JP2004095689A - ウェハ加熱装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】セラミックス基板の一方の主面をウエハの載置面とし、他方の主面または内部に抵抗発熱体を有するとともに、前記セラミックス基板の温度を測温する測温手段と前記抵抗発熱体に電力を供給できる給電部を備え、過加熱を検知するためのサーモスタットを前記セラミックス基板から離間して配設し、前記サーモスタットの受熱面の面積を50〜500mm2とする。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、主にウエハを加熱するのに用いるウェハ加熱装置に関するものであり、例えば、半導体ウエハや液晶基板あるいは回路基板等のウエハ上に半導体薄膜を生成したり、前記ウエハ上に塗布されたレジスト液を乾燥焼き付けしてレジスト膜を形成するのに好適なものである。
【0002】
【従来の技術】
例えば、半導体製造装置の製造工程における、半導体薄膜の成膜処理、エッチング処理、レジスト膜の焼き付け処理等においては、半導体ウエハ(以下、ウエハと略す)を加熱するためにウエハ加熱装置が用いられている。
【0003】
従来の半導体製造装置は、まとめて複数のウエハを成膜処理するバッチ式のものが使用されていたが、ウエハの大きさが8インチから12インチと大型化するにつれ、処理精度を高めるために、一枚づつ処理する枚葉式と呼ばれる製法が近年実施されている。しかしながら、枚葉式にすると1回当たりの処理数が減少するため、ウエハの処理時間の短縮が必要とされている。このため、ウエハ加熱装置に対して、ウエハの加熱時間の短縮、ウエハの装着・離脱の迅速化と同時に加熱温度精度の向上が要求されていた。
【0004】
このうちウエハ上へのレジスト膜の形成にあたっては、図3に示すような、窒化アルミニウムや炭化珪素等のセラミックからなるセラミックス基板32の一方の主面を、ウエハWを載せる載置面33とし、他方の主面には絶縁層34を介して抵抗発熱体35および給電部36が設置され、さらに弾性体38により導通端子37が給電部36に押圧固定された構造のウェハ加熱装置31が用いられていた。そして、前記セラミックス基板32は支持体41にボルト47により固定され、さらにセラミックス基板32の内部には測温素子40が挿入され、これによりセラミックス基板32の温度を所定の温度に保つように、導通端子37から抵抗発熱体35に供給される電力を調節するシステムとなっていた。また、導通端子37は、板状構造部43に絶縁材39を介して固定されていた。
【0005】
そして、ウェハ加熱装置31の載置面33には、凹部45に挿入された支持ピン44が設置されており、ウエハWを載置面33に載せた際にウエハWが載置面33から非接触となるようにしている。そして、該支持ピン44上にレジスト液が塗布されたウエハWを載せたあと、抵抗発熱体35を発熱させることにより、セラミックス基板32を介して載置面33上のウエハWを加熱し、レジスト液を乾燥焼付けしてウエハW上にレジスト膜を形成するようになっていた。
【0006】
また、セラミックス基板32を構成するセラミックス材料としては、窒化物セラミックまたは炭化物セラミックが用いられていた。
【0007】
また、特開2001−267381号公報には、ウェハ加熱装置31の過加熱防止のため、サーモスタットを配設することにより、電気回路を遮断し過加熱防止することが提案されている。このサーモスタットはセラミックス基板32より0.1〜5mm離間して配設することが好ましいと記載され、また、上記のサーモスタットの受熱面の面積は特に規定されていないが、ウェハ加熱装置にクールスポットが発生しないように受熱面の面積は30mm2程度の極めて小さいものが一般的に使用されていた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のようなウェハ加熱装置において、単にサーモスタットをセラミックス基板32から0.1〜5mm離間して配設するような構造では、特開2001−267381号公報の実施例に示されているように、セラミックス基板32の温度が480℃以上でサーモスタットが作動し、作動温度が高過ぎることからウェハ加熱装置の破損による故障や、最悪の場合、火災発生の危険性等の問題があった。
【0009】
また、サーモスタットの上面とセラミックス基板32の間が0.1〜5mmと小さく、サーモスタットへセラミックス基板32の熱が伝わりセラミックス基板32の一部の温度が低下する虞があった。
【0010】
また、ウェハ加熱装置を長時間使用するとサーモスタットの作動温度が変化する虞があった。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明は、セラミックス基板の一方の主面をウエハの載置面とし、他方の主面または内部に抵抗発熱体を有するとともに、前記セラミックス基板の温度を測温する測温手段と前記抵抗発熱体に電力を供給する給電部を備え、過加熱を検知するサーモスタットを前記セラミックス基板から離間して配設し、前記サーモスタットの受熱面の面積を50〜500mm2としたことを特徴とする。
【0012】
また、前記サーモスタットの受熱面とセラミックス基板との距離を6mm以上としたことを特徴とする。
【0013】
さらに、前記サーモスタットの厚みを受熱面の径の38〜126%としたことを特徴とする。
【0014】
また、前記サーモスタットの温度検知部がバイメタルであり、該バイメタルの厚みが0.05〜0.5mmであることを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
【0016】
図1は本発明に係るウェハ加熱装置1の一例を示す断面図で、炭化珪素、炭化硼素、窒化硼素、窒化珪素または窒化アルミニウムを主成分とするセラミックからなるセラミックス基板2の一方の主面を、ウエハWを載せる載置面3とするとともに、他方の主面にガラス又は樹脂等からなる絶縁層4を介して抵抗発熱体5を形成したものである。
【0017】
抵抗発熱体5のパターン形状としては、略円弧状の抵抗体と直線状抵抗体とからなる略同心円状をしたものや、渦巻き状をしたものなど、載置面3を均一に加熱できるパターン形状であれば良い。均熱性を改善するため、抵抗発熱体5を複数のパターンに分割することも可能である。
【0018】
また、抵抗発熱体5には、金や銀、パラジウム、白金等の材質からなる給電部6が形成され、該給電部6に導通端子7を弾性体8を介して押圧固定することにより、導通が確保されている。
【0019】
さらに、セラミックス基板2と支持体11の外周にボルト17を貫通させ、セラミックス基板2側より弾性体8、座金18を介在させてナット19を螺着することにより支持体11に弾性的に固定している。これにより、セラミックス基板2の温度を変更したり載置面3にウエハを載せセラミックス基板2の温度が変動した場合に支持体11変形が発生しても、上記弾性体8によってこれを吸収し、これによりセラミックス基板2の反りを防止し、加熱時にウエハW表面に温度分布が発生することを防止できる。
【0020】
また、支持体11は複数の層から構成された板状構造体13と側壁部からなり、該板状構造体13には抵抗発熱体5に電力を供給するための導通端子7が絶縁材9を介して設置され、セラミックス基板2の温度を測定するための熱電対10を設置し、温度異常を検知する為のサーモスタット23が設置されている。さらに不図示の空気噴射口が形成されている。
【0021】
導通端子7に供給される電力は、不図示のリレーを介し、供給される構造になっている。さらに前記のリレーは、サーモスタット23の接点が切れるとリレーの接点が遮断されるよう構成されており、サーモスタット23が、温度異常である信号を検知すると、前記リレーが作動して導通端子7への電力供給が切られ、導通端子7に供給される電力を遮断する構成となっている。
【0022】
測温素子10としては、熱電対、測温抵抗体等を用いることが可能である。材質については、熱電対であれば、Pt/Rh−Pt/Rh系、Pt/Rh−Pt系、Ni/Cr/Si−Ni/Si/Mg系、Ni/Cr−Al/Mn系、Ni/Cr−Cu/Ni系、Cu−Cu/Ni系、W−Re系等が、また測温抵抗体であれば、Pt抵抗素子が使用可能であり、使用雰囲気や温度に対して適切なものを選定すればよい。例えば、大気中300℃以下で用いるような場合には、Ni/Cr−Al/Mn系やPt/Rh−Pt系やNi/Cr−Cu/Ni系等が望ましく、還元性雰囲気下においては、Fe−Cu/Ni系等が望ましい。
【0023】
サーモスタット23の種類としては特に限定されず、例えば、温度の変化を液体(トルエン、水銀等)や金属(バイメタル等)の膨張またはサーミスタの抵抗値の変化によって検出し、温度が所定値以上に上昇した際に、回路を遮断する働きをするもの等が挙げられる。具体的には、バイメタルを用いたサーモスタット等が挙げられる。
【0024】
図2は、本発明のウェハ加熱装置を構成するサーモスタットの一例を模式的に示す断面図である。図2に示すように、このサーモスタット110は、有底円筒形状のケース117の底部に断面が逆コの字の形状のバネ113が配設されており、このバネ113の上に接触部112aを介して円柱形状のピン112が載置されている。なお、このピン112は、周囲をリテーナ120により支持され、上下の方向に移動ができる。バネ113の近傍には、バネ113と略平行した状態で固定片114が配設されており、固定片114の端部の接点Aとバネ113端部の接点Bとは、一定の温度以下(例えば、常温)では接触している。一方、固定片114の他の一端とバネ113との他の一端には、導電線118a、118bが接続されており、これらの導電線118a、118bは、端子部119から外部に引き出され、電源と接続されているため、常温では、導電線118aと導電線118bとの間に電流が流れている。ピン112の上面には両端が固定されたバイメタル111が接触しており、このバイメタル111は、常温では、平面を形成している。そのため、バネ113には、下方への力が作用せず、接点Aと接点Bとは、接触した状態を維持することができる。このような構成のサーモスタット110の周囲の温度が上昇すると、バイメタル111は膨張し、下方へ撓むように変形する。これにより、ピン112が下方に押し下げられ、バネ113も下方に撓む結果、接点Aと接点Bとは非接触となり、回路が遮断され、導電線118aと導電線118bとの間には、電流が流れなくなる。この後、周囲の温度が所定温度より下がると、バイメタル111が平面形状に戻り、バネ113の力によりピン112が押し上げられる結果、接点Aと接点Bとが接触し、再び、導電線118aと導電線118bとの間に電流が流れるようになる。
【0025】
本発明のサーモスタット23の上面の受熱面23aの面積は50〜500mm2が好ましい。これは、50mm2未満になると、サーモスタット23の受熱面23aの面積が小さすぎる為、受熱効率が悪く、サーモスタット23の作動が遅くなる。逆に500mm2を越えてしまうと、サーモスタットの受熱面が大きすぎる為、セラミックス基板2の熱を吸収し、セラミックス基板2の一部の温度が低下しウェハWの表面にクールスポットが発生してしまうからである。
【0026】
特に、特開2001−267381号公報に記載のように、受熱面23aとセラミックス基板2の距離が0.1〜5mmと近いとセラミックス基板2の熱を吸収し、ウェハWの表面にクールスポットが発生する虞がある。また、この発明のようにサーモスタットの受熱面の面積を50mm2以下と小さくすると、受熱面の面積が小さくなり過ぎてサーモスタットの作動が遅くなる虞があった。そこで、この点を改善する目的で、本発明の受熱面23aとセラミックス基板2の距離は6mm以上と大きくすることが好ましく、ウェハWの表面にクールスポットを生じる事のない構成とすることが特徴である。
【0027】
このように、本発明は、サーモツタット23の受熱面23aの面積を大きくして作動を速くし、その分セラミックス基板2との距離を大きくすることによって、クールスポットの発生を防止するようにしたものである。
【0028】
また、サーモスタット23の厚みTは、サーモスタット23の受熱面23aの径の38〜126%が好ましい。38%より薄くなると、高温での連続使用の際、熱劣化し温度検知が鈍くなる為である。また、126%より厚くなるとサーモスタット23の熱容量が大きくなり過ぎ、温度検知が遅くなり、ウェハ加熱装置1の温度が上がり過ぎる為である。
【0029】
尚、サーモスタット23の受熱面23aの径とは受熱面23aが円形であれば直径であり、角型であれば受熱面23a内の長軸と短軸の平均値である。
【0030】
更に、サーモスタット23の厚みTが、サーモスタット23の受熱面23aの径の38〜126%とするとウェハ加熱装置1を高温で長時間使用してもサーモスタット23の作動温度の変化が小さく好ましかった。
【0031】
一方、特開2001−267381号公報に記載のサーモスタットは受熱面の面積が小さいことから、サーモスタットの厚みは受熱面の126%を越えて大きく、連続して使用する際に、熱劣化し温度検知が鈍くなる虞があった。特に、上記明細に開示されたサーモスタットの受熱面の面積は小さいことが好ましいが、受熱面の面積を小さくできても厚みは部品の構造上から小さくし難く、本発明の厚みTと受熱面の径の関係を満足することが極めて難しかった。
【0032】
また、サーモスタット23をバイメタル方式の物を使う場合、バイメタルの厚みAは0.05〜0.5mmが好ましい。厚みAが0.05mm未満になると、サーモスタット23中の接点を確実に切ることが出来ないからである。逆に0.5mmを越えるとバイメタルの熱容量が大きくなり過ぎ、温度検知が遅くなり、ウェハ加熱装置1の温度が上がり過ぎる為である。
【0033】
次にその他の構成に付いて説明する。
【0034】
抵抗発熱体5を複数のゾーンに分割して温度制御する場合は、ゾーンの数に応じて、測温素子10の数を増やすことが好ましい。これにより、ウエハWの温度をより実温に近い値に制御することが可能となる。また、この場合は特に、測温素子10の個々の設置条件を均一にする必要がある。これは、個々の測温素子10間の温度検知がばらつくと、個々の抵抗発熱体5ブロックの制御がばらつき、昇温過渡時のウエハの温度分布に悪影響を与えるためである。
【0035】
また、不図示のリフトピンは支持体11内に昇降自在に設置され、ウエハWを載置面3上に載せたり、載置面3より持ち上げるために使用される。そして、このウエハ加熱装置1により半導体ウエハWを加熱するには、不図示の搬送アームにて載置面3の上方まで運ばれたウエハWをリフトピンにより支持したあと、リフトピンを降下させてウエハWを載置面3上に載せる。次に、給電部6に通電して抵抗発熱体5を発熱させ、絶縁層4及びセラミックス基板2を介して載置面3上のウエハWを加熱する。
【0036】
このとき、本発明によれば、セラミックス基板2を炭化珪素質焼結体、炭化硼素質焼結体、窒化硼素質焼結体、窒化珪素質焼結体、もしくは窒化アルミニウム質焼結体により形成してあることから、熱を加えても変形が小さく、板厚を薄くできるため、所定の処理温度に加熱するまでの昇温時間及び所定の処理温度から室温付近に冷却するまでの冷却時間を短くすることができ、生産性を高めることができるとともに、60W/(m・K)以上の熱伝導率を有することから、薄い板厚でも抵抗発熱体5のジュール熱を素早く伝達し、載置面3の温度ばらつきを極めて小さくすることができる。
【0037】
特に、炭化珪素質焼結体からなるセラミックス基板2は大気中の水分等と反応してガスを発生させることもないため、半導体ウエハW上へのレジスト膜の貼付に用いたとしても、レジスト膜の組織に悪影響を与えることがなく、微細な配線を高密度に形成することが可能である。
【0038】
ところで、このような特性を満足するには、セラミックス基板2の板厚を1mm〜7mmとすることが良い。これは、板厚が1mm未満であると、板厚が薄すぎるために温度ばらつきを平準化するというセラミックス基板2としての効果が小さく、抵抗発熱体5におけるジュール熱のばらつきがそのまま載置面3の温度ばらつきとして現れるため、載置面3の均熱化が難しいからであり、逆に板厚が7mmを越えると、セラミックス基板2の熱容量が大きくなり過ぎ、所定の処理温度に加熱するまでの昇温時間や温度変更時の冷却時間が長くなり、生産性を向上させることができないからである。
【0039】
また、以上詳述した本発明のウエハ加熱装置1において、図1に示すように、セラミックス基板2の表面に、絶縁層4を介して抵抗発熱体5を形成し、抵抗発熱体5を露出させてあることから、使用条件等に合わせて載置面3の温度分布が均一となるように、抵抗発熱体5にトリミングを施して抵抗値を調整することもできる。
【0040】
また、セラミックス基板2を形成するセラミックとしては、炭化珪素、炭化硼素、窒化硼素、窒化珪素、窒化アルミニウムのいずれか1種以上を主成分とするものを使用することができる。炭化珪素質焼結体としては、主成分の炭化珪素に対し、焼結助剤として硼素(B)と炭素(C)を含有した焼結体や、主成分の炭化珪素に対し、焼結助剤としてアルミナ(Al2O3)とイットリア(Y2O3)を含有し1900〜2200℃で焼成した焼結体を用いることができ、また、炭化珪素はα型を主体とするもの、あるいはβ型を主体とするもののいずれであっても構わない。
【0041】
また、炭化硼素質焼結体としては、主成分の炭化硼素に対し、焼結助剤として炭素を3〜10重量%混合し、2000〜2200℃でホットプレス焼成することにより焼結体を得ることができる。
【0042】
そして、窒化硼素質焼結体としては、主成分の窒化硼素に対し、焼結助剤として30〜45重量%の窒化アルミニウムと5〜10重量%の希土類元素酸化物を混合し、1900〜2100℃でホットプレス焼成することにより焼結体を得ることができる。窒化硼素の焼結体を得る方法としては、他に硼珪酸ガラスを混合して焼結させる方法があるが、この場合熱伝導率が著しく低下するので好ましくない。
【0043】
また、窒化珪素質焼結体としては、主成分の窒化珪素に対し、焼結助剤として3〜12重量%の希土類元素酸化物と0.5〜3重量%のAl2O3、さらに焼結体に含まれるSiO2量として1.5〜5重量%となるようにSiO2を混合し、1650〜1750℃でホットプレス焼成することにより焼結体を得ることができる。ここで示すSiO2量とは、窒化珪素原料中に含まれる不純物酸素から生成するSiO2と、他の添加物に含まれる不純物としてのSiO2と、意図的に添加したSiO2の総和である。
【0044】
また、窒化アルミニウム質焼結体としては、主成分の窒化アルミニウムに対し、焼結助剤としてY2O3やYb2O3等の希土類元素酸化物と必要に応じてCaO等のアルカリ土類金属酸化物を添加して十分混合し、平板状に加工した後、窒素ガス中1900〜2100℃で焼成することにより得られる。
【0045】
これらの焼結体は、その用途により材質を選択して使用する。例えば、レジスト膜の乾燥に使用する場合は、窒化物は水分と反応してアンモニアガスを発生し、これがレジスト膜に悪影響を及ぼすので表面に保護膜を形成する必要がある。また、800℃程度の高温で使用する可能性のあるCVD用のウエハ加熱装置の場合は、ガラスを多く含む窒化硼素系の材料は、セラミックス基板2が使用中に変形してしまい均熱性が損なわれてしまう可能性がある。
【0046】
さらに、セラミックス基板2の載置面3と反対側の主面は、ガラスや樹脂からなる絶縁層4との密着性を高める観点から、平面度20μm以下、面粗さを中心線平均粗さ(Ra)で0.1μm〜0.5μmに研磨しておくことが好ましい。
【0047】
一方、炭化珪素質焼結体をセラミックス基板2として使用する場合、多少導電性を有するセラミックス基板2と抵抗発熱体5との間の絶縁を保つ絶縁層4としては、ガラス又は樹脂を用いることが可能であり、ガラスを用いる場合、その厚みが100μm未満では耐電圧が1.5kVを下回り絶縁性が保てず、逆に厚みが500μmを越えると、セラミックス基板2を形成する炭化珪素質焼結体や窒化アルミニウム質焼結体との熱膨張差が大きくなり過ぎるために、クラックが発生して絶縁層4として機能しなくなる。その為、絶縁層4としてガラスを用いる場合、絶縁層4の厚みは100μm〜500μmの範囲で形成することが好ましく、望ましくは150μm〜400μmの範囲で形成することが良い。
【0048】
炭化珪素質焼結体からなるセラミックス基板2の表面に絶縁層4を形成する場合、予め表面を酸化処理することにより、0.01〜2μm厚みのSiO2からなる酸化膜12を形成したのち、さらにその表面に絶縁層4を形成する
また、セラミックス基板2を、窒化アルミニウムを主成分とするセラミックス焼結体で形成する場合は、セラミックス基板2に対する抵抗発熱体5の密着性を向上させるために、ガラスからなる絶縁層4を形成する。ただし、抵抗発熱体5の中に十分なガラスを添加し、これにより十分な密着強度が得られる場合は、省略することが可能である。
【0049】
次に、絶縁層4に樹脂を用いる場合、その厚みが30μm未満では、耐電圧が1.5kVを下回り、絶縁性が保てなくなるとともに、抵抗発熱体5にレーザー加工等によってトリミングを施した際に絶縁層4を傷付け、絶縁層4として機能しなくなり、逆に厚みが400μmを越えると、樹脂の焼付け時に発生する溶剤や水分の蒸発量が多くなり、セラミックス基板2との間にフクレと呼ばれる泡状の剥離部ができ、この剥離部の存在により熱伝達が悪くなるため、載置面3の均熱化が阻害される。その為、絶縁層4として樹脂を用いる場合、絶縁層4の厚みは30μm〜400μmの範囲で形成することが好ましく、望ましくは60μm〜200μmの範囲で形成することが良い。
【0050】
また、絶縁層4を形成する樹脂としては、200℃以上の耐熱性と、抵抗発熱体5との密着性を考慮すると、ポリイミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、ポリアミド樹脂等が好ましい。
【0051】
なお、ガラスや樹脂から成る絶縁層4をセラミックス基板2上に被着する手段としては、前記ガラスペースト又は樹脂ペーストをセラミックス基板2の中心部に適量落とし、スピンコーティング法にて伸ばして均一に塗布するか、あるいはスクリーン印刷法、ディッピング法、スプレーコーティング法等にて均一に塗布したあと、ガラスペーストにあっては、600℃の温度で、樹脂ペーストにあっては、300℃以上の温度で焼き付ければ良い。また、絶縁層4としてガラスを用いる場合、予め炭化珪素質焼結体又は炭化硼素質焼結体から成るセラミックス基板2を1200℃程度の温度に加熱し、絶縁層4を被着する表面を酸化処理しておくことで、ガラスから成る絶縁層4との密着性を高めることができる。
【0052】
さらに、絶縁層4上に被着する抵抗発熱体5としては、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)等の金属単体を、蒸着法やメッキ法にて直接被着するか、あるいは前記金属単体や酸化レニウム(Re2O3)、ランタンマンガネート(LaMnO3)等の酸化物を導電材として含む樹脂ペーストやガラスペーストを用意し、所定のパターン形状にスクリーン印刷法等にて印刷したあと焼付けて前記導電材を樹脂やガラスから成るマトリックスで結合すれば良い。マトリックスとしてガラスを用いる場合、結晶化ガラス、非晶質ガラスのいずれでも良いが、熱サイクルによる抵抗値の変化を抑えるために結晶化ガラスを用いることが好ましい。
【0053】
ただし、抵抗発熱体5に銀又は銅を用いる場合、マイグレーションが発生する恐れがあるため、このような場合には、抵抗発熱体5を覆うように絶縁層4と同一の材質もしくは抵抗発熱体5のマトリックス成分と同等の材質から成る保護膜を30μm程度の厚みで被覆しておけば良い。
【0054】
また、抵抗発熱体5を内蔵するタイプのセラミックス基板2に関しては、熱伝導率が高く電気絶縁性が高い窒化アルミニウム質焼結体を用いることが好ましい。この場合、窒化アルミニウムを主成分とし焼結助剤を適宜含有する原料を十分混合したのち円盤状に成形し、その表面にWもしくはWCからなるペーストを抵抗発熱体5のパターン形状にプリントし、その上に別の窒化アルミニウム成形体を重ねて密着した後、窒素ガス中1900〜2100℃の温度で焼成することにより抵抗発熱体5を内蔵したセラミックス基板2得ることが出来る。また、抵抗発熱体5からの導通は、窒化アルミニウム質基材にスルーホール19を形成し、WもしくはWCからなるペーストを埋め込んだ後焼成するようにして表面に電極を引き出すようにすれば良い。また、給電部6は、ウエハWの加熱温度が高い場合、Au、Ag等の貴金属を主成分とするペーストを前記スルーホール19の上に塗布し900〜1000℃で焼き付けることにより、内部の抵抗発熱体5の酸化を防止することができる。
【0055】
上記絶縁層4を形成するガラスの特性としては、結晶質又は非晶質のいずれでも良く、例えばレジスト乾燥用に使用する場合、耐熱温度が200℃以上でかつ20℃〜200℃の温度域における熱膨張係数がセラミックス基板2を構成するセラミックスの熱膨張係数に対し−5〜+5×10−7/℃の範囲にあるものを適宜選択して用いることが好ましい。即ち、熱膨張係数が前記範囲を外れたガラスを用いると、セラミックス基板2を形成するセラミックスとの熱膨張差が大きくなりすぎるため、ガラスの焼付け後の冷却時において、セラミックス基板2に反りが発生したり、クラックや剥離等の欠陥が生じ易いからである。
【0056】
【実施例】
(実施例 1)
熱伝導率が100W/(m・K)の炭化珪素質焼結体に研削加工を施し、板厚4mm、外径230mmの円盤状をしたセラミックス基板を製作し、その後1000℃×2時間の酸化処理により表面に酸化皮膜を形成し、セラミックス基板2の一方の主面に絶縁層を被着するため、ガラス粉末に対してバインダーとしてのエチルセルロースと有機溶剤としてのテルピネオールを混練して作製したガラスペーストをスクリーン印刷法にて敷設し、150℃に加熱して有機溶剤を乾燥させたあと、550℃で30分間脱脂処理を施し、さらに700〜900℃の温度で焼き付けを行うことにより、ガラスからなる厚み200μmの絶縁層を形成した。次いで絶縁層上に抵抗発熱体を被着するため、導電材としてAu粉末とPt粉末を添加したガラスペーストを、スクリーン印刷法にて所定のパターン形状に印刷したあと、150℃に加熱して有機溶剤を乾燥させ、さらに550℃で30分間脱脂処理を施したあと、700〜900℃の温度で焼き付けを行うことにより、厚みが50μmの抵抗発熱体を形成した。そして、転写法により金ペーストからなる給電部6を形成し、900℃で焼き付け処理し、セラミックス基板2を製作した。
【0057】
また、支持体11は、主面の30%に開口部を形成した厚み2.5mmのステンレスからなる2枚の板状構造体を準備し、この内の1枚に、導通端子を所定の位置に形成し、さらに受熱面の面積が28、38、50、78、198、314、418、500、615mm2の9種類のサーモスタットを準備し、板状構造体13の略中心で、受熱面とセラミックス基板の距離が6mmの位置に配設した。さらに、板状構造体と同じくステンレスからなる側壁部とをネジ締めにて固定して、受熱面の面積が異なる9種類のサーモスタットを取り付けた支持体を準備した。
【0058】
その後、前記支持体の上に、セラミックス基板を重ね、その外周部を弾性体を介してネジ締めすることによりウェハ加熱装置を作製した。
【0059】
そして、このようにして得られた9種類のウエハ加熱装置の導電端子に通電して250℃で保持し、載置面の上に載せたウエハ表面の温度分布を中心とウエハ半径の1/2の周上の6分割点6点の合計7点の温度バラツキが最小となるように温度コントローラーの設定温度を各発熱パターンの制御チャンネル毎に補正しウェハ表面の温度を各サンプルで測定をした。ウエハ半径の1/2の周上の6分割点6点の平均温度とサーモスタット近傍であるウェハ中心の温度との差をサーモスタット近傍の温度低下量(℃)とした。
【0060】
次にウェハ加熱装置を室温まで冷却し、次のような温度暴走試験を行った。温度コントローラーの制御が効かない状態で、導通端子7に定格電力で通電し、サーモスタットが温度異常を検知した時点での測温素子10の検知温度をサーモスタット作動時のセラミックス基板の温度(℃)とした。
【0061】
評価は、ウエハWの温度が250℃の時のサーモスタット近傍の温度低下量が0.5℃以下のものをOKとし、それ以上となるものはNGとした。尚、サーモスタット近傍の温度低下量が小さいとウェハWの面内の温度差も小さくなり好ましい。また、サーモスタット作動時のセラミックス基板の温度は、400℃以下をOKとし、それ以上をNGとした。
【0062】
それぞれの結果は表1に示す通りである。
【0063】
【表1】
【0064】
表1から判るように、試料No.1、2に示す比較例のウエハ加熱装置1は、サーモスタット作動時のセラミックス板の温度が400℃を越えてしまった。これは、サーモスタット受熱面の面積が小さすぎる為、受熱効率が悪くなりサーモスタットの作動が遅れるためと考えられる。
【0065】
また、試料No.9については、サーモスタット近傍の温度低下量が、0.5℃を越えてしまった。サーモスタットの受熱面が大きすぎる為、セラミックス基板2の熱を吸収し過ぎてしまい、クールスポットが発生したためと考えられる。
【0066】
これに対し、サーモスタットの受熱面の面積を50〜500mm2である試料No.3〜8は、サーモスタット作動時のセラミックス基板の温度が400℃以下、サーモスタット近傍の温度低下量が0.5℃以下と良好な結果を示した。
【0067】
また、サーモスタットの受熱面の面積を78〜415mm2である試料No.4〜7は、サーモスタット作動時のセラミックス基板の温度が380℃以下、サーモスタット近傍の温度低下量が0.3℃以下と更に良好な結果を示した。
【0068】
また、サーモスタットの受熱面の面積を198〜314mm2である試料No.5,6は、サーモスタット作動時のセラミックス基板の温度が350℃以下、サーモスタット近傍の温度低下量が0.2℃以下と最も良好な結果を示した。
【0069】
(実施例 2)
ここでは、厚みの異なるサーモスタット23を数種準備し実施例1同様にウェハ加熱装置を作製した。また、サーモスタット23の受熱面の形状が、円形の場合は直径を、角形の場合は受熱面内の長軸と短軸の平均値をそれぞれサーモスタットの受熱面の径(mm)とし、サーモスタットの厚み比=(サーモスタットの厚み(mm))/(サーモスタットの受熱面の径(mm))×100(%)を定義した。
【0070】
そして、実施例1と同様に温度暴走試験を実施した。
さらに、ウェハ加熱装置を250℃に加熱し100時間の耐久試験を行った後、再度、温度暴走試験を行い、耐久試験前後での評価結果の差をサーモスタットの作動温度変化量(℃)とした。結果を表2に示した。
【0071】
【表2】
【0072】
表2から判るように、サーモスタットの厚み比が38%未満の試料No.1は、耐久試験後の作動温度変化量が10℃を越えた。これは、サーモスタットの厚みが薄く熱容量が小さすぎる為、セラミックス板の輻射熱の影響を大きく受け、高温になり過ぎ熱劣化したと考えられる。
【0073】
これに対して、試料No.2〜7は、実施例1よりさらに改善され、耐久試験後の作動温度変化量が10℃以下で、サーモスタット作動時のセラミックス基板の温度が360℃以下と低くすることが出来更に好ましいことが分った。
【0074】
また、試料No.3〜5は、耐久試験後の作動温度変化量が5℃以下で、サーモスタット作動時のセラミックス基板の温度が340℃以下と低くすることが出来更に優れた特性が得られた。
【0075】
(実施例 3)
ここでは、バイメタル方式のサーモスタットを準備し、バイメタルの厚みを変化させ実施例1と同様に温度暴走試験を実施した。実施例1と同様に評価した。
【0076】
結果を、表3に示した。
【0077】
【表3】
【0078】
表3から判るように、バイメタルの厚みが0.03mmの試料No.1は、サーモスタットが作動した時のセラミックス基板の温度は370℃と大きかった。これは、厚みが薄すぎる為、接点を切るだけの応力が小さいからと考えられる。
【0079】
また、バイメタルの厚みが0.6mmの試料No.8は、サーモスタットが作動した時のセラミックス基板の温度は380℃と大きかった。
【0080】
これに対して、バイメタルの厚みが0.05mm〜0.5mmの試料No.2〜7は、実施例1よりさらに改善され、サーモスタット作動時のセラミックス基板の温度が350℃以下と更に低くすることが出来た。これは、バイメタルの熱容量が小さくなった為、バイメタルの温度が短時間で所定の温度に上がった為と考えられる。
【0081】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、セラミックス基板の一方の主面をウエハの載置面とし、他方の主面または内部に抵抗発熱体を有するとともに、前記セラミックス基板の温度を測温する測温手段と前記抵抗発熱体に電力を供給できる給電部を備え、過加熱を検知するサーモスタットを前記セラミックス基板から離間して配設し、前記サーモスタットの受熱面の面積を50〜500mm2とすることにより、ウェハ加熱装置の温度制御が効かなくなり温度暴走した場合でも、低温で制御停止が可能となり、破損が無く火災発生の危険性の少ないウエハ加熱装置を提供できる。
【0082】
また、前記サーモスタットの厚みを受熱面の大きさの38〜126%とすると更に低温で制御停止が可能となり、またウェハWの面内温度差を小さくできることから好ましい。
【0083】
また、前記サーモスタットがバイメタル方式とし、該バイメタルの板厚が0.05〜0.5mmとすることにより、ウェハ加熱装置を長時間使用してもサーモスタットの作動温度が変化することを防止できるとともに、低温で制御停止が可能となり好ましい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のウエハ加熱装置を示す断面図である。
【図2】本発明のウエハ加熱装置を構成するサーモスタットの一例を示す断面図である。
【図3】従来のウエハ加熱装置を示す断面図である。
【符号の説明】
1:ウエハ加熱装置
2:セラミックス板
3:載置面
4:絶縁層
5:抵抗発熱体
6:給電部
7:支持体
8:弾性体
10:測温素子
11:充填材
21:凹部
22:充填材
23:サーモスタット
W:半導体ウエハ
Claims (4)
- セラミックス基板の一方の主面をウエハの載置面とし、他方の主面または内部に抵抗発熱体を有するとともに、前記セラミックス基板の温度を測温する測温手段と前記抵抗発熱体に電力を供給する給電部を備え、過加熱を検知するためのサーモスタットを前記セラミックス基板から離間して配設し、前記サーモスタットの受熱面の面積を50〜500mm2としたことを特徴とするウェハ加熱装置。
- 前記サーモスタットの受熱面とセラミックス基板との距離を6mm以上としたことを特徴とする請求項1記載のウェハ加熱装置。
- 前記サーモスタットの厚みを受熱面の径の38〜126%としたことを特徴とする請求項1または2記載のウェハ加熱装置。
- 前記サーモスタットの温度検知部がバイメタルであり、該バイメタルの厚みが0.05〜0.5mmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のウェハ加熱装置。
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- 2002-08-29 JP JP2002252146A patent/JP2004095689A/ja active Pending
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