JP2015126189A - 半導体装置、半導体装置の製造方法、光プリントヘッド及び画像形成装置 - Google Patents
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図2は、本発明の実施例1における画像形成装置を示す構成図である。
先ず、用紙カセット21に堆積した状態で収納されている用紙20が、ホッピングローラ22によって、上から1枚ずつ分離されて搬送される。続いて、この用紙20は、搬送ローラ25、レジストローラ26及びピンチローラ23,24に挟持されて、プロセスユニット10−1の感光体ドラム11と転写器27の間に搬送される。その後、用紙20は、感光体ドラム11及び転写器27に挟持され、その記録面にトナー像が転写されると同時に感光体ドラム11の回転によって搬送される。同様にして、用紙20は、順次プロセスユニット10−2〜10−4を通過し、その通過過程で、各光プリントヘッド13により形成された静電潜像を各現像器14によって現像した各色のトナー像が、その記録面に順次転写されて重ね合わされる。
図3は、図2の画像形成装置1におけるプリンタ制御回路の構成を示すブロック図である。
印刷制御部40は、画像処理部34からの制御信号SG1によって印刷指示を受信すると、先ず、温度センサ49によって定着器28内のヒータ28aが使用可能な温度範囲にあるか否かを検出し、温度範囲になければヒータ28aに通電し、使用可能な温度まで定着器28を加熱する。次に、ドライバ41を介して現像・転写プロセス用モータ42を回転させ、同時にチャージ信号SGCによって帯電用高圧電源50をオン状態にし、現像器14の帯電を行う。
図4は、図3中の光プリントヘッド13の構造を示す概略の断面図である。
図5は、図4中の光プリントヘッド基板ユニットを示す斜視図である。
図6(a)、(b)は、図5の光プリントヘッド13の構成を示す回路図であり、同図(a)は全体の回路図、及び、同図(b)は同図(a)中のドライバIC100の回路図である。
本発明の実施例1における図6のドライバIC100及び発光サイリスタアレイ200により構成される半導体装置からなる複合チップは、例えば、以下の(1)〜(5)の工程により製造される。
図7−1及び図7−2は、図6中のメサ型発光サイリスタ210の製造方法を示す模式的な断面図である。
図7−3は、半導体装置の製造方法を示す模式的な断面図である。
エピフィルム230−1は、n型A1GaAs層232と、n型GaAsコンタクト層233と、InGaPエッチングストップ層234と、p型A1GaAs層235と、n型A1GaAs層236と、InGaPエッチングストップ層237と、p型A1GaAs層238と、p型GaAsコンタクト層239と、を順に積層させた構造を持つ。
図7−4(a)、(b)は、複合チップの模式的な平面を示す図であって、後述する配線工程の前の状態が模式的に示されている。このうち、図7−4(a)は、複合チップの平面図、及び、図7−4(b)は、図7−4(a)中のNチャネルMOSトランジスタ(以下「NMOS」という。)及びPチャネルMOSトランジスタ(以下「PMOS」という。)の平面図である。
図1は、本発明の実施例1における図7−4の半導体装置の配線構造を示す模式的な断面図であり、図7−3及び図7−4中の要素と共通の要素には共通の符号が付されている。
図8(a)〜(c)は、図7−3及び図1におけるメサ型複合チップの概略の製造工程を示す図であり、同図(a)は処理工程図、同図(b)は概略の断面図、及び同図(c)は概略の平面図である。
先ず、ステップS1において、接着用基板241の上層に接着層242を形成し、接着基板240を作成する。ステップS2において、発光サイリスタ210を構成するエピフィルム230−1,・・・を接着層242上に接着する。ステップS3のアノード・ゲートエッチング工程において、エピフィルム230−1,・・・のアノード252とゲート253を形成する。
図9は、図6の光プリントヘッド13の動作を説明するためのタイムチャートである。
本実施例1の半導体装置、半導体装置の製造方法、光プリントヘッド13及び画像形成装置1によれば、発光サイリスタアレイ200とこれを駆動するドライバIC100との間の配線工程において、ドライバIC100自体を構成するための複数のFF110−1〜110−8内の回路配線をも同時に形成することが可能となる。これにより、製造工程を簡略化できるので、製造コストの大幅な削減が可能となる。
図10は、本発明の実施例2における光プリントヘッド13の構成を示す回路図であり、実施例1を示す図6(a)中の要素と共通の要素には共通の符号が付されている。
図11は、図10の光プリントヘッド13の動作を説明するためのタイムチャートであり、実施例1の図9に対応している。
本実施例2によれば、実施例1と略同様の効果があり、更に、次の(a)〜(c)のような効果もある。
実施例1では、Si(111)を異方性エッチングしてチップ薄膜化(例えば、10μm以下)して接着を行っている。発光サイリスタ210は、AlAs等の剥離層をエッチングして薄膜している。
本実施例3の半導体装置及びこの製造方法によれば、実施例1と略同様に、発光サイリスタアレイ200とこれを駆動するドライバIC100との間の配線工程において、ドライバIC100自体を構成するための複数のFF110−1〜110−8の回路構成素子間の回路配線をも同時に形成することが可能となる。これにより、製造工程を簡略化できるので、製造コストの大幅な削減が可能となる。更に、一般的なバックグラインドやバックラップが用いられるので、技術的障壁が低くなる。
本発明は、上記実施例1〜3に限定されず、種々の利用形態や変形が可能である。この利用形態や変形例としては、例えば、次のようなものがある。
13 光プリントヘッド
100 ドライバIC
110−1〜110−8 FF
200 発光サイリスタアレイ
210,210−1〜210−8 発光サイリスタ
230−1 エピフィルム
240 接着基板
261 アノード配線
262 ゲート配線
263 配線
Claims (15)
- 基板上に形成され、複数の回路構成素子が形成された駆動回路と、
前記基板上に形成され、前記駆動回路により駆動される複数の被駆動素子が配列された半導体と、を備え、
前記複数の回路構成素子間と、前記駆動回路及び前記半導体間と、が配線によって電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記駆動回路は、Si(111)基板上部、低温ポリシリコン基板、高温ポリシリコン基板、アモルファスシリコン基板、微結晶シリコン基板、又は、印刷により作成された基板、のいずれか1つにより薄膜化された駆動回路薄膜により形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 前記半導体は、薄膜化された半導体薄膜により形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体装置。
- 前記配線は、メタル配線であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記被駆動素子は、スイッチ素子であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記スイッチ素子は、電気信号により光を出射する発光素子であることを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
- 前記発光素子は、PNPN構造又はPNPNPN構造を有する発光サイリスタであることを特徴とする請求項6記載の半導体装置。
- 前記駆動回路は、前記複数の被駆動素子を時分割駆動するシフトレジスタであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記複数の回路構成素子は、前記シフトレジスタを構成するためのトランジスタの集合であることを特徴とする請求項8記載の半導体装置。
- 複数の回路構成素子が形成された駆動回路と、前記駆動回路により駆動される複数の被駆動素子が配列された半導体と、を同一の基板上に接着する工程と、
フォトリソグラフィ法又は印刷法により、前記複数の回路構成素子間を電気的に接続して前記駆動回路を形成すると共に、前記駆動回路及び前記半導体間を電気的に接続する配線を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記駆動回路は、Si(111)基板上部、低温ポリシリコン基板、高温ポリシリコン基板、アモルファスシリコン基板、微結晶シリコン基板、又は、印刷により作成された基板、のいずれか1つにより薄膜化された駆動回路薄膜により形成されていることを特徴とする請求項10記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体は、薄膜化された半導体薄膜により形成されていることを特徴とする請求項10又は11記載の半導体装置の製造方法。
- 前記配線は、メタル配線であることを特徴とする請求項10〜12のいずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
- 請求項6〜9のいずれか1項記載の半導体装置と、
前記複数の発光素子の出射光を収束するレンズアレイと、
を備えることを特徴とする光プリントヘッド。 - 請求項14記載の光プリントヘッドを備え、
前記光プリントヘッドにより感光体を露光して静電潜像を形成し、前記静電潜像を現像して記録媒体に画像を形成することを特徴とする画像形成装置。
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