不採用聚焦到一點或一線上的一雷射，也可使用面狀照射器，它發出一短時受控制的脈波，例如閃光燈。

雷射燒蝕程序的優點為：如果第一層的兩面用另一外一個或數個可透雷射光束的層蓋住(因此蝕刻劑不能直到達)，則第一層也可對一浮雕構造對齊而部分地除去。此第一層只被雷射抓開，第一層的材料呈小的凝結塊或小珠形式再純積，它們在觀看者眼中並不顯眼，且對所照射區域的透明性影響很小。

在雷射處理後，在第一區域中，第一層之仍留在複製層上的殘留物可利用隨後的洗除程序或蝕刻程序除去(只要該處第一層可直接到達)，第一層蝕刻後，可將蝕刻遮罩的過剩物除去。

如果第一層相對於一個由複製層張設的平面以恆定的單位面積密度施覆，且第一層已形成一種層厚度，如此在第一區域中，第一層的透光性，特別是透明上，比起該第一層在至少一第二區域中的透過性或透明性更高或反之，則對於第一方法特別有利。

如果第一層相對於一個由複製層張設的平面以恆定之單位面積密度施覆且將一第一光敏漆層施到第一層上或將複製層由一光敏洗漆層構成，則對第一方法特別有利，其中光穿過第一層過去將該第一光敏層或第一洗漆層照射，如此，第一光敏漆層或第一洗漆層受第一浮雕構造影響，在第一區域及至少一第二區域受到不同照射，其中將受照射的第一光敏漆層或第一洗漆層作構造化，且同時或先後地使用構造化的第一光敏漆層或洗漆層當作第一罩層，將第一層在第一區域除去且因此構造化，而在至少一第二區域則否，或反之在至少第二區域除去並構造化，而在第一區域則否。

此外，該方法中，也可施一種具二元(binr)特性的光敏材料當作光敏層或光敏洗漆層，且將光穿過第一層過去以一照射強度及照射期間將光敏層或光敏洗漆層照射，將該光敏層或光敏洗漆層在第一區域(其中第一層的透光性由於第一浮雕構造而提高)活化，而在第二區域不活化。如果第一區域與第二區域的光學密度互相差別很小，則本發明的方法也可用，其中如上述，出乎意料地，可從一種高的平均光學密度開始。

該光敏層或洗漆層可為一種感光漆(Photoresist)，它可設計成正或負感光漆方式。用此方式，(此外複漆係呈相同設計)可將第一層的不同區域除去。

此外，該光敏層可設計成一種光聚合物的形式。

各依是否該光敏層或洗漆層為正或負的感光漆而定，可將它們在第一區域硬化或溶在一顯影劑中。在此也可將正與負的感光漆層相鄰設置並同時照射(曝光)。在此，第一層當作光罩，且宜設成直接與感光漆接觸，因此可準確曝光。最後，感光漆顯影時，將未硬化的區域洗掉，或將破壞的區域除去。各依所用感光漆而定，該顯影之感光漆此時準確地在一些區域(在其中第一層可透過或不能透外紫外線)，為了使留下之感光漆層(它依第一層構造化)的抵抗性提高，故留下的區域在顯影後宜作後硬化。

第一層特別當作光罩層以將第一層本身部分地除去，其方法係使光穿過第一層過去將鄰界到第一層的光敏層或洗漆層照射。如此，比起用傳統方法施覆的光罩層來有一優點，即：該光罩層可準確對齊地對準，而不須費事作調整。只有浮雕構造的容許誤差(Toleranz)對於第一層之不同的透光區域的位置的容許誤差有影響。第一浮雕構造與第一層的這些區域之間不會發生側移情事，因此，具有相同物理性質的第一層的區域的排列係準確地與第一浮雕構造對齊。此外，如果將一可光活化的層當作光敏層施到第一層上，則就使用一光敏層的程序方式，可使光穿過第一層及複製層過去將可光活化的層照射，並在第一區域中活化，並且該可光活化的活化區域構成第一層的一蝕刻有段，則可將第一層在第一區域除去共因此構造化。

此外，如果照射過的區域在構造上被洗掉，則該光敏層或洗漆層可再部分地除去，如此可用撕離、刷離、拭除、用超音波或雷射處理或類似方式將照射過的區域除去。如果該光敏層或洗漆層照射使該層的脆碎性部分地提高，則只要複製漆層設計成可撓性或可彎曲，則它可經由一刃緣或刀鋒拉過並將脆的區域刮碎。

在一較佳設計中，使紫外光穿過第一層過去將該光敏層或洗漆層照射。

因此第一層可利用不同的方法直接地(或在作其他方法步驟後)構造化或部分地除去。在此形成該至少一個部分地形成的功能層，且/或然後使用構造化之第一層當作光罩層，形成該至少一個部分地形成的功能層。

本發明就第一方法及第一多層體方面，主要係根據一認知：利用該在此區域施到複製層上的第一層的物理性質(它們由複製層第一區域中的浮雕構造決定)，舉例而言，可影響有效厚度或光學密度。因此第一層在第一及第二區域的透光性質不同，第一層宜利用濺鍍、蒸鍍、粉覆或噴灑施到複製層上。在濺鍍時，受程序影響，材料的施覆受到定向，因此在第一層的材料相對於複製層張設的平面以恆定的單位面積密度施到該設有浮雕構造的複製層上時，材料沈積厚度不一，當第一層蒸鍍、濺鍍或噴灑時，在方法技術上，同樣地將材料至少部分地定向施覆。

在實施第一方法時，第一層宜直接構成該部分地形成的功能層，此外，如果構造化的第一光敏層或第一洗漆層直接構成該部分形成的功能層時，也很有利。

最後，對於第一方法，如果該至少一部分形成的功能層及/或該另外部分地形成的層用以下方式形成：隨後將一正或負的感光漆層施覆，將光穿過該構造化的第一層將第一感光漆層照射，並將照射過之第一感光漆層照射，則對第一方法很有利。

如果各形成一部分地形成的功能層，與第一浮雕構造及至少一第二浮雕構造對齊，則甚有利，其中使用不同的感光漆層，特別是不同色的感光漆層以構成該部分地形成的功能層。我們可使用具明顯不同的性質的感光漆層，例如具不同光譜敏感性、化學組成、正或負的特性......等的感光漆層。但也可使用相似的感光漆層，但它們作不同的照射，二個感光漆層的不同特別可利用照射的性質(如波長、入射角、極化等)達成。

藉著第一浮雕的設計，還有藉第一層或其他層的設計，也可局部地影響複製層或其他層的表面活性，因此一種用於形成第一層或其他層的材料呈局部不同的方式附著在複製層或其他層上，擴散到這些層中或與這些層反應。當材料擴散到複製層中時，一部分的複製層包含擴散進去的材料變成第一層。

如不採此方式，也可藉一顏料本身呈部分地形成的功能層形式擴散進去形成複製層，其中另一個部分地形成到複層上的層(例如一構造化之光敏金屬或無機介電層)局部地當作擴散阻擋物的作用，此光敏層可在複製層部分著色後或在施另一層之前除去。

此外，如果第一層藉施一粉末或液體介質而形成，則對第一種方法很有利，隨後將第一層(可在該粉末或液體介質作物理或化學處理後)構造化，且直接地形成該至少一個部分地形成的功能層及/或使用構造化之第一層當光罩層，隨後形成該至少一個部分地形成的功能層。

粉末特別是噴霧化或刷覆上去，而液體介質特別是澆鑄、印刷或噴灑上去。隨後可作機械加工到浮雕構造中，例如藉簸動、刷覆或類似方式，然後將第一層在一些區域(在這些區域中附著力較小或擴散阻力較大)除去，其方法係作機械式撕離，特別是用一「撕離刮刀」、空氣刮刀或撕離刀具或作化學撕離或洗除程序或這些方法的組合，第一層宜利用一撕離刀或撕離刮刀作構造化，該刀或刮刀在複製層範圍中移動，其中第一層之(未侵入浮雕構造的凹陷部中的)一些區域被除去。然後可做一道時間受控制的蝕刻程序，以將平坦區域的第一層之剩餘物除去或除去顏料薄層。此蝕刻程序也可局部地用於將浮雕構造內的第一層的厚度改變，俾調整不同的顏色飽和度，或者調整一個第一層(它具有與觀看角度有關的干涉效果)的顏色位準(Farbenspiel)。

但一種洗除程序也可適用於將第一層構造化，特別是當浮雕構造內的毛細管力量足夠在洗除程序時將第一層之位在其內的材料固定時尤然。在此特別是當浮雕構造具有巨視的凹陷部且凹陷部內更有微構造時，則特別有利。

在另一較佳實施例中，第一浮雕構造設有至少二條不同深度的壕溝(Grab，英：trench)，其中該壕溝特別是具有1~10μm範圍的深度及5~100μm範圍的寬度。舉例而言，如果壕溝用有色的感光漆充填，且將複製層在不具壕溝的區域除去感光漆，則依壕溝深度而定呈現不同的顏色飽和度，且還可有其他光學效果。

此外，此處也可利用第一浮雕構造的設計(如有必要，還利用第一層或其他層的設計)將複製層或其他層的附著性質及/或擴散性質及/或表面反應性局部改變，因此粉末或液體介質局地不同地附著在該複製層或其他層上，或擴散到該層中或與該層反應。

以下在一較佳實施例中將該至少一個部分地形成的功能層或該至少另一個部分地形成的層形成，其形成方法，係將光穿過構造化的第一層過去將第一感光漆層照射，且將照射過的第一感光漆層構造化。

此外，如有必要，該複製層還可部分地藉一種著色劑擴散進去則設計成部分地形成的功能層形式，其中複製層本身或一個在其上部分地形成的層局部地當作擴散阻擋層的作用。

就第一方法而言，複製層特別是在該至少一第二區域中設計成至少部分平坦。舉例而言，這點使表面較易用一撕離刮刀或一撕離刀撕離，因為該平坦的區域最適當地當作該作業的放置部(Auflage)。此外這些平坦區域可設計成有一金屬反射層的背景，因此在視覺上產生反射面的效果。

最後，對於要形成較厚之部分地形成的層的第一方法而言，如果該複製層之空著的區域(它們具有第一浮雕構造或該至少一種第二浮雕構造，它們垂直於複製層的平面看係被一個部分地形成的功能層或其他層圍住)中將一種材料刮入其中，並形成至少另一個部分地形成的功能層或其他部分地形成的層，則甚有利。

對於第二種方法，如果形成該至少一個部分地形成的功能層或該至少另一個部分地形成的層(其方法係為將一與著色劑作用的第二種正或負的感光漆施覆)，且如果利用光透過構造化的第一層過去將第二感光漆層照射，且如果將照射過的第二感光漆層構造化，則甚有利。然後，如有必要，部分地藉著將一著色劑擴散進去，形成載體層，當作部分地形成的功能層或另外的層，其中至少該第一及/或第二構造化的感光漆層當作擴散阻擋層之功能。

如有必要，在載體層之空著的區域(它們垂直於載體層的平面層，係被一個部分地形成的功能層或其他之部分地形成的層圍住)可將一種材料用刮刀刮覆進去，且形成至少另一個部分地形成的功能層或另外的部分地形成的層。

利用該感光漆層的設計(以及其化層的設計)也可將載體層或其他層的附著性質及/或擴散阻力及/或表面反應性局部地改善，因此一種材料(它用於形成一個部分地形成的功能層或其他部分地形成的層)局部不同地附著在載體層或其他的層上，或擴散到該層中或與該層反應。當材料擴散到載體層中時，載體層的一部分(它含該擴散進去的材料)變成一個部分地形成的功能層或其他部分地形成的層。

此外，如果使用聚酯當作複製層或載體層及使用一金屬層當作第一層，以及將如此所留下的區域施以一靜電場，並利用不同的電場特性，將粉末，一如一種色調劑(Toner)選擇性地沈積在所留下的區域中，則甚有利。然後將粉末作熱鞏固(Konsolidierung)成一封閉而牢牢附著的部分地形成的功能層或其他的層。

因此該第一層一般係為能滿足雙重功能的層。因此，一方面，造造一種高準確性之「照射光罩」的功能以供製造該部分地形成的功能層及/或其他層的程序之用，另方面，它在製造程序結束時本身可形成一準確定位的部分地形成的層，例如該部分形成的功能層或其他的層，如有必要可呈一OVD層、一導電路或一電構件的功能(一有機半導體構件的功能層)、一裝飾層，例如一離色層或類似物的形式。

如果該至少一個部分地形成的功能層設計成一漆層或一聚合物層，則甚佳。上述之較佳的功能層的材料如色素或顏料可特別簡單地整合到這種層中。

特別是在供應一種或數種(特別是非金屬的)功能層材料的場合下，形成該至少一個剖分地形成的功能層。

就該部分地形成的功能層的裝飾作用而言，如果該至少一個部分地形成的功能層在加入一種或數種彩色特(特別是雜色的)功能層材料的場合下形成，則特別有利。

該至少另一個部分地形成的功能層特別利用該第一層及/或至少一種彩色的正或負感光漆層及/或至少一光學變化層(它具有依觀看角度而不同的光學效果)及/或至少一金屬反射層及/或至少一介電反射層形成。舉例而言，該介電質可由TiO₂ 或ZnS構成。該至少一個部分地形成的功能層及至少另一個部分地形成的層可設計成具不同的折射指數，因此可形成光學效果。

第一層及/或第二層也可為一種聚合物，因此舉例而言，一層可設計成電導體，另一層設計成電絕緣物，其中二個層可都設計成透明層。

光學變化層宜設計成使它至少含有一種物質(它具有依觀看角度而不同的光學效果)及/或利用至少一種液晶層(它具有依觀看角度而不同的光學效果)及/或利用一薄膜反射層堆疊(它具有與觀看角度有觀干涉色效果)形成。

此外事實顯示，如果該構造化的第一層至少部分地除去並利用該至少一個部分形成的功能層及/或該至少另一個部分地形成的層取代，則甚佳。該構造化的第一層也可完全除去。

同樣地，可經由一嫌水性或親水性沈積層(它利用此方法形成)在一以後的步驟例如利用印刷、浸鍍或噴灑程序將一個具有功能性成分(例如顏料、色素)的親水性或嫌水性介質部分地沈積上去。

在一較佳實施例中可將另一第一之部分地形成的層設到一些除去了第一層的區域中。此外，第一層的剩餘部分在完全除去後可利用另一第二個部分地形成的層取代。此時，此多層體對觀看者而言，只具有一種由感光漆構成之高解析度的「彩色印刷」，但此外係呈透明者。在此，感光漆當作第一層的蝕刻光罩之用。

因此本發明的方法不限於將一層部分地除去，而係可具有其他方法步驟，將層更換或者當使用不同光學密度形成一些區域或使各區域呈不同時，還可重複這些程序步驟。

如此高解析度的顯示元件可有利地形成，也可在不脫離本發明範疇的情況，將不同著色之顯示元件準確對齊地施覆，而且，舉例而言，將它們設在一個螢光幕〔影像點(像素)網格〕中。由於利用第一層的起始構造可產生不同之多層體(其方法舉例而言，係將不同的照射程序或蝕刻程序互相組合或先後實施)，因此當使用本發明的方法時，雖然程序步驟增加，但先後施覆的層仍可準確對齊地定位。

此外，第一層及/或該至少一個部分地形成的功能層及/或該至少另一個部分地形成的層可用電鍍加厚(如果它係係可導電的層或適合作無電方式鍍覆金屬的層的話)。

如果該至少一個部分地形成的功能層(垂直於複製層或載載層的平面看)係呈涵蓋相同區域的方法設在該至少另一個部分地形成的層上方或下方，則甚佳。

但如不採此方式，如果該至少一個部分地形成的功能層(垂直於複製層或載體層看)係和該至少另一個部分地形成的層交替設置或隔均勻的距離設置，則亦同樣地有利。

如果至少一第一透明的「間隔保持層」設在該至少一個部分地形成的功能層和該至少另一個部分地形成的層之間，則可產生特佳之光學效果。如果不採此方式(或者除此方式外同時另外配合地)還可將至少一第二透明之間隔保持層設在至少另外二個部分地形成的層之間。如此，可在不同的觀看角度看到不同的顏色效果及/或圖案或達成一種三度空間(立體)的印象或光學深度。此效果還可用以下方式加強：將第二及/或第二間隔保持層局部地以至少二種不同的層厚度形式。配合此方式，可將該至少一個部分地形成的功能層和該至少另一個部分地形成的層各設計成線狀，其中特別是線寬度連續地變化，則可造成附加之光學效果。

事實顯示，如將第一及/或第二間隔保持層局部地設計成<100μm範圍的層厚度(尤其是在2~50μm範圍)，則甚有利。

如果將該至少一個部分地形成的功能層與該至少另一部分地形成的層設計成能顯示至少一種光學重疊效果(它可為與觀看角度有關者)，特別是一種網紋(Moir)效果或陰影效果，則特佳。

第一層宜整面地以一種厚度施到複製層或載體層上，在此厚度，第一層對人眼呈不透明，該層特別是光學密度大於1.5者，尤其是在2~7範圍的光密度，出乎意料的，事實顯示，提高第一層的不透明度，可使具有繞射浮雕構造的區域的透光性的比例加大。因此，如果用對應的照明強度穿過一般稱為不透明的層(例如光密度為5)照射(該層由於光密度高，一般不當作光罩層使用)，則可達成特佳效果。

特佳的一實施例中，該至少一個部分地形成的功能層與該至少另一個部分地形成的層設計成使它們(垂直於複製層或載體層的平面看)係對一個裝飾性及/或資訊性的幾何、字母數字、影像式、圖畫式或圖形式的呈示(Darstellung，英：illustration)呈反相互相補令。

最能有效防偽的一實施例中，該至少一個部分地形成的功能層與該至少另一個部分地形成的層各至少局部地設計成線狀，其中這些線互相過渡到對方中而無偏離，此外，特別是以一種連續的顏色走勢，特別是一種彩虹七色的走勢互相過渡到對方中。如不採此方式(或除了此方式外，同時另外)也可將不同之線相鄰設置並構成一同心圓線圖案。

在此，特別細的線顯得很有利，尤其是當該線(垂直於複製層或載體層的平面看)設計成<50μm範圍的寬度(尤其是0.5~10μm範圍)時尤然。

但對於一種用上述方法製造的多層體，也可使第二區域由二個或更多個被第一區域圍住的「部分區域」構成，使得在第二區域中在複製層中形成一繞射式第二浮雕構造，且第一層為一反射層，它在第一區域除去，因此設成對第二浮雕構造準確配合。這種多層體可有利地設成能確實防偽之防偽元件，因此它們特別能有效防偽，因為利用本發明的方法可形成特別小的線寬度。此外這些自由的線由於其繞射構造其對反射層準配合對準，故脦形成極難仿造的光效果。

此外，該第一區域(或第二區域)可由二個或更多之被第二區域(或第一區域)圍住的「部分區域」構成，且該第一層為一反射層，它在第二區域中除去且因此設成對第一浮雕構造準確配合。有利的設計係使第二區域的部分區域或第一區域的部分區域的寬度小於2mm，且宜小於1mm。

該至少一個部分地形成的功能層宜用至少一種不透明及/或至少一種透明的著色劑著色，該著色劑至少在電磁波光譜的一波長範圍呈彩色或產生顏色，特別是呈雜色或產生雜色。如果在該至少一個部分地形成的功能層中含有一種著色劑，它可在可見光譜外(特別是用紫外線或紅外線照射)激發並產生可見之彩色印象，則特別有利。該至少一個部分地形成的功能層可設有至少一種紅、綠及/或藍色之可受輻射線激發產生螢光的色素或顏料，且因此在照射時產生附加之顏色。

該至少一種著色劑宜由無機或有機著色劑(特別是色素或顏料)選出。

特宜之著色劑係在用紫外線照射或激發時發出可見光波長範圍的光(特別是螢光)。在此可用發光之色素、顏料或共聚物，它們未激發時係在可見光波長範圍中呈有色或無色者。此外可使用由至少二種或數種相同或不同種類之發光著色劑構成之混合物。

色素可設計成尺寸1~100奈米的奈米色素。在此特別有利的是螢光奈米色素，它們在可見光波長範圍呈無色，且在UV照射(特別是在254奈米、313奈米、或365奈米)時發螢光。奈米色素係可簡單地攪拌而分散在印刷介質，且可用簡單方式加工成噴墨印表方法的印刷墨水，而傳統的色素須花大成本大費周章與印刷介質磨粉，俾達成可用之分散液，關於奈米粒子及其應用也可參考WO 03/052025 A1。

特別有利的做法係使用一發光著色劑或至少二種發光著色劑的組合，它們在用不同波長激發時，至少在紅外線及/或可見光及/或紫外線頻域中發生發光現象。因此，舉例而言，可從單一著色劑在用波長365奈米的UV激發時發出可見光頻域的一種與用波長254奈米紫外線激發時在可見光頻域中不同的彩色螢光現象。這種雙螢光色素(它在用254奈米激發時發紅色之可見螢光兩用365奈米激發發藍向之可見螢光)舉例而言，在市面上可購得，名稱為BF11(廠商為Specimen Decument Security Dvision，布達佩斯)。單發光著色劑的例子(它們在激發時有不同顏色的可見光發出，且可組合使用)也見於US 5,005,873。

特佳者為發光著色劑的組合，它們在可見光波長時呈無色，而用UV照射時在可見光頻域發出彩色光，產生真實色影像效果。

舉例而言，可用UV照射激發產生光的有機著色劑係可在市面購得，名稱UVITEX，舉例而言，它在UV頻域及可見光頻域發螢光。

無機之可激發而發光的著色劑的材料如：La₂ O₂ S：Eu、ZnSiO₄ ：Mn、或YVO₄ ：Nd，且舉例而言，在市面上名LUMILUX。

發光共聚合物的例子如共聚醯胺、共聚酯或共聚酯醯胺，它們具有混入之螢光成份。

在此，發光之著色劑及其混合物可和傳統之不發光的著色劑組合使用。

特佳者係一種至少一個部分的形式的功能層及該至少另一個部分地形成的層呈互補色的(如紅與綠)的設計，至少在一定觀看角度或一定照射方式看時係如此。

如果該至少一個部分地形成的功能層和該至少另一個部分地形成的層後面設有一繞射之浮雕構造的背景，且顯示全像圖式或動態圖式之光學變化效果，則對第一多層體可達成特別引入注目而悅目的效果。

該多層的一較佳第一實施例，係使該至少一個部分地形成的功能層為一(特別是不透明的)金屬層，而該至少另外一個部分地形成的層為一著色之漆層，或反之，使該至少一個部分地形成的功能層為一著色的漆層，而該至少另外一個部分地形成的層為一金屬層。

該多層體的一較佳第二實施例，係使該第一個部分地形成的功能層為一含液晶之層，而該至少另一個部分地形成的層為一著色之漆管，或反之，使該第一個部分地形成的功能層為一著色的漆層該至少另一個部分地形成一含液晶的層。

該多層體之一較佳第三實施例，係使該至少一個部分地形成的功能層由一薄膜反射層堆疊(它具有與觀看角度有關的干涉色效果)構成，而該至少另一個部分地形成的層為一著色漆層，或反之，使該至少一個部分地形成的功能層為一著色漆層，而該至少另一個部分地形成的層為一薄膜反射層堆疊構成。

該多層體的一較佳第四實施例，係使該至少一個部分地形成的層為一第一著色漆層而該至少另一部分地形成的層為另一個作不同著色的漆層。

該多層體的一較佳第五實施例，係使該至少一個部分地形成的功能層為一第一著色之漆層，而該至少另一個部分地形成的層為一介電反射層，或反之，使該至少一個部分地形成的功能層為一介電反射層，而該至少另一個部分地形成的層為一第一著色的漆層。

在此，該漆層宜用至少一不透明及或/或至少一透明之物質著色。特別是當著色之漆層用以下顏色的著色劑〔黃、紫紅、藍綠、或黑(CMYK)或以下顏色、紅、綠、藍(RGB)〕著色，則特別有利。因此可利用減色法(subfraktiv)及加色法(addien)方式將顏色混合〔舉例而言，這種混合物可利用上述可用輻射激發(例如UV、IR)的色素或顏料產生〕產生不同的顏色印象。

上述第五實施例〔其中該多層體具有該至少一個部分地形成的功能層，呈一第一著色的漆層形式，及該至少另一個部分地形成的層，呈一介電反射層的形式；或反之〕特別適用於具有可利用輻射線激發的發光著色劑。事實顯示，不同之透明介電層例如ZnS或一些塑膠不能讓紫外線通過，因此可防止其後方在輻射路徑中所設的顏料層(它含有可用UV射線激發的發光之著色劑)被激發或至少防礙其激發。在此第五實施例，漆層可和介電反射層交替設置，因此，要用UV射線激發的漆層宜只在一些區域(在這些區域中該介電反射層不位在UV光源和漆層之間輻射線路徑中。

此外，如果該至少一個部分地形成的功能層及/或該至少另一個部分地形成的層至少局部地構成一網格影像〔它由人眼不能解析的像素(Pixel)、影像點或線構成〕，則甚有利。

第一層的網格設計也可以除了一些網格元件〔它們有一反射層作背景且有繞射或之繞射構造(該構造可為不同者)〕還可另設一些網格元件，它們係為透明區域而無反射層。在此，網格設計可選用波幅調變或面積調變(flchenmodulieren)的網格設計。利用這類反射/繞射的區域及不及射之透明區域(在某些情形同樣為繞射者)的組合，可達成有利之光學效果。如果，舉例而言，一個這種網格影像設在一有價文件的一窗孔中，則用透過光(Durchlicht)(將文件放在光源和眼之間，使光透過文件而觀看)看，可見到一透明之網格影像，用正射光(Auflicht)(光源和眼在文件的同一側，由此側正視該文件)看，則網格影像只在特定角度範圍看得到，在此範圍中，沒有光被該反射面繞射/反射。此外，還可將這種元件不僅用在一透明窗孔中，而且還施到一彩色之印上物(Aufdruck)上。在一定角度範圍內，舉例而言，可看到該彩色印上物呈網格影像形式，而在另一角度範圍，則會由於光被繞射構造或其他(巨視)構造反射而看不見。此外亦可利用一種對應地選擇的網格設計而形成數反射區域(其反射性減少且設區域延伸出來)。

最後，如果至少設有另外二個至少部分地形成的層，則在光學上甚悅目。

複製層可設在一載體層上，例如當複製層為一非自身支承的層或至少為一很薄的層時可以如此。載體層特別設計成可從該形成之多層體撕離或除去的方式。

將多層體設計成一膜元件形式，特別是一轉印膜、一熱鐫印膜或一層疊膜是很有利的。在此，該膜元件宜在至少一側上有一粘著劑層。

但該多層體不但可為一膜元件，而且也可為一剛性體。舉例而言，使用膜元件以將文件、鈔票或類似物設以防偽特徵。在此，它亦可為防偽線，用於織入紙中或設入一卡中，該紙或卡可利用本發明的方法和一個部分地形成的功能層對另一個部分形成的層作完美的對齊。也可有利地將一剛性體(例如一身份證、一感測器元件或半導體晶片的一基板，或電子裝置的表面，例如行動電話旳外殼)設以一本發明的多層體。

防偽或有價文件用的防偽元件(它設有一本發明的多層體或至少部分地由該多層體形成)可特別設計成具防偽安全性及光學悅目性者，所稱之防偽或有價文件特別指證件、護照、金融卡、一身份證、一鈔票、一有價證券、一票券、一防偽包裝或類似物。為了將這些文件防偽，特別在該文件的重要區域，例如持有人的護照相片(Passbild)或簽字處，或在整個文件的範圍或文件中的一窗孔缺口處設一個(宜為一個至少部分地)透明的多層體當作防偽元件。此外，可在此窗孔中正視由反射光看到一第一資訊，而對著光透過看時看到一第二資訊，它可產生具有特別炫目及貴金屬絲細編工式(filigran)的呈現影。因此，舉例而言，可藉著將該至少一部分地形成的功能層及/或該另外一個至少部分地形成的層的網格構造形成，而產生在透過光中呈半透明的影像。

此防偽文件除了多層體外，還可見有其他防偽裝置，例如含有光學變化之著色劑、磁層、水印等的印刷層。在此，印刷層可整合到防偽元件中或直接形成在防偽元件的一基質上。只要印刷層設在一些防偽文件上(它具有可用UV光激發之發光著色劑)則如果這些文件基於上述理由不能用透明介電層如ZnS著住(它們呈UV濾光器的作用且防止或妨礙該螢光著色劑激發)，則甚有利。

但當使用一些印刷顏料(它們正常照明呈彩色，此外含有可用UV激發的螢光著色劑)時，則如果由此所生之印刷影像一部分被不能透UV之透明介電層蓋住且一部分則否時，則可產生有用的光學效果。如此，當用UV照射時，在該印刷影像的一些區域中(該呈UV濾波器作用的透明介電層位在其中)則顯示所在之顏色，而在另一些區域(在其中UV光直接照到印刷影像的印刷顏料上)則呈螢光現像。因此可各依透明介電層中開口的設計而定，可產生圖案式或字母數字形式等的螢光現象，而不受印刷影像的影響。

但電子構件也可設有本發明的多層體。舉例而言，該至少一個部分地形成的功能層及/或該至少另一個層形成一電子構件，例如一天線、一電容器、一線圈、或一有機半導體元件，該至少一個部分地形成的功能層及/或該至少另一個部分地形成的層也可為一種聚合物，因此舉例而言，該一層可設計成一電導體，另一層可設計成一電絕緣體，其中此二層可設計成透明的層。

如上述，可設其他層，它們用本發明的方法準對齊設在多層體上。本發明的多層體，舉例而言，適用於當作光學構件，如透鏡系統、曝光及投影光罩。它們也可用於當電訊中的構件或裝飾元件。

如果該至少一個部分地形成的層及/或該至少另一層由數個「部分層」形成，特別是如果這些部分層構成一薄膜層系統，則可產生其他光學效果。

該部分層可由不同材料形成，這種設計不但可用於上述薄膜層系統。而且用此方式，舉例而言，也可形成奈米技術的功能元件，例如可由二個不同金屬層產生μm範圍尺寸的雙金屬開關。

本發明的方法可提供許多可能方式以形成多層體，且程序步驟不限於一次使用，例如，俾形成更複雜的多層體。此外，多層體的層可在程序過程的任何位置作化學、物理或電氣處理，例如，用於改變化學或機械抵抗力或改變各層的其他性質。

此處，不論上述本發明的例子如何，此處主張保護的範圍也涵蓋一種防偽元件及其製造。該防偽元件具有不透UV之透明介電層，特別是反射層，該層設有開口，其中，垂直於介電層的平面看，在該介電層之背向觀看者的側上至少部分地(且至少在其開口區域中)有一漆層，它含有可用UV激發的發光著色劑。

本發明茲配合圖式為例作說明。

圖1中顯示一多層體(100)，其中在一載體膜(1)上設有一功能層(2)、一複製層(3)、一構造化之第一層(3m)(由鋁構成)、及二個不同顏色之透明感光漆層(12a)(12b)，設成與第一層(3m)對齊。功能層(2)為一主要在提高該多層體之機械及化學穩定性的層，但它也可用習知方式設計成用於產生光學效果者，其中，也可將該層由個部分層構成，它也可為一個由蠟構成的層或一撕離層。但也可將此層省卻，而將複製層(3)直接設在載體膜(1)上。此外載體膜(1)本身可設計成複製層。

多層體(100)可為一轉印膜(例如一熱鐫印膜)的一部段，它可利用一粘著劑層(此處未圖示)施到一基質上。粘著劑層可為一熱熔膠，它在熱作用時熔化且將多層體與基質表面長期性地連接。

載體膜(1)可設計成由PET構成之對機械性及熱穩定的膜。

在複製層(3)中可利用習知方法形成具不同浮雕構造的區域。在圖示之實施例中，在具繞射浮雕構造的第一區域(4)，第二區域為平坦區域(6)。

設在複製層(3)上的第一層(3m)有除金屬的區域(10d)，它設成和第一區域(4)涵蓋相同範圍。在此區域(10d)中多層體(100)呈透明或部分透明。

圖2~8顯示多層體(100)的製造階段。同樣元件一如圖1用同樣圖號表示。

圖2顯示之多層體(100a)中，在載體膜(1)上設有功能層(2)及複製層(3)。

複製層(3)利用習知方法作表面構造化。為此，舉例而言，利用印刷、噴灑或上漆將一熱塑性複製漆施覆當作複製層(3)，並利用一加熱之壓模或加熱之複製滾子將一浮雕構造形成到複製漆中。

複製層(3)也可為一可用UV硬化的複製漆，舉例而言，它利用一複製滾子構造化，但構造化作業也可利用UV穿過一「曝光光罩」過去作照射而達成。用此方式，，可將區域(4)與(6)形成到複製層(3)中。舉例而言，區域(4)可為一全像圖或一動態圖防偽特徵的光學活性區域。

圖3顯示一多層體(100b)，它由圖2中的多層體(100a)形成，其方法係將第一層(3m)以均勻的單位面積密度〔相對於該被複製層(3)張設的平面〕施到複製層(3)上，例如利用濺鍍。在此實施例中，第一層(3m)之層厚度為幾十奈米。第一層(3m)的層厚度宜選設成使區域(4)及(6)有少許之透過性，例如10%~0.001%間，亦即光密度在1~5之間，且宜1.5~3之間。依此，第一層(3m)的光密度(亦即透過性之10為底之負對數值，在區域(4)(6)中係在1~3之間。第一層(3m)宜設計成光密度1.5~2.5間。因此區域(4)(6)對眼睛成不透光。

此處，特別有利的做法，係使得在第一層(3m)的施覆厚度時，第一層(3m)在施在一平坦表面上時〔例如在區域(6)時〕係為不透明者，且光學密度大於20施到複製層(3)上的第一層(3)越厚，則受到區域(4)中所設之繞射性浮雕構造的影響造成之有效光學層密度的變化對於第一層(3)的透過性質的影響越大。研究顯示，該第一層(3m)受到該繞射之浮雕構造造成之第一層(3m)的有效光學厚度的變化大約和蒸鍍的層厚度成正比，且因此大約和光學密度成比例。由於光學密度係透過度的負對數值，因此藉著提高第一層(3m)之材料的單位面積施覆量，可以超比例方式提高區域(4)與(6)之間的透過性差異。

然而第一層(3m)的光密度在區域(4)與(6)中不同，使它在區域(4)中比在區域(6)中小。其原因在於：在區域(4)中由於構造元件之深度對寬度比不為0而在區域(4)中表面積加大，且因此第一層(3m)的厚度減少。此無方向性之深度對寬度比例以及空間頻率係為構造(宜為週期性者)的表面積加大的代表性特點。這種構造構成週期式序列的「山」和「谷」，此處，「深度」指「山」與「谷」間的距離，「寬度」指山與山之間的距離。深度對寬度比例越大，則山的側翼設計成較陡，且在山的側翼上析出的第一層(3m)越薄。如果谷係為作不同分佈的谷，其互相間隔距離比谷的深度大許多倍，則此效果也可看到。在這種情形，「谷」的深度對「谷」的寬度設成比例，俾利用深度對寬度的比例正確指述「谷」的幾何性質。

當一些區域設計成較小的光學密度時，重要的一點為：要知道個別參數互相的關係並適當選設，光學密度減少的程度可依底層、照明等而變化。在此，在第一層中的光的吸收扮演重要角度。舉例而言，在某些情形，鉻與銅的反射小很多。

表1顯示塑膠膜(折射指數n＝1.5)之間所設之金屬構成之第一層之所得之反射程度，此處係由Ag、Al、Au、Cr、Cu、Rh及Ti構成者，在波長λ＝550奈米測者。在此，厚度比例係由二種金屬厚度t的商數構成，此二厚度係為對反射程度R＝最大值R_Max 的80%以反反射厚度R＝最大值R_Max 的20%所需之厚度。

由此啟發文的觀察，如所示，銀與金具有高的最大反射程度R_Max 且需要較小之浮雕構造之深度對寬度比小減少第一層的光學密度(在此例中，係形成透明度)。固然鋁(Al)也有高的最大反射程度R_Max ，但需要較大的浮雕構造的深度對寬度比例。因此，第一層宜由銀或金構成。但也可將第一層由其他金屬、金屬合金或功能材料構成。

表示顯示折射結果，係由具不同之深度對寬度比的浮雕構造(它們設計成直線正弦波形格，格距離為350奈米)的嚴格的繞射折射得到者。浮雕構造用銀鍍覆，標稱厚度t_o ＝40奈米，照到浮雕構造上的光的波長λ＝550奈米(綠)，且為TE極化著或TM極化者。

如表所示，特別是透明程度或透過性除了和深度對寬度比有關外，還和照射的光的極化有關。表2中的相依性係為對於深度對寬度比h/d＝1者。這種效果可用於選擇性地形成其他平行地形成的層。

此外，金屬層的透明程度及反射程度與波長有關。這種效果對於TE極化光特別顯著。

此外，如果光的入射角和法向入射角不同，則透明度或透過性減少，換言之，如果光非垂直入射，則透明度減少。這表示，第一層(3m)只在光的一有限入射錐形之內可呈透明或設計成比在反射的區域(6)較能透光。因此，第一層(3m)在斜斜照明時呈不透明。其中這種效果可用於選擇性地形成其他平行地形成的層。

除了浮雕構造的深度對寬度比例，光學密度的變化也受浮雕構造的空間頻率影響。因此，如果空間頻率和浮雕深度的乘積在浮雕構造的第一區域比起中比起在浮雕構造第二區域中空間頻率和浮雕深度的乘積大，則可將施到一浮雕構造上的第一層的透過比例改變。

但也可利用其他效果形成不同透明性或透過性的區域，例如利用：－－由於不同朝向之浮雕構造形成之透過性與極化作用的相依性；－－浮雕構造的形狀因素，例如具有矩形波、正弦波、鋸齒波或其他廓形的浮雕構造可在相同之空間頻率×浮雕構造的乘積的場合有不同的透過性；－－將第一層之定向蒸鍍作用與特別之浮雕構造組合或浮雕構造的組合或設置。

如果第一浮雕構造為具有隨機的(stoichastisch)廓形的浮雕構造，例如毛玻璃構造，則該廓形的關聯長度、粗糙深度及統計學上的分佈可為典型之特性值(它們影響透光性)。

因此要形成具不同透明度或透過性的區域，也可在第一區域或第二區域中使用浮雕構造(它們的一個或數個上述參數不同)。

圖4顯示一多層體(100c)，由圖3所示之多層體(100b)及一光敏層(8)構成。在此，它可為一利用傳統施覆方式(如凹版印刷)呈液態施覆的有機層。該光敏層(8)也可為蒸鍍上去者或呈乾燥膜方式層疊上去。

該光敏層(8)，舉例而言，可為一種正感光漆，如Clariant公司的AZ1512或AZP4620或Shipley公司的S1822，它們以單位面積密度0.1克/平方米~50克/平方米施到第一層(3m)上。層厚度係針對所要解析度及程序。因此在揭掉程序，可用更厚的層，其層厚度>1μm，對應於單位面積密度約1克/平方米。較佳的單位面積重量在0.2克/平方米~10克/平方米的範圍。

在此處係整個面積施覆，但也可只在部分區域施覆，例如在上述區域(4)(6)以外的區域施覆，這些區域可為只須較粗略地和設計(Design)對齊的區域，例如為裝飾之影像呈示，例如機遇性圖案或由重複之圖像或文書構成的圖案。

圖5顯示一多層體(100d)，它藉著將光穿過載體膜(1)過去使圖4的多層體(100c)曝光而形成。曝光可用紫外光(9)。由於此處如上述，該第一層(3m)的區域(4)〔它設有深度比寬度比大約0的繞射構造〕的光學密比起第一層(3m)之反射區域(6)，因此利用UV照射在光敏層(8)中產生感光較多的區域(10)，它們與感光較少的區域(11)的化學性質不同。

圖5所示之實施例中係作均勻曝光，在多層體(100d)所有區域以相同強度造成，但也可部分地曝光，俾能夠；a)將具有大的深度對寬度比的構造留下，當作「設計元件」(Designelement)，且不除金屬膜；b)加入另外的資訊，例如利用一帶形光罩，它在曝光時隨多層體(100d)一齊跑動c)加入一種個別的資訊，例如「通過號碼」(Laufnummer)。

在此可利用一可程式化的空間光調變器或一受控制的雷射裝置短時曝光，將一特徵加入。

光的波長及極化情形以及光的入射角係為可使浮雕構造依標的造成及選擇性加工的照明參數。

為此也可利用化學性質。舉例而言，區域(10)及(11)可利用其在溶劑中的溶解度而互相不同。用此方式可將光敏層(8)在用UV曝光後作「顯影」，如圖6所示者。在光敏層(8)「顯影」時，在光敏層(8)中將區域(10)或(11)除去。

如果在區域(4)中為了形成一用人眼可見之透明性而一般之深度對寬度比例>0.3，則出乎意料地，用於將光敏層(8)顯影足夠的深度對寬度比可以小得多。也不須將第一層(3m)設計得很薄，使區域(4)在用視覺觀察時呈透明。因此，蒸鍍的載體膜可設計成不透明，因為較小的透明度可藉著將光敏層(8)的照射劑量提高而補償。此外可考慮，將光敏層(8)以典型方式在近紫外線頻域曝光，如此對於判斷光學密度而言，視覺觀察印象就非決定性者。

圖5a與5b顯示一變更之實施例。在圖5a的多層體(100d’)，不設有圖5所示之光敏層(8)。取而代之者為一複製層(3’)，它係用熱色物質著色的光敏洗漆層。用光穿過第一層(10)過去從下方將多層體(100d’)曝光，如此在曝光較多的區域(10)的複製層(3’)變化較多，故可洗掉。

圖5b顯示一多層體(100d”)，它在洗除程序後由多層體(100d’)造成。在區域(10)中，在洗除程序時，第一層(3m)和複製層(3’)同時除去。構造化的複製層(3’)形成一第一之部分地形成的熱色功能層，第一層(3m)形成由鋁構成之另一個部分地形成的層，與該功能層完美地對齊。

圖6顯示「顯影過的」多層體(100e)，它利用一溶劑〔該溶劑施到該感光過的光敏層表面〕的作用由多層體(100d)形成。如此，形成區域(10e)，在這些區域中光敏層(8)被除去。區域(10e)作為圖3所示之區域(4)，其構造元件的深度對寬度比大於零。在區域(11)中得到光敏層(8)，因為它係圖3所述之區域(6)，在這些區域中，構造元件的深度對寬度比大於零，如果使用一用藍色素著色之透明之正感光漆當作光敏層，則形成一個部分地形成之透明之藍色功能層，與浮雕構造對齊。

因此，在圖6所示之實施例，光敏層(8)由一正感光漆形成。在這種感光漆，照射過的區域可溶在顯影劑中。反之，在負感光漆的場合，未曝光的區域可溶在顯影劑中，如以下圖9~圖12所述之實施例所述。

此處，如圖7中用多層體(100f)所示者，可將區域(100)中的第一層(3m)除去，它不受到該顯影的光敏層(8)(當作蝕刻遮罩)保護以防蝕刻劑侵蝕。舉例而言，蝕刻劑可為一種酸或苛性鹼。用此方式，形成圖1中所示的區域(10d)。構造化的光敏層(8)構成該第一個部分地形成之透明藍色功能層，在蝕刻後，第一層(3m)形成由鋁構成之另一個部分地形成的層，與該功能層完美地對齊。

因此用此方式可將第一層(3m)準確對齊地構造化而不需附加之技術成本。為此不需敏複的準備(例如在施覆一蝕刻光罩時利用光罩曝光或壓力)。在這種傳統方法，誤差>0.2mm是很平常的。而用本發明的方法，可使誤差在微米範圍到奈米範圍。換言之，誤差只由將複製層構造化所選設之複製方法及其起源決定。

第一層(3m)可設計成一系列不同金屬的系列，且使用該金屬部分層的物理及/或化學性質的不同。例如，可將鋁析出，當作第一金屬部分層。該鋁有高反射度，因此當從載體側觀看多層體層，可清楚看到反射區域。可將鉻析出作第二金屬部分層，它對各種不同蝕刻有高度化學抵抗性。第一層(3m)的蝕刻過程可分二階段，可在第一階段將鉻層蝕刻，其中顯影的光敏層(8)當作蝕刻光罩，然後在第二階段將鋁層蝕刻掉，如此鉻層當作蝕刻光罩。

這種多層體系統可使得在選擇製程中使用之感光漆、蝕刻劑及第一層所用之材料時有更大的變通性。

圖8顯示一種選擇性的可能方式，可在圖7所示之製造步驟後，將一層(8a)(它由透明且含發光色素的印刷顏料構成)刮入第一區域(10d)中。圖8顯示一多層體(100g)，它由載體膜(1)、功能層(2)、複製層(3)、由鋁構成之構造化之第一層(3m)(當作第一個另外部分地形成的層)、構造化之透明藍色光敏層(當作第一個部分地形成的功能層)、及另一個部分地形成的層(8a)(由透明發光印刷顏料構成，當作第二個另外部分地形成的層)。

圖9顯示一多層體(100e’)之一第二實施例，其中不用感光漆構成的光敏層(8)(如圖5、6、8所示)而係用一個由負感光漆構成之光敏層(8)。如圖9所示，一多層體(100e’)具有區域(10e’)，在這些區域中，未曝光的光敏層(8)利用顯影劑除去。

區域(10e’)係為第一層(3m)之不透明區域，在區域(11’)中，曝光的光敏層(8)不除去，它們係第一層(3m)的透光區域，亦即光密度比區域(10e’)更小的那些區域。

圖10中顯示一多層體(100f)，它藉著一蝕刻程序將第一層(3m)除去而從多層體(100e’)(圖9)形成。為此，該顯影的光敏漆(8)當作蝕刻光罩，它在區域(10e’)(圖9)中除去，因此蝕刻劑在該處將第一層(3m)。在此，該部分地形成的層(8)可設計成不透明之著色成黑色的漆層且構成該部分地形成的功能層，而該部分地形成的第一層(3m)構成該另外的層。

如圖11所示，此處由多層體(100f’)形成一多層體(100f”)，其方法係將一種介電度(如TiO₂ 或ZnS)構成的反射層(3p)全面施覆。舉例而言，這種層可為面狀蒸鍍者，其中，可將這些層由數個上下重疊設置的薄層構成，且用此方式在正面照射的光中形成干涉色效果。舉例而言，具有色效果的薄層序列可由具有高－低－高指數走勢的三個薄層構成，和金屬反射層相較，色效果段不顯眼，這一點，舉例而言，如果用此方式將圖案形成到護照或身份證上時，則甚有利。此圖案，舉例而言，對觀看者呈透明的綠色或紅色。

圖12顯示一多層體(100f''')，它係由多層體(100f”)(圖11)在將剩餘光敏層(8)除去後形成。它可為一傳統之“揭起程序”，用此方式，在先前程序施上去的介電層(3p)可再隨光敏層(8)同時除去。因此，此時在與多層體(100f''')上形成具有介電層(3p)之鋁的第一層(3m)的相鄰區域，舉例而言，它們的光學折射指數及/或導電性互相不同。

第一層(3m)可電鍍加厚，且用此方式，舉例而言，形成區域(11)，它們係具有特佳導電性之區域。然後可整面施以一種透明之可用UV硬化的液晶，呈似負(quasi negative)的感漆的形式，並將光穿過載體層(1)過去作照射。感光層之較少曝光或未曝光的區域位在部分地形成的第一層(3m)上方且被除去。此處造成一多層體(不作詳示)它有一個由透明感光漆構成之第一部分地形成的功能層、一第一之另外部分地形成的層〔呈介電層(3p)的形式〕、及一第二之另外部分地形成的層〔呈第一層(3m)形式〕。

如不用此方式(或除了此方式外)，隨後也可將區域(11)設計成透明且為此用蝕刻將第一層(3m)除去。可用一蝕刻劑，它不會將施在其餘區域的介電層(3p)侵蝕。但也可使蝕刻劑作用時間只作用到第一層(3m)用視覺不再能看到為止。

圖13顯示一多層體(100’)，它係由多層體(100f''')(圖12)藉著加上圖1所示之感光漆層(12a)(12b)而形成。多層體(100’)一如圖1所示之多層體(100)，係使用相同之複製層(3)製造。因此利用本發明的方法，可從一單一的構造開始產生不同設計的多層體。本發明的方法可以繼續而不影響品質，係將其他層準確對齊地作構造化。為此可使用其他光學效果，如全反射、極化、及先前所施之層的對光譜的透過性，以形成不用光學密度的區域，俾形成準確對齊的曝光光罩。

也可利用上下重疊設置的層形成不同之局部吸收性，並利用受雷射支持的熱燒蝕作用形成曝光光罩或蝕刻遮罩。

圖14顯示圖3的一種層構造的放大示意剖視圖。複製層(3)在區域(5)有一深度對寬度比>0.3的浮雕構造(5h)，而在區域(6)中沒有浮雕構造或呈平坦區域。箭頭(3s)表示第一層(3m)的施覆方向，此處係用濺鍍施覆。第一層(3m)在平坦區域(6n)中設成正常厚度t_o 。而在第一浮雕構造的區域中，其厚度t小於正常厚度t_o 。在此度t係指平均值，因為厚度t係依第一浮雕構造(5h)的表面對水平的傾角而形成，此傾角在數學上可用第一浮雕構造的函數的第一導來式描述。

但如果傾斜角度等於零，則第一層(3m)以正常厚度(t_o )析出，如果傾斜角度大於0，則層(3m)以厚度t析出，換言之，以比正常厚度t_o 小的厚度析出。

圖15a的橫截面顯示一PET構成之載體層(1)、至少一功能層(2)及複製層(3)。在第一區域(C)中，在複製層(3)中形成一第一動態浮雕構造。在第二區域D中不形成浮雕構造，然後，複製層(3)整面用一種銀構成的第一層(3m)蒸鍍，其中在第一層(3m)中形成不同透過性的區域，與區域(C)與(D)對齊。

依圖15(B)，將一正感光漆層(12)整面施到圖15A的層複合物上，並將光穿過載體層(1)過去將它照射。感光層(12)之較多或一般曝光的區域(C)被除去，而其下方所設的第一層(3m)在浮雕構造的區域露出。

依圖15C，第一層(3m)在區域C利用蝕刻除去，其中該構造化的感光漆層(12)當作蝕刻遮罩。在蝕刻後，在感光漆層(12)與複製層之間只有構造化的第一層(3m)。

依圖15C將一個由具高折射指數之ZnS構成的介電反射層或一個具有觀看角度有關的干涉色效果的薄膜反射層的堆疊全面蒸鍍上去。如有必要，感光漆層(12)可事先除去。

依圖15D的層堆疊用一著色成紅色的負感光漆層(12’)全面蓋住，並用光穿越載體層(1)過去作曝光。在未曝光的區域(D)之負感光漆層(12’)除去後的結果示於圖15E中。

最後，在平坦的第二區域D將可能不再需要的層除去，其方法係將構造化的感光漆層(12)撕離，並將介電反射層(R)之設在其上的區域同樣地除去，結果示於圖15F。此時有一多層體(100K)，它有一載體層(1)、一功能層(2)、一複製層(3)、在第一區域(C)有一部分地形成的功能層，呈構造化之紅色感光層(12’)形式，及另一部分地形成的層，呈介電之構造化的反射層(R)的形式，和感光層(12’)對齊，在一個銀構成的反射面旁，由該部分地形成的第一層(3m)在平坦的第二區域(D)中形成。

圖15G顯示一多層體(100k’)的上視圖，它係依圖15A~15F的方法形成。一動態的設計元件(D)〔它在傾斜時呈一抽運效果(Pumpeffekt)〕由多數細線(線寬度各20μm)形成。線本身對應具有浮雕構造的第一區域(C)，而線之間的區域則對應於無浮雕構造的第二區域(D)。因此線由於浮雕構造及介電層R而呈現動態效果，此外由於有感光漆層(12)而具有紅色背景。此外，在區域D中有反射的銀面。

圖16A~16C顯示第一方法之另一實施例的剖示圖。圖16A顯示一PET構成的載體層、一功能層(2)、及一複製層(3)〔一浮雕構造鐫印到該層中之第一區域C中〕。第二區域D中沒有浮雕構造，此處複製層(3)設計成平坦狀，然後將金構成之一第一層(3m)整面以不透明的方式濺鍍上去，其中在第一區域C對UV的透過性比在區域D更大。

然後依圖16B將一不透明藍色負感光漆層(12)整面施上，並使光穿過載體層(1)過去將此層照射。將感光漆(12)之未曝光或較少曝光的區域除去，其中在區域D中的第一層(3m)露出，此時可將區域D中的第一層(3m)藉蝕刻從複製層(3)除去。

結果見於圖16C。有一多層體(100m)，它有一載體層(1)、一功能層(2)、一複製層(3)、一部分地形成的功能層〔呈一藍色感光漆層(12)形式〕、及另一個部分地形成的層〔呈由金構成之第一層(3m)的形式、與前者完美對齊〕。如果該多層體(100m)從載體層(1)那一側看，則在第一區域C中呈一金色線圖案，與一繞射浮雕構造重疊，該浮雕構造有一光學變化效果，特別是一種全像圖效果，而從另一側看，該多層體(100m)呈一完全不同之呈現影像。因此觀看者從感光漆(12)那一側看，在區域C中只看到一金屬絲貴金屬絲細編工的不透明整色線圖案，金色線圖案因而被完全覆蓋且因此看不到，在區域D中，多層體(100m)呈透明。

圖17(A)~17(H)顯示一複雜的第一方法的過程的剖面圖。圖17A顯示一載體層(1)、一功能層(2)、及一複製層(3)〔三個不同之浮雕構造鐫印到其中〕。因此在區域A中形成一第一浮雕構造，在區域B中形成一第二浮雕構造，在區域C中形成一第三動態浮雕構造，而在區域D中不形成浮雕構造。第一及第二浮雕構造係為高頻率格構造，具有不同之縱橫比(寬度比)(Aspektverhaltinis，英：aspect ratio)。

然後，將一鋁構成的第一層(3m)整面地以不透明方式濺鍍到複製層(3)上，其中在區域A中對UV的穿透性比在區域B中更大。在區域B中對UV的穿透性比在區域C大，而區域C中對UV的穿透性比在區域D中大。

然後，依圖17C將一正感光漆層(12)整面地施覆，並使光穿過第一層(3m)過去將它曝光，其中具第一浮雕構造的區域A可照射得最多，且隨後可除去。

圖17D顯示感光漆層(12)在區域A中藉蝕刻作構造後且將第一層(3m)除去後的狀態，其中該構造化的感光漆層(12)當作蝕刻光罩。因此第一層(3m)只位在區域B、C、D中。

此時將正感光漆層(12)除去，將一藍色負感光漆層(12’)全面地施覆，並使光穿過載體層(1)過去使之曝光。然後在較少曝光的區域B、C、D中將負感光漆層(12’)除去，而在區域A中造成硬化。圖17E顯示在負感光漆層(12’)構造化後階段的層構造。

依圖17F，隨後將另一正感光漆層(12”)全面地形成並使光穿過載體層(1)過去將之曝光。

然後將該另一正感光漆層(12”)在區域B中除去，結果示於圖17G。

此時將露出的第一層(3m)只在區域B中利用蝕刻除去。結果示於圖17H。造成一種多層體(100n)，它具有一載體層(1)、一功能層(2)、一複製層(3)、一部分地形成的藍色功能層〔呈負感光漆層(12’)的形式〕、另一個部分地形成的層〔呈第一層(3m)形式，它一方面呈反射面在區域D中作用，另方面在區域C中與動態效果重疊〕。

該另外之正感光漆層(12”)可除去並全面施以一粘著劑層。但如果使用一著色之正感光漆層(12”)，則它也可留在多層體上。

圖18A~18H的示意剖面圖顯示製造一個鑲工的印刷圖案的另一種第一方法，它由二種不同顏色完美地互相對齊而構成。圖18A顯示一載體層(1)、一功能層(2)及一複製層(3)(二個不同浮雕構造鐫印到其中)。因此在區域A中形成一第一浮雕構造，在區域B中形成一第二浮雕構造，而在區域D中不形成浮雕構造。第一及第二浮雕構造係為具不同寬高比的高頻率格構造，將一由鋁構成之第一層(3m)整面地以不透明方式濺鍍到複製層(3)上，其中在區域A中對UV的穿透性比在區域B大，在區域B中對UV的穿透性比在區域D中大。

然後依圖18B將一正感光漆層(12)整面施覆，並使光穿過載體層(1)及第一層(3m)過去將它曝光，其中具有第一浮雕構造的區域A可曝光最多，然後依標的除去。部分地形成的正感光漆層(12)此時當作蝕刻遮罩之用，且第一層(3m)之露出的區域A利用蝕刻除去。結果示於圖18C。

此時將一藍色負感光漆層(12’)全面施覆，且使光穿過載體層將它曝光，其中在區域A中硬化，在區域B與D中將負感光漆(12’)除去。結果見於圖18D。

此時將正感光漆(12)完全除去，並將第一層(3m)同樣地利用蝕刻完全除去。

然後將一鋁構成之另一第一層(3m’)整面濺鍍，並用另一正感光漆層(12”)整面施覆，結果示於圖18E。使光穿過載體層(1)過去將另一正感光漆層(12”)曝光，然後將該另一正感光漆層(12”)在照射得最多的區域B除去。當負感光漆層(12’)在區域A將第一浮雕構造充滿後，在區域A中經另外之第一層(3m’)的穿透性和區域D中者相同，且正感光漆層的區域A及D都留著。另一第一層(3m’)在區域B中露中且用蝕刻除去(見圖18F)。將另一紅色負感光漆層(12''')整面施覆，並使光穿過載體層(1)過去將它曝光，其中在區域B中造成硬化。在其餘區域中將該紅色之另一負感光漆層(12''')除去。結果示於圖18G。

最後將該另外的正感光漆層(12”)除去並利用蝕刻將該另一第一金屬層(3m’)完全溶掉。結果示於圖18H，其中形成一多層體(100p)，它具有一載體層(1)、一功能層(2)、一部分地形成的功能層〔呈藍色負感光漆層(12’)形式〕，且形成另一個部分地形成的層，呈另一紅色負感光漆層(12''')的形式，該紅色與藍色的層(12’)(12''')係互相完美地相對定位。

圖18K顯示一依圖18A~18H的方法形成之多層體(100p’)的上視圖，其中可看到藍線〔由負感光漆層(12’)形成〕及紅線〔由其他之感光漆層(12''')形成〕，它們在一透明背景前共同構成一個彩色之貴金屬絲細編工的防偽設計元件。圖中用虛線表示一橢圓區域，定顯示紅線的擴張範圍。在虛線與「設計元件」的一彩色線相交的所有位置，該顏色從紅向藍變化，其中之些線繼續延伸而無偏離。這種設計元件極難模仿，利用迄今習知，方法無法沿一線將不同顏色如此準確對齊地排列設置，但依本發明方法所製的設計元件也可同樣地具有相鄰的彩色或互相嵌合的彩色線。

圖18M顯示另一個依圖18A~18H的方法形成的多層體(100p”)的上視圖。其中可看到藍線〔由負感光漆層(12’)形成〕和紅線〔由其他感光漆層(12''')形成〕，它們在一透明背景前共同構成一彩色圓形的防偽設計元件，紅色線的擴張範圍呈一十字形。在十字周圍的所有位置，在線走勢之內的顏色直接從紅變到藍，其中這些線繼續延伸而無作偏離，這種設計元件同樣極難模仿。如不採此方式．這種防偽設計元件也可不用藍線而設一反射金屬層，或不用紅線而設一發光層或液晶層等，且可有更多不同方式，同時，在一個這種防偽元件上從多層體的前側及後側可產生不同的顏色印象。

圖19顯示經一本發明之多層體(100r)的另一剖視圖。其中有一載體層(1)及一複製層(3)，有一第一浮雕在第一區域A做到該層中，而在第二區域B中則無浮雕構造。一綠色印刷顏料被刮入第一浮雕構造中，該顏料形成一構造化之第一層(3m”)，此處其厚度呈誇張比例顯示，此時可進行另外二種方式。

結果在左邊區域A中產生一構造，則形成一透明之間隔保持層(2’)，且在此層上整面施覆一紅色正感光漆層(12)。使光穿過載體層(1)及第一層(3m’)過去(它當作感光光罩)將感光漆層(2)照射。然後，在區域B將感光漆層(12)除去，造成一個部分地形成的功能層，呈綠印刷顏料形式，它準確地用另一部分地形成的層〔呈紅色構造化的感光漆層(12)的形式〕當作背景，此外，利用間隔保持層(2’)形成光學的重疊效果，例如依觀看角度而定的網紋效果或局部陰影效果。

如果要將一構造一如在右邊區域A₂ 中產生，則將一紅色之正感光層(12)整面完全施覆。使光穿過載體層(1)和第一層(3m’)過去(它當作曝光光罩)將感光漆層(12)照射。然後在區域B中將感光層(12)除去。此處造成一個部分地形成的功能層，呈綠色印刷顏料形式，它用一部分形成的層準確地設以一背景。此背景呈紅色構造化的感光漆層(12)形式。

最後還可設一粘著劑層(2”)。

圖20A~20C顯示另一種第一方法示意剖視圖。在此依圖20A設一載體層(1)、一功能層(2)及一複製層(3)，將一浮雕構造在第一區域A中做到該層中，而第二區域D則保持平坦。然後，將鋁構成的一第一層(3m)整面蒸鍍上去。該第一層在區域A呈透明，而在區域D中已不透明。

然後將一黃色透明負感光漆層(12)整面施覆，並使光穿過載體層(1)過去使它曝光。然後將感光漆層(12)之未曝光區域(即在區域D中)除去，使該處第一層(3m)露出。

然後將另一不透明之藍色負感光漆層(12’)整面施覆上去，並使光穿過載體層(1)過去將它曝光。然後將該另外之感光漆層(12’)的未曝光區域〔即在區域D中〕除去，並使該處第一層(3m)露出，結果示於圖20B。

然後第一層(3m)在區域D中用蝕刻除去，其中該二感光漆層(12)(12’)當作蝕刻遮罩，結果示於圖20C中。此多層體(100s)有在一透明背景前一載體層(1)、一功能層(2)、一複製層(3)、一黃色感光漆層(12)(當作部分地形成的功能層)、及一藍色感光漆層(12’)(當作另一個部分地形成的層，它與該功能層完美地對準)。透明的第一層(3m)(它仍位在區域A中)在從載體層(1)那一側觀看該多層體(100s)時，可使浮雕構造能看到，而不會自身造成顏色效果。

圖21顯示另一本發明的多層體，它依第一方法形成，具有一載體層(1)、一複製層(3)、一鋁構成的構造化之第一層(3m)、一透明之間隔保持層(2’)及二個不同顏色的感光漆層(12)(12’)。在此，感光漆層(12)(12’)依第一層而定，直接在第一層(3m)下方對準或和第一層錯開，其中使光斜斜穿過第一層(3m)過去作斜向照射，也可依標地造成一種斜向的偏離，如感光漆層(12’)所示者，最後設一透明粘著劑層(2”)。

圖22A~23B顯示依第一方法製造之防偽文件的剖視圖。

圖22A顯示一透明之證件卡(1’)，一透明多層體(100t)，利用粘著劑層(2”)粘在其上。此處有一透明護漆層〔呈一功能層(2)形式〕、一複製層(3)〔由透明漆構成，具一第一浮雕構造〕、一部分地形成的第一層(3m)(呈不透明的鋁層形式)、另一部分地形成的層(3m’)(呈由ZnS構成之透明介電反射層形式)及一部分地形成的功能層(12)(呈不透明之綠色印刷顏料形式)。功能層該另外部分地形成的層(3m)(3m’)完美的對齊，且與複製層(3)中第一浮雕構造完美地對齊。因此對觀看者而言，由於功能層(2)而呈現一線狀之全像圖呈示，它一方面有細的鋁構成之線做背景，另一方面用透明的ZnS層和綠色顏料作背景。從另一側看，對觀看者而言，透過證件卡(1’)看過去，只看到由細線構成之綠色貴金屬絲細編工的印刷影像。

圖22B顯示一透明證件卡(1’)，一透明多層體(100t)利用粘著劑層(2”)粘在其上。它有一透明護漆層〔呈一功能層(2)形式〕、一複製層(3)〔由透明漆構成，具有一第一浮雕構造〕、一部分地形成的第一層(3m)(呈透明之鋁層形式)、另一部分地形成的層(3m’)(呈ZnS構成之一透明介電反射層形弋式)及一個部分地形成的功能層(12)(呈不透明之綠色印刷顏料形式)。功能層(12)與該另外部分地形成的層(3m)(3m’)及該複製層(3)中的第一浮雕構造完美地對齊。因此對觀看者而言，透過功能層(2)看過去可看到細線構成之綠色貴金屬絲細編工印刷影像。由另一側看，對觀看者而言，透過證件卡(1’)看過去看到一線狀全像圖呈示，它一方面有細鋁線作背景，另一方面有一透明ZnS層及綠色顏料作背景。

圖23A顯示一透明證件卡(1’)，一透明多層體(100t’)利用一透明粘著劑層(2”)粘在其上。它有一透明護漆層〔呈一功能層(2)形式〕、一複製層(3)〔由透明漆構成，具一第一浮雕構造〕、一個部分地形成的第一層(3m)(呈一不透明鋁層的形式)、粘著劑層(2”)(它在此處當作間隔保持層)、另一個部分地形成的層〔呈一透明紅色感光漆層(12)形式〕、及一個部分地形成的功能層(12’)(呈一不透明印刷顏料形式)。紅色之感光漆層(12)垂直於證件卡(1’)的平面看，係與該部分形成的第一層(3m)涵蓋相同區域且和後者設成稍微錯開，該部分地形成的功能層(12’)和第一層(3m)偏離錯開。因此對觀看者而言，透過功能層(2)看過去，可看到由細的綠、紅、及金屬線構成的貴金屬絲細編工裝飾圖，其中該金屬線由於第一浮雕構造之故，呈一全像圖效果。由另一側看，觀看者透過證件卡(1’)同樣看到由細的綠、紅及金屬線構成的貴金屬絲細編工裝飾圖，其中該金屬線由於第一浮雕構造之故，呈一全像圖效果。然而有一些金屬線被透明的紅色感光漆層(12)重疊。如果偽造者將多層體(100t”)從證件卡(1’)撕離，以將證件卡(1’)表面上的個人資料篡改(manipulieren)，則紅色及綠色層(12)(12’)留在證件卡(1’)上，而其餘的層(2”)(3m)(3)(2)可被撕離。在資料篡改後，該撕離之「層堆疊」須再施到證件卡上，以形成貴金屬絲細編工的裝飾圖。但由於有細線，這點幾乎毫無希望，且仍可看出和最初的位置有偏差。證件卡(1’)特別有效地受多層體(100t”)保護以防止偽造的企圖。

圖23B顯示一透明證件卡(1’)，有一透明多層體(100t''')利用一透明粘著劑層(2”)粘在其上，它有一透明護漆層〔呈一功能層(2)形式〕、一複製層(3)(由透明漆構成，具一第一浮雕構造)、一部分地形成的第一層(3m)〔作為功能層，呈一透明紅色感光漆層(12)形式〕、粘著劑層(2”)(當當作間隔保持層)及另一個部分地形成的層〔呈一透明綠色的感光漆層(12’)形式〕。感光漆層(12)如垂直於證件卡(1’)的平面看，係設計成與第一浮雕構造涵蓋相同範圍，且局部地設成與該部分地形成的綠閊感光漆層(12’)涵蓋相同範圍。因此使用者透過該功能層看過去會看到一貴金屬絲細編工裝飾圖，由細的透明紅色及不透明黑色線構成，使用者由另一側看，則透過證件卡(1’)看過去看到一貴金屬絲細編工裝飾圖，由線的不透明綠線和透明紅線構成。如果一偽造者把多層體(100t”)從證件卡(1’)撕離，以將證件卡(1’)表面上的個人資料篡改，則綠色層(12’)留在證件卡(1’)上，而其餘層(2”)(12)(3)(2)可撕離。在資料篡改後，撕離的層堆疊須再施到證件卡(1’)上，以造成貴金屬絲細編工裝飾圖。但由於細很細，這點近乎毫無希望，且仍可看出和原先位置有偏差。證件卡(1’)同樣特別有效地受多體(100t''')保護以防偽造的企圖。

圖24A~E顯示用於製造由二種不同顏色完美對齊構成之貴金屬絲細編工印刷圖案的第二方法的示意剖面圖。

圖24A顯示一透明載體層(1)，由PET構成，在其一側止用一紅色負感光漆層(12)全面施覆。然後此負感光漆層(12)經一光罩(22)〔它具有可透過輻射線的開口(200a)〕呈圖案狀地曝光(箭頭顯示輻射方向)，將光罩拿掉後，將感光漆層(12)未曝光的區域除去，而曝光的區域留在載體層(1)上且構成一紅色線圖案，結果示於圖24B。

此時先施一透明漆層當作間隔保持層然後施一綠色正感光漆層(12’)，或依圖24，直接將一綠色正感光漆層施上去，將光透過載體層(1)及該部分地形成的紅色感光漆層(12)(它作光罩層)過去使之曝光(箭頭顯示照射方向)。

此時將曝光的綠色感光漆層(12’)的區域除去，而未曝光的區域則留在該部分地形成的紅色感光漆層(12)上，最後將一粘著劑層整個施上去。

圖24D顯示一用如此所形成之多層體構成之防偽文件，其中，所形成的多層體(100v)粘在一透明證件卡(1’)上。此多層體(100v)包含透明載體層(1)、該當作部分地形成的功能層用的紅色感光漆層(12)、該另一個部分地形成的層〔它係為綠色感光漆層(12)，與層(12)完美對齊〕。及一透明粘著劑層(2”)，觀看者由載體層(1)那邊看此防偽文件，可看到一貴金屬絲細編工的紅色線圖案，而從證件卡(1’)那邊看，則看到一貴金屬絲細編工之綠色線圖案。

圖24E顯示一防偽文件，它用該包含間隔保持層所形成的多層體構成，且其中，所形成之多層體(100v’)粘到一透明證件卡(1’)上。此多層體(100v’)包含透明載體層(1)、當作部分地形成的功能層用的紅色感光漆層(12)、透明的間隔保持層(2’)、以及該另一個部分地形成的層〔它係一綠色感光漆層(12’)，與紅色感光漆層(12)完美對齊〕、及一透明粘著劑層(2”)。觀看者從載體層(1)那一側看此防偽文件可看到一貴金屬絲細編工之紅色線圖案，而從證件卡那一側看則看到一貴金屬絲細編工之綠色線圖案，其中各依間隔保持層(2’)厚度而定，當此防偽文件傾斜時，顯示其他的顏色及/或光學重疊效果。

當然，在實施可能的方法過程以及可形成的多層體及防偽文件或構件時，不可能在此處將可能方式全部列示。但行家可在本發明的構想中將方法步驟變更或組合以達成所要結果。因此行家也可直接將第一和本發明的方法與第二種本發明的方法組合，以達成其他實施例，特別是用貴金屬絲細編工的線圖案達成裝飾效果，同時仍對模仿有高度防偽安全性。

(1)．．．載體膜

(1’)．．．證件卡

(2)．．．功能層

(2’)．．．間隔保持層

(2”)．．．粘著劑層

(3)(3’)．．．複製層

(3m)(3m’)(3m”)．．．第一層

(3p)．．．反射層

(3s)．．．箭頭

(4)．．．區域

(5)．．．區域

(5h)．．．第一浮雕構造

(6)．．．區域

(8)．．．光敏層

(10)．．．區域

(10e)(10e’)．．．區域

(11)．．．區域

(12)．．．感光漆層

(12a)(12b)．．．感光漆層

(12’)．．．負感光漆層

(12”)．．．正感光漆層(藍)

(12''')．．．負感光漆層(紅)

(100)(100b)(100c)．．．多層體

(100d)(100d’)(100d”)．．．多層體

(100e)(100e’)．．．多層體

(100f’)(100f”)(100''')．．．多層體

(100g)．．．多層體

(100k)．．．多層體

(100m)．．．多層體

(100n)．．．多層體

(100p”)．．．多層體

(100r)．．．多層體

(100s)．．．多層體

(100t)(100t’)．．．多層體

(100t”)(100t''')．．．多層體

(100v’)．．．多層體

(200a)．．．開口

圖1係一本發明之多層體一第一實施例的一示意剖視圖，圖2係圖1之多層體之第一製造階段的一示意剖視圖，圖3係圖1之多層體之第二製造階段的一示意剖視圖，圖4係圖1之多層體之第三製造階段的一示意剖視圖，圖5係圖1之多層體之第四製造階段的一示意剖視圖，圖6係圖5所示之製造階段之一變更實施例的一示意剖視圖，圖7係圖1之多層體之第六製造階段的一示意剖視圖，圖8係另一多層體之一示意剖視圖，圖9係另一多層體之一示意剖視圖，圖10~圖13係第一方法之另外方法步驟的示意剖視圖，圖14係第一方法的一示意剖視圖，圖15A~15F係第一方法之其他示意剖視圖，圖15G係依圖15A~15F的方法形成之多層體的上視圖，圖16A~16C係第一方法之其他示意剖視圖，圖17A~17H係第一方法之其他示意剖視圖，圖18A~18H係第一方法之其他示意剖視圖，圖18K係依圖18A~18H的方法形成之第一多層體的上視圖，圖18M係依圖18A~18H的方法形成之第二多層體的上視圖，圖19係經另一多層體之一示意剖視圖，圖20A~20C係第一方法之另外之示意剖視圖，圖21係第一方法形成之一多層的剖視圖，圖22A~23B係含有多層體之不同防偽文件的示意剖視圖，圖24A~24E係第二方法之示意剖視圖。

(12’)．．．負感光漆層

(12''')．．．負感光漆層(紅)

(100p”)．．．多層體

Claims (16)

1. 一種製造多層體(100v)的方法，該多層體至少具有一個部分地形成的功能層，與至少另一個部分地形成的層對齊，其中在一載體層(1)上形成一第一層，呈一第一感光漆層(12)的形式且部分地曝光，將曝光過的第一層顯影並構造化，然後使用該構造化的第一層當作遮罩層，該遮造層形成至少一個部分地形成的功能層及/或該至少另一部分地形成的層，且形成該至少一個部分地形成的功能層或該至少另一個部分地形成的層，其方法係將一個與著色劑作用的第二個正或負的感光漆層(12)施覆，將該感光漆層受到透過該構造化的第一層的光曝光，並將感光過的第二感光漆層(12’)構造化。
2. 如申請專利範圍第1項之方法，其中：將一種材料用刮刀刮入該載體層(1)之露空的區域〔這些區域垂直於載體層(1)的平面看係被一個部分地形成的功能層或另一個部分地形成的層圍住，且至少將另一個部分地形成的功能層或另一個部分地形成的層形成。
3. 如申請專利範圍第1項之方法，其中：該載體層(1)設計成可從形成之多層體撕離的方式。
4. 如申請專利範圍第1或第2或第3項之任一項之方法，其中：該多層體至少該一個部分地形成的功能層及/或至少該另一個部分地形成的層在相反側互相互補成一種裝飾性及/或資訊式幾何、字母數字、圖形或圖樣的彩色呈示。
5. 如申請專利範圍第1或第2或第3項之任一項之方法，其中：該多層體至少該部分地形成的功能層及/或至少該另一部分地形成的層設計成至少一線的形式，線寬度在<50μm的範圍，特別是在0.5~10μm的範圍，及/或設計成至少一像素的形式，像素直徑在<50μm的範圍，特別是在0.5~10μm的範圍。
6. 如申請專利範圍第1或第2或第3項之任一項之方法，其中：該多層體至少一個部分地形成的功能層有一金屬層，特別是不透明之金屬層，且該至少另一部分地形成的層有一著色之漆層，或者該功能層有該漆層而該另一層有該一金屬層。
7. 如申請專利範圍第1或第2或第3項之任一項之方法，其中：該多層體至少一個部分地形成的功能層為一含液晶的層，而該至少另一個部分形成的層為一著色漆層，或者該功能層為該漆層，而該另一層為含液晶之層。
8. 如申請專利範圍第1或第2或第3項之任一項之方法，其中：該至少一部分地形成的功能層利用具有與觀看角度有關的干涉色效果的一薄膜反射層堆疊形成，而該至少另一個部分地形成的層為一著色漆層；或該功能層為一著色漆層而另一個層由該薄膜反射層堆疊形成。
9. 如申請專利範圍第1或第2或第3項之任一項之方法，其中：該至少一個部分地形成的功能層為一第一著色漆層而該至少另一個部分地形成的層為另一不同著色的漆層。
10. 如申請專利範圍第1或第2或第3項之任一項之方法，其中：該至少一個部分地形成的功能層為一第一著色漆層而該至少另一個部分地形成的層為一介電反射層。
11. 如申請專利範圍第5項之方法，其中：該漆層用至少一不透明的及/或至少一透明的物料著色。
12. 如申請專利範圍第1或第2或第3項之任一項之方法，其中：該著色的漆層利用至少一種著色劑著色，其顏色為黃、紫紅、藍綠、黑(CMYK)，或者為紅、綠、藍(RGB)，且/或該至少一個部分地形成的功能層設有至少一種紅、綠及/或藍色螢光式可用輻射激發的色素或顏料且因此在照射時產生一附加的顏色。
13. 如申請專利範圍第1或第2或第3項之任一項之方法，其中：該至少一個部分地形成的功能層與該至少另一個部分地形成的層至少在一定觀看角度或在一定照射方式下看呈互補色的方式形成。
14. 如申請專利範圍第1或第2或第3項之任一項之方 法，其中：該至少一個部分地形成的功能層與該至少另一個部分地形成的層各設計成線形，使這些線互相過渡進對方中而無側向的偏離。
15. 如申請專利範圍第13項之方法，其中：該線呈連續的顏色走勢方式互相過渡進到對方中。
16. 如申請專利範圍第1或第2或第3項之任一項之方法，其中：該至少一個部分地形成的功能層及/或該至少另一個部分地形成的層至少局部地形成一個網格影像，該網格影像係由人眼不能個別解析的像素、影像點或線條構成。