JP2004200218A

JP2004200218A - 支持装置及びステージ装置並びに露光装置

Info

Publication number: JP2004200218A
Application number: JP2002363612A
Authority: JP
Inventors: Koji Yamamoto; 幸治山本
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2002-12-16
Filing date: 2002-12-16
Publication date: 2004-07-15

Abstract

【課題】定盤に歪を生じさせることなく推力を付与し、また省スペース化に寄与する。
【解決手段】気体により物体６を第１方向に駆動する気体室３０と、電磁力により物体６を第１方向に駆動する駆動装置３１とを有する。気体室３０は、物体６を支持して第１方向に移動自在な第１移動部６３と、駆動装置３１により第１移動部６３と対向状態で一体的に移動する第２移動部６５とを有する。
【選択図】図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、気体室で物体を支持するとともに、駆動装置で物体を駆動する支持装置、及びこの支持装置を有するステージ装置並びに半導体集積回路や液晶ディスプレイ等の製造に用いられる露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、半導体デバイスの製造工程の１つであるリソグラフィ工程においては、マスク又はレチクル（以下、レチクルと称する）に形成された回路パターンをレジスト（感光剤）が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板上に転写する種々の露光装置が用いられている。例えば、半導体デバイス用の露光装置としては、近年における集積回路の高集積化に伴うパターンの最小線幅（デバイスルール）の微細化に応じて、レチクルのパターンを投影光学系を用いてウエハ上に縮小転写する縮小投影露光装置が主として用いられている。
【０００３】
この縮小投影露光装置としては、レチクルのパターンをウエハ上の複数のショット領域（露光領域）に順次転写するステップ・アンド・リピート方式の静止露光型の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）や、このステッパを改良したもので、特開平８−１６６０４３号公報等に開示されるようなレチクルとウエハとを一次元方向に同期移動してレチクルパターンをウエハ上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）が知られている。
【０００４】
これらの縮小投影露光装置においては、ステージ装置として、床面に先ず装置の基準になるベースプレートが設置され、その上に床振動を遮断するための防振台を介してレチクルステージ、ウエハステージおよび投影光学系（投影レンズ）等を支持する本体コラムが載置されたものが多く用いられている。最近のステージ装置では、上記レチクルステージ、ウエハステージおよび投影光学系を支持し、且つこれらに伝わる振動を制振するための支持装置として、内圧が制御可能なエアマウントやボイスコイルモータ等のアクチュエータ（推力付与装置）を備え、本体コラム（メインフレーム）に取り付けられた、例えば６個の加速度計の計測値に基づいて前記ボイスコイルモータ等の推力を制御することにより本体コラムの振動を制御するアクティブ防振台が採用されている。
【０００５】
この種の支持装置の構成例としては、例えば特許文献１に開示されているように、リニアモータとエアシリンダとを同軸上に配置した構成や、特許文献２に開示されているように、ボイスコイルモータ等のアクチュエータの推力中心線とマウント部の作用線とを一致させつつ並列に配置する構成等が提供されている。
【０００６】
【特許文献１】
特開平７−１１１２３８号公報
【特許文献２】
特開平９−２３６１５０号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。特許文献１に開示されている構成では、リニアモータを駆動する際にエアシリンダを構成するトラック型シリンダが可動子とともに移動するため、リニアモータの駆動推力が増加してしまい熱的に不利である。また、特許文献２に開示されている構成例では、アクチュエータとマウント部とが機能的には並列に配置されているものの、スペース的には直列に配置されており、さらにアクチュエータの駆動ストローク分のスペースも別途確保する必要があるため、定盤下の限られたスペースに収めることが困難である。また、特許文献２の構成では、狭いスペースにアクチュエータとマウント部を配置する関係上、マウント部を支持するフレームや、アクチュエータが定盤を駆動する際に推力を伝達するフレームに十分な剛性を確保することも困難である。
【０００８】
そこで、配置スペースに起因する問題を回避するために、図９に示すように、マウント部とアクチュエータとをスペース的にも並列に配置した構成も採用されている。この構成は、定盤ＪとベースプレートＢＰとの間にエアマウントＡＭを配置し、定盤Ｊから側方に延出して設けられた支持部ＪＳとベースプレートＢＰとの間にリニアアクチュエータＬＡを配置して、これらをスペース的にも並列とすることで、定盤ＪとベースプレートＢＰとの間のスペースが大きくなることを防止している。
【０００９】
ところが、定盤上を移動するステージの重量や速度、加速度が増大するにつれて、移動に伴う偏荷重をアクチュエータやエアマウントで完全にキャンセルすることが困難になっている。特に、通常では偏荷重の大部分をエアマウントで負担する構成としているが、アクチュエータによる駆動に比べてエアマウント駆動時の応答性能が低いため、アクチュエータの推力が発生するタイミングとエアマウントが推力を発生するタイミングに時間のずれが生じてしまう。図８のように、アクチュエータとエアマウントとが異なる箇所で定盤に推力を付与している場合に、推力発生のタイミングがずれると定盤に歪を生じさせるという問題があった。
【００１０】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、省スペース化に寄与し定盤に歪を生じさせることなく推力付与が可能な支持装置及びステージ装置並びに露光装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１ないし図６に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の支持装置は、所定圧力の気体が充填され、気体により物体（６）を第１方向（Ｚ）に駆動する気体室（３０）と、電磁力により物体（６）を第１方向（Ｚ）に駆動する駆動装置（３１）とを有する支持装置（２９）であって、気体室（３０）は、物体（６）を支持して第１方向（Ｚ）に移動自在な第１移動部（６３）と、駆動装置（３１）により第１移動部（６３）と対向状態で一体的に移動する第２移動部（６５）とを有することを特徴とするものである。
【００１２】
従って、本発明の支持装置では、気体室（３０）により物体（６）を第１方向（Ｚ）に駆動する際には第１移動部（６３）を移動させることで実現し、駆動装置（３１）により物体（６）を第１方向（Ｚ）に駆動する際には第２移動部（６５）を移動させることで第１移動部（６３）が一体的に移動することで実現する。すなわち、気体室（３０）及び駆動装置（３１）による物体（６）の第１方向（Ｚ）への駆動は、いずれも第１移動部（６３）の移動により行われるため、気体室（３０）及び駆動装置（３１）の推力発生タイミングに時間的なずれが生じていても、物体（６）に歪を生じさせることを防止できる。また、この支持装置では、駆動装置（３１）の駆動ストローク分のスペースを別途確保する必要もなくなるため、省スペース化も図ることが可能になる。そして、駆動装置（３１）の駆動により移動するのは気体室全体ではなく、第１移動部（６３）及び第２移動部（６５）なので熱の発生も抑制することができる。
【００１３】
また、本発明のステージ装置は、定盤上をステージ本体が移動するステージ装置であって、定盤が請求項１から５のいずれか一項に記載の支持装置により支持されることを特徴とするものである。
【００１４】
従って、本発明のステージ装置では、ステージ本体（５）の移動に伴って偏荷重が生じた場合でも、定盤下の省スペース化及び発熱の抑制を図りつつ、定盤（６）に歪を生じさせることなく偏荷重をキャンセルするように定盤（６）を駆動することが可能になる。
【００１５】
そして、本発明の露光装置は、マスクステージ（２）に保持されたマスク（Ｒ）のパターンを基板ステージ（５）に保持された感光基板（Ｗ）に投影光学系（ＰＬ）により露光する露光装置（１）において、マスクステージ（２）と、投影光学系（ＰＬ）と、基板ステージ（５）との少なくとも一つが、請求項１から５のいずれか一項に記載の支持装置（２９）により支持されることを特徴とするものである。
【００１６】
従って、本発明の露光装置では、マスクステージ（２）や基板ステージ（５）の移動により偏荷重が生じた場合でも、省スペース化及び発熱の抑制を図りつつ、各ステージ（５）又は投影光学系（ＰＬ）を支持する定盤（６）に歪を生じさせることなく偏荷重をキャンセルするように定盤（６）を駆動することが可能になる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の支持装置及びステージ装置並びに露光装置の実施の形態を、図１ないし図７を参照して説明する。ここでは、例えば露光装置として、レチクルとウエハとを同期移動しつつ、レチクルに形成された半導体デバイスの回路パターンをウエハ上に転写する、スキャニング・ステッパを使用する場合の例を用いて説明する。また、この露光装置においては、本発明のステージ装置をウエハステージに適用し、また本発明の支持装置をウエハステージの定盤を支持する防振ユニットに適用するものとする。
【００１８】
図１に示す露光装置１は、光源（不図示）からの露光用照明光によりレチクル（マスク）Ｒ上の矩形状（あるいは円弧状）の照明領域を均一な照度で照明する照明光学系ＩＵと、レチクルＲを保持して移動するレチクルステージ（マスクステージ）２および該レチクルステージ２を支持するレチクル定盤３を含むステージ装置４と、レチクルＲから射出される照明光をウエハ（基板、感光基板）Ｗ上に投影する投影光学系ＰＬと、ウエハＷを保持して移動するウエハステージ（基板ステージ、ステージ本体）５および該ウエハステージ５を支持する物体としてのウエハ定盤６を含むステージ装置７と、上記ステージ装置４および投影光学系ＰＬを支持するリアクションフレーム８とから概略構成されている。なお、ここで投影光学系ＰＬの光軸方向をＺ方向とし、このＺ方向と直交する方向でレチクルＲとウエハＷの同期移動方向をＹ方向とし、非同期移動方向をＸ方向とする。また、それぞれの軸周りの回転方向をθＺ、θＹ、θＸとする。
【００１９】
ステージ装置７は、図１から明らかなように、ステージ装置４と投影光学系ＰＬとから分離してベースプレート１０上に設けられており、ウエハステージ５、このウエハステージ５をＸＹ平面に沿った２次元方向に移動可能に支持するウエハ定盤（定盤）６、ウエハステージ５と一体的に設けられウエハＷを吸着保持する試料台ＳＴ、これらウエハステージ５および試料台ＳＴを相対移動自在に支持するＸガイドバーＸＧ、ウエハ定盤６を下方から支持する防振ユニット（支持装置）２９を主体に構成されている。
【００２０】
防振ユニット２９は、ベースプレート１０の上方に、三角形の頂点をなす３ヶ所（図１では２つのみ図示）に配置されている。図２に、防振ユニットの概略構成を示す。防振ユニット２９は、所定圧力のエア（気体）が充填され、このエアによりウエハ定盤６を支持するエアマウント（気体室）３０と、当該エアマウント３０の下方に配設されたボイスコイルモータ（駆動装置）３１とを主体に構成されている。
【００２１】
エアマウント３０は、筒状のマウント本体６１、マウント本体６１にダイヤフラム６２を介して支持された可動子（第１移動部）６３及びマウント本体６１にダイヤフラム６４を介して支持された可動子（第２移動部）６５、可動子６３、６５間に介装されたステンレス製の軸体（軸状体）６６、内部空間のエア圧を検出する圧力センサ６７、内部空間を加圧・減圧するエア圧調整装置６８に接続され、その加圧・減圧を切り替えるサーボバルブ６９と、圧力センサ６７の検出結果に基づいてサーボバルブ６９を制御する圧力制御装置７０とから概略構成される。
【００２２】
マウント本体６１は、ベースプレート１０上に設けられた筒状の支持部材７１上に設置されており、天部に可動子６３が配設され、底部に可動子６５が配設されている。可動子６３は、ウエハ定盤６を支持する支持面６３ａを有し、当該支持面６３ａと直交するＺ方向（第１方向）に移動自在とされている。可動子６５は、ボイスコイルモータ３１に支持されており、Ｚ方向に移動自在に、且つ可動子６３と対向状態で配置されている。そして、これら可動子６３、６５は、軸体６６に取付ネジ等の締結部材７２、７３により締結固定されることで、Ｚ方向に一体的に移動する構成となっている。また、内部空間のエアによる可動子６３の受圧面積は、エアによる可動子６５の受圧面積よりも（内部空間に露出する面積が可動子６５よりも可動子６３の方が）大きく設定されている。
【００２３】
なお、エアにより可動子６３が駆動される推力は、エアによる可動子６３の受圧面積にダイヤフラム６２の受圧面積を加えたものに比例するが、ここではエアによるこれら可動子６３及びダイヤフラム６２の総受圧面積を可動子６３の受圧面積と称して説明する。同様に、ここでは、エアによる可動子６５及びダイヤフラム６４の総受圧面積を可動子６５の受圧面積と称して説明する。
【００２４】
ボイスコイルモータ３１は、電磁力によりウエハ定盤６をＺ方向に駆動するものであって、支持部材７１の内部空間に封止状態で設置されており、ベースプレート１０に突設された固定子７４と、固定子７４に対してＺ方向に移動する可動子７５とから構成されている。ボイスコイルモータ３１の可動子７５と、エアマウント３０の可動子６５との間には、ベークライト等で構成された断熱材７６が介装されている。ボイスコイルモータ３１の駆動はモータ制御装置７８により制御され、このモータ制御装置７８及びエアマウント３０の圧力制御装置７０は、主制御装置８０（図４参照）により統括制御される。
【００２５】
図１に戻り、ウエハステージ５の底面には、非接触ベアリングである複数のエアベアリング（エアパッド）２８が固定されており、これらのエアベアリング２８によってウエハステージ５がウエハ定盤６上に、例えば数ミクロン程度のクリアランスを介して浮上支持されている。ウエハステージ５の上面には、ウエハホルダ４１を介してウエハＷが真空吸着等によって固定される。また、ウエハステージ５のＸ方向の位置は、投影光学系ＰＬの鏡筒下端に固定された参照鏡４２を基準として、ウエハステージ５の一部に固定された移動鏡４３の位置変化を計測するレーザ干渉計４４によって所定の分解能、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能でリアルタイムに計測される。なお、上記参照鏡４２、移動鏡４３、レーザ干渉計４４とほぼ直交するように配置された参照鏡、レーザ干渉計４０（図４参照）および移動鏡によってウエハステージ５のＹ方向の位置が計測される。なお、これらレーザ干渉計４０、４４の中、少なくとも一方は、測長軸を２軸以上有する多軸干渉計であり、これらレーザ干渉計４０、４４の計測値に基づいてウエハステージ５（ひいてはウエハＷ）のＸＹ位置のみならず、θ回転量あるいはこれらに加え、レベリング量をも求めることができるようになっている。
【００２６】
ＸガイドバーＸＧは、Ｘ方向に沿った長尺形状を呈しており、その長さ方向両端には電機子ユニットからなる可動子３６、３６がそれぞれ設けられている。これらの可動子３６，３６に対応する磁石ユニットを有する固定子３７，３７は、ベースプレート１０に突設されたサイド定盤３２、３２上にエアパッド５４を介して設けられている。そして、これら可動子３６および固定子３７によってムービングコイル型のリニアモータ３３、３３が構成されており、可動子３６が固定子３７との間の電磁気的相互作用により駆動されることで、ＸガイドバーＸＧはＹ方向に移動するとともに、リニアモータ３３、３３の駆動を調整することでθＺ方向に回転移動する。すなわち、このリニアモータ３３によってＸガイドバーＸＧとほぼ一体的にウエハステージ５（および試料台ＳＴ、以下単にウエハステージ５と称する）がＹ方向およびθＺ方向に駆動されるようになっている。なお、ウエハステージ５は、Ｙ方向の移動にはガイド部材を有さないガイドレスステージとなっているが、ウエハステージ５のＸ方向の移動に関しても適宜ガイドレスステージとすることができる。
【００２７】
また、ウエハステージ５は、ＸガイドバーＸＧとの間にＺ方向に所定量のギャップを維持する磁石およびアクチュエータからなる磁気ガイドを介して、ＸガイドバーＸＧにＸ方向に相対移動自在に非接触で支持・保持されている。そして、ウエハステージ５は、ＸガイドバーＸＧに埋設された固定子を有するＸリニアモータ３５による電磁気的相互作用によりＸ方向に駆動される。なお、Ｘリニアモータの可動子は図示していないが、ウエハステージ５に取り付けられている。
【００２８】
上述のように、固定子３７、３７は、ウエハ定盤６のＸ方向両側にウエハ定盤６とは（振動的に）独立して設けられたサイド定盤３２、３２上に、Ｙ方向へのガイド機構を有するエアパッド５４を介してそれぞれＹ方向に移動自在にそれぞれ浮揚支持されている。このため、運動量保存の法則により、ウエハステージ５の例えば＋Ｙ方向の移動に応じて、固定子３７は−Ｙ方向に移動する。換言すると、固定子３７は、カウンタマスとして機能しており、その移動によりウエハステージ５の移動に伴う反力を相殺するとともに、重心位置の変化を防ぐことができる。
【００２９】
なお、図１に示すように、ＸガイドバーＸＧの−Ｘ方向側には、ボイスコイルモータで構成されるＸトリムモータ３４の可動子３４ａが取り付けられている。Ｘトリムモータ３４は、ＸガイドバーＸＧとリアクションフレーム８との間に介装されており、その固定子３４ｂはリアクションフレーム８に設けられている。このため、ウエハステージ５をＸ方向に駆動する際の反力は、Ｘトリムモータ３４によりリアクションフレーム８に伝達され、さらにリアクションフレーム８を介してベースプレート１０に伝達されることで、ウエハ定盤６に振動が伝わることを防げる。
【００３０】
投影光学系ＰＬとしては、ここでは物体面（レチクルＲ）側と像面（ウエハＷ）側の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英や蛍石を光学硝材とした屈折光学素子（レンズ素子）からなる１／４（または１／５）縮小倍率の屈折光学系が使用されている。このため、レチクルＲに照明光が照射されると、レチクルＲ上の回路パターンのうち、照明光で照明された部分からの結像光束が投影光学系ＰＬに入射し、その回路パターンの部分倒立像が投影光学系ＰＬの像面側の円形視野の中央にスリット状に制限されて結像される。これにより、投影された回路パターンの部分倒立像は、投影光学系ＰＬの結像面に配置されたウエハＷ上の複数のショット領域のうち、１つのショット領域表面のレジスト層に縮小転写される。
【００３１】
投影光学系ＰＬの鏡筒部の外周には、該鏡筒部に一体化されたフランジ２３が設けられている。そして、投影光学系ＰＬは、リアクションフレーム８の段部８ｂに防振ユニット２４を介してほぼ水平に支持された鋳物等で構成された鏡筒定盤２５に、光軸方向をＺ方向として上方から挿入されるとともに、フランジ２３が係合している。なお、鏡筒定盤２５として、高剛性・低熱膨張のセラミックス材を用いてもよい。
【００３２】
フランジ２３の素材としては、低熱膨張の材質、例えばインバー（Ｉｎｖｅｒ；ニッケル３６％、マンガン０．２５％、および微量の炭素と他の元素を含む鉄からなる低膨張の合金）が用いられている。このフランジ２３は、投影光学系ＰＬを鏡筒定盤２５に対して点と面とＶ溝とを介して３点で支持する、いわゆるキネマティック支持マウントを構成している。このようなキネマティック支持構造を採用すると、投影光学系ＰＬの鏡筒定盤２５に対する組み付けが容易で、しかも組み付け後の鏡筒定盤２５および投影光学系ＰＬの振動、温度変化等に起因する応力を最も効果的に軽減できるという利点がある。
【００３３】
防振ユニット２４は、鏡筒定盤２５の各コーナーに配置され（なお、紙面奥側の防振ユニットについては図示せず）、内圧が調整可能なエアマウント２６とボイスコイルモータ２７とが段部８ｂ上に直列に配置された構成になっている。これら防振ユニット２４によって、ベースプレート１０およびリアクションフレーム８を介して鏡筒定盤２５（ひいては投影光学系ＰＬ）に伝わる微振動がマイクロＧ（Ｇは重力加速度）レベルで絶縁されるようになっている。
【００３４】
次に、ステージ装置４の中、レチクル定盤３は、各コーナーにおいてリアクションフレーム８の段部８ａに防振ユニット１１を介してほぼ水平に支持されており（なお、紙面奥側の防振ユニットについては図示せず）、その中央部にはレチクルＲに形成されたパターン像が通過する開口３ａが形成されている。なお、レチクル定盤３の材料として金属やセラミックスを用いることができる。防振ユニット１１は、内圧が調整可能なエアマウント１２とボイスコイルモータ１３とが段部８ａ上に直列に配置された構成になっている。これら防振ユニット１１によって、ベースプレート１０およびリアクションフレーム８を介してレチクル定盤３に伝わる微振動がマイクロＧレベルで絶縁されるようになっている（Ｇは重力加速度）。
【００３５】
レチクル定盤３上には、レチクルステージ２が該レチクル定盤３に沿って２次元的に移動可能に支持されている。レチクルステージ２の底面には、複数のエアベアリング（エアパッド）１４が固定されており、これらのエアベアリング１４によってレチクルステージ２がレチクル定盤３上に数ミクロン程度のクリアランスを介して浮上支持されている。また、レチクルステージ２の中央部には、レチクル定盤３の開口３ａと連通し、レチクルＲのパターン像が通過する開口２ａが形成されている。
【００３６】
レチクルステージ２について詳述すると、図３に示すように、レチクルステージ２は、レチクル定盤３上を一対のＹリニアモータ１５、１５によってＹ軸方向に所定ストロークで駆動されるレチクル粗動ステージ１６と、このレチクル粗動ステージ１６上を一対のＸボイスコイルモータ１７Ｘと一対のＹボイスコイルモータ１７ＹとによってＸ、Ｙ、θＺ方向に微小駆動されるレチクル微動ステージ１８とを備えた構成になっている。
【００３７】
各Ｙリニアモータ１５は、レチクル定盤３上に非接触ベアリングである複数のエアベアリング（エアパッド）１９によって浮上支持されＹ軸方向に延びる固定子２０と、この固定子２０に対応して設けられ、連結部材２２を介してレチクル粗動ステージ１６に固定された可動子２１とから構成されている。このため、運動量保存の法則により、レチクル粗動ステージ１６の＋Ｙ方向の移動に応じて、固定子２０は−Ｙ方向に移動する。この固定子２０の移動によりレチクル粗動ステージ１６の移動に伴う反力を相殺するとともに、重心位置の変化を防ぐことができる。なお、固定子２０は、レチクル定盤３上に代えて、リアクションフレーム８に設けてもよい。固定子２０をリアクションフレーム８に設ける場合には、エアベアリング１９を省略し、固定子２０をリアクションフレーム８に固定して、レチクル粗動ステージ１６の移動により固定子２０に作用する反力をリアクションフレーム８を介して床に逃がしてもよいし、前述の運動量保存の法則を用いた反力処理を実施してもよい。
【００３８】
レチクル粗動ステージ１６は、レチクル定盤３の中央部に形成された上部突出部３ｂの上面に固定されＹ軸方向に延びる一対のＹガイド５１、５１によってＹ軸方向に案内されるようになっている。また、レチクル粗動ステージ１６は、これらＹガイド５１、５１に対して不図示のエアベアリングによって非接触で支持されている。
【００３９】
レチクル微動ステージ１８には、バキュームチャック１８ａを介してレチクルＲが吸着保持されるようになっている。レチクル微動ステージ１８の−Ｙ方向の端部には、コーナキューブからなる一対のＹ移動鏡５２ａ、５２ｂが固定され、また、レチクル微動ステージ１８の＋Ｘ方向の端部には、Ｙ軸方向に延びる平面ミラーからなるＸ移動鏡５３が固定されている。そして、これら移動鏡５２ａ、５２ｂ、５３に対して測長ビームを照射する３つのレーザ干渉計５５ａ〜５５ｃ（図４参照）が各移動鏡との距離を計測することにより、レチクルステージ２のＸ、Ｙ、θＺ（Ｚ軸回りの回転）方向の位置が高精度に計測される。なお、レチクル微動ステージ１８の材質として金属やコージェライトまたはＳｉＣからなるセラミックスを用いることができる。
【００４０】
図１に戻り、照明光学系ＩＵは、リアクションフレーム８の上面に固定された支持コラム９によって支持される。なお、露光用照明光としては、例えば超高圧水銀ランプから射出される紫外域の輝線（ｇ線、ｉ線）およびＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）およびＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ）などが用いられる。
【００４１】
投影光学系ＰＬのフランジ２３には、異なる３カ所に３つのレーザ干渉計４５が、ウエハ定盤６とのＺ方向の相対位置を検出するための検出装置として固定されている（ただし、図１においてはこれらのレーザ干渉計のうち１つが代表的に示されている）。各レーザ干渉計４５に対向する鏡筒定盤２５の部分には、開口２５ａがそれぞれ形成されており、これらの開口２５ａを介して各レーザ干渉計４５からＺ方向のレーザビーム（測長ビーム）がウエハ定盤６に向けて照射される。ウエハ定盤６の上面の各測長ビームの対向位置には、反射面がそれぞれ形成されている。このため、上記３つのレーザ干渉計４５によってウエハ定盤６の異なる３点のＺ位置がフランジ２３を基準としてそれぞれ計測される（図１においては、測長ビームがウエハステージ５の手前を通過する状態を示している）。なお、ウエハステージ５の上面に反射面を形成して、この反射面上の異なる３点のＺ方向位置を投影光学系ＰＬまたはフランジ２３を基準として計測する干渉計を設けてもよい。
【００４２】
また、上記レチクル定盤３、ウエハ定盤６、鏡筒定盤２５には、各定盤のＺ方向の振動を計測する３つの振動センサ（例えば加速度計）と、ＸＹ面内方向の振動を計測する３つの振動センサ（例えば加速度計）とがそれぞれ取り付けられている。後者の振動センサのうち２つは、各定盤のＹ方向の振動を計測し、残りの振動センサはＸ方向の振動を計測するものである（以下、便宜上これらの振動センサを振動センサ群７７（図４参照）と称する）。そして、これらの振動センサ群７７の計測値に基づいてレチクル定盤３、ウエハ定盤６、鏡筒定盤２５の６自由度（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θＸ、θＹ、θＺ）の振動をそれぞれ求めることができる。
【００４３】
図４に露光装置１の制御系を示す。この図に示すように、振動センサ群７７、レチクル用レーザ干渉計５５ａ〜５５ｃ及びウエハ用レーザ干渉計４０、４４、４５の各種計測装置の計測結果は主制御装置８０に出力される。そして、主制御装置８０は、これら計測装置の計測結果に基づいて各種演算処理を行い、その結果に基づきレチクル駆動用リニアモータ１５、１７Ｘ、１７Ｙ、ウエハ駆動用リニアモータ３３、３５、ウエハ駆動用トリムモータ３４、防振ユニット１１、２４、圧力制御装置及７０びモータ制御装置７８（防振ユニット２９）等を統括的に制御する。
【００４４】
続いて上記構成の露光装置１の中、防振ユニット２９の動作についてまず説明する。
防振ユニット２９の中、エアマウント３０がウエハ定盤６を駆動する際には、圧力制御装置７０が圧力センサ６７の検出結果をモニタしながらサーボバルブ６９を制御して、例えばエア供給側に切り替えると、エア圧調整装置６８から所定圧力（例えば１０ｋＰａ）のエアがサーボバルブ６９を介してエアマウント３０（マウント本体６１）の内部空間に充填される。
【００４５】
内部空間に充填されたエアの圧力は、可動子６３、６５にそれぞれ作用する。具体的には、エアの圧力は可動子６３を＋Ｚ方向に移動させる力として作用するとともに、可動子６５を−Ｚ方向に移動させる力として作用する。ここで、エアの圧力をＰ、エアによる可動子６３の受圧面積をＡ_６３、エアによる可動子６５の受圧面積をＡ_６５とすると、可動子６３にはＰ×Ａ_６３の力が加わり、可動子６５にはＰ×Ａ_６５の力が逆方向に加わることになる。本実施の形態ではＡ_６３＞Ａ_６５であり、また可動子６３、６５が軸体６６を介して一体的に固定されているため、これら可動子６３、６５、軸体６６から構成される移動体（ピストン）には、Ｐ×（Ａ_６３−Ａ_６５）の力が＋Ｚ方向に加わる。換言すると、エアマウント３０によりウエハ定盤６をＰ×（Ａ_６３−Ａ_６５）の力で＋Ｚ方向に駆動することができる。
【００４６】
逆に、圧力制御装置７０がサーボバルブ６９を制御して、エア排気側に切り替えると、エアマウント３０内のエアが排出され内部空間の圧力が低下する（減圧される）。低下した圧力は、上記移動体にＰ×（Ａ_６３−Ａ_６５）の力で−Ｚ方向に作用するため、結果として、ウエハ定盤６をＰ×（Ａ_６３−Ａ_６５）の力で−Ｚ方向に駆動することができる。
【００４７】
また、ボイスコイルモータ３１がウエハ定盤６を駆動する際には、モータ制御装置７８の制御により可動子７５がＺ方向に移動することで、断熱材７６、可動子６５、軸体６６及び可動子６３を介してウエハ定盤６に推力を付与する。このとき、可動子６３、６５は、可撓性を有するダイヤフラム６２、６４で支持されているため支障なくＺ方向に移動することができる。また、ボイスコイルモータ３１の可動子７５の移動に際しても、エアマウント３０の可動子６３、６５及び軸体６６が一体的に固定されているため、エアマウント３０の内部空間の容積、すなわちエアの圧力は変わらず、従って、エアマウント３０によるウエハ定盤６への推力に影響を及ぼすことはない。
【００４８】
また、ボイスコイルモータ３１を駆動した際には熱が生じるが、断熱材７６によりボイスコイルモータ３１から可動子６５への伝熱を遮断することができるため、熱変動によるエア圧の変動、すなわち、ウエハ定盤６に対する駆動力の変動を防止することができる。さらに、ボイスコイルモータ３１で生じた熱は、支持部材７１内に封止されるため、防振ユニット２９からの発熱としては小さく抑えることができる。更に、本実施の形態では、前述した図２の構成により、エアマウント３０によるＺ方向への移動ストロークと、ボイスコイルモータ３１によるＺ方向への移動ストロークとを共有（共用）させているので、Ｚ方向のスペースを省スペースにすることができる。
【００４９】
なお、ボイスコイルモータ３１の推力は、軸体６６に対して圧縮荷重または引張荷重として作用するため、軸体６６の形状・断面積は、ウエハ定盤６に付与する推力に対しても剛性を確保できるようにすることが好ましい。また、エアマウント３０の空気バネとしての剛性Ｋは、γ；ポリトロピック指数、Ａ；空気バネ有効受圧面積、Ｐ；圧力、Ｖ；空気バネ容積としたときに、次式で求めることができる。
Ｋ＝γ×Ａ^２×Ｐ／Ｖ …（１）
このときの空気バネ有効受圧面積Ａは、可動子６３の受圧面積Ａ_６３と可動子６５の受圧面積Ａ_６５との差になるため、式（１）は次式で表される。
Ｋ＝γ×（Ａ_６３−Ａ_６５）^２×Ｐ／Ｖ …（２）
【００５０】
可動子６３、６５は、エアマウント３０の内部空間に臨む面の中、軸体６６と接触している面にはエアの圧力が加わらないことを考慮して、軸体６６に対しては十分な剛性が得られる断面積を設定するとともに、可動子６３、６５に対しては軸体６６に当接しない範囲に上記式（２）の剛性が得られる受圧面積を確保することが好ましい。また、エアマウント３０の内部空間のエア圧を可動子６３に対してのみ作用させるべく、可動子６５の受圧面積をゼロとするように、ダイヤフラム６４を含めて可動子６５が内部空間に臨む領域を全て軸体６６と当接させることが好ましい。この場合、エアマウント３０内の圧力がそのまま可動子６３による駆動推力となり、ウエハ定盤６を駆動する際の応答性、及び駆動効率を向上させることが可能になる。
【００５１】
次に、上記の防振ユニット２９でウエハ定盤６が支持されたステージ装置７の動作について説明する。
リニアモータ３３、３５の駆動によりウエハステージ５が移動した際には、レーザ干渉計４４等の計測値に基づいて、ウエハステージ５の移動に伴う重心の変化による影響をキャンセルするカウンターフォースを防振ユニット２９に対してフィードフォワードで与え、この力を発生するようにエアマウント３０およびボイスコイルモータ３１を駆動する。また、ウエハステージ５とウエハ定盤６との摩擦が零でない等の理由で、ウエハ定盤６の６自由度方向の微少な振動が残留した場合にも、上記残留振動を除去すべく、エアマウント３０およびボイスコイルモータ３１をフィードバック制御する。
【００５２】
具体的には、ウエハステージ５の移動により防振ユニット２９の負担すべき重量が増えたときには、エアマウント３０においては、上述したように、圧力制御装置７０が圧力センサ６７の検出結果をモニタしながらサーボバルブ６９を切り替える。これにより、エア圧調整装置６８から所定圧力のエアが内部空間に充填され、可動子６３を介してウエハ定盤６を支持する際の支持力を増すことができる。また、エアマウント３０の支持力で不足する重量増加についてはモータ制御装置７８がボイスコイルモータ３１を駆動し、可動子７５（及び可動子６３）を介してウエハ定盤６に推力を付与することで、不足する支持力を負担することになる。また、ウエハ定盤６の残留振動に関しては、振動センサ群７７の検出結果に基づいて、主制御装置８０が圧力制御装置７０を介して、重心変化時と同様にエアマウント３０及びボイスコイルモータ３１を駆動することで残留振動をアクティブに制振し、ベースプレート１０を介してウエハ定盤６に伝わる微振動をマイクロＧ（Ｇは重力加速度）レベルで絶縁することができる。
【００５３】
続いて、露光装置１における露光動作について説明する。
ここでは、予め、ウエハＷ上のショット領域を適正露光量（目標露光量）で走査露光するための各種の露光条件が設定されているものとする。そして、いずれも不図示のレチクル顕微鏡およびオフアクシス・アライメントセンサ等を用いたレチクルアライメント、ベースライン計測等の準備作業が行われ、その後アライメントセンサを用いたウエハＷのファインアライメント（ＥＧＡ；エンハンスト・グローバル・アライメント等）が終了し、ウエハＷ上の複数のショット領域の配列座標が求められる。
【００５４】
このようにして、ウエハＷの露光のための準備動作が完了すると、アライメント結果に基づいてレーザ干渉計４４の計測値をモニタしつつ、リニアモータ３３、３５を制御してウエハＷの第１ショットの露光のための走査開始位置にウエハステージ５を移動する。そして、リニアモータ１５、３３を介してレチクルステージ２とウエハステージ５とのＹ方向の走査を開始し、両ステージ２、５がそれぞれの目標走査速度に達すると、照明光学系ＩＵからの露光用照明光により、レチクルＲ上の所定の矩形状の照明領域が均一な照度で照明される。この照明領域に対してレチクルＲがＹ方向に走査されるのに同期して、この照明領域と投影光学系ＰＬに関して共役な露光領域に対してウエハＷを走査する。
【００５５】
そして、レチクルＲのパターン領域を透過した照明光が投影光学系ＰＬにより１／５倍あるいは１／４倍に縮小され、レジストが塗布されたウエハＷ上に照射される。そして、ウエハＷ上の露光領域には、レチクルＲのパターンが逐次転写され、１回の走査でレチクルＲ上のパターン領域の全面がウエハＷ上のショット領域に転写される。この走査露光時には、レチクルステージ２のＹ方向の移動速度と、ウエハステージ５のＹ方向の移動速度とが投影光学系ＰＬの投影倍率（１／５倍あるいは１／４倍）に応じた速度比に維持されるように、リニアモータ１５、３３を介してレチクルステージ２およびウエハステージ５が同期制御される。
【００５６】
レチクルステージ２の走査方向の加減速時の反力は、固定子２０の移動により吸収され、ステージ装置４における重心の位置がＹ方向において実質的に固定される。また、レチクルステージ２と固定子２０とレチクル定盤３との３者間の摩擦が零でなかったり、レチクルステージ２と固定子２０との移動方向が僅かに異なる等の理由で、レチクル定盤３の６自由度方向の微少な振動が残留した場合には、上記残留振動を除去すべく、エアマウント１２およびボイスコイルモータ１３をフィードバック制御する。また、鏡筒定盤２５においては、レチクルステージ２、ウエハステージ５の移動による微振動が発生しても、６自由度方向の振動を求め、エアマウント２６およびボイスコイルモータ２７をフィードバック制御することによりこの微振動をキャンセルして、鏡筒定盤２５を定常的に安定した位置に維持することができる。
【００５７】
以上のように、本実施の形態では、エアマウント３０及びボイスコイルモータ３１によるウエハ定盤６の駆動を、いずれも可動子６３を介して同軸で行うため、両者で推力発生のタイミングにずれが生じた場合でもウエハ定盤６に歪を生じさせてしまうことを防止できる。また、このように、いずれの駆動も可動子６３を介することで、ボイスコイルモータ３１の駆動ストローク分のスペースを別途確保する必要もなくなり、エアマウント３０とボイスコイルモータ３１とをＺ方向に直列に配置した場合でも定盤下の省スペース化を実現できるとともに、限られたスペースに互いの駆動に干渉しないためのフレームを設ける必要がなくなり、可動子６３、６５及び軸体６６に十分な剛性を確保することが可能である。
【００５８】
しかも本実施の形態では、ボイスコイルモータ３１の駆動で移動するのは可動子６３、６５及び軸体６６であり、マウント本体６１は移動しないので、無駄な推力を発生させる必要がなく、従って、熱の発生を抑制することも可能となっており、空気ゆらぎ等、熱に起因する露光精度の低下も抑制することができる。さらに、本実施の形態では、可動子６５とボイスコイルモータ３１との間に断熱材７６を介在させることで、ボイスコイルモータ３１の駆動により生じる熱の悪影響を抑制することも可能である。
【００５９】
なお、上記実施の形態では、可動子６３、６５の間に介装される軸状体として円柱状の軸体６６を設ける構成としたが、これに限られるものではなく、例えば角柱状や筒状の部材を設ける構成としてもよい。また、柱状以外にも、図５に示すように、可動子６３との当接部を起点として可動子６５に向かうに従って漸次拡径するテーパ形状（円錐台状や角錐台状）の軸体６６’を用いる構成としてもよい。この場合、例えば可動子６３との当接部における大きさを図２に示す軸体６６と同一にしたときには、エアにより可動子６３、６５に加わる力は同じであるが軸体６６’の強度（剛性）を上げることができる。逆に、可動子６５との当接部における大きさを軸体６６と同一にしたときには、エアにより可動子６３に加わる力を大きくすることが可能になる。
【００６０】
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではない。図８は、上記実施の形態の変形例を示す図であり、図２の構成と対応する部材には同じ符号を付けている。
図８の防振ユニット２９では、図２に示した軸体６６を省略して、円筒状の可動子６５を直接可動子６３と接続することにより、Ｚ方向をより省スペースにしている。また、円筒状の可動子６５を直接可動子６３に接続することにより、剛性も向上させている。なお、本変形例では、図２のマウント本体６１を２つの部分６１ａ、６１ｂに分割するとともに、筒状の支持部材７１を省略している。しかしながら、軸体６６を省略することを除いては、図２の防振ユニット２９と図８の防振ユニット２９とを適宜組み合わせることができるのはいうまでもない。
【００６１】
また、上記実施の形態では、ステージ装置７においてウエハステージ５を一基設ける構成としたが、これに限定されるものではなく、例えば図６に示すように、固定子３７、３７を共用するリニアモータ３３ａ、３３ｂによりそれぞれＹ方向に移動するＸガイドバーＸＧ１、ＸＧ２を設けるとともに、ウエハ（基板、感光基板）Ｗ１、Ｗ２を保持してＸガイドバーＸＧ１、ＸＧ２に沿って互いに独立してウエハ定盤６上をＸ方向に移動するウエハステージ（基板ステージ、ステージ本体）５ａ、５ｂを設ける構成としてもよい。この構成では、一方のウエハステージ（例えば５ａ）側でウエハ交換とアライメント動作を実行する間に、他方のウエハステージ（例えば５ｂ）側で露光動作を実行することとし、両方の動作が終了した時点でお互いの動作を切り換えるようにすることで、スループットを大幅に向上させることが可能になる。このようなダブルステージ構成のステージ装置７においても、ウエハ定盤６を上記の防振ユニット２９で支持することにより、定盤下の省スペース化を実現しつつ、ウエハ定盤６に歪を生じさせずにウエハステージ５ａ、５ｂの移動による偏荷重をキャンセルすることができる。
【００６２】
また、上記実施の形態では、ウエハ定盤６を介してウエハステージ５を支持・駆動する防振ユニット２９に本発明の支持装置を適用する構成としたが、これに限定されるものではなく、例えばレチクル定盤３を介してレチクルステージ２を支持・駆動する防振ユニット１１や、鏡筒定盤２５を介して投影光学系ＰＬを支持・駆動する防振ユニット２４にも適用可能である。また、上記実施の形態では、本発明のステージ装置を露光装置のステージ装置７に適用した構成としたが、露光装置以外にも転写マスクの描画装置、マスクパターンの位置座標測定装置等の精密測定機器にも適用可能である。
【００６３】
なお、本実施の形態の基板としては、半導体デバイス用の半導体ウエハＷ、Ｗ１、Ｗ２のみならず、液晶ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００６４】
露光装置１としては、レチクルＲとウエハＷとを同期移動してレチクルＲのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニング・ステッパー；USP5,473,410）の他に、レチクルＲとウエハＷとを静止した状態でレチクルＲのパターンを露光し、ウエハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパー）にも適用することができる。また、本発明はウエハＷ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用可能である。
【００６５】
露光装置１の種類としては、ウエハＷ、Ｗ１、Ｗ２に半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００６６】
また、不図示の露光用光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ_２レーザ（１５７ｎｍ）、Ａｒ_２レーザ（１２６ｎｍ）のみならず、電子線やイオンビームなどの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ_６）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高調波などを用いてもよい。
【００６７】
例えば、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域又は可視域の単一波長レーザを、例えばエルビウム（又はエルビウムとイットリビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、かつ非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を露光光として用いてもよい。なお、単一波長レーザの発振波長を１．５４４〜１．５５３μｍの範囲内とすると、１９３〜１９４ｎｍの範囲内の８倍高調波、即ちＡｒＦエキシマレーザとほぼ同一波長となる紫外光が得られ、発振波長を１．５７〜１．５８μｍの範囲内とすると、１５７〜１５８ｎｍの範囲内の１０倍高調波、即ちＦ２レーザとほぼ同一波長となる紫外光が得られる。
【００６８】
また、レーザプラズマ光源、又はＳＯＲから発生する波長５〜５０ｎｍ程度の軟Ｘ線領域、例えば波長１３．４ｎｍ、又は１１．５ｎｍのＥＵＶ(Extreme Ultra Violet)光を露光光として用いてもよく、ＥＵＶ露光装置では反射型レチクルが用いられ、かつ投影光学系が複数枚（例えば３〜６枚程度）の反射光学素子（ミラー）のみからなる縮小系となっている。
【００６９】
投影光学系ＰＬの倍率は、縮小系のみならず等倍系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ_２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（レチクルＲも反射型タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。
【００７０】
ウエハステージ５やレチクルステージ２にリニアモータ（USP5,623,853またはUSP5,528,118参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージ２、５は、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００７１】
各ステージ２、５の駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニット（永久磁石）と、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージ２、５を駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージ２、５に接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージ２、５の移動面側（ベース）に設ければよい。
【００７２】
以上のように、本願実施形態の露光装置１は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００７３】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図７に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、シリコン材料からウエハを製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに露光する露光処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【００７４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、物体に歪を生じさせることなく推力を付与することができるとともに、省スペース化を実現しつつ物体を駆動することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す図であって、露光装置の概略構成図である。
【図２】ベースプレート上でウエハ定盤を支持する防振ユニットの概略構成図である。
【図３】露光装置を構成するレチクルステージの外観斜視図である。
【図４】露光装置における制御系を示すブロック図である。
【図５】テーパ形状に形成された軸体を有する防振ユニットの概略構成図である。
【図６】ダブルステージ方式のステージ装置を示す外観斜視図である。
【図７】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【図８】防振ユニットの変形例を示す図である。
【図９】従来技術による支持装置の一例を示す図である。
【符号の説明】
ＰＬ投影光学系
Ｒレチクル（マスク）
Ｗ、Ｗ１、Ｗ２ウエハ（基板、感光基板）
１露光装置
２レチクルステージ（マスクステージ）
５、５ａ、５ｂウエハステージ（基板ステージ、ステージ本体）
６ウエハ定盤（物体、定盤）
７ステージ装置
２９防振ユニット（支持装置）
３０エアマウント（気体室）
３１ボイスコイルモータ（駆動装置）
６３可動子（第１移動部）
６５可動子（第２移動部）
６６軸体（軸状体）
７６断熱材

Claims

所定圧力の気体が充填され、前記気体により物体を第１方向に駆動する気体室と、電磁力により前記物体を前記第１方向に駆動する駆動装置とを有する支持装置であって、
前記気体室は、前記物体を支持して前記第１方向に移動自在な第１移動部と、前記駆動装置により前記第１移動部と対向状態で一体的に移動する第２移動部とを有することを特徴とする支持装置。
請求項１記載の支持装置において、
前記第１移動部と前記第２移動部との間に、軸状体が介装されることを特徴とする支持装置。
請求項１または２記載の支持装置において、
前記気体による前記第１移動部の受圧面積は、前記気体による前記第２移動部の受圧面積よりも大きいことを特徴とする支持装置。
請求項３記載の支持装置において、
前記第２移動部の前記受圧面積が略ゼロであることを特徴とする支持装置。
請求項１から４のいずれかに記載の支持装置において、
前記第２移動部と前記駆動装置との間に断熱材が介装されることを特徴とする支持装置。
定盤上をステージ本体が移動するステージ装置であって、
前記定盤が請求項１から５のいずれか一項に記載の支持装置により支持されることを特徴とするステージ装置。
請求項６記載のステージ装置において、
前記ステージ本体は、互いに独立して移動自在に複数設けられることを特徴とするステージ装置。
マスクステージに保持されたマスクのパターンを基板ステージに保持された感光基板に投影光学系により露光する露光装置において、
前記マスクステージと、前記投影光学系と、前記基板ステージとの少なくとも一つが、請求項１から５のいずれか一項に記載の支持装置により支持されることを特徴とする露光装置。