JP2004228571A - Sonos型不揮発性メモリ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体基板100上に複数個の第1ゲート120を形成した後に、第1ゲート120の側壁に電荷貯蔵スペーサ140及び電荷貯蔵スペーサ140を覆う第2ゲート185を順次に形成する。電荷貯蔵スペーサ140は第1ゲート120を含む半導体基板100上に電荷貯蔵膜を形成した後に、第1ゲート120の上部面より低くなるまで電荷貯蔵膜を異方性エッチングして形成することができる。また、第2ゲート185も電荷貯蔵スペーサ140を含む半導体基板100上に形成された第2ゲート導電膜を異方性エッチングして形成する。これによって、電荷貯蔵スペーサ140及び第2ゲート185は第1ゲート120の側面に自己整列される。以後、第1ゲート120及び第2ゲート185を連結するための連結子225をさらに形成することもできる。
【選択図】図9
Description
105…素子分離膜、
110…ゲート絶縁膜、
120…第1ゲート、
130…第1絶縁膜、
140…電荷貯蔵スペーサ、
160…第1不純物領域、
170…第2絶縁膜、
185…第2ゲート、
202…第1不純物領域、
204…第2不純物領域、
220…ビットラインコンタクトプラグ、
225…連結子。
Claims (35)
- 半導体基板上に複数個の第1ゲートを形成する段階と、
前記第1ゲートの側壁に電荷貯蔵スペーサを形成する段階と、
前記第1ゲートの側壁に配置されて、前記電荷貯蔵スペーサを覆う第2ゲートを形成する段階と、
を含むことを特徴とするSONOS型不揮発性メモリの製造方法。 - 前記第1ゲートを形成する前に、
前記半導体基板の所定の領域に活性領域を限定する素子分離膜を形成する段階と、
前記活性領域上にゲート絶縁膜を形成する段階と、
をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。 - 前記素子分離膜は行方向及び列方向に沿って二次元的に形成し、一方向に沿って配列された前記素子分離膜の上部には二つの平行な前記第1ゲートが形成されることを特徴とする請求項2に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記ゲート絶縁膜は熱酸化工程で形成したシリコン酸化膜であることを特徴とする請求項2に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記電荷貯蔵スペーサを形成する前に、前記第1ゲートの側壁に第1絶縁膜を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記第1絶縁膜は、シリコン酸化膜で形成することを特徴とする請求項5に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記電荷貯蔵スペーサは、シリコン窒化膜またはシリコン酸化窒化膜で形成することを特徴とする請求項1に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記電荷貯蔵スペーサを形成する段階は、
前記第1ゲートを含む半導体基板上に、電荷貯蔵膜を形成する段階と、
前記第1ゲートの上部面より低くなるように、前記電荷貯蔵膜を異方性エッチングする段階と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。 - 前記電荷貯蔵膜を異方性エッチングする段階は、シリコン酸化膜及びシリコン膜に対してエッチング選択性を有するエッチングレシピを使用して実施することを特徴とする請求項8に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記第2ゲートを形成する前に、
隣接する二つの第1ゲート及びこれらの間の領域を覆うマスクパターンを形成する段階と、
前記マスクパターンをマスクとして使用する第1イオン注入工程を実施して、前記マスクパターンの間の活性領域に第1不純物領域を形成する段階と、
前記マスクパターンを除去する段階と、
をさらに含み、
前記マスクパターンの間の活性領域は、前記素子分離膜により限定されることを特徴とする請求項2に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。 - 前記マスクパターンを除去する前に、前記第1不純物領域の上部で前記電荷貯蔵スペーサを除去する段階をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記電荷貯蔵スペーサを除去する段階は、シリコン酸化膜及びシリコン膜に対してエッチング選択性を有するエッチングレシピを使用して実施することを特徴とする請求項11に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記第2ゲートを形成する前に、前記電荷貯蔵スペーサを含む半導体基板の全面を覆う第2絶縁膜を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記第2絶縁膜は、シリコン酸化膜で形成することを特徴とする請求項13に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記第2ゲートを形成する段階は、
前記電荷貯蔵スペーサを含む半導体基板上に、第2ゲート導電膜を形成する段階と、
前記第2ゲート導電膜を異方性エッチングする段階と、
を含み、
前記第2ゲート導電膜を異方性エッチングする段階は、シリコン酸化膜及びシリコン膜に対してエッチング選択性を有するエッチングレシピを使用することを特徴とする請求項1に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。 - 前記第2ゲートを形成した後に、前記第1不純物領域の上部の前記第2ゲートを除去する段階をさらに実施することを特徴とする請求項10に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記第1不純物領域の上部の前記第2ゲートを除去する段階を実施する前に、
前記第1不純物領域を覆うマスクパターンを形成する段階と、
前記マスクパターンをイオン注入マスクとして使用する第2イオン注入工程を実施して、前記マスクパターンの間の活性領域に第2不純物領域を形成する段階と、
前記マスクパターンを除去する段階と、
をさらに実施することを特徴とする請求項16に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。 - 前記第2ゲートを形成した後に、前記第2ゲート及び前記第1ゲートをマスクとして使用する第2イオン注入工程を実施する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。
- 前記第2ゲートを形成した後に、
前記第2ゲートを含む半導体基板の全面に層間絶縁膜を形成する段階と、
前記層間絶縁膜をパターニングして、前記第1ゲート及び前記第2ゲートの上部面を露出させる開口部を形成する段階と、
前記層間絶縁膜をパターニングして、前記第1ゲート及び前記第2ゲートの上部面と共に露出させる開口部を形成する段階と、
前記開口部を満たす導電膜を形成する段階と、
前記導電膜をパターニングする段階と、
をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のSONOS型不揮発性メモリの製造方法。 - 半導体基板の所定の領域の上部に配置された複数個の第1ゲートと、
前記第1ゲートの一側壁に配置された電荷貯蔵スペーサと、
前記電荷貯蔵スペーサを覆い、前記第1ゲートの前記一側壁に配置される第2ゲートと、
を含むことを特徴とするSONOS型不揮発性メモリ。 - 前記半導体基板の所定の領域に配置されて活性領域を限定する素子分離膜をさらに含み、前記素子分離膜は、行方向及び列方向に沿って二次元的に配列されることを特徴とする請求項20に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記第1ゲートは前記素子分離膜の上部を互いに平行に横切り、各素子分離膜の上部には前記第1ゲートが二つずつ配置されることを特徴とする請求項21に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記電荷貯蔵スペーサは、互いに異なる素子分離膜の上部を渡る二つの隣接した第1ゲートの内側壁に配置されることを特徴とする請求項22に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記電荷貯蔵スペーサの間の活性領域に配置される第2不純物領域を含み、前記第2不純物領域は、隣接するセルトランジスタの共通ソースラインであることを特徴とする請求項23に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 同一の素子分離膜の上部を渡る二つの第1ゲートの間の活性領域に配置される第1不純物領域を含み、前記第1不純物領域は、前記素子分離膜により分離されることを特徴とする請求項22に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記第1ゲートの他の側壁に配置される絶縁膜スペーサをさらに含み、前記絶縁膜スペーサは、前記第1不純物領域に隣接に配置されることを特徴とする請求項25に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記第1ゲートの他の側壁に配置される物質膜パターンをさらに含み、前記物質膜パターンは、前記第2ゲートと同一の物質であり、前記第1不純物領域に隣接して配置されることを特徴とする請求項25に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記第1ゲート及び第2ゲートは、各々多結晶シリコン膜、シリサイド膜及び金属膜のうちで選択された少なくとも一つの物質であることを特徴とする請求項20に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記電荷貯蔵スペーサは、シリコン窒化膜またはシリコン酸化窒化膜であることを特徴とする請求項20に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記電荷貯蔵スペーサは、前記素子分離膜の上部にその側壁が形成されることによって、隣接のセルの電荷貯蔵スペーサと分離されることを特徴とする請求項21に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記第1ゲートと前記電荷貯蔵スペーサとの間に介在される第1絶縁膜をさらに含むことを特徴とする請求項20に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記電荷貯蔵スペーサと前記第2ゲートとの間に介在される第2絶縁膜をさらに含むことを特徴とする請求項20に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記第1ゲート及び第2ゲートを連結する連結子をさらに含むことを特徴とする請求項20に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記第1、第2ゲート及び電荷貯蔵スペーサと前記半導体基板の間に介在されるゲート絶縁膜をさらに含むことを特徴とする請求項20に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
- 前記ゲート絶縁膜は、シリコン酸化膜であることを特徴とする請求項34に記載のSONOS型不揮発性メモリ。
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