JP2004049949A

JP2004049949A - 乾燥装置

Info

Publication number: JP2004049949A
Application number: JP2002207225A
Authority: JP
Inventors: Hiroya Watabe; 渡部　弘也; Kenichi Mimori; 三森　健一; Takuo Ito; 伊藤　卓雄
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 2002-07-16
Filing date: 2002-07-16
Publication date: 2004-02-19
Anticipated expiration: 2022-07-16
Also published as: CN1278391C; JP4128040B2; CN1495862A

Abstract

【課題】本発明は、搬送ロールによって略水平方向に搬送される基板に圧縮空気を吹き付けて処理液を除去する乾燥装置に関し、処理液を吹き飛ばすことなく除去できるようにすることを目的とする。
【解決手段】表面Ｗａ，Ｗｂに液膜或いは液滴状の処理液５０を有する基板Ｗを一方向に搬送する搬送路Ｒを有する搬送手段と、この搬送路Ｒの近傍に配置され、処理液５０を搬送方向の上流側に移動させるように基板Ｗの表面Ｗａ，Ｗｂに向けて乾燥用気体を送風する送風手段１０と、搬送路Ｒの送風手段１０よりも上流側の路側ｒ１に接触又は近接して設けられ、基板の表面Ｗａ，Ｗｂの処理液５０を受液する受液手段１１とを備えて構成する。
【選択図】　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、搬送ロールによって略水平方向に搬送される基板に圧縮空気を吹き付けて処理液を除去する乾燥装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に液晶ディスプレイ等の基板製造工程では、搬送ロールによって基板を洗浄処理槽内で洗浄した後、乾燥槽内で濡れた基板を乾燥させる工程が必要とされている。特に近年では、生産性向上のためスピーディ且つ強力な乾燥力が求められている。そこで、従来より、基板に付着した水滴等の処理液を送風により除去するエアナイフを用いた乾燥方式が提案されている。
【０００３】
エアナイフ乾燥方式は、搬送ロールにより下面側を支持されて水平方向前方に搬送される基板を上下方向から挟み込む位置に長幅の開口部を有する一対のエアナイフを配置し、このエアナイフから基板に向けて不活性ガスやクリーンエア等の圧縮ガスを噴き付けることにより基板上に付着した処理液を後方に向けて吹き飛ばすものである。
このエアナイフ乾燥方式によれば、基板上に付着した処理液は、基板が上下のエアナイフの間を通過する際にガス圧により後方側へ掻き取られるように移動し、基板後端部に液塊として集められる。そして、この液塊を更に上述の圧縮ガスにより後方に向けて吹き飛ばすことで、基板から処理液を除去し乾燥するようになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、先の処理液は、処理液と基板表面との界面張力によって基板端に比較的強固に付着しているため、この処理液を吹き飛ばすには更に大きなガス圧が必要となり、送風に要するランニングコストが嵩むという課題がある。
【０００５】
また、エアナイフ乾燥方式では、基板上の処理液を空気中に吹き飛ばして除去するため、飛散した処理液はミストとなって雰囲気中を漂い、基板上に再付着する虞がある。このように再付着した処理液は膜状や球状となって基板上に残存し、ウォータマークを生じさせる。このため、エアナイフ周辺に排気装置を設け、雰囲気中のミストを強制排気することでこのような再付着を防止することが考えられるが、この場合、強制排気のために更に大きなランニングコストが必要となる。
本発明は、上述の課題に鑑み創案されたもので、処理液を吹き飛ばすことなく除去できるようにした乾燥装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の乾燥装置は、表面に液膜或いは液滴状の処理液を有する基板を一方向に搬送する搬送路を有する搬送手段と、上記搬送路の近傍に配置され、上記処理液を搬送方向の上流側に移動させるように上記基板の表面に向けて乾燥用気体を送風する送風手段と、上記搬送路の上記送風手段よりも上流側の路側に接触又は近接して設けられ、上記基板の表面の上記処理液を受液する受液手段とを備えたことを特徴としている。
【０００７】
本構成によれば、基板が搬送路に沿って搬送される際に、基板表面の処理液は送風手段からの送風によって基板端部に集められる。そして、この処理液は搬送路の路側に接触又は近接して配された受液手段によって液体のまま回収され、基板から除去される。したがって、処理液が空気中に飛散させる必要がないため、送風手段の送風力を小さくすることができ、送風のためのランニングコストを低減できる。また、処理液を液体のまま回収しているため、別途排気装置を設けて飛散した処理液を回収する必要がなくなり、排気のためのランニングコストを削減できる。
【０００８】
なお、処理液を表面張力の働きにより受液することが好ましい。本構成によれば、基板が搬送路に沿って搬送されて受液手段に接触又は近接した際、処理液は表面張力の働きにより受液手段側に液体として流出し、基板から除去される。そのため、別途吸引装置等を設けて処理液を回収する必要がなく、装置構成を簡素化することができる。
【０００９】
また、送風手段の送風方向を搬送方向に対して所定の傾斜角の方向（所定傾斜方向）とし、受液手段をこの送風の下流側に設けるようにしてもよい。本構成によれば、基板が搬送路に沿って搬送される際に、基板表面の処理液は送風手段からの送風によって所定傾斜方向側の基板隅角部に集められる。これにより、受液手段による処理液の回収が容易となる。
【００１０】
上記受液手段が、上記搬送路上の上記基板の表面を延長した面内に上記処理液の受液面を有し、上記受液面の外周が、上記搬送路外から上記搬送路の路側に接触又は近接配されるようにしてもよい。本構成によれば、受液面と搬送路とが接触又は近接の範囲で連続した平面となるため、処理液を受液面側へスムーズに流出させることができる。
【００１１】
この際、上記受液面が、上記搬送路の路側に接触又は近接する略直線状の端辺を有し、上記端辺が上記搬送路の路側に沿うように配されるようにしてもよい。本構成によれば、受液面と基板表面とが上記略直線状に延びる端辺によって接触又は近接するため、処理液の流出可能な範囲が広く、処理液の排出効率を高めることができる。
【００１２】
また、上記受液面が略真円形状を有し、上記受液面が上記搬送路と略同一水平面内において回転可能に構成してもよい。本構成によれば、基板から受液面側に流出した処理液は、受液面の回転により速やかに基板から隔離されるため、処理液の排水効率を高めることができる。また、受液面が回転することで、搬送中の基板と接触した際にその接触抵抗を低減でき、基板の搬送をスムーズに行なわせることができる。
【００１３】
また、上記受液面を親水面として構成してもよい。本構成によれば、基板から受液面側への処理液の排出を更にスムーズに行なうことができる。
また、上記受液面を細孔面として構成してもよい。本構成によれば、受液面側に流出した処理液は細孔内に吸収されるため、処理液を速やかに基板から隔離することができ、排水効率を高めることができる。また、吸収された処理液により受液面が親水性を帯び、基板から受液面側への処理液の流出を促進することができる。
【００１４】
さらに、上記受液面に受液された処理液を排水する排水手段を更に備えてもよい。本構成によれば、受液面から溢れた処理液により周囲が汚れることが防止できる。また、一旦受液面に流出させた処理液を回収しているため、例えば、受液面に近接する排水管等をラフに配置しても基板を傷つける虞がないため、基板表面から直接処理液を回収する場合に比べてレイアウト上有利である。
【００１５】
また、上記受液手段を、軸方向を略鉛直方向に配され、外周面に上記処理液を受液しうる螺旋状の溝が形成された円柱部材として構成してもよい。本構成によれば、基板が受液手段の側部を接触又は近接して搬送される際に、この処理液が表面張力の働きにより円柱部材外周面の溝内に流入し、螺旋に沿って排出されるため、処理液の排水効率を高めることができる。
このとき、円柱部材を回転自在に構成することが好ましい。この場合、円柱部材が回転することで、処理液はより速やかに溝内に流入する。また、搬送中の基板と円柱部材とが接触した際にその接触抵抗を低減でき、基板の搬送をスムーズに行なわせることができる。
【００１６】
なお、上記搬送路は、上記送風の下流側の路側が対向する路側に対して低位となるように傾斜させることが望ましい。本構成によれば、送風手段からの送風によらずに基板表面上の処理液の殆どを基板外へ流下することができる。流下せずに基板表面に残留した処理液は、自重によって自然に基板の送風の下流側の路側に移動し効率的に受液させることで、送風力を低く設定することができ、送風のためのコストを低減することができる。
【００１７】
この際、上記搬送路の傾斜角度が２°以上であることが望ましい。本構成によれば、従来のものに比べて送風力を１／１０程度に抑えることができる。また、傾斜角度は１０°以下が好ましい。このような構成は、特殊な機構を付加しない通常の水平の場合の搬送機構のままで実現でき、又、基板の搬送を安定させることができる。
さらに、上記送風手段を、スリット状の送風口を有するエアナイフとして構成してもよい。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面により、本発明の実施の形態について説明する。
まず、第１実施形態について説明すると、図１〜図６は本発明の第１実施形態としての乾燥装置を示すもので、図１はその全体構成を示す斜視図、図２はその上面視図、図３はその要部拡大図、図４はその要部構成を示す正面図、図５はその作用を説明するための要部拡大図、図６は本乾燥装置の備えられる乾燥槽の全体構成を示す図である。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の寸法や大きさの比率等は適宜異ならせてある。
【００１９】
図６は一例としての乾燥槽２００を示すもので、乾燥槽２００には、基板Ｗを入り口２００ａから出口２００ｂに向かう略水平な搬送路に沿って搬送する複数の搬送ロール（搬送手段）１０４と、この搬送路に沿って上流側から順に配置された洗浄液供給装置２０１，置換液供給装置２０２，乾燥装置２０３とを備えて構成されている。
【００２０】
搬送ロール１０４は、例えば図２に示すように、それぞれ対向する一対のロール１０４ａ，１０４ｂから構成され、各ロール１０４ａ，１０４ｂの外側の端部はフレーム１０５によって回転可能に支持されている。各ロール１０４ａ，１０４ｂの外側端部には図示しない回転ベルトが巻き回されており、この回転ベルトをフレーム１０５外に設けられた図示しない駆動モータで駆動することでロール１０４ａ，１０４ｂが同期して回転し、ロール１０４ａ，１０４ｂ上に載置された基板Ｗを前方（搬送方向）に搬送するようになっている。
【００２１】
また、図４に示すように、各ロール１０４ａ，１０４ｂのロール径はそれぞれ独立に設定され、ロール１０４ａとロール１０４ｂとのロール径を異ならせることで、基板表面Ｗａ，Ｗｂをθだけ傾斜させた状態で搬送できるようになっている。そして、ロール１０４ａにロール１０４ｂよりも大きな径を有するロールを用い、基板Ｗのロール１０４ｂ側の端辺がロール１０４ａ側の端辺よりも低位となるようにしている。また、例えば四つの柱の長さを変えて装置の筐体を傾斜させることで、基板Ｗを傾斜させるようにしてもよい。搬送中の基板Ｗの傾斜角は２°以上１０°以下とすることが好ましい。
【００２２】
この際、搬送中の振動により基板Ｗが傾斜方向にずれ落ちることを防ぐために、各ロール１０４ａ，１０４ｂの側面には基板Ｗを載せ置くための段差Ｇを内向きに対向して形成してもよい（図５参照）。これにより、基板Ｗの幅方向への移動が禁止され、基板を固定した状態で搬送できる。
なお、以下では、このように固定された状態で搬送される基板Ｗの表面が通過する領域を搬送路Ｒとする。また、基板上面Ｗａに対する搬送路と基板下面Ｗｂに対する搬送路とを区別する場合には各々を搬送路Ｒａ，搬送路Ｒｂと表記する。
【００２３】
洗浄液供給装置２０１は、基板Ｗにスリット状の噴射口から洗浄液Ａを供給し、基板Ｗが前工程（洗浄工程）から乾燥工程に搬送される際に基板表面Ｗａが一部自然乾燥することを防止するようになっており、これにより、乾燥処理後に乾燥ムラが生じないようになっている。噴射される洗浄液Ａは前工程としての洗浄工程（ウェット洗浄）で用いられる洗浄液と同じ種類のものであり、例えば、前工程として純水の満たされた洗浄槽（図示略）に基板Ｗを浸漬する処理が施されていれば、洗浄液Ａとして純水が用いられる。
【００２４】
置換液供給装置２０２は、乾燥装置２０３での乾燥処理に先立って基板Ｗに置換液Ｂを供給することで、基板Ｗを乾燥装置２０３で素早く乾燥できるようにしたもので、噴射される置換液Ｂは、上記洗浄工程での洗浄液Ａに対する溶解性がよく揮発性の高い物質が用いられる。例えば、上記洗浄液Ａが純水である場合には、置換液Ｂとして親水性を有するＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等が好適に用いられる。
なお、洗浄液供給装置２０１と置換液供給装置２０２の一方又は双方を省略することは可能である。以下では、前工程（洗浄工程）で付着した洗浄液と、洗浄液供給手段２０１で供給された洗浄液Ａと、置換液供給装置２０２で供給された置換液Ｂとを総称して処理液と呼ぶ。
【００２５】
乾燥装置２０３は、図２に示すように、基板表面Ｗａ，Ｗｂに圧縮ガスを吹き付けて基板表面Ｗａ，Ｗｂ上に付着した処理液を基板Ｗ後端の隅角部に集める送風手段１０と、この隅角部に集められた上記処理液を液体のまま回収する受液手段１１とを備えて構成されている。
【００２６】
送風手段１０は、例えば図２，図３に示すように、搬送路Ｒａ，Ｒｂをそれぞれ上下に挟み込む位置に近接して配置されたスリット状の開口部（送風口）１０ａを有する一対のエアナイフ（送風手段）１０，１０として構成されている。このエアナイフ１０は、長手方向が搬送路Ｒを跨ぐように配されるとともに、上記開口部１０ａが搬送路Ｒの上流側を向くように垂直面に対して傾斜して配置され、圧縮ガスが開口部１０ａから搬送路Ｒの後方に向けて噴射されるようになっている。この際、このエアナイフ１０の基板表面Ｗａ，Ｗｂに対する傾斜角度α（即ち、搬送路Ｒに対する送風の入射角度）は５０°〜７０°程度の大きさにすることが好ましく、これにより、基板表面Ｗａ，Ｗｂに付着した処理液を基板Ｗの後方側に掻き取るように移動させ、基板Ｗ後端部に液塊５０として集めることができる。
【００２７】
また、エアナイフ１０，１０は基板表面Ｗａ，Ｗｂ（即ち、搬送路Ｒａ，Ｒｂ）に近接して配置されるとともに、エアナイフ１０の鉛直方向の傾斜角度と基板Ｗの鉛直方向の傾斜角度（即ち、搬送路Ｒａ，Ｒｂの鉛直方向の傾斜角度）θとが同一となるように配置されている。これにより、圧縮ガスの圧力損失を小さくしながら、基板表面Ｗａ，Ｗｂの受けるガス圧が面内で均一化されるようになっている。
【００２８】
さらに、エアナイフ１０の両端部は、搬送方向に対して互いに前後にずれた位置に配設され、エアナイフ１０の送風方向が搬送方向に対して所定の傾斜角Βの方向（所定傾斜方向）に傾斜するように配置されている。これにより、基板Ｗ上に付着した処理液を基板Ｗの所定傾斜方向側（例えば図２では搬送方向に対して左側）の端辺に集めることができるようになっている。このエアナイフ１０の長手方向の搬送方向に対する傾斜角度Βは３０°〜４５°程度とすることが好ましい。これにより、圧縮ガスを基板Ｗに噴射した際に処理液の基板Ｗの隅角部への流出速度を、この隅角部を構成する基板Ｗの二側辺において略同一とすることができ、処理液を効率的に隅角部一点に集中させることができる。また、搬送路Ｒ自体を水平から若干上向きに傾斜させて搬送するようにすれば、処理液を隅角部に更に効率的に集中させることができる。
【００２９】
なお、開口部１０ａから噴射される圧縮ガスは不活性ガスやクリーンエア等が用いられている。また、噴射圧は、基板表面Ｗａ，Ｗｂに付着した処理液を飛散させることなく基板Ｗ後端に移動させることができる程度の大きさに設定されている。
【００３０】
受液手段１１は、基板Ｗが上記所定傾斜方向側（例えば図２では搬送方向に対して左側）の路側ｒ１に配置された受液面に接触又は近接して搬送される際に、表面張力の働きにより上記基板Ｗ隅角部から処理液を液体の状態で受液するようにしたもので、図２に示すように、上記所定傾斜方向側（即ち、送風方向の下流側）の路側ｒ１に搬送路Ｒ外から接触又は近接して配置された受液面を有する部材として構成されている。
【００３１】
具体的には、受液手段１１は、基板表面Ｗａと略同一水平面内に略水平な表面（受液面）１１ａを有し、基板表面Ｗｂと略同一水平面内に略水平な裏面（受液面）１１ｂを有する矩形状の平板部材として構成されている。この平板部材１１の表面１１ａ及び裏面１１ｂの一端辺１５ａ，１５ｂはそれぞれ搬送路Ｒａ，Ｒｂの上記所定傾斜方向側（図２では搬送方向に対して左側）の路側ｒ１に沿うように接触又は近接して配されており、基板Ｗが受液手段１１近傍を通過する際に平板面１１ａ，１１ｂが略連続した平面となるようになっている。
【００３２】
つまり、平板面１１ａ，１１ｂはそれぞれ基板表面Ｗａ，Ｗｂを基板Ｗ外へ延長する延長面として機能し、基板Ｗがエアナイフ１０，１０間を通過する際に、上記隅角部に溜まった処理液が表面張力の作用により平板面１１ａ，１１ｂの端辺１５ａ，１５ｂを跨いで基板表面Ｗａ，Ｗｂから平板部材１１側に流出できるようになっている。
また、平板部材１１の他端部は略Ｌ字型に折り曲げられて排水槽２０内に配設されており、平板面１１ａ，１１ｂ上から溢れた処理液が折り曲げ部１１ｃを伝わって排水槽２０内に排水されるようになっている。
【００３３】
なお、平板面１１ａ，１１ｂは親水面として構成され、基板Ｗから処理液が平板部材１１側へスムーズに流出できるようになっている。このような親水面は、例えば、平板面１１ａ，１１ｂを有機溶剤で処理した後、ＵＶ光を照射することで容易に得ることができる。
【００３４】
また、近接の範囲は、図５に示すように、基板表面Ｗａ，Ｗｂ隅角部に溜まった処理液５０ａ，５０ｂが表面張力により液面を保持しながら、近接する上記平板面１１ａ，１１ｂ側へ移動可能な範囲として規定され、処理液５０ａ，５０ｂの液体の種類（詳しくは、液体の表面張力の大きさ）や平板面１１ａ，１１ｂの表面張力の大きさによって好適な範囲に設定することができる。例えば、処理液５０ａ，５０ｂが表面張力の大きい水溶液系の液体であれば、上記路側と平板部材１１の端辺１５ａ，１５ｂとの間隔Ｄは５ｍｍ以下の範囲に設定され、処理液５０ａ，５０ｂが表面張力の小さい有機系の液体であれば、上記路側と上記端辺１５ａ，１５ｂとの間隔は１ｍｍ以下の範囲に設定される。
【００３５】
本発明の第１実施形態としての乾燥装置は、上述のように構成されているので、搬送ロール１０４によって洗浄工程から導入された基板Ｗは、ロール１０４ａ，１０４ｂのロール径の違いによって所定傾斜方向側に傾斜した状態で（即ち、搬送路Ｒａ，Ｒｂの所定傾斜方向側の路側が低位となった状態で）搬送され、基板表面Ｗａ，Ｗｂの処理液の殆どが基板Ｗ外へ流下される。
そして、流下せずに基板Ｗａ，Ｗｂに付着して残留した処理液は、基板Ｗがエアナイフ１０に近づくにつれて開口部１０ａから搬送方向に対して左斜め後方に向けて噴射される圧縮ガスによって基板Ｗ後端部に向けて徐々に移動し、基板Ｗ左隅角部に液塊として集められ、液面が基板Ｗの左側方に一部はみ出した状態で留まる。
【００３６】
そして、基板Ｗが隅角部を受液手段１１に接触又は近接させながらエアナイフ１０，１０間を通過する際に、基板Ｗの左側方にはみ出した液塊表面が平板面１１ａ，１１ｂに接触し、処理液は表面張力の作用により液体のまま平板部材１１側へ流出し基板Ｗから除去される。なお、平板部材１１側へ流出した処理液は平板面１１ａ，１１ｂの傾斜によって折り曲げ部１１ｃ側へ移動し、自重によりそのまま折り曲げ部１１ｃを伝わって流れ落ちて排水槽２０内に排出される。
【００３７】
したがって、本実施形態の乾燥装置２００によれば、処理液を空気中に飛散させることなく液体のまま回収するため、エアナイフ１０の噴射圧を小さく設定でき、送風のためのランニングコストを低減できる。また、処理液を液体のまま回収しているため、排気の負担を軽減でき、排気のためのランニングコストを削減できる。
また、基板Ｗを所定傾斜方向側に傾斜させて搬送しているため、基板Ｗ上の処理液は乾燥工程に導入される際にその殆どを基板Ｗ外に流下させて除去できる。また、基板表面Ｗａ，Ｗｂ上に残留した処理液も自重により自然に基板Ｗの所定傾斜方向側に移動するため、更にエアナイフ１０の送風力を低く設定することができる。
【００３８】
なお、この基板の傾斜角度（即ち、搬送路の傾斜角度）θは２°以上とすることが望ましく、この場合、後述の〔実施例〕に示すように、送風力を従来のものに比べて１／１０程度に抑えることができる。また、傾斜角度を１０°以下とすることで、特殊な機構を付加することなく通常の水平の場合の搬送機構を流用でき、基板Ｗの搬送も安定する。
さらに、平板面１１ａ，１１ｂと基板表面Ｗａ，Ｗｂとが端辺１５ａ，１５ｂを介して接触又は近接しているため、処理液は、基板Ｗが端辺１５ａ，１５ｂ近傍を通過するまでの比較的長い時間で流出可能であるため、例えば端辺１５ａ，１５ｂの長さを長くして基板Ｗと平板部材１１との接触又は近接する範囲を広くすることで、処理液の排出効率を高めることができる。
【００３９】
また、平板面１１ａ，１１ｂを基板Ｗの傾斜角度（即ち、搬送路Ｒａ，Ｒｂの傾斜角度）θと同程度に傾斜させているため、基板表面Ｗａ，Ｗｂと平板面１１ａ，１１ｂとが接触又は近接の範囲で略連続した平面となり、基板Ｗの搬送方向に対して左後端側の隅角部に集まった処理液を自重によって平板部材１１側へスムーズに流出させることができる。この場合、更に、平板部材１１側に流出した処理液は自重によって自然に折り曲げ部１１ｃ側に移動し、そのまま折り曲げ部１１ｃを伝わって排水槽２０内に回収されるため、排水ポンプ等の駆動が不要となり、ランニングコストを低減できる他、排水ポンプ等の設置場所を新たに確保する必要がなく、乾燥槽２００内のレイアウトの自由度を高めることができる利点もある。
【００４０】
次に、本発明の第２実施形態について図７を用いて説明する。なお、本実施形態に係る乾燥装置では、図１〜図６を用いて説明した第１実施形態の乾燥装置と同様の部位については同じ符号を付し、その説明を一部省略する。
図７に示すように、本実施形態に係る乾燥装置では、受液手段として多孔質な矩形状の平板部材１１′を用い、更にこの多孔質部材１１′の細孔内に吸収された処理液を排水するための排水手段１３を設けている。そして、これ以外は上記の第１実施形態と同様に構成されている。
【００４１】
多孔質部材１１′は、上記第１実施形態と同様に、その細孔面としての平板面（受液面）１１′ａ，１１′ｂがそれぞれ基板表面Ｗａ，Ｗｂと略同一水平面内に位置するように構成されている。この多孔質部材１１′の表面１１′ａ及び裏面１１′ｂの一端辺１５ａ′，１５ｂ′はそれぞれ搬送路Ｒａ，Ｒｂの上記所定傾斜方向側（例えば図２では左方向側）の路側ｒ１に沿うように接触又は近接して配されている。
【００４２】
つまり、平板面１１′ａ，１１′ｂはそれぞれ基板表面Ｗａ，Ｗｂを基板Ｗ外へ延長する延長面として機能し、基板Ｗがエアナイフ１０，１０間を通過する際に、上記隅角部に溜まった処理液５０ａ，５０ｂが表面張力の作用により平板部材面１１′ａ，１１′ｂの端辺１５ａ′，１５ｂ′を跨いで基板表面Ｗａ，Ｗｂから多孔質部材１１′側にスムーズに流出できるようになっている。そして、多孔質部材１１′側に流入した処理液は平板面１１′ａ，１１′ｂ内の細孔内に吸収され、基板Ｗから速やかに隔離されるようになっている。また、この際、上記平板面１１′ａ，１１′ｂは吸水により親水面となるため、基板Ｗからの処理液の流入が更に促進される。
なお、近接の範囲は上記第１実施形態と同様に規定される。
【００４３】
排気手段１３は吸引ポンプ１３ａ，サクション部１３ｂ及び排水管１３ｃを備えて構成されている。サクション部１３ｂは多孔質部材１１′の端面に取り付けられており、排水管１３ｃを介して吸引ポンプ１３ａによって吸引することで、多孔質部材１１′端面から細孔内に吸収された処理液を排出できるようになっている。
【００４４】
本発明の第２実施形態としての乾燥装置は、上述のように構成されているので、基板Ｗがその左隅角部を多孔質部材１１′に接触又は近接させながらエアナイフ１０，１０間を通過する際に、基板Ｗ左側方にはみ出した液塊表面が平板面１１′ａ，１１′ｂに接触し、処理液は液体のまま多孔質部材１１′側へ流出する。この際、流出した処理液は平板面１１′ａ，１１′ｂ内の細孔に吸収されるとともに、吸引ポンプ１３ａによりサクション部１３ｂを介して吸引され、排水される。また、細孔内に吸収された処理液により平板面１１′ａ，１１′ｂが親水性を帯び、上記基板Ｗ隅角部からの処理液の流出が促進される。
したがって、本実施形態の乾燥装置においても、上記第１実施形態と同様に、処理液を空気中に飛散させることなく液体のまま回収するため、送風や排気のコストを低減できる。
【００４５】
また、平板面１１′ａ，１１′ｂを基板表面Ｗａ，Ｗｂの傾斜に合わせて傾斜させているため、基板表面Ｗａ，Ｗｂと平板面１１′ａ，１１′ｂとが接触又は近接の範囲で略連続した平面となり、基板Ｗ左隅角部に集まった処理液を自重によって多孔質部材１１′側へスムーズに流出させることができる。この際、処理液は平板面１１′ａ，１１′ｂの細孔に吸収されるため、流出した処理液が基板Ｗから速やかに隔離され、排水効率を高めることができる。また、吸収された処理液により平板面１１′ａ，１１′ｂが親水性を帯び、基板Ｗ隅角部からの処理液の流出が促進されるため、更に排水効率が高まる。
【００４６】
次に、本発明の第３実施形態について図８を用いて説明する。なお、本実施形態に係る乾燥装置でも、図１〜図６を用いて説明した第１実施形態の乾燥装置と同様の部位については同じ符号を付し、その説明を一部省略する。
図８に示すように、本実施形態に係る乾燥装置では、受液手段として回動可能な円板部材１１′′が用いられ、この円板部材１１′′の側部に樋１２が近接して設けられている。そして、これ以外は上記の第１実施形態と同様に構成されている。
【００４７】
この円板部材１１′′は、上記第１実施形態と同様に、基板表面Ｗａ，Ｗｂを近接の範囲で基板Ｗ外へ延長し処理液を基板Ｗ外へ流出させるようにしたもので、円板部材１１′′の表面（受液面）１１′′ａ及び裏面（受液面）１１′′ｂはそれぞれ基板表面Ｗａ，Ｗｂと略同一水平面内に位置するように構成され、この円板面１１′′ａ，１１′′ｂの外周部はそれぞれ搬送路Ｒａ，Ｒｂの上記所定傾斜方向側（例えば図８では左方向側）の路側ｒ１に搬送路Ｒａ，Ｒｂ外から接触又は近接する位置に設けられている。これにより、基板Ｗがエアナイフ１０，１０間を通過する際に、上記隅角部に溜まった処理液５０ａ，５０ｂが表面張力の作用により円板部材１１′′の外周部を跨いで基板表面Ｗａ，Ｗｂから円板部材１１′′側に流出できるようになっている。
【００４８】
なお、円板面１１′′ａ，１１′′ｂは親水面として構成され、基板Ｗから処理液が円板部材１１′′側へスムーズに流出されるようになっている。
また、円板部材１１′′は回転可能に構成され、図示しない駆動手段により基板Ｗを搬送方向に送り出すような回転方向（例えば、図８では上面視図半時計回り）に基板Ｗの搬送速度に略同期して回動されるようなっている。これにより、基板Ｗが円板部材１１′′の側方に接触して通過した場合にその接触抵抗を低減できる他、円板部材１１′′の回転により基板Ｗ側から流入した処理液が基板Ｗから速やかに隔離され、基板Ｗ隅角部から処理液を効率的に除去できるようになっている。
【００４９】
樋１２は、外周部が円板部材１１′′の円弧に沿うように湾曲し、湾曲した端辺が円板部材１１′′に近接して配されるとともに、長手方向の他端部は排水槽２０内に配設されている。つまり、樋１２は上記第１実施形態における平板部材１１の折り曲げ部１１ｃと同様の機能を有し、円板面１１′′ａ，１１′′ｂから溢れた処理液を排水槽２０内に伝えるようになっている。
なお、近接の範囲は上記第１実施形態と同様である。
【００５０】
本発明の第３実施形態としての乾燥装置は、上述のように構成されているので、基板Ｗが左隅角部を受液手段１１′′に接触又は近接させながらエアナイフ１０，１０間を通過する際に、基板Ｗ左側方にはみ出した液塊表面が円板面１１′′ａ，１１′′ｂに接触し、処理液は表面張力の作用により液体のまま円板部材１１′′側へ流出する。そして、円板部材１１′′側に流入した処理液は、円板回転により基板Ｗから速やかに隔離されて樋１２側に移動し、更に、表面張力の作用により円板面１１′′ａ，１１′′ｂから樋１２側へ流出し、自重により樋１２を伝わって排水槽２０内に排出される。
【００５１】
したがって、本実施形態の乾燥装置においても、上記第１実施形態と同様の効果が得られる他、基板Ｗから流出した処理液は円板回転によって順次樋１２に移動されるため基板Ｗ付近に滞留することがなく、処理液の排水効率を高めることができる。
また、円板部材１１′′が基板Ｗの搬送速度と略等速度で回転しているため、基板Ｗ側部がこの円板部材１１′′に接触して通過した場合にその接触抵抗が低減され、基板Ｗをスムーズに搬送することができる。
【００５２】
次に、本発明の第４実施形態について図９を用いて説明する。なお、本実施形態に係る乾燥装置では、図１〜図６を用いて説明した第１実施形態の乾燥装置と同様の部位については同じ符号を付し、その説明を一部省略する。
図９に示すように、本実施系形態に係る乾燥装置は、受液手段として回動可能な円柱部材１１′′′が用いられている。そして、これ以外は上記の第１実施形態と同様に構成されている。
【００５３】
円柱部材１１′′′は、軸方向が略鉛直方向に配されるとともに、その外周面が搬送路Ｒａ，Ｒｂの上記所定傾斜方向側（例えば図９では左方向側）の路側ｒ１に搬送路Ｒａ，Ｒｂ外から接触又は近接するように配置されている。
また、円柱部材１１′′′は図示しない駆動手段により基板Ｗを搬送方向に送り出すような回転方向（例えば、図９では上面視図半時計回り）に基板Ｗの搬送速度と略等しい速度で回動されるようになっている。
【００５４】
さらに、円柱部材１１′′′の外周面には、基板表面Ｗａ付近の位置から排水槽２０に延びる方向に螺旋状の溝１４が形成されている。この溝１４は、溝１４内に流入した処理液を円柱部材１１′′′の回転により排水槽２０内へ効率よく伝えるようにしたもので、例えば円柱部材１１′′′の回転方向が上面視図半時計回りであれば、溝１４はその螺旋の回転方向が基板表面Ｗａ付近から下方へ向けて上面視図半時計回りとなるように形成される。また、溝１４のピッチは基板Ｗの厚みよりも大きくなるように形成され、基板表面Ｗａから溝１４内に流入した処理液が基板裏面Ｗｂ側に再付着されることを防止するようになっている。さらに、この溝１４内は親水面として構成され、基板Ｗから処理液が溝１４内にスムーズに流入されるようになっている。
【００５５】
本発明の第４実施形態としての乾燥装置は、上述のように構成されているので、基板Ｗが左隅角部を円柱部材１１′′′の外周面に接触又は近接させながらエアナイフ１０，１０間を通過する際に、基板Ｗ左側方にはみ出した液塊表面が円柱外周面に接触し溝１４内に流入する。そして、溝１４内に流入した処理液は円柱部材１１′′′の回転により基板Ｗから速やかに隔離されて下方へ伝えられ、排水槽２０内に排出される。
【００５６】
したがって、本実施形態の乾燥装置においても、基板Ｗの隅角部の溜まった液塊５０を飛散させることなく液体のまま排水槽２０内に排出しているため、送風や排気のコストを低減できる他、基板Ｗから溝１４内に流出した処理液は螺旋に沿って排出されるため、処理液の排水効率が高い。また、溝１４内に流出した処理液は円柱部材１１′′′の回転によって基板Ｗから速やかに隔離されて順次排水方向へ送りだされるため、基板Ｗ付近に滞留することがなく、更に排水効率を高めることができる。
また、円柱部材１１′′′が基板Ｗの搬送速度と略等速度で回転しているため、基板Ｗ側部がこの円柱部材１１′′′に接触して通過した場合にその接触抵抗が低減され、基板Ｗをスムーズに搬送することができる。
【００５７】
なお、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
例えば、上記第１，第３実施形態では、折り曲げ部１１ｃや樋１２によって処理液を排水槽２０内に伝えて排出する代わりに、平板面又は円板面に近接して排水管を設け、排水ポンプにより平板面や円板面上の処理液を吸引するようにしてもよい。この場合、上記排水ポンプ及び排水管は本発明の排水手段として機能する。このように一旦平板面又は円板面側に流出させた処理液を排水管で回収する場合、排水管のレイアウトをラフに配置しても基板Ｗを傷つける虞がないため、基板Ｗ隅角部から直接処理液を回収する場合に比べて有利である。
【００５８】
また、上記第２実施形態において、円板部材１１′′を駆動手段により回動せずに、単に回転可能な構成とすることもできる。この場合でも基板Ｗが円板部材１１′′の側方に接触して通過した場合にその接触抵抗を低減でき、円板面１１ａ′′，１１ｂ′′に流出した処理液は、円板部材１１の傾斜により樋１２側へ移動し、自重により樋１２を伝わって排水槽２０内に排出される。
【００５９】
【実施例】
本発明者らは、本発明の効果を実証するために本発明に係る構成の乾燥装置を実際に作製した。
本実施例の乾燥装置は上記第１実施形態の乾燥装置を基本構成とし、搬送の際の基板の傾斜角（即ち、搬送路の傾斜角）を２°として乾燥を行なった結果、従来（８ｌ／ｍｉｎ・ｃｍ）に比べて１／１０程度の送風力により処理液が基板から平板部材側へ流出することを確認した。
【００６０】
【発明の効果】
以上、詳述したように本発明によれば、処理液を空気中に飛散させることなく液体のまま回収できるため、送風手段の送風力を小さくすることができ、送風のためのランニングコストを低減できる。また、処理液を液体のまま回収しているため、別途排気装置を設けて飛散した処理液を回収する必要がなくなり、排気のためのランニングコストを削減できる。
このとき、受液手段を上記搬送路上の上記基板の表面を延長した面内に受液面を有する部材として構成し、上記受液面の外周が、上記搬送路外から上記搬送路の路側に接触又は近接して配されるようにすることで、受液面と搬送路とが接触又は近接の範囲で連続した平面となり、処理液を受液面側へスムーズに流出させることができる。
また、軸方向を略鉛直方向に配され、外周面に上記処理液を受液しうる螺旋状の溝が形成された回転自在な円柱部材として構成することで、基板が受液手段の側部を接触又は近接して搬送される際に溝内に流入した処理液は、円柱部材の回転により基板から速やかに隔離されるとともに螺旋に沿って排出されため、処理液の排水効率を高めることができる。また、円柱部材が回転することで、搬送中の基板と円柱部材とが接触した際にその接触抵抗を低減でき、基板の搬送をスムーズに行なわせることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る乾燥装置の全体構成を示す模式的な斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る乾燥装置の構成を示す上面視図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る乾燥装置の要部を拡大して示す図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係る乾燥装置の要部構成を示す正面図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る乾燥装置の作用を説明するための要部拡大図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る乾燥装置の備えられる乾燥槽の構成を示す模式図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係る乾燥装置の全体構成を示す模式的な斜視図であり、図１に対応する図である。
【図８】本発明の第３実施形態に係る乾燥装置の全体構成を示す模式的な斜視図であり、図１に対応する図である。
【図９】本発明の第４実施形態に係る乾燥装置の全体構成を示す模式的な斜視図であり、図１に対応する図である。
【符号の説明】
１０　エアナイフ（送風手段）
１０ａ　開口部
１１　平板部材（受液手段）
１１′多孔質部材（受液手段）
１１′′円板部材（受液手段）
１１′′′円柱部材（受液手段）
１１ａ，１１ｂ　平板面（受液面）
１１′ａ，１１′ｂ　細孔面（受液面）
１１′′ａ，１１′′ｂ　円板面（受液面）
１３　排水手段
１４　溝
５０　処理液
１０４　搬送ロール（搬送手段）
ｒ１　路側
Ｒ，Ｒａ，Ｒｂ　搬送路
Ｗ　基板

Claims

表面に液膜或いは液滴状の処理液を有する基板を一方向に搬送する搬送路を有する搬送手段と、
上記搬送路の近傍に配置され、上記処理液を搬送方向の上流側に移動させるように上記基板の表面に向けて乾燥用気体を送風する送風手段と、
上記搬送路の上記送風手段よりも上流側の路側に接触又は近接して設けられ、上記基板の表面の上記処理液を受液する受液手段とを備えたことを特徴とする、乾燥装置。
上記受液手段は上記処理液を表面張力の働きにより受液することを特徴とする、請求項１記載の乾燥装置。
上記送風手段は上記搬送方向に対して所定の傾斜角の方向に向けて送風するものであり、上記受液手段は上記搬送路の上記送風の下流側に設けられていることを特徴とする、請求項１又は２記載の乾燥装置。
上記受液手段が、上記搬送路上の上記基板の表面を延長した面内に上記処理液の受液面を有し、上記受液面の外周が、上記搬送路外から上記搬送路の路側に接触又は近接するように配されたことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかの項に記載の乾燥装置。
上記受液面が上記搬送路の路側に接触又は近接する略直線状の端辺を有し、上記端辺が上記搬送路の路側に沿うように配されたことを特徴とする、請求４記載の乾燥装置。
上記受液面が略真円形状を有し、上記受液面が上記搬送路と略同一水平面内において回転可能に構成されたことを特徴とする、請求項４記載の乾燥装置。
上記受液面が上記基板の搬送速度と略同期して回転することを特徴とする、請求項６記載の乾燥装置。
上記受液面が親水面として構成されたことを特徴とする、請求項４〜７のいずれかの項に記載の乾燥装置。
上記受液面が細孔面として構成されたことを特徴とする、請求項４〜７のいずれかの項に記載の乾燥装置。
上記受液面に受液された処理液を排水する排水手段を更に備えたことを特徴とする、請求項４〜９のいずれかの項に記載の乾燥装置。
上記受液手段が、軸方向を略鉛直方向に配され、外周面に上記処理液を受液しうる螺旋状の溝が形成された円柱部材として構成されたことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかの項に記載の乾燥装置。
上記搬送路が、上記送風の下流側の路側が対向する路側に対して低位となるように傾斜したことを特徴とする、請求項３〜１１のいずれかの項に記載の乾燥装置。
上記搬送路の傾斜角度が２°以上１０°以下であることを特徴とする、請求項１２記載の乾燥装置。
上記送風手段が、スリット状の送風口を有するエアナイフとして構成されたことを特徴とする、請求項１〜１３のいずれかの項に記載の乾燥装置。