JP2004207444A - 半導体装置 - Google Patents

Abstract

【課題】小型化及び材料コストの低減を図ることができる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、集積回路１０２を含むＳｉ基板１０１と、この上に形成された層間絶縁膜１０３と、この上に形成された接着層１０４と、この上に形成された導通層１０５と、この上に貼り付けられたＬＥＤエピタキシャルフィルム１０６と、ＬＥＤエピタキシャルフィルム１０６上からＳｉ基板１０１の端子領域１０８に至る領域に形成された薄膜の個別配線層１０７とを有する。
【選択図】 図３

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、電子写真式プリンタに使用されるＬＥＤプリントヘッドのような半導体装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図２２は、従来のＬＥＤプリントヘッド９００の一部を概略的に示す斜視図であり、図２２は、図２３のＬＥＤプリントヘッドに備えることができるＬＥＤアレイチップの一例を概略的に示す平面図である。図示されたＬＥＤプリントヘッド９００は、基板９０１上に備えられたＬＥＤアレイチップ９０２の電極パッド９０３と、基板９０１上に備えられた駆動ＩＣチップ９０４の電極パッド９０５とをボンディングワイヤ９０６で接続した構造を持つ。
【０００３】
また、下記の特許文献１には、薄膜構造の発光素子が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１０−０６３８０７号公報（図３から図６まで、図８、段落００２１）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図２２及び図２３に示されたＬＥＤプリントヘッド９００では、ＬＥＤアレイチップ９０２と駆動ＩＣチップ９０４とをボンディングワイヤ９０６によって接続していたので、ＬＥＤアレイチップ９０２と駆動ＩＣチップ９０４のそれぞれにワイヤボンド用の大きな（例えば、１００μｍ×１００μｍ）電極パッド９０３及び９０５を設ける必要があった。このため、ＬＥＤアレイチップ９０２及び駆動ＩＣチップ９０４の面積を小さくすることが困難であり、その結果、材料コストを削減することが困難であった。
【０００６】
また、ＬＥＤアレイチップ９０２において発光部９０７として機能する領域は、表面から５μｍ程度の深さの領域である。しかし、図２２及び図２３に示されたＬＥＤプリントヘッド９００では、安定したワイヤボンドの歩留まりを確保するために、ＬＥＤアレイチップ９０２の厚さは駆動ＩＣチップ９０４の厚さ（例えば、２５０μｍ〜３００μｍ）と同程度にする必要があった。このため、ＬＥＤプリントヘッド９００においては、ＬＥＤアレイチップ９０２の材料コストを削減することが困難であった。
【０００７】
さらにまた、特許文献１には、薄膜構造の発光素子が開示されているが、発光素子にはハンダボール用の電極パッドが備えられており、この電極パッドにハンダボールを介して個別電極が接続されている。このように、特許文献１の薄膜構造の発光素子は電極パッドを備えているので、その面積を縮小することが困難であった。
【０００８】
そこで、本発明は上記したような従来技術の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、小型化及び材料コストの低減を図ることができる半導体装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る半導体装置は、基板と、前記基板上に備えられ、半導体を主材料とする接着層と、半導体素子を含み、前記接着層上にボンディングされた半導体薄膜とを有する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
＜第１の実施形態＞
図１は、本発明の第１の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００を概略的に示す平面図であり、図２は、図１のＡ_２部を拡大して示す平面図である。また、図３は、図２のＡ_３部を概略的に示す斜視図であり、図４は、図２をＳ_４−Ｓ_４線で切る面を概略的に示す断面図である。
【００１１】
図１から図４までに示されるように、第１の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００は、集積回路１０２を含むシリコン（Ｓｉ）基板１０１と、このＳｉ基板１０１上に形成された第１の層間絶縁膜１０３と、この第１の層間絶縁膜１０３上に形成され、半導体材料を主材料とする接着層１０４と、この接着層１０４上に形成された導通層１０５とを有する。また、ＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００は、導通層１０５上に貼り付けられた（ボンディングされた）シート状の半導体薄膜である複数のエピタキシャルフィルム（以下「ＬＥＤエピフィルム」と言う。）１０６と、ＬＥＤエピフィルム１０６上から集積回路１０２の個別端子領域１０８上に至る領域に形成され、ＬＥＤエピフィルム１０６と集積回路１０２とを電気的に接続する薄膜の個別配線層１０７とを有する。また、個別配線層１０７と導通層１０５との間及び個別配線層１０７と接着層１０４との間等のように絶縁が必要な箇所には、個別配線層１０７をＬＥＤエピフィルム１０６及びＳｉ基板１０１の一部から電気的に絶縁する第２の層間絶縁膜１０９（図４にのみ示す）が備えられている。
【００１２】
ＬＥＤエピフィルム１０６のそれぞれは、１個のＬＥＤ（発光部）として機能するように適宜半導体層を積層した構造を有し、例えば、へテロエピタキシャル層構造とすることができる。図１から図３までに示されるように、複数のＬＥＤエピフィルム１０６は、等ピッチで１列に配列されている。ただし、複数のＬＥＤエピフィルム１０６の配列は等ピッチに限定されない。また、複数のＬＥＤエピフィルム１０６の列数も１列に限定されず、例えば、複数のＬＥＤエピフィルム１０６の配列を、配列方向に直交する方向に規則的にずらしてもよい。また、ＬＥＤエピフィルム１０６の数は図示の個数に限定されない。ＬＥＤエピフィルム１０６の幅は、電極パッドを有する従来のＬＥＤプリントヘッドの基板の幅（通常、４００μｍ程度）よりも非常に小さい幅とすることができる。
【００１３】
ＬＥＤエピフィルム１０６の厚さは、ＬＥＤの安定した特性（例えば、発光特性や電気特性）を確保するために十分な厚さである２μｍ程度とすることができる。このＬＥＤエピフィルム１０６の厚さは、電極パッドを有する従来のＬＥＤプリントヘッドの厚さ（通常、３００μｍ程度）よりも非常に薄い厚さである。また、ＬＥＤエピフィルム１０６の厚さが厚くなると、個別配線層１０７に段切れが発生する確率が高くなる。このような不良の発生を回避するためには、ＬＥＤエピフィルム１０６の厚さを、約１０μｍ以下にすることが望ましい。ただし、ポリイミド等の絶縁体材料を使って、段差領域を平坦化する等の方策を講ずることによって、ＬＥＤエピフィルム１０６の厚さを１０μｍを超える厚さにすることもできる。
【００１４】
Ｓｉ基板１０１は、集積回路１０２が作り込まれたモノリシックＳｉ基板である。Ｓｉ基板１０１の集積回路１０２には、複数のＬＥＤを駆動させるための複数の駆動ＩＣ（駆動ＩＣ群）が含まれる。複数の駆動ＩＣは、例えば、複数のＬＥＤエピフィルム１０６のそれぞれに対向するように、配置されている。ただし、集積回路１０２には、複数の駆動ＩＣの他に、ＬＥＤの点灯制御に共通に使用される回路も含まれる。Ｓｉ基板１０１の厚さは、例えば、約３００μｍである。駆動ＩＣ群は、外部から送られて来た発光制御データに基づいてＬＥＤの点灯・非点灯を制御する。
【００１５】
第１の層間絶縁膜１０３は、例えば、酸化けい素（ＳｉＯ_２）膜及び窒化けい素（Ｓｉ_３Ｎ_４）膜の内の少なくとも一方を含む単層又は多層構造とすることができる。第１の層間絶縁膜１０３は、ＬＥＤエピフィルム１０６を正常に動作させるために、Ｓｉ基板１０１表面とＬＥＤエピフィルム１０６とを電気的に絶縁する機能を担う。第１の層間絶縁膜１０３は、Ｓｉ基板１０１表面の集積回路１０２が形成されている領域に隣接した、集積回路１０２が形成されていない領域上に形成されている。
【００１６】
接着層１０４は、多結晶シリコン層又はアモルファスシリコン層等の半導体層である。接着層１０４は、例えば、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）により形成される。接着層１０４は第１の層間絶縁膜１０３との間に高い親和性を持つので、接着層１０４と第１の層間絶縁膜１０３との間に高い密着強度を持たせることができる。
【００１７】
導通層１０５は、例えば、金やパラジウム等を材料とするメタル層とすることができる。接着層１０４は導通層１０５との間に高い親和性を持つので、接着層１０４と導通層１０５との間に高い密着強度を持たせることができる。導通層１０５の表面にはＬＥＤエピフィルム１０６が貼り付けられている。導通層１０５は、その上に貼り付けられたＬＥＤエピフィルム１０６を固定する機能と、ＬＥＤエピフィルム１０６の下面の共通端子領域（図示せず）とＳｉ基板１０１の共通端子領域（例えば、グランド電位）とを電気的に接続する機能とを持つ。導通層１０５とＬＥＤエピフィルム１０６内の共通端子領域との間には、オーミックコンタクトが形成されることが望ましい。導通層１０５と、Ｓｉ基板１０１の共通端子領域（例えば、グランド電位）との電気的接続は、配線（図示せず）又は第１の層間絶縁膜１０３に設けられた開口部（図示せず）等を通して行うことができる。ここで、ＬＥＤエピフィルム１０６内の共通端子領域とは、導通層１０５と接するエピタキシャル層全面を示しており、本実施形態で具体的に述べれば、図４に示されるｎ型ＧａＡｓ層１１１の共通電位側（ｎ電極側）となる表面全面を意味する。また、Ｓｉ基板１０１の共通端子領域とは、導通層１０５と接するＳｉ基板の表面領域を示しており、本実施形態で具体的に述べれば、ＬＥＤを駆動するための共通電位側（ｎ電極側）となる領域を意味する。なお、導通層１０５の厚さは、例えば、約１００ｎｍ（＝０．１μｍ）である。
【００１８】
ＬＥＤエピフィルム１０６は、図４に示されるように、ｎ型ＧａＡｓ層１１１と、ｎ型Ａｌ_ｘＧａ_１−ｘＡｓ層１１２（０≦ｘ≦１）と、ｐ型Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層１１３（０≦ｙ≦１）と、ｐ型Ａｌ_ｚＧａ_１−ｚＡｓ層１１４（０≦ｚ≦１）と、ｐ型ＧａＡｓ層１１５とを順に積層させた構造を持つ。ｐ型ＧａＡｓ層１１５上には第２の層間絶縁膜１０９が形成されている。また、第２の層間絶縁膜１０９の開口部１０９ａ内において、ｐ型ＧａＡｓ層１１５上には個別配線層１０７が形成されている。なお、ＧａＡｓ層１１１及びＡｌ_ｘＧａ_１−ｘＡｓ層１１２をｐ型とし、Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層１１３、Ａｌ_ｚＧａ_１−ｚＡｓ層１１４、及びＧａＡｓ層１１５をｎ型としてもよい。また、ＧａＡｓ層１１１の厚さは、約１０ｎｍ（＝約０．０１μｍ）であり、Ａｌ_ｘＧａ_１−ｘＡｓ層１１２の厚さは、約０．５μｍであり、Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層１１３の厚さは、約１μｍであり、Ａｌ_ｚＧａ_１−ｚＡｓ層１１４の厚さは、約０．５μｍであり、ＧａＡｓ層１１５の厚さは、約１０ｎｍ（＝約０．０１μｍ）である。この場合には、ＬＥＤエピフィルム１０６の厚さは、約２．０２μｍとなる。ただし、各層の厚さは、上記値に限定されない。また、上記各層のＡｌ組成は、ｘ＞ｙ且つｚ＞ｙ（例えば、ｘ＝ｚ＝０．４、ｙ＝０．１）とすることができる。また、ＬＥＤエピフィルム１０６の材料として、（Ａｌ_ｘＧａ_１−ｘ）_ｙＩｎ_１−ｙＰ（ここで、０≦ｘ≦１且つ０≦ｙ≦１である。）、ＧａＮ、ＡｌＧａＮ、ＩｎＧａＮ等の他の材料を用いてもよい。
【００１９】
個別配線層１０７は、ＬＥＤエピフィルム１０６の発光部上面と、Ｓｉ基板１０１の集積回路１０２の個別端子領域１０８とのそれぞれを電気的に接続する。個別配線層１０７は、例えば、薄膜のメタル配線である。個別配線層１０７は、▲１▼金を含む単層又は積層のメタル層、例えば、金で構成された層（Ａｕ層）、チタンと白金と金の積層層（Ｔｉ／Ｐｔ／Ａｕ積層層）、金と亜鉛の積層層（Ａｕ／Ｚｎ積層層）、金・ゲルマニウム・ニッケルを含む層と金層との積層層（ＡｕＧｅＮｉ／Ａｕ積層層）、▲２▼パラジウムを含む単層又は積層のメタル層、例えば、パラジウムで構成された層（Ｐｄ層）、パラジウムと金の積層層（Ｐｄ／Ａｕ積層層）、▲３▼アルミニウムを含む単層又は積層のメタル層、例えば、アルミニウムで構成された層（Ａｌ層）、アルミニウムとニッケルの積層層（Ａｌ／Ｎｉ積層層）、▲４▼ポリシリコンで構成された層、▲５▼ＩＴＯやＺｎＯ等の導電性酸化物薄膜等とすることができる。また、個別配線層１０７においては、素子とのコンタクト部分の材料と、配線領域の材料とを別の材料で構成してもよい。その場合には、上記メタル材料や導電性酸化物材料を適宜組み合わせて使用することができる。個別配線層１０７は、フォトリソグラフィ技術を用いて一括形成することが望ましい。個別配線層１０７は、薄膜配線であるので、配線が長くなれば配線における電圧降下の影響が大きくなる。個別配線層１０７の幅が５μｍであり、厚さが０．５μｍであり、数ｍＡの駆動電流を流す場合には、個別配線層１０７の長さは、約２００μｍ以下にすることが望ましい。
【００２０】
また、個別配線層１０７とＬＥＤエピフィルム１０６の表面及び側面との間、個別配線層１０７と導通層１０５との間、個別配線層１０７と接着層１０４との間、個別配線層１０７とＳｉ基板１０１の表面との間等のように電気的にショートしてはならない領域には、第２の層間絶縁膜１０９（図４に示す）が設けられ、正常な動作を確保できる構造になっている。第２の層間絶縁膜１０９は、例えば、酸化けい素（ＳｉＯ_２）膜及び窒化けい素（Ｓｉ_３Ｎ_４）膜の内の少なくとも一方を含む単層又は多層構造とすることができる。第２の層間絶縁膜１０９の形成に際しては、先ず、ＬＥＤエピフィルム１０６を含む基板１０１全域にＣＶＤ法等を用いて絶縁膜を形成し、フォトリソグラフィ技術を用いてＬＥＤエピフィルム１０６上及び集積回路１０２の個別端子領域１０８上にスルーホールを形成する。次に、金属層を全面に形成し、フォトリソグラフィ技術により金属層をパターニングすることにより、複数のＬＥＤエピフィルム１０６と集積回路１０２の個別端子領域１０８とを接続する複数の個別配線層１０９を一度に形成することができる。
【００２１】
次に、ＬＥＤエピフィルム１０６の製造プロセスを説明する。図５及び図６は、ＬＥＤエピフィルム１０６の製造プロセスを概略的に示す断面図である。
【００２２】
ＬＥＤエピタキシャル層１０６ａ（剥離される前は「ＬＥＤエピタキシャル層１０６ａ」と記載し、剥離された後は「ＬＥＤエピフィルム１０６」と記載する。）の製造は、有機金属化学蒸着法（ＭＯＣＶＤ法）や分子線エピタキシー法（ＭＢＥ法）等によって行うことができる。ＬＥＤエピタキシャル層１０６ａの製造に際しては、図５に示されるように、ＧａＡｓ基板１２１上に、ＧａＡｓバッファ層１２２、（ＡｌＧａ）ＩｎＰエッチングストップ層１２３、及びＡｌＡｓ剥離層１２４を順に成膜する。次に、ＡｌＡｓ剥離層１２４上に、ＧａＡｓコンタクト層１１１（ｎ型ＧａＡｓ層１１１）、ＡｌＧａＡｓ下クラッド層１１２（ｎ型Ａｌ_ｘＧａ_１−ｘＡｓ層１１２）、ＡｌＧａＡｓ活性層１１３（ｐ型Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層１１３）、及びＡｌＧａＡｓ上クラッド層１１４（ｐ型Ａｌ_ｚＧａ_１−ｚＡｓ層１１４）、ＧａＡｓコンタクト層１１５（ｐ型ＧａＡｓ層１１５）を順に成膜する。ＬＥＤエピタキシャル層１０６ａの剥離は、化学的リフトオフ法を用いて行うことができる。ここで、エッチングストップ層１２３を省くこともできる。
【００２３】
次に、図６に示されるように、１０％ＨＦ（弗化水素）液により、ＡｌＡｓ剥離層１２４を選択的に除去する。ＨＦ液のＡｌＡｓ剥離層１２４に対するエッチング速度は、ＡｌＧａＡｓ層１１２〜１１４、ＧａＡｓ層１１１，１１５，１２１，１２２、及びエッチングストップ層１２３に対するエッチング速度に比べ格段に大きいので、ＡｌＡｓ剥離層１２４を選択的にエッチングすることができる。これにより、ＬＥＤエピフィルム１０６を、ＬＥＤエピフィルム製造用基板１２０から剥がすことが可能になる。このためには、図６に示されるように、各エピタキシャル層１１１〜１１５をエッチングし、溝１２５を形成しておく。溝１２５の形成は、溝形成領域レジスト等によりマスクをしておき、燐酸過水によりエッチングするフォトリソグラフィ工程により行う。燐酸過水は、ＡｌＧａＡｓ層１１２〜１１４、ＧａＡｓ層１１１，１１５，１２１，１２２は、エッチングするが、（ＡｌＧａ）ＩｎＰエッチングストップ層１２３に対するエッチング速度が遅いので、上面から溝１２５をエッチング形成する際に溝が基板１２１まで到達するのを防止することができる。溝１２５を形成した後、ＨＦ液によりエッチングすることにより、ＡｌＡｓ剥離層１２４をエッチングし、ＬＥＤエピフィルム１０６を剥離する。なお、図６には、ＡｌＡｓ剥離層１２４が残されている状態（エッチング途中）が示されているが、ＬＥＤエピフィルム１０６を保持した状態で、ＡｌＡｓ剥離層１２４は完全に除去される。ＡｌＡｓ剥離層１２４をエッチング除去した後、エッチング液が残留しないように純水による水洗処理を施す。ＬＥＤエピフィルム１０６の剥離に際して、ＬＥＤエピフィルムを支持及び保護する支持体をＬＥＤエピフィルム１０６上に設けることができる。例えば、ＬＥＤエピフィルム１０６の上に支持体を設けた場合、ＬＥＤエピフィルム支持体表面を、例えば、真空吸着や光硬化性粘着シート（光照射により粘着性を失う粘着シート）等により吸着し所定の位置に移動することができる。
【００２４】
図７は、第１の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップを実装基板上に実装したＬＥＤユニット１３０を概略的に示す斜視図である。
【００２５】
図７に示されるように、ＬＥＤユニット１３０は、ＣＯＢ（Chip On Board）実装基板１３１と、この実装基板１３１上に備えられた複数のＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００とを有する。複数のＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００は、実装基板１３１上に絶縁ペースト又は導電性ペースト等の接着剤によって等間隔に実装される。複数のＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００は、例えば、ＬＥＤエピフィルム１０６（即ち、ＬＥＤ）の配列がＬＥＤユニット１３０の長手方向の全長にわたって、等ピッチで１列に配列されるように、実装基板１３１上に配置される。
【００２６】
実装基板１３１には、ＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００のＬＥＤを点灯制御するために必要な電力や制御信号（点灯データ）をＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００の集積回路１０２（駆動ＩＣ群）に提供するための配線パターン（図示せず）及び電極パッド（図示せず）が備えられている。また、ＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００のＳｉ基板１０１には、実装基板１３１から電力や制御信号を受け取るための電極パッド（図示せず）が備えられている。ＬＥＤユニット１３０には、実装基板１３１の電極パッドとＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００のＳｉ基板１０１上の電極パッドとを電気的に接続するボンディングワイヤを備えることができる。
【００２７】
以上説明したように、第１の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００によれば、ＬＥＤエピフィルム１０６上にワイヤボンディング用の電極パッドを備える必要がないので、装置の小型化及び材料コストの低減を図ることができる。
【００２８】
また、第１の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００によれば、Ｓｉ基板１０１上に貼り付けられたＬＥＤエピフィルム１０６とＳｉ基板１０１に形成された集積回路１０２とをフォトリソグラフィ技術により形成された薄膜の個別配線層１０７により電気的に接続しているので、ＬＥＤエピフィルム１０６の厚さをワイヤボンドに対する強度を考慮して厚くする必要がない。このように、ＬＥＤエピフィルム１０６の厚さを薄くできるので、材料コストの低減を図ることができる。
【００２９】
また、第１の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００によれば、第１の層間絶縁膜１０３と導通層１０５との間に、第１の層間絶縁膜１０３を構成する絶縁体材料及び導通層１０６を構成する材料（例えば、金属材料）のいずれとも親和性がある多結晶シリコン等から構成される接着層１０４を介在させている。このため、第１の層間絶縁膜１０３と導通層１０５との間の強力な密着性、その結果、第１の層間絶縁膜１０３とＬＥＤエピフィルム１０６との強力な密着性を得ることができ、装置の信頼性を確保することができる。
【００３０】
＜第２の実施形態＞
図８は、本発明の第２の実施形態に係る半導体装置であるＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ２００の一部を概略的に示す平面図である。また、図９は、図８をＳ_９−Ｓ_９線で切る面を概略的に示す断面図である。
【００３１】
図８において、図２（第１の実施形態）の構成と同一又は対応する構成には、同じ符号を付す。図８に示されたＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ２００は、導通層１０５上に複数個のＬＥＤ（発光部）２０６ａを含む長尺なＬＥＤエピフィルム２０６を貼り付けた点が、導通層１０５上に１個のＬＥＤを含む複数のＬＥＤエピフィルム１０６を配列した第１の実施形態のＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００と相違する。
【００３２】
次に、第２の実施形態のＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ２００の断面構造を説明する。図９に示されるように、ＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ２００は、Ｓｉ基板１０１と、第１の層間絶縁膜１０３と、多結晶シリコン層又はアモルファスシリコン層等で構成される接着層１０４と、導通層１０５と、ＬＥＤエピフィルム２０６と、第２の層間絶縁膜２０９と、個別配線層２０７とを順に積層させた構造を持つ。図９に示されるように、ＬＥＤエピフィルム２０６は、ｎ型ＧａＡｓ層２１１と、ｎ型Ａｌ_ｘＧａ_１−ｘＡｓ層２１２（０≦ｘ≦１）と、ｎ型Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層２１３（０≦ｙ≦１）と、ｎ型Ａｌ_ｚＧａ_１−ｚＡｓ層２１４（０≦ｚ≦１）と、ＧａＡｓ層２１５とを順に積層させた構造を持つ。また、ＧａＡｓ層２１５の下方のｎ型Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層２１３及びｎ型Ａｌ_ｚＧａ_１−ｚＡｓ層２１４にはＺｎ拡散領域２１６が形成されている。ＧａＡｓ層２１５とＺｎ拡散領域２１６はｐ型領域となっている。
【００３３】
ｎ型ＧａＡｓ層２１１の厚さは、約１０ｎｍ（＝約０．０１μｍ）であり、ｎ型Ａｌ_ｘＧａ_１−ｘＡｓ層２１２の厚さは、約０．５μｍであり、ｎ型Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層２１３の厚さは、約１μｍであり、ｎ型Ａｌ_ｚＧａ_１−ｚＡｓ層２１４の厚さは、約０．５μｍであり、ｎ型ＧａＡｓ層２１５の厚さは、約１０ｎｍ（＝約０．０１μｍ）である。この場合には、ＬＥＤエピフィルム２０６の厚さは、約２．０２μｍとなる。ただし、各層の厚さは、上記値に限定されない。また、ＬＥＤエピフィルム１０４の材料として、（Ａｌ_ｘＧａ_１−ｘ）_ｙＩｎ_１−ｙＰ（ここで、０≦ｘ≦１且つ０≦ｙ≦１である。）、ＧａＮ、ＡｌＧａＮ、ＩｎＧａＮ等の他の材料を用いてもよい。
【００３４】
また、上記各層のＡｌ組成は、ｘ＞ｙ且つｚ＞ｙ（例えば、ｘ＝ｚ＝０．４、ｙ＝０．１）とすることができる。Ｚｎ拡散領域２１６の拡散フロントは、ｎ型Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層２１３の内部に位置するように構成することができる。このように構成することにより、ｐｎ接合を介して注入された少数キャリアは、ｎ型Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層２１３内、及び、Ｚｎ拡散によってＡｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層２１３内に形成されたｐ型Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ内に閉じ込められ、高い発光効率が得られる。即ち、図９に示されるような構造を採用することによって、ＬＥＤエピフィルム２０６の厚さを約２μｍと薄くすることができ、発光効率を高くすることができる。なお、上記説明においては、エピタキシャル層としてダブルへテロ型に複数のエピタキシャル層を積層し、そこにＺｎ拡散層による逆導電型不純物拡散領域を形成してホモ接合型としたＬＥＤの製造方法を説明したが、シングルへテロ積層型或いは単層のエピタキシャル層からなるエピタキシャル層に拡散領域を形成したホモ接合型ＬＥＤとすることもできる。
【００３５】
図１０は、第２の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップを実装基板上に実装したＬＥＤユニット２３０を概略的に示す斜視図である。
【００３６】
図１０に示されるように、ＬＥＤユニット２３０は、実装基板２３１と、この実装基板２３１上に備えられた複数のＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ２００とを有する。複数のＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ２００は、実装基板２３１上に絶縁ペースト又は導電性ペースト等の接着剤によって等間隔に実装される。複数のＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ２００は、例えば、ＬＥＤエピフィルム２０６のＬＥＤの配列がＬＥＤユニット２３０の長手方向の全長にわたって、等ピッチで１列に配列されるように、実装基板２３１上に配置される。
【００３７】
以上説明したように、第２の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ２００によっても、第１の実施形態と同様に、装置の小型化及び材料コストの低減を図ることができる。また、第１の層間絶縁膜１０３とＬＥＤエピフィルム２０６との強力な密着性を得ることができ、装置の信頼性を確保することができる。
【００３８】
なお、第２の実施形態において、上記以外の点は、上記第１の実施形態の場合と同じである。
【００３９】
＜第３の実施形態＞
図１１は、本発明の第３の実施形態に係る半導体装置であるＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ３００の一部を概略的に示す平面図である。
【００４０】
第３の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ３００は、層間絶縁膜３０４が基板３０１のほぼ全面上に設けられた点、層間絶縁膜３０４上に各ＬＥＤに対応する電極パッド３０８を設けた点、各ＬＥＤ３０６ａと各電極パッド３０８とを電気的に接続する薄膜の個別配線層３０７を備えた点が、上記第１又は第２の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップと相違する。また、図１１に示されるように、第３の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ３００は、層間絶縁膜３０３上に形成された接着層３０４と、この接着層３０５上に形成された導通層３０５と、複数のＬＥＤ３０６ａを含み、導通層３０５上に貼り付けられた（ボンディングされた）シート状の半導体薄膜である複数のＬＥＤエピフィルム３０６とを有する。電極パッド３０８は、駆動ＩＣ等との電気的な接続、例えば、フリップチップボンディングやワイヤボンディング等を行うためのパッドである。さらに、個別配線層３０７と導通層３０５との間及び個別配線層３０７と接着層３０４との間等のように絶縁が必要な箇所には他の層間絶縁膜（図示せず）が備えられている。
【００４１】
なお、第３の実施形態において、上記以外の点は、第１又は第２の実施形態の場合と同じである。
【００４２】
＜第４の実施形態＞
図１２は、本発明の第４の実施形態に係る半導体装置であるＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ４００の一部を概略的に示す断面図である。
【００４３】
第４の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ４００は、ＬＥＤエピフィルム４０６がＳｉ基板４０１の集積回路４０２上に備えられている点が、ＬＥＤエピフィルム１０６がＳｉ基板１０１の集積回路１０２形成領域に隣接する領域上に備えられている第１の実施形態と相違する。図１２に示されるように、第４の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ４００は、集積回路４０２を含むＳｉ基板４０１と、このＳｉ基板４０１上のほぼ全域に形成された第１の層間絶縁膜４０３とを有する。ここで、第１の層間絶縁膜４０３の表面は平坦化処理（例えば、ＣＭＰ法による）されている。また、ＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ４００は、第１の層間絶縁膜４０３上に形成された接着層４０４と、この接着層４０４上に形成された導通層４０５と、この導通層４０５上に貼り付けられた（ボンディングされた）シート状の半導体薄膜であるＬＥＤエピフィルム４０６とを有する。ＬＥＤエピフィルム４０６は、複数のＬＥＤを有する長尺シート状のもの（第２の実施形態と同様の形態のもの）、及び１個のＬＥＤを有するもの（第１の実施形態と同様の形態のもの）のいずれでもよい。さらに、ＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ４００は、上記第１及び第２の実施形態と同様に、第２の層間絶縁膜（図１２には示さず）及び個別配線層（図１２には示さず）を有する。
【００４４】
なお、第４の実施形態において、上記以外の点は、第１から３までの実施形態の場合と同じである。
【００４５】
＜第５の実施形態＞
図１３は、本発明の第５の実施形態に係る半導体装置であるＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ５００の一部を概略的に示す斜視図である。図１３において、図３の構成と同一又は対応する構成には、同じ符号を付す。
【００４６】
第５の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ５００は、接着層１０４とＬＥＤエピフィルム１０６との間に、導通層１０５（図３に示される）を備えていない点が、導通層１０５を備えている第１の実施形態のＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ１００と相違する。第５の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ５００によれば、第１の層間絶縁膜１０３とＬＥＤエピフィルム１０６との間に、第１の層間絶縁膜１０３を構成する絶縁体材料及びＬＥＤエピフィルム１０６を構成する材料（例えば、化合物半導体）のいずれとも親和性がある多結晶シリコン等から構成される接着層１０４を介在させたので、第１の層間絶縁膜１０３とＬＥＤエピフィルム１０６との強力な密着性を得ることができ、装置の信頼性を確保することができる。
【００４７】
なお、第５の実施形態において、上記以外の点は、第１から４までの実施形態の場合と同じである。
【００４８】
＜第６の実施形態＞
図１４は、本発明の第６の実施形態に係る半導体装置であるＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ６００の一部を概略的に示す斜視図である。図１５は、第６の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ６００の一部を概略的に示す平面図であり、図１６は、図１５のＡ_１６部を拡大して示す斜視図である。
【００４９】
図１４から図１６までに示されるように、第６の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ６００は、絶縁体基板６０１と、この絶縁体基板６０１上に形成され、半導体材料を主材料とする複数の接着層６０４と、複数のＬＥＤ６０６ａを含み、接着層６０４上に貼り付けられた（ボンディングされた）シート状の半導体薄膜であるＬＥＤエピフィルム６０６とを有する。また、ＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ６００は、絶縁体基板６０１上に形成された駆動集積回路６０２と、ＬＥＤ６０６ａ上から絶縁体基板６０１上を経由して駆動ＩＣ群を含む集積回路６０２上の個別端子領域６０８上に至る薄膜の個別配線層６０７（図１６に示す）とを有する。個別配線層６０７の下には、必要に応じて第２の層間絶縁膜（図示せず）が備えられている。
【００５０】
絶縁体基板６０１は、例えば、ガラス基板である。ただし、絶縁体基板６０１の材料として、樹脂やセラミック等の他の絶縁体を用いてもよい。接着層６０４は、第１の実施形態における接着層１０４と同じである。ＬＥＤエピフィルム６０６のそれぞれは、第２の実施形態で説明したＬＥＤエピフィルムと同様の構造を持つ。また、ＬＥＤエピフィルム６０６を第１の実施形態で説明されたものと同様に、１個のＬＥＤを含むＬＥＤエピフィルムとしてもよい。個別配線層６０７の材質及び形成方法は、第１の実施形態で説明したものと同じである。
【００５１】
図１７は、第６の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ６００の製造プロセスを示す平面図である。図１７に示されるように、ＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ６００の製造に際しては、分割前のガラス基板６０１ａ上に接着層６０４になる多結晶シリコン層及び集積回路６０２になる多結晶シリコン層を一括形成する。多結晶シリコン層の形成に際しては、例えば、ガラス基板６０１ａ上の所定領域に、フォトリソグラフィ技術等を用いて、数百ｎｍ厚のＳｉＯ_２層を形成し、その上に、比較的低い加熱温度の下、ＣＶＤ法等を用いて、アモルファス状態のシリコン薄膜を形成する。次に、エキシマ・パルスレーザを照射するなどして、アモルファスシリコンの再結晶化を図り、多結晶シリコン層を得る。多結晶シリコンを主材料とする薄膜トランジスタを使った集積回路６０２、即ち、ポリシリコンＴＦＴ駆動回路の製造に際しては、多結晶シリコン層にトランジスタなどの回路要素を含む集積回路パターンを形成する。その後、ガラス基板６０１ａを、分割予定ライン６１０で切断し、分割されたガラス基板６０１を得る。その後、接着層６０４上へのＬＥＤエピフィルムのボンディング、第２の層間絶縁膜の形成、個別配線層の形成等を行う。ここで、ガラス基板６０１ａを分割された基板６０１に分割する前に、ＬＥＤエピフィルムをボンディングすることもできる。
【００５２】
以上説明したように、第６の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ６００によれば、接着層６０４と集積回路６０２とを一括の工程で製造できるので、接着層６０４と集積回路６０２と位置関係を正確に位置決めすることができる。
【００５３】
また、ガラス基板６０１ａ上に、接着層６０４と集積回路６０２とを一括形成できるので、製造コストの大幅な削減が可能になる。
【００５４】
なお、第６の実施形態において、上記以外の点は、上記第１から第５までの実施形態の場合と同じである。
【００５５】
＜第７の実施形態＞
図１８は、本発明の第７の実施形態に係る半導体装置であるＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ７００の一部を概略的に示す平面図である。また、図１９は、第７の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ７００の製造プロセスを示す平面図である。
【００５６】
図１８に示されるように、第７の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ７００は、絶縁体基板７０１と、この絶縁体基板７０１上に形成された、半導体材料を主材料とする接着層７０４と、接着層７０４上に形成された導通層７０５と、複数のＬＥＤ７０６ａを含み、導通層７０５上に貼り付けられた（ボンディングされた）シート状の半導体薄膜であるＬＥＤエピフィルム７０６とを有する。また、ＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ７００は、絶縁体基板７０１上に形成された駆動集積回路７０２と、ＬＥＤ７０６ａ上から絶縁体基板７０１上を経由して駆動ＩＣ群を含む集積回路７０２上の個別端子領域に至る薄膜の個別配線層（図示せず）とを有する。個別配線層の下には、必要に応じて層間絶縁膜（図示せず）が備えられている。
【００５７】
絶縁体基板７０１、接着層７０４、導通層７０５、ＬＥＤエピフィルム７０６、集積回路７０２、個別配線層、層間絶縁膜の材質及び製造方法は、上記第１から第６までの実施形態の場合と同じである。
【００５８】
以上説明したように、第７の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ７００によれば、接着層と集積回路とを一括の工程で製造できるので、接着層と集積回路と位置関係を正確に位置決めすることができる。
【００５９】
また、絶縁体基板上に、複数の導通層を一括の構成で形成でき、接着層と集積回路とを一括形成できるので、製造コストの大幅な削減が可能になる。
【００６０】
＜第８の実施形態＞
図２０は、本発明の第８の実施形態に係る半導体装置であるＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ８００の一部を概略的に示す平面図である。
【００６１】
図２０に示されるように、第８の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ８００は、絶縁体基板８０１と、この絶縁体基板８０１上に形成された、半導体材料を主材料とする複数の接着層８０４と、複数の接着層８０４のそれぞれの上に形成された導通層８０５と、複数のＬＥＤ８０６ａを含み、導通層８０５上に貼り付けられた（ボンディングされた）シート状の半導体薄膜であるＬＥＤエピフィルム８０６とを有する。また、ＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ８００は、絶縁体基板８０１上に形成された駆動集積回路８０２と、ＬＥＤ８０６ａ上から絶縁体基板８０１上を経由して駆動ＩＣ群を含む集積回路８０２上の個別端子領域に至る薄膜の個別配線層（図示せず）とを有する。個別配線層の下には、必要に応じて層間絶縁膜（図示せず）が備えられている。
【００６２】
絶縁体基板８０１、接着層８０４、導通層８０５、ＬＥＤエピフィルム８０６、集積回路８０２、個別配線層、層間絶縁膜の材質及び製造方法は、上記第１から第７までの実施形態の場合と同じである。
【００６３】
以上説明したように、第８の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ８００によれば、接着層と集積回路とを一括の工程で製造できるので、接着層と集積回路と位置関係を正確に位置決めすることができる。
【００６４】
また、ガラス基板上に、複数の導通層を一括の構成で形成でき、接着層と集積回路とを一括形成できるので、製造コストの大幅な削減が可能になる。
【００６５】
＜本発明が適用されたＬＥＤプリントヘッド＞
図２１は、本発明に係る半導体装置を組み込んだＬＥＤプリントヘッド９２０を概略的に示す断面図である。図２１に示されるように、ＬＥＤプリントヘッド９２０は、ベース部材９２１と、ベース部材９２１に固定されたＬＥＤユニット９２２と、柱状の光学素子を多数配列したロッドレンズアレイ９２３と、ロッドレンズアレイ９２３を保持するホルダ９２４と、これらの構成９２１〜９２４を固定するクランプ９２５とを有する。ＬＥＤユニット９２２には、上記実施形態の半導体装置であるＬＥＤ／駆動ＩＣチップで発生した光はロッドレンズアレイ９２３を通して照射される。ＬＥＤプリントヘッド９２０は、電子写真プリンタや電子写真コピー装置等の露光装置として用いられる。
【００６６】
＜可能な変形例＞
なお、上記実施形態においては、接着層上に導通層を備えた場合を説明したが、導通層は、ポリシリコンや、ＩＴＯ、ＺｎＯ等の導電性酸化物等の金属以外の材料で構成してもよい。
【００６７】
また、上記実施形態においては、Ｓｉ基板上にＬＥＤエピフィルムを貼り付けた場合を説明したが、基板材料には、アモルファスシリコン、単結晶シリコン、ポリシリコンの他、化合物半導体、有機半導体、及び絶縁体材料（ガラスやサファイヤ等）のような他の材料を用いることもできる。
【００６８】
また、上記実施形態においては、半導体薄膜に備えられた半導体素子が、ＬＥＤである場合を説明したが、半導体素子は、レーザー等の他の発光素子、受光素子、ホール素子、及びピエゾ素子等のような他の素子であってもよい。
【００６９】
また、上記実施形態においては、ＬＥＤエピフィルムがエピタキシャル層から構成された場合を説明したが、ＬＥＤエピフィルムに代えてエピタキシャル層ではない半導体薄膜を採用してもよい。
【００７０】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、基板の端子領域を有する面上に半導体薄膜を貼り付け、これらを薄膜の個別配線層で電気的に接続する構造を採用したので、半導体装置の小型化及び材料コストの低減を図ることができるという効果がある。
【００７１】
また、本発明によれば、第１の層間絶縁膜と導通層との間又は第１の層間絶縁膜と半導体薄膜との間に接着層を介在させたので、第１の層間絶縁膜と導通層との間又は第１の層間絶縁膜と半導体薄膜との間の強力な密着性を得ることができ、その結果、装置の信頼性を確保することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップを概略的に示す平面図である。
【図２】図１のＡ_２部を拡大して示す平面図である。
【図３】図２のＡ_３部を概略的に示す斜視図である。
【図４】図２をＳ_４−Ｓ_４線で切る面を概略的に示す断面図である。
【図５】第１の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップのＬＥＤエピフィルムの製造プロセス（その１）を概略的に示す断面図である。
【図６】第１の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップのＬＥＤエピフィルムの製造プロセス（その２）を概略的に示す断面図である。
【図７】第１の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップを実装基板上に実装したＬＥＤユニットを概略的に示す斜視図である。
【図８】本発明の第２の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップの一部を概略的に示す平面図である。
【図９】図８をＳ_９−Ｓ_９線で切る面を概略的に示す断面図である。
【図１０】第２の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップを実装基板上に実装したＬＥＤユニットを概略的に示す斜視図である。
【図１１】本発明の第３の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップの一部を概略的に示す平面図である。
【図１２】本発明の第４の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップを概略的に示す断面図である。
【図１３】本発明の第５の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップの一部を概略的に示す斜視図である。
【図１４】本発明の第６の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップを概略的に示す斜視図である。
【図１５】第６の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップの一部を概略的に示す平面図である。
【図１６】第６の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップの一部を概略的に示す斜視図である。
【図１７】第６の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップの製造プロセスを概略的に示す平面図である。
【図１８】本発明の第７の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップの一部を概略的に示す平面図である。
【図１９】第７の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップの製造プロセスを概略的に示す平面図である。
【図２０】本発明の第８の実施形態に係るＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップの一部を概略的に示す平面図である。
【図２１】本発明に係る半導体装置を組み込んだＬＥＤプリントヘッドを概略的に示す断面図である。
【図２２】従来のＬＥＤプリントヘッドの一部を概略的に示す斜視図である。
【図２３】図２２のＬＥＤプリントヘッドに備えられたＬＥＤアレイチップの一部を示す平面図である。
【符号の説明】
１００，２００，３００，４００，５００，６００，７００，８００ ＬＥＤ／駆動ＩＣ複合チップ、
１０１，３０１，４０１，６０１，７０１ Ｓｉ基板、
１０２，４０２，６０２ 集積回路、
１０３，３０３，４０３ 第１の層間絶縁膜、
１０４，３０４，４０４，６０４，７０４，８０４ 接着層、
１０５，３０５，４０５，７０５，８０５ 導通層、
１０６，２０６，３０６，４０６，６０６，７０６，８０６ エピタキシャルフィルム（ＬＥＤエピフィルム）、
１０６ａ 半導体エピタキシャル層、
１０７，２０７，３０７，６０７ 個別配線層、
１０８ 集積回路の個別端子領域、
１０９，２０９ 第２の層間絶縁膜、
１０９ａ 第２の層間絶縁膜の開口部、
１１１ ＧａＡｓコンタクト層（ｎ型ＧａＡｓ層）、
１１２ ＡｌＧａＡｓ下クラッド層（ｎ型Ａｌ_ｘＧａ_１−ｘＡｓ層）、
１１３ ＡｌＧａＡｓ活性層（ｐ型Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層）、
１１４ ＡｌＧａＡｓ上クラッド層（ｐ型Ａｌ_ｚＧａ_１−ｚＡｓ層）、
１１５ ＧａＡｓコンタクト層（ｐ型ＧａＡｓ層）、
１２０ ＬＥＤエピフィルム形成用基板、
１２１ ＧａＡｓ基板、
１２２ ＧａＡｓバッファ層、
１２３ （ＡｌＧａ）ＩｎＰエッチングストップ層、
１２４ ＡｌＡｓ剥離層、
１２５ 溝、
１３０，２３０ ＬＥＤユニット、
１３１，２３１ 実装基板、
２０６ａ，３０６ａ ＬＥＤ、
２１１ ｎ型ＧａＡｓ層、
２１２ ｎ型Ａｌ_ｘＧａ_１−ｘＡｓ層、
２１３ ｎ型Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＡｓ層、
２１４ ｎ型Ａｌ_ｚＧａ_１−ｚＡｓ層、
２１５ ｎ型ＧａＡｓ層、
２１６ Ｚｎ拡散領域、
３０８ 電極パッド、
６０１ａ 絶縁体基板、
６１０ 分割予定ライン、
７０１ａ 分割前のガラス基板、
９２０ ＬＥＤプリントヘッド、
９２２ ＬＥＤユニット、
９２３ ロッドレンズアレイ。

Claims (19)

1. 基板と、
   前記基板上に備えられ、半導体を主材料とする接着層と、
   半導体素子を含み、前記接着層上にボンディングされた半導体薄膜と
   を有することを特徴とする半導体装置。
2. 前記基板が、集積回路を含む半導体基板であることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
3. 前記基板と前記接着層との間に、第１の層間絶縁膜を介在させたことを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の半導体装置。
4. 前記第１の層間絶縁膜が、酸化けい素膜及び窒化けい素膜の内の少なくとも一方を含む単層又は多層構造であることを特徴とする請求項３に記載の半導体装置。
5. 前記半導体薄膜が、前記集積回路が形成された領域に隣接する領域上に備えられたことを特徴とする請求項１から４までのいずれかに記載の半導体装置。
6. 前記半導体薄膜が、前記集積回路が形成された領域上に備えられたことを特徴とする請求項３又は４のいずれかに記載の半導体装置。
7. 前記基板が、絶縁体基板であることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
8. 前記絶縁体基板が、ガラス、樹脂、セラミックの内のいずれかの材料で構成されたことを特徴とする請求項７に記載の半導体装置。
9. 前記絶縁体基板上に、集積回路が備えられたことを特徴とする請求項７又は８のいずれかに記載の半導体装置。
10. 前記接着層と前記半導体薄膜との間に導電性材料で構成された導通層を介在させたことを特徴とする請求項１から９までのいずれかに記載の半導体装置。
11. 前記接着層が、多結晶シリコン層又はアモルファスシリコンのいずれかであることを特徴とする請求項１から１０までのいずれかに記載の半導体装置。
12. 前記半導体薄膜上から前記集積回路上に至る領域に形成され、前記半導体素子と前記集積回路とを電気的に接続する薄膜の個別配線層を有することを特徴とする請求項２から１１までのいずれかに記載の半導体装置。
13. 前記個別配線層を前記半導体薄膜及び前記基板の一部から電気的に絶縁する第２の層間絶縁膜を有することを特徴とする請求項１２に記載の半導体装置。
14. 前記第２の層間絶縁膜が、酸化けい素膜及び窒化けい素膜の内の少なくとも一方を含む単層又は多層構造であることを特徴とする請求項１３に記載の半導体装置。
15. 前記第１の層間絶縁膜上に、前記個別配線層に接続された電極パッドを備えたことを特徴とする請求項１２から１４までのいずれかに記載の半導体装置。
16. 前記半導体薄膜が、化合物半導体薄膜であることを特徴とする請求項１から１５までのいずれかに記載の半導体装置。
17. 前記半導体素子が、発光素子、受光素子、ホール素子、及びピエゾ素子の内のいずれかの素子であることを特徴とする請求項１から１６までのいずれかに記載の半導体装置。
18. 前記半導体薄膜に、前記半導体素子が等ピッチで複数個配列されていることを特徴とする請求項１から１７までのいずれかに記載の半導体装置。
19. 前記半導体薄膜に、前記半導体素子が１個備えられていることを特徴とする請求項１から１７までのいずれかに記載の半導体装置。

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