JP2004020403A - 電子機器表示装置、電子機器、及びその製造方法 - Google Patents
電子機器表示装置、電子機器、及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004020403A JP2004020403A JP2002176540A JP2002176540A JP2004020403A JP 2004020403 A JP2004020403 A JP 2004020403A JP 2002176540 A JP2002176540 A JP 2002176540A JP 2002176540 A JP2002176540 A JP 2002176540A JP 2004020403 A JP2004020403 A JP 2004020403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electronic device
- distribution
- display device
- magnetic field
- field distribution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/001—Measuring interference from external sources to, or emission from, the device under test, e.g. EMC, EMI, EMP or ESD testing
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R29/00—Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
- G01R29/08—Measuring electromagnetic field characteristics
- G01R29/0864—Measuring electromagnetic field characteristics characterised by constructional or functional features
- G01R29/0892—Details related to signal analysis or treatment; presenting results, e.g. displays; measuring specific signal features other than field strength, e.g. polarisation, field modes, phase, envelope, maximum value
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Controls And Circuits For Display Device (AREA)
Abstract
【課題】電子機器の内部を流れる電流から電磁波の放射要因となる箇所を特定する。
【解決手段】被測定対象である電子機器近傍の磁界分布または電界分布から導かれた電流分布、電圧分布、電力分布またはインピーダンス分布のうち少なくとも一つを、前記電子機器の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図の画面に、重畳または複数画面に表示し、同一座標を示すポインタを設ける,また上記電流分布、電圧分布、消費電力分布、インピーダンス分布等の周波数特性,時間特性,層または平面別分布表示の方法により、従来よりも格段に分解能が高く,被測定対象の測定箇所が多い場合、測定した磁界分布が複雑な場合等においても、電磁界を発生する配線、部品等を特定することを可能とする電子機器表示装置を提供する。
【選択図】 図2
【解決手段】被測定対象である電子機器近傍の磁界分布または電界分布から導かれた電流分布、電圧分布、電力分布またはインピーダンス分布のうち少なくとも一つを、前記電子機器の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図の画面に、重畳または複数画面に表示し、同一座標を示すポインタを設ける,また上記電流分布、電圧分布、消費電力分布、インピーダンス分布等の周波数特性,時間特性,層または平面別分布表示の方法により、従来よりも格段に分解能が高く,被測定対象の測定箇所が多い場合、測定した磁界分布が複雑な場合等においても、電磁界を発生する配線、部品等を特定することを可能とする電子機器表示装置を提供する。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子機器から放射される電磁波ノイズの発生源を特定し、表示する電子機器表示装置、前記電磁波ノイズの低減を図る電子機器、およびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来は,半導体や回路基板、及びそれらを用いた電子機器の近傍磁界分布を測定し,この磁界分布を表示するか、またはその電子機器の画像に投影した。
【0003】
例えば、特開2000−19204においては、アンテナ・プローブにて被測定対象である回路基板の磁界分布を測定し、この結果(磁界分布等高線図503)を図5に示すように回路基板画像502の上に重畳表示501していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし,この方法では,発生要因である電流そのものではなく、電流の流れる配線からある高さz=hにおける磁界を測定し,表示しているため,得られる磁界分布には広がりがあり、従って電磁波ノイズの発生源を配線や部品単位で特定することができないという問題がある。そのため、電磁波ノイズの低減を図る電子機器の製造方法においては、配線や部品単位で電磁波ノイズ発生源を特定する別工程が必要となる。
【0005】
また、被測定対象の測定箇所が多い場合、測定した磁界分布が複雑な場合または3次元的に被測定対象を確認したい場合において、重畳表示では視認性が悪いという問題もある。
【0006】
そこで本発明では、電子機器内部において電磁波ノイズの発生源を配線、部品単位で特定することができる電子機器表示装置を提供することを目的とする。
【0007】
また、本発明の他の目的は、電磁波ノイズの低減を図った電子機器、及び電磁波ノイズを発生する電子機器の改善工程の高速化、簡易化を可能にする電子機器の製造方法を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
前記目的の少なくとも一つを解決する為に、本願において開示される発明のうち代表的なものを簡単に説明すれば次の通りである。
(1)電子機器近傍の磁界分布から電流分布を導き、表示する電子機器表示装置であって、前記電子機器の前記電流分布を層毎に分離表示するとことを特徴とする電子機器表示装置。
(2)電子機器の磁界分布を測定する第一の工程と、前記測定分布から電磁波ノイズ発生源を特定する第二の工程と、前記電磁波ノイズ発生源の特定に基づき電子機器を改善する第三の工程とを有する電子機器の製造方法であって、
前記工程のうち少なくとも一つの工程では、前記磁界分布から電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを導き、前記導かれた分布を前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図の画面に重畳表示する工程を有することを特徴とする電子機器の製造方法。
(3)電磁波ノイズの低減を図った電子機器であって、前記電磁波ノイズの発生源を特定する工程では、電子機器近傍の磁界分布から電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを導き、前記導かれた分布を前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図の画面に重畳表示することを特徴とする電子機器。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態について図を併用しつつ具体的に説明する。
図1に示す測定系の様に,アンテナ・プローブ101を走査系ステージ102に取り付け,台座103の上に半導体や回路基板等を含む電子機器を搭載し,これら被測定対象近傍にアンテナ・プローブ101を走査系ステージ102で移動させ,被測定対象の動作時における近傍磁界分布または近傍電界分布を,計測器105で測定し,その測定データ503を表示装置付き計算機104で読み込む。この表示装置付き計算機104には,測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図のデータを格納しておく。または走査系ステージ102にカメラを搭載し,そのカメラから撮影した画像を取り込んでも良い。
【0010】
なお、本発明でいう近傍とは、被測定対象上(0cm)より遠く、測定する周波数の上限(fmax)より定まる波長(λ=c/fmax)までの距離範囲を指す。
例えば、測定周波数帯域が30MHz〜1GHzならば、上限が1GHzであり、
λ=3E8/1E9=30cmとなり、
測定する周波数が単一周波数で30MHzならば、fmax=30MHzであり、
λ=30E6/1E9=10cmとなる。
【0011】
上記測定データ503から, 表示装置付き計算機104内部で
H(xh,yh,zh)=f{i(xi,yi,zi)} | r=√{(xh−xi)^2+(yh−yi)^2+(zh−zi)^2}
の関係が正確にまたは近似的に成り立つ電流分布I(xi,yi):203を算出し,図6に示す回路基板上に電流分布を重畳表示することで,電磁波を発生する要因となる電流経路が配線,部品単位で認識できる。同様に半導体では,図2に示す様に,その画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図のデータ202に対して,上記と同様にして算出した電流分布203を重畳表示201する事で,電流経路がわかる。さらに,電子機器筐体では,図12に示す様に,その画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図のデータ1102に対して,同様にして算出された電流分布203を重畳表示1201する事で,電流経路または筐体表面上電流分布がわかる。同じく電子筐体に対し、電磁界分布503を重畳表示1101している図11と比較すると、その効果は明らかである。
【0012】
ここで,重畳表示では,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図に,探査結果を重ねるため,見難くなるおそれがある。そのため,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図を白黒またはそのトーン表示で表示し,電流分布を強度毎に色分けすることが考えられる。
【0013】
次に,被測定対象の測定箇所が多い場合または探査した電流分布が複雑な場合においては、重畳表示では認識し難いという問題がある。
そこで,図8に示すように,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図502と探査した結果の電流分布203を,複数の画面に表示することが考えられる。図8は回路基板の例であるが,これは,図3に示すLSIの場合や図14に示す筐体の場合でも同様のことが可能である。なお、この複数画面表示において、表示する分布は電流分布に限るものではなく、図7や図13に示すように電磁界分布であっても同様の効果が得られることは言うまでもない。
【0014】
ここで,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図202,502と探査した結果の電流分布203が別画面であるため,電流の位置と被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図上の位置とが一致して認識できない問題が生じる。これに対しては,同座標表示ポインタ302を設け,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図上の座標と探査した結果の電流分布上の座標とが同じ位置を示すようにすることで解消できる。このように、複数画面表示することで、複数の分布を視認性に優れた形で同時に見ることができ、より利用性の高いものを提供できる。
【0015】
なお、上記複数の画面を構成するには、図20に示すように一つの画面装置上に複数の画面を有する形態でも、図21に示すように複数の画面装置を用いる形態でもよい。また、複数の画面に表示される対象は、被測定対象の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図、測定および探査された分布のうちどの組合せでもよく、図22のように、改善前後の電流分布どうしを表示してもよい。
【0016】
上記同座標ポインタの表示方法では,立体構造の筐体等では平面に投影した位置は認識出来るが,3次元的に被測定対象を確認したい場合には困難が生じる。そこで,図10に示すように,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図502を表示する平面と,測定した結果の電流分布203を表示する平面とを分離(例えば平行移動)して表示することが考えられる。
図10は回路基板の例であるが,これは,図4に示すLSIの場合,および図16に示す筐体の場合でも同様のことが可能である。なお、この平面分離表示において、表示する分布は電流分布に限るものではなく、図9や図15に示すように電磁界分布であっても同様の効果が得られることは言うまでもない。
【0017】
以上は被測定対象近傍の磁界分布を測定し,この磁界分布から電流を求めた場合の表示方法を主として記載したが,被測定対象近傍の電界分布を測定し,この電界分布から次式
E(xh,yh,zh)=g{V(xi,yi,zi)} | r=√{(xh−xi)^2+(yh−yi)^2+(zh−zi)^2}
により電圧分布を求めた場合,同様の表示方法が考えられる。
【0018】
さらに,被測定対象近傍の磁界分布および電界分布から被測定対象上の電流分布および電圧分布の両方を計算により求めることも出来る。
【0019】
さらに,電流分布と電圧分布の両方を求めた場合,
P(x,y,z)=i(x,y,z)×V(x,y,z)
z(x,y,z)=V(x,y,z)/i(x,y,z)
の式より,被測定対象上の電力分布,インピーダンス分布を求めることが可能であり,上記表示方法に適用することが可能である。
【0020】
さらに測定する被測定対象近傍磁界を周波数特性として測定し,各周波数に対する電流分布を算出することで,図17に示すように表示する分布を周波数特性の表示とすることが可能である。この図17は,終端が解放端であるマイクロストリップライン1701上に複数の周波数成分を含む電流が流れた場合の結果であり,周波数毎の電流分布波形1704は導体1703上に分布しており,この周波数毎の表示例1702である。
【0021】
また,測定する被測定対象近傍磁界を時間特性として測定し,電流分布の時間特性を算出し,これをフーリエ変換により周波数特性に変換することで,図17に示すように表示する分布を周波数特性の表示とすることが可能である。
上記周波数特性を表示する方法についても,測定する対象を近傍磁界分布または近傍電界分布とし,電流,電圧,電力またはインピーダンス分布を算出することで,電流,電圧,電力またはインピーダンス分布の,各々の周波数特性の表示が可能となる。
【0022】
さらに測定する被測定対象近傍磁界を時間特性として測定し,電流分布の時間特性1704を算出することで,図18に示すように表示する分布を時間特性の表示とすることが可能である。この図18は,終端が解放端であるマイクロストリップライン1701とそのマイクロストリップライン1701上を電流が流れ始めた場合の時間特性表示1801であり,導体1703上に時間毎の電流分布波形1704は分布している。このように、時間特性表示においては、電磁ノイズ発生源を配線、部品単位で特定できるだけでなく、電磁ノイズ発生の原因の一つである不連続点をも特定し、改善することができる。
【0023】
上記時間に応じた表示の方法についても,測定する対象を近傍磁界分布または近傍電界分布とし,電流,電圧,電力またはインピーダンス分布を算出することで,電流,電圧,電力またはインピーダンス分布の,各々の時間特性の表示が可能となる。
【0024】
また図19の例は,マイクロストリップライン1701に対して近傍磁界分布から電流分布を層毎に求めた結果であり,最上層の導体部1704には供給した電流分布1703が流れ,中間層の誘電体部分には電流が存在せず,最下層のグランドプレーン1902には,リターン電流1903が流れていることがわかる。
【0025】
この様に,上記被測定対象の近傍磁界分布または近傍電界分布を測定し,このデータから,電流分布,電圧分布,電力分布またはインピーダンス分布のうち少なくとも一つを算出し,その周波数特性または時間特性を表示する装置において,位置を2次元平面の多層構造として,3次元的に求め,この各平面に対する分布,周波数特性または時間特性を層毎に表示することが可能となる。
【0026】
なお、上述した重畳表示、複数画面表示、平面分離表示、層毎・平面毎・構造毎に表示、周波数変化に応じた表示または時間変化に応じた表示等は併用することでさらに視認性、利用性に優れた電子機器表示装置を提供できる。
【0027】
また、上記分布、上記表示を利用することにより、電磁波ノイズの低減を図った電子機器、及び電磁波ノイズを発生する電子機器の改善工程の高速化、簡易化を可能にする電子機器の製造方法を提供できる。
【0028】
以上、本発明によってなされた発明を実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0029】
また、上記実施例において開示した観点の代表的なものは次の通りである。
(1)電子機器近傍の磁界分布から電流分布を導き、表示する電子機器表示装置であって,前記電子機器の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図の画面に,前記導かれた電流分布を重畳表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(2)上記(1)記載の電子機器表示装置であって、前記重畳表示するにあたり、前記被測定対象を白黒もしくはそのトーン表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(3)電子機器近傍の磁界分布を測定し、表示する電子機器表示装置であって、前記磁界分布と、前記電子機器の画面、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図とを、複数の画面で表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(4)上記(3)記載の電子機器表示装置であって、前記磁界分布を表示する画面と、前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図を表示する画面に、同一の座標を指示するポインタを表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(5)上記(3)記載の電子機器表示装置であって、前記磁界分布から電流分布を導き、表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(6)上記(5)記載の電子機器表示装置であって、前記電流分布を表示する画面と、前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図を表示する画面に、同一の座標を指示するポインタを表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(7)電子機器近傍の磁界分布を測定し、表示する装置であって、前記電子機器の層毎に前記磁界分布を分離表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(8)上記(7)記載の電子機器表示装置であって、前記磁界分布から層毎に電流分布を導き、表示することを特徴とする電子機器測定表示装置。
(9)上記(1)、(5)、(8)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、磁界分布から導き出す対象が電圧分布であることを特徴とする電子機器表示装置。
(10)上記(1),(5),(8)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、磁界分布から導き出す対象が電力分布であることを特徴とする電子機器表示装置。
(11)上記(1),(5),(8)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、磁界分布から導き出す対象がインピーダンス分布であることを特徴とする電子機器表示装置。
(12)上記(1)から(11)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、測定する対象が電界分布であることを特徴とする電子機器表示装置。
(13)上記(1)から(11)のうちいずれか一つに記載の電子機器測定表示装置であって、測定する対象が磁界分布と電界分布の両方であることを特徴とする電子機器表示装置。
(14)上記(1)から(13)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、表示する分布が、周波数変化に応じた表示となることを特徴とする電子機器表示装置。
(15)上記(1)から(13)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、表示する分布が、時間変化に応じた表示となることを特徴とする電子機器表示装置。
(16)上記(1)から(13)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、表示する分布が、断面毎に移り変わる表示となることを特徴とする電子機器表示装置。
(17)電子機器近傍の磁界分布を測定し、表示する装置であって、表示する分布が、時間変化に応じた表示となることを特徴とする電子機器表示装置
(18)上記(17)記載の電子機器表示装置であって、測定する対象が電界分布であることを特徴とする電子機器表示装置。
(19)電子機器の磁界分布を測定する第一の工程と、前記測定分布から電磁波ノイズ発生源を特定する第二の工程と、前記電磁波ノイズ発生源の特定に基づき電子機器を改善する第三の工程とを有する電子機器の製造方法であって、
前記工程のうち少なくとも一つの工程では、前記磁界分布から導かれる電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを利用することを特徴とする電子機器の製造方法。
(20)上記(19)記載の電子機器の製造方法であって、測定する対象が電界分布であることを特徴とする電子機器の製造方法。
(21)電磁波ノイズの低減を図った電子機器であって、前記電磁波ノイズの発生源を特定する工程では、電子機器近傍の磁界分布から導かれる電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを利用することを特徴とする電子機器。
(22)上記(21)記載の電子機器であって、測定する対象が電界分布であることを特徴とする電子機器。
(23)上記(21)または(22)記載の電子機器であって、前記導かれた分布を前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図の画面に重畳表示する工程を有することを特徴とする電子機器。
【0030】
【発明の効果】
本願において開示された発明のうち代表的なものによって、少なくとも次のいずれかの効果を得ることができる。
(1)従来よりも分解能が高く、電磁界の発生源を配線、部品単位で特定することができる。
(2)被測定対象の測定箇所が多い場合、測定した磁界分布が複雑な場合、または3次元的に被測定対象を確認したい場合においても、視認性に優れた形で表示することができる。
(3)電磁界ノイズ発生要因の一つである配線の不連続点を特定し、改善することができる。
(4)改善前後の電流分布を複数画面で表示することができるので、改善後の効果を確認できる。
(5)電子機器の磁界分布を測定する第一の工程と、前記測定分布から電磁波ノイズ発生源を特定する第二の工程と、前記電磁波ノイズ発生源の特定に基づき電子機器を改善する第三の工程とを有する電子機器の製造方法において、高速化、簡易化が可能である。
(6)上記(5)記載の製造方法の高速化、簡易化に基づき、電磁波ノイズの低減を図った電子機器を量産することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】測定系を示す図。
【図2】LSI内電流分布重畳表示を示す図。
【図3】LSI内電流分布複数画面表示を示す図。
【図4】LSI内電流分布平面分離表示を示す図。
【図5】回路基板上電磁界分布重畳表示を示す図。
【図6】回路基板上電流分布重畳表示を示す図。
【図7】回路基板上電磁界分布複数画面表示を示す図。
【図8】回路基板上電流分布複数画面表示を示す図。
【図9】回路基板上電磁界分布平面分離表示を示す図。
【図10】回路基板上電流分布平面分離表示を示す図。
【図11】筐体表面上電磁界分布重畳表示を示す図。
【図12】筐体表面上電流分布重畳表示を示す図。
【図13】筐体表面上電磁界分布複数画面表示を示す図。
【図14】筐体表面上電流分布複数画面表示を示す図。
【図15】筐体表面上電磁界分布平面分離表示を示す図。
【図16】筐体表面上電流分布平面分離表示を示す図。
【図17】マイクロストリップライン電流分布周波数特性表示を示す図。
【図18】マイクロストリップライン電流分布時間特性表示を示す図。
【図19】マイクロストリップライン電流分布層分離表示を示す図。
【図20】複数画面表示の形態を示す図。
【図21】複数画面表示の形態を示す図。
【図22】改善前後の電流分布複数画面表示を示す図。
【符号の説明】
101・・・アンテナ・プローブ
102・・・走査系ステージ
103・・・台座
104・・・表示装置付き計算機
105・・・計測器
201・・・LSI内電流分布重畳表示
202・・・LSIレイアウト
203・・・探査結果(例えば電流分布)
301・・・LSI内電流探査結果複数画面表示
302・・・同座標表示ポインタ
401・・・LSI内電流探査結果平面分離表示
501・・・回路基板上電磁界分布重畳表示
502・・・回路基板レイアウト
503・・・探査結果(例えば電磁界分布)
601・・・回路基板上電流分布重畳表示
701・・・回路基板上電磁界分布複数画面表示
801・・・回路基板上電流分布複数画面表示
901・・・回路基板上電磁界分布平面分離表示
1001・・・回路基板上電流分布平面分離表示
1101・・・筐体表面上電磁界分布重畳表示
1102・・・筐体形状データ
1202・・・筐体表面上電流分布重畳表示
1301・・・筐体表面上電磁界分布複数画面表示
1401・・・筐体表面上電流分布複数画面表示
1501・・・筐体表面上電磁界分布平面分離表示
1601・・・筐体表面上電流分布平面分離表示
1701・・・マイクロストリップライン
1702・・・電流分布周波数特性表示
1703・・・導体
1704・・・電流分布波形
1801・・・電流分布時間特性表示
1901・・・電流分布層分離表示
1902・・・グランドプレーン
1903・・・リターン電流
2201・・・LSI内電流分布表示(改善前)
2202・・・LSI内電流分布表示(改善後)
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子機器から放射される電磁波ノイズの発生源を特定し、表示する電子機器表示装置、前記電磁波ノイズの低減を図る電子機器、およびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来は,半導体や回路基板、及びそれらを用いた電子機器の近傍磁界分布を測定し,この磁界分布を表示するか、またはその電子機器の画像に投影した。
【0003】
例えば、特開2000−19204においては、アンテナ・プローブにて被測定対象である回路基板の磁界分布を測定し、この結果(磁界分布等高線図503)を図5に示すように回路基板画像502の上に重畳表示501していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし,この方法では,発生要因である電流そのものではなく、電流の流れる配線からある高さz=hにおける磁界を測定し,表示しているため,得られる磁界分布には広がりがあり、従って電磁波ノイズの発生源を配線や部品単位で特定することができないという問題がある。そのため、電磁波ノイズの低減を図る電子機器の製造方法においては、配線や部品単位で電磁波ノイズ発生源を特定する別工程が必要となる。
【0005】
また、被測定対象の測定箇所が多い場合、測定した磁界分布が複雑な場合または3次元的に被測定対象を確認したい場合において、重畳表示では視認性が悪いという問題もある。
【0006】
そこで本発明では、電子機器内部において電磁波ノイズの発生源を配線、部品単位で特定することができる電子機器表示装置を提供することを目的とする。
【0007】
また、本発明の他の目的は、電磁波ノイズの低減を図った電子機器、及び電磁波ノイズを発生する電子機器の改善工程の高速化、簡易化を可能にする電子機器の製造方法を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
前記目的の少なくとも一つを解決する為に、本願において開示される発明のうち代表的なものを簡単に説明すれば次の通りである。
(1)電子機器近傍の磁界分布から電流分布を導き、表示する電子機器表示装置であって、前記電子機器の前記電流分布を層毎に分離表示するとことを特徴とする電子機器表示装置。
(2)電子機器の磁界分布を測定する第一の工程と、前記測定分布から電磁波ノイズ発生源を特定する第二の工程と、前記電磁波ノイズ発生源の特定に基づき電子機器を改善する第三の工程とを有する電子機器の製造方法であって、
前記工程のうち少なくとも一つの工程では、前記磁界分布から電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを導き、前記導かれた分布を前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図の画面に重畳表示する工程を有することを特徴とする電子機器の製造方法。
(3)電磁波ノイズの低減を図った電子機器であって、前記電磁波ノイズの発生源を特定する工程では、電子機器近傍の磁界分布から電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを導き、前記導かれた分布を前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図の画面に重畳表示することを特徴とする電子機器。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態について図を併用しつつ具体的に説明する。
図1に示す測定系の様に,アンテナ・プローブ101を走査系ステージ102に取り付け,台座103の上に半導体や回路基板等を含む電子機器を搭載し,これら被測定対象近傍にアンテナ・プローブ101を走査系ステージ102で移動させ,被測定対象の動作時における近傍磁界分布または近傍電界分布を,計測器105で測定し,その測定データ503を表示装置付き計算機104で読み込む。この表示装置付き計算機104には,測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図のデータを格納しておく。または走査系ステージ102にカメラを搭載し,そのカメラから撮影した画像を取り込んでも良い。
【0010】
なお、本発明でいう近傍とは、被測定対象上(0cm)より遠く、測定する周波数の上限(fmax)より定まる波長(λ=c/fmax)までの距離範囲を指す。
例えば、測定周波数帯域が30MHz〜1GHzならば、上限が1GHzであり、
λ=3E8/1E9=30cmとなり、
測定する周波数が単一周波数で30MHzならば、fmax=30MHzであり、
λ=30E6/1E9=10cmとなる。
【0011】
上記測定データ503から, 表示装置付き計算機104内部で
H(xh,yh,zh)=f{i(xi,yi,zi)} | r=√{(xh−xi)^2+(yh−yi)^2+(zh−zi)^2}
の関係が正確にまたは近似的に成り立つ電流分布I(xi,yi):203を算出し,図6に示す回路基板上に電流分布を重畳表示することで,電磁波を発生する要因となる電流経路が配線,部品単位で認識できる。同様に半導体では,図2に示す様に,その画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図のデータ202に対して,上記と同様にして算出した電流分布203を重畳表示201する事で,電流経路がわかる。さらに,電子機器筐体では,図12に示す様に,その画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図のデータ1102に対して,同様にして算出された電流分布203を重畳表示1201する事で,電流経路または筐体表面上電流分布がわかる。同じく電子筐体に対し、電磁界分布503を重畳表示1101している図11と比較すると、その効果は明らかである。
【0012】
ここで,重畳表示では,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図に,探査結果を重ねるため,見難くなるおそれがある。そのため,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図を白黒またはそのトーン表示で表示し,電流分布を強度毎に色分けすることが考えられる。
【0013】
次に,被測定対象の測定箇所が多い場合または探査した電流分布が複雑な場合においては、重畳表示では認識し難いという問題がある。
そこで,図8に示すように,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図502と探査した結果の電流分布203を,複数の画面に表示することが考えられる。図8は回路基板の例であるが,これは,図3に示すLSIの場合や図14に示す筐体の場合でも同様のことが可能である。なお、この複数画面表示において、表示する分布は電流分布に限るものではなく、図7や図13に示すように電磁界分布であっても同様の効果が得られることは言うまでもない。
【0014】
ここで,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図202,502と探査した結果の電流分布203が別画面であるため,電流の位置と被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図上の位置とが一致して認識できない問題が生じる。これに対しては,同座標表示ポインタ302を設け,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図上の座標と探査した結果の電流分布上の座標とが同じ位置を示すようにすることで解消できる。このように、複数画面表示することで、複数の分布を視認性に優れた形で同時に見ることができ、より利用性の高いものを提供できる。
【0015】
なお、上記複数の画面を構成するには、図20に示すように一つの画面装置上に複数の画面を有する形態でも、図21に示すように複数の画面装置を用いる形態でもよい。また、複数の画面に表示される対象は、被測定対象の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図、測定および探査された分布のうちどの組合せでもよく、図22のように、改善前後の電流分布どうしを表示してもよい。
【0016】
上記同座標ポインタの表示方法では,立体構造の筐体等では平面に投影した位置は認識出来るが,3次元的に被測定対象を確認したい場合には困難が生じる。そこで,図10に示すように,被測定対象の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図502を表示する平面と,測定した結果の電流分布203を表示する平面とを分離(例えば平行移動)して表示することが考えられる。
図10は回路基板の例であるが,これは,図4に示すLSIの場合,および図16に示す筐体の場合でも同様のことが可能である。なお、この平面分離表示において、表示する分布は電流分布に限るものではなく、図9や図15に示すように電磁界分布であっても同様の効果が得られることは言うまでもない。
【0017】
以上は被測定対象近傍の磁界分布を測定し,この磁界分布から電流を求めた場合の表示方法を主として記載したが,被測定対象近傍の電界分布を測定し,この電界分布から次式
E(xh,yh,zh)=g{V(xi,yi,zi)} | r=√{(xh−xi)^2+(yh−yi)^2+(zh−zi)^2}
により電圧分布を求めた場合,同様の表示方法が考えられる。
【0018】
さらに,被測定対象近傍の磁界分布および電界分布から被測定対象上の電流分布および電圧分布の両方を計算により求めることも出来る。
【0019】
さらに,電流分布と電圧分布の両方を求めた場合,
P(x,y,z)=i(x,y,z)×V(x,y,z)
z(x,y,z)=V(x,y,z)/i(x,y,z)
の式より,被測定対象上の電力分布,インピーダンス分布を求めることが可能であり,上記表示方法に適用することが可能である。
【0020】
さらに測定する被測定対象近傍磁界を周波数特性として測定し,各周波数に対する電流分布を算出することで,図17に示すように表示する分布を周波数特性の表示とすることが可能である。この図17は,終端が解放端であるマイクロストリップライン1701上に複数の周波数成分を含む電流が流れた場合の結果であり,周波数毎の電流分布波形1704は導体1703上に分布しており,この周波数毎の表示例1702である。
【0021】
また,測定する被測定対象近傍磁界を時間特性として測定し,電流分布の時間特性を算出し,これをフーリエ変換により周波数特性に変換することで,図17に示すように表示する分布を周波数特性の表示とすることが可能である。
上記周波数特性を表示する方法についても,測定する対象を近傍磁界分布または近傍電界分布とし,電流,電圧,電力またはインピーダンス分布を算出することで,電流,電圧,電力またはインピーダンス分布の,各々の周波数特性の表示が可能となる。
【0022】
さらに測定する被測定対象近傍磁界を時間特性として測定し,電流分布の時間特性1704を算出することで,図18に示すように表示する分布を時間特性の表示とすることが可能である。この図18は,終端が解放端であるマイクロストリップライン1701とそのマイクロストリップライン1701上を電流が流れ始めた場合の時間特性表示1801であり,導体1703上に時間毎の電流分布波形1704は分布している。このように、時間特性表示においては、電磁ノイズ発生源を配線、部品単位で特定できるだけでなく、電磁ノイズ発生の原因の一つである不連続点をも特定し、改善することができる。
【0023】
上記時間に応じた表示の方法についても,測定する対象を近傍磁界分布または近傍電界分布とし,電流,電圧,電力またはインピーダンス分布を算出することで,電流,電圧,電力またはインピーダンス分布の,各々の時間特性の表示が可能となる。
【0024】
また図19の例は,マイクロストリップライン1701に対して近傍磁界分布から電流分布を層毎に求めた結果であり,最上層の導体部1704には供給した電流分布1703が流れ,中間層の誘電体部分には電流が存在せず,最下層のグランドプレーン1902には,リターン電流1903が流れていることがわかる。
【0025】
この様に,上記被測定対象の近傍磁界分布または近傍電界分布を測定し,このデータから,電流分布,電圧分布,電力分布またはインピーダンス分布のうち少なくとも一つを算出し,その周波数特性または時間特性を表示する装置において,位置を2次元平面の多層構造として,3次元的に求め,この各平面に対する分布,周波数特性または時間特性を層毎に表示することが可能となる。
【0026】
なお、上述した重畳表示、複数画面表示、平面分離表示、層毎・平面毎・構造毎に表示、周波数変化に応じた表示または時間変化に応じた表示等は併用することでさらに視認性、利用性に優れた電子機器表示装置を提供できる。
【0027】
また、上記分布、上記表示を利用することにより、電磁波ノイズの低減を図った電子機器、及び電磁波ノイズを発生する電子機器の改善工程の高速化、簡易化を可能にする電子機器の製造方法を提供できる。
【0028】
以上、本発明によってなされた発明を実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0029】
また、上記実施例において開示した観点の代表的なものは次の通りである。
(1)電子機器近傍の磁界分布から電流分布を導き、表示する電子機器表示装置であって,前記電子機器の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図の画面に,前記導かれた電流分布を重畳表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(2)上記(1)記載の電子機器表示装置であって、前記重畳表示するにあたり、前記被測定対象を白黒もしくはそのトーン表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(3)電子機器近傍の磁界分布を測定し、表示する電子機器表示装置であって、前記磁界分布と、前記電子機器の画面、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図とを、複数の画面で表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(4)上記(3)記載の電子機器表示装置であって、前記磁界分布を表示する画面と、前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図を表示する画面に、同一の座標を指示するポインタを表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(5)上記(3)記載の電子機器表示装置であって、前記磁界分布から電流分布を導き、表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(6)上記(5)記載の電子機器表示装置であって、前記電流分布を表示する画面と、前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図を表示する画面に、同一の座標を指示するポインタを表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(7)電子機器近傍の磁界分布を測定し、表示する装置であって、前記電子機器の層毎に前記磁界分布を分離表示することを特徴とする電子機器表示装置。
(8)上記(7)記載の電子機器表示装置であって、前記磁界分布から層毎に電流分布を導き、表示することを特徴とする電子機器測定表示装置。
(9)上記(1)、(5)、(8)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、磁界分布から導き出す対象が電圧分布であることを特徴とする電子機器表示装置。
(10)上記(1),(5),(8)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、磁界分布から導き出す対象が電力分布であることを特徴とする電子機器表示装置。
(11)上記(1),(5),(8)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、磁界分布から導き出す対象がインピーダンス分布であることを特徴とする電子機器表示装置。
(12)上記(1)から(11)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、測定する対象が電界分布であることを特徴とする電子機器表示装置。
(13)上記(1)から(11)のうちいずれか一つに記載の電子機器測定表示装置であって、測定する対象が磁界分布と電界分布の両方であることを特徴とする電子機器表示装置。
(14)上記(1)から(13)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、表示する分布が、周波数変化に応じた表示となることを特徴とする電子機器表示装置。
(15)上記(1)から(13)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、表示する分布が、時間変化に応じた表示となることを特徴とする電子機器表示装置。
(16)上記(1)から(13)のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、表示する分布が、断面毎に移り変わる表示となることを特徴とする電子機器表示装置。
(17)電子機器近傍の磁界分布を測定し、表示する装置であって、表示する分布が、時間変化に応じた表示となることを特徴とする電子機器表示装置
(18)上記(17)記載の電子機器表示装置であって、測定する対象が電界分布であることを特徴とする電子機器表示装置。
(19)電子機器の磁界分布を測定する第一の工程と、前記測定分布から電磁波ノイズ発生源を特定する第二の工程と、前記電磁波ノイズ発生源の特定に基づき電子機器を改善する第三の工程とを有する電子機器の製造方法であって、
前記工程のうち少なくとも一つの工程では、前記磁界分布から導かれる電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを利用することを特徴とする電子機器の製造方法。
(20)上記(19)記載の電子機器の製造方法であって、測定する対象が電界分布であることを特徴とする電子機器の製造方法。
(21)電磁波ノイズの低減を図った電子機器であって、前記電磁波ノイズの発生源を特定する工程では、電子機器近傍の磁界分布から導かれる電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを利用することを特徴とする電子機器。
(22)上記(21)記載の電子機器であって、測定する対象が電界分布であることを特徴とする電子機器。
(23)上記(21)または(22)記載の電子機器であって、前記導かれた分布を前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図の画面に重畳表示する工程を有することを特徴とする電子機器。
【0030】
【発明の効果】
本願において開示された発明のうち代表的なものによって、少なくとも次のいずれかの効果を得ることができる。
(1)従来よりも分解能が高く、電磁界の発生源を配線、部品単位で特定することができる。
(2)被測定対象の測定箇所が多い場合、測定した磁界分布が複雑な場合、または3次元的に被測定対象を確認したい場合においても、視認性に優れた形で表示することができる。
(3)電磁界ノイズ発生要因の一つである配線の不連続点を特定し、改善することができる。
(4)改善前後の電流分布を複数画面で表示することができるので、改善後の効果を確認できる。
(5)電子機器の磁界分布を測定する第一の工程と、前記測定分布から電磁波ノイズ発生源を特定する第二の工程と、前記電磁波ノイズ発生源の特定に基づき電子機器を改善する第三の工程とを有する電子機器の製造方法において、高速化、簡易化が可能である。
(6)上記(5)記載の製造方法の高速化、簡易化に基づき、電磁波ノイズの低減を図った電子機器を量産することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】測定系を示す図。
【図2】LSI内電流分布重畳表示を示す図。
【図3】LSI内電流分布複数画面表示を示す図。
【図4】LSI内電流分布平面分離表示を示す図。
【図5】回路基板上電磁界分布重畳表示を示す図。
【図6】回路基板上電流分布重畳表示を示す図。
【図7】回路基板上電磁界分布複数画面表示を示す図。
【図8】回路基板上電流分布複数画面表示を示す図。
【図9】回路基板上電磁界分布平面分離表示を示す図。
【図10】回路基板上電流分布平面分離表示を示す図。
【図11】筐体表面上電磁界分布重畳表示を示す図。
【図12】筐体表面上電流分布重畳表示を示す図。
【図13】筐体表面上電磁界分布複数画面表示を示す図。
【図14】筐体表面上電流分布複数画面表示を示す図。
【図15】筐体表面上電磁界分布平面分離表示を示す図。
【図16】筐体表面上電流分布平面分離表示を示す図。
【図17】マイクロストリップライン電流分布周波数特性表示を示す図。
【図18】マイクロストリップライン電流分布時間特性表示を示す図。
【図19】マイクロストリップライン電流分布層分離表示を示す図。
【図20】複数画面表示の形態を示す図。
【図21】複数画面表示の形態を示す図。
【図22】改善前後の電流分布複数画面表示を示す図。
【符号の説明】
101・・・アンテナ・プローブ
102・・・走査系ステージ
103・・・台座
104・・・表示装置付き計算機
105・・・計測器
201・・・LSI内電流分布重畳表示
202・・・LSIレイアウト
203・・・探査結果(例えば電流分布)
301・・・LSI内電流探査結果複数画面表示
302・・・同座標表示ポインタ
401・・・LSI内電流探査結果平面分離表示
501・・・回路基板上電磁界分布重畳表示
502・・・回路基板レイアウト
503・・・探査結果(例えば電磁界分布)
601・・・回路基板上電流分布重畳表示
701・・・回路基板上電磁界分布複数画面表示
801・・・回路基板上電流分布複数画面表示
901・・・回路基板上電磁界分布平面分離表示
1001・・・回路基板上電流分布平面分離表示
1101・・・筐体表面上電磁界分布重畳表示
1102・・・筐体形状データ
1202・・・筐体表面上電流分布重畳表示
1301・・・筐体表面上電磁界分布複数画面表示
1401・・・筐体表面上電流分布複数画面表示
1501・・・筐体表面上電磁界分布平面分離表示
1601・・・筐体表面上電流分布平面分離表示
1701・・・マイクロストリップライン
1702・・・電流分布周波数特性表示
1703・・・導体
1704・・・電流分布波形
1801・・・電流分布時間特性表示
1901・・・電流分布層分離表示
1902・・・グランドプレーン
1903・・・リターン電流
2201・・・LSI内電流分布表示(改善前)
2202・・・LSI内電流分布表示(改善後)
Claims (21)
- 電子機器近傍の磁界分布から導かれる電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを表示する電子機器表示装置であって,前記電子機器の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図の画面に,前記導かれた電流分布を重畳表示することを特徴とする電子機器表示装置。
- 請求項1記載の電子機器表示装置であって、前記重畳表示するにあたり、前記被測定対象を白黒もしくはそのトーン表示することを特徴とする電子機器表示装置。
- 電子機器近傍の磁界分布を表示する電子機器表示装置であって、前記磁界分布と、前記電子機器の画面、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図を、複数の画面で表示することを特徴とする電子機器表示装置。
- 請求項3記載の電子機器表示装置であって、前記磁界分布を表示する画面と、前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図を表示する画面に、同一の座標を指示するポインタを表示することを特徴とする電子機器表示装置。
- 請求項3記載の電子機器表示装置であって、前記磁界分布から電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを導き、表示することを特徴とする電子機器表示装置。
- 請求項5記載の電子機器表示装置であって、前記導かれた分布を表示する画面と、前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図を表示する画面に、同一の座標を指示するポインタを表示することを特徴とする電子機器表示装置。
- 電子機器近傍の磁界分布を表示する電子機器表示装置であって、前記電子機器の層毎に前記磁界分布を分離表示することを特徴とする電子機器表示装置。
- 請求項7記載の電子機器表示装置であって、前記磁界分布から層毎に電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを導き、表示することを特徴とする電子機器表示装置。
- 電子機器近傍の電界分布から導かれる電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを表示する電子機器表示装置であって,前記電子機器の画像,CADデータ,レイアウトデータまたは回路図の画面に,前記導かれた分布を重畳表示することを特徴とする電子機器表示装置。
- 電子機器近傍の電界分布を表示する電子機器表示装置であって、前記電界分布と、前記電子機器の画面、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図を、複数の画面で表示することを特徴とする電子機器表示装置。
- 電子機器近傍の電界分布を表示する電子機器表示装置であって、前記電子機器の層毎に前記電界分布を分離表示することを特徴とする電子機器表示装置。
- 請求項1から11のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、前記表示する分布が、周波数変化に応じた表示となることを特徴とする電子機器表示装置。
- 請求項1から11のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、前記表示する分布が、時間変化に応じた表示となることを特徴とする電子機器表示装置。
- 請求項1から11のうちいずれか一つに記載の電子機器表示装置であって、前記表示する分布が、前記電子機器の断面毎に移り変わる表示となることを特徴とする電子機器表示装置。
- 電子機器近傍の磁界分布を表示する電子機器表示装置であって、前記磁界分布が、時間変化に応じた表示となることを特徴とする電子機器表示装置。
- 電子機器近傍の電界分布を表示する電子機器表示装置であって、前記電界分布が、時間変化に応じた表示となることを特徴とする電子機器表示装置。
- 電子機器の磁界分布を測定する第一の工程と、前記測定分布から電磁波ノイズ発生源を特定する第二の工程と、前記電磁波ノイズ発生源の特定に基づき電子機器を改善する第三の工程とを有する電子機器の製造方法であって、前記工程のうち少なくとも一つの工程では、前記磁界分布から導かれる電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを利用することを特徴とする電子機器の製造方法。
- 電子機器の電界分布を測定する第一の工程と、前記測定分布から電磁波ノイズ発生源を特定する第二の工程と、前記電磁波ノイズ発生源の特定に基づき電子機器を改善する第三の工程とを有する電子機器の製造方法であって、前記工程のうち少なくとも一つの工程では、前記電界分布から導かれる電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを利用することを特徴とする電子機器の製造方法。
- 配線が形成された基板と、前記基板の上に実装された電子部品を有する電子機器であって、前記電子機器の配線は、前記電子機器の磁界分布から導かれる電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを利用することにより特定された不要輻射の発生源の情報を用いて設計された配線であることを特徴とする電子機器。
- 配線が形成された基板と、前記基板の上に実装された電子部品を有する電子機器であって、前記電子機器の配線は、前記電子機器の電界分布から導かれる電流分布、電圧分布、電力分布、インピーダンス分布のうち少なくとも一つを利用することにより特定された不要輻射の発生源の情報を用いて設計された配線であることを特徴とする電子機器。
- 請求項19または20記載の電子機器であって、前記電子機器の配線は、前記導かれた分布を前記電子機器の画像、CADデータ、レイアウトデータまたは回路図の画面に重畳表示することにより特定された不要輻射の発生源の情報を用いて設計された配線であることを特徴とする電子機器。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002176540A JP2004020403A (ja) | 2002-06-18 | 2002-06-18 | 電子機器表示装置、電子機器、及びその製造方法 |
CA002416350A CA2416350A1 (en) | 2002-06-18 | 2003-01-14 | Display apparatus for displaying property of electronic appliance |
EP03000808A EP1376143A3 (en) | 2002-06-18 | 2003-01-14 | Apparatus for displaying the distribution of an electric property of an electronic appliance |
US10/346,912 US20030231145A1 (en) | 2002-06-18 | 2003-01-17 | Display apparatus for displaying property of electronic appliance |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002176540A JP2004020403A (ja) | 2002-06-18 | 2002-06-18 | 電子機器表示装置、電子機器、及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004020403A true JP2004020403A (ja) | 2004-01-22 |
Family
ID=29717456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002176540A Pending JP2004020403A (ja) | 2002-06-18 | 2002-06-18 | 電子機器表示装置、電子機器、及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20030231145A1 (ja) |
EP (1) | EP1376143A3 (ja) |
JP (1) | JP2004020403A (ja) |
CA (1) | CA2416350A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006075584A1 (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-20 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | 電磁界分布測定方法及びその装置並びにコンピュータプログラム及び情報記録媒体 |
JP2012194145A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-11 | Pfu Ltd | 情報表示装置、情報表示方法、及びプログラム |
JP2014240775A (ja) * | 2013-06-11 | 2014-12-25 | 三菱電機株式会社 | 電磁ノイズ検出装置 |
JP2016176887A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-06 | 国立研究開発法人情報通信研究機構 | 電界イメージング方法 |
CN112130003A (zh) * | 2020-09-03 | 2020-12-25 | 南京理工大学 | 一种去除同频带电磁干扰信号的装置及方法 |
WO2021192272A1 (ja) * | 2020-03-27 | 2021-09-30 | 株式会社図研 | 設計支援装置、設計支援方法およびプログラム |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014065032A1 (ja) * | 2012-10-24 | 2014-05-01 | 日本電気株式会社 | 電磁界特徴分類提示装置 |
JPWO2021024713A1 (ja) * | 2019-08-02 | 2021-02-11 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3428232B2 (ja) * | 1995-06-16 | 2003-07-22 | 富士通株式会社 | 電磁界強度算出装置 |
US5986673A (en) * | 1997-10-17 | 1999-11-16 | Martz; David R. | Method for relational ordering and displaying multidimensional data |
JPH11166963A (ja) * | 1997-12-04 | 1999-06-22 | Kyodo Kumiai Joint Labo Sendai | 磁界方向検出方法 |
JP3189801B2 (ja) * | 1998-08-28 | 2001-07-16 | 日本電気株式会社 | 半導体評価装置,これに用いる磁界検出器及びこの製造方法並びに半導体評価用プログラムを記憶した記憶媒体 |
JP3394202B2 (ja) * | 1999-01-13 | 2003-04-07 | 太陽誘電株式会社 | 電磁界強度の測定方法及び装置並びに電流電圧分布の測定方法及び装置 |
US6486898B1 (en) * | 1999-03-31 | 2002-11-26 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Device and method for a lattice display |
JP2000304790A (ja) * | 1999-04-23 | 2000-11-02 | Hitachi Ltd | 電磁波発生源探査装置、その方法およびその解析方法 |
JP3454235B2 (ja) * | 1999-10-06 | 2003-10-06 | 株式会社日立製作所 | 生体磁場計測装置 |
JP2001156133A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-06-08 | Nec Corp | Lsi電位分布画像の位置合わせ方法 |
US20020089550A1 (en) * | 2000-02-14 | 2002-07-11 | Julian Orbanes | Method and apparatus for organizing hierarchical screens in virtual space |
JP2003529825A (ja) * | 2000-02-14 | 2003-10-07 | ジオフェニックス, インコーポレイテッド | グラフィカルプログラミングのための方法およびシステム |
US20020089541A1 (en) * | 2000-02-14 | 2002-07-11 | Julian Orbanes | System for graphically interconnecting operators |
JP2001305169A (ja) * | 2000-04-18 | 2001-10-31 | Ryowa Denshi Kk | 表示装置 |
US20020033706A1 (en) * | 2000-08-03 | 2002-03-21 | Mehyar Khazei | System method, and apparatus for field scanning |
US7034831B2 (en) * | 2001-02-05 | 2006-04-25 | National Instruments Corporation | System and method for generating a low discrepancy curve in a region |
US7043702B2 (en) * | 2001-03-15 | 2006-05-09 | Xerox Corporation | Method for visualizing user path through a web site and a path's associated information scent |
US7114132B2 (en) * | 2001-04-20 | 2006-09-26 | Nec Corporation | Device, system, server, client, and method for supporting component layout design on circuit board, and program for implementing the device |
-
2002
- 2002-06-18 JP JP2002176540A patent/JP2004020403A/ja active Pending
-
2003
- 2003-01-14 CA CA002416350A patent/CA2416350A1/en not_active Abandoned
- 2003-01-14 EP EP03000808A patent/EP1376143A3/en not_active Withdrawn
- 2003-01-17 US US10/346,912 patent/US20030231145A1/en not_active Abandoned
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006075584A1 (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-20 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | 電磁界分布測定方法及びその装置並びにコンピュータプログラム及び情報記録媒体 |
JPWO2006075584A1 (ja) * | 2005-01-11 | 2008-06-12 | 太陽誘電株式会社 | 電磁界分布測定方法及びその装置並びにコンピュータプログラム及び情報記録媒体 |
KR100976146B1 (ko) * | 2005-01-11 | 2010-08-16 | 다이요 유덴 가부시키가이샤 | 전자계 분포 측정방법 및 그 장치 및 정보기록매체 |
JP2011017718A (ja) * | 2005-01-11 | 2011-01-27 | Taiyo Yuden Co Ltd | 電磁界分布測定装置並びにコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
US8073641B2 (en) | 2005-01-11 | 2011-12-06 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Electromagnetic field distribution measuring method, apparatus for the method, computer program and information recording medium |
US8219332B2 (en) | 2005-01-11 | 2012-07-10 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Electromagnetic field distribution measuring method, apparatus for the method, computer program and information recording medium |
JP2012194145A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-11 | Pfu Ltd | 情報表示装置、情報表示方法、及びプログラム |
JP2014240775A (ja) * | 2013-06-11 | 2014-12-25 | 三菱電機株式会社 | 電磁ノイズ検出装置 |
JP2016176887A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-06 | 国立研究開発法人情報通信研究機構 | 電界イメージング方法 |
WO2021192272A1 (ja) * | 2020-03-27 | 2021-09-30 | 株式会社図研 | 設計支援装置、設計支援方法およびプログラム |
CN112130003A (zh) * | 2020-09-03 | 2020-12-25 | 南京理工大学 | 一种去除同频带电磁干扰信号的装置及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1376143A2 (en) | 2004-01-02 |
US20030231145A1 (en) | 2003-12-18 |
CA2416350A1 (en) | 2003-12-18 |
EP1376143A3 (en) | 2004-04-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7642973B2 (en) | Electromagnetic wave analysis apparatus and design support apparatus | |
WO2000065362A1 (fr) | Dispositif et procede de sondage pour la recherche de source d'ondes electromagnetiques, et procede d'analyse associe | |
US8446152B2 (en) | Printed circuit board test assisting apparatus, printed circuit board test assisting method, and computer-readable information recording medium | |
JP3189801B2 (ja) | 半導体評価装置,これに用いる磁界検出器及びこの製造方法並びに半導体評価用プログラムを記憶した記憶媒体 | |
JP2004020403A (ja) | 電子機器表示装置、電子機器、及びその製造方法 | |
JP5241358B2 (ja) | プリント基板設計支援プログラム、プリント基板設計支援方法及びプリント基板設計支援装置 | |
Lin et al. | Design and application of a mobile miniature current probe for analysing the cause of EMI noise in IC circuits | |
US6754876B2 (en) | System and method for designing a printed board adapted to suppress electromagnetic interference | |
US8392156B2 (en) | Power supply noise analysis model creation method and apparatus, and recording medium storing program for power supply noise analysis model creation | |
Wang et al. | Analyzing the EMC performance of an automotive display module through 3D electromagnetic simulation | |
US20100095257A1 (en) | Electromagnetic field analysis of semiconductor package with semiconductor chip mounted thereon | |
JP4086870B2 (ja) | プリント回路基板設計支援装置、方法およびプログラム | |
JP3337013B2 (ja) | 大規模集積回路の非接触計測装置 | |
JP2007192744A (ja) | 電磁波解析装置、設計支援装置、電磁波解析プログラムおよび電磁波解析方法 | |
JP3885830B2 (ja) | プリント基板の設計支援装置、設計支援方法および設計支援装置で使用されるプログラムを記録した記録媒体 | |
JP4025084B2 (ja) | Emi測定装置 | |
JP5736632B2 (ja) | 信号特定装置及びその方法並びにこれらの制御プログラム | |
US20100327899A1 (en) | Design support apparatus and design support method | |
JP2004317322A (ja) | 無線通信装置用近傍ノイズ測定装置 | |
CN104062512A (zh) | 双向板级射频磁场探头 | |
JP2002064279A (ja) | 多層回路基板の検証方法、設計方法、それらの装置および記録媒体 | |
JP5413299B2 (ja) | 電界感知プローブ及び電界の検出方法 | |
JPH11142453A (ja) | 電磁波発生源探査方法及び装置 | |
JPH0658969A (ja) | 3次元妨害測定装置 | |
JP6384990B2 (ja) | パターン検査装置およびパターン検査方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040311 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050906 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060131 |