JP2004002753A5 - - Google Patents
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- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYUVGYBAPZYKSA-UHFFFAOYSA-N 5-(3-hydroxybutan-2-yl)-4-methylbenzene-1,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)C1=CC(O)=CC(O)=C1C ZYUVGYBAPZYKSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHADDZMCASKINP-HTRCEHHLSA-N decarboxydihydrocitrinin Natural products C1=C(O)C(C)=C2[C@H](C)[C@@H](C)OCC2=C1O NHADDZMCASKINP-HTRCEHHLSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003084685A JP4576797B2 (ja) | 2002-03-28 | 2003-03-26 | ポジ型感光性樹脂組成物及びそれよりなる絶縁膜、半導体装置、及び有機電界発光素子 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002092201 | 2002-03-28 | ||
| JP2003084685A JP4576797B2 (ja) | 2002-03-28 | 2003-03-26 | ポジ型感光性樹脂組成物及びそれよりなる絶縁膜、半導体装置、及び有機電界発光素子 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004002753A JP2004002753A (ja) | 2004-01-08 |
| JP2004002753A5 true JP2004002753A5 (enExample) | 2006-05-18 |
| JP4576797B2 JP4576797B2 (ja) | 2010-11-10 |
Family
ID=30446260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003084685A Expired - Fee Related JP4576797B2 (ja) | 2002-03-28 | 2003-03-26 | ポジ型感光性樹脂組成物及びそれよりなる絶縁膜、半導体装置、及び有機電界発光素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4576797B2 (enExample) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006098984A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 平坦化樹脂層、並びにそれを有する半導体装置及び表示体装置 |
| JP4556598B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2010-10-06 | 住友ベークライト株式会社 | 半導体装置 |
| JP4876597B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2012-02-15 | 日本ゼオン株式会社 | 感放射線性樹脂組成物の調製方法 |
| JP4748364B2 (ja) * | 2006-06-15 | 2011-08-17 | 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 |
| US9786576B2 (en) | 2007-11-12 | 2017-10-10 | Hitachi Chemical Company, Ltd | Positive-type photosensitive resin composition, method for production of resist pattern, semiconductor device, and electronic device |
| WO2010026988A1 (ja) | 2008-09-04 | 2010-03-11 | 日立化成工業株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法及び電子部品 |
| JP5157831B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2013-03-06 | Ｊｎｃ株式会社 | アルケニル置換ナジイミド、溶媒および硬化剤を含む組成物および該組成部の用途 |
| JP5158212B2 (ja) | 2008-12-26 | 2013-03-06 | 日立化成株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、半導体装置及び電子デバイス |
| KR20120082412A (ko) * | 2009-09-29 | 2012-07-23 | 제온 코포레이션 | 반도체 소자 기판 |
| US9063421B2 (en) | 2011-11-17 | 2015-06-23 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Chemically amplified positive resist composition and pattern forming process |
| JP6065789B2 (ja) | 2012-09-27 | 2017-01-25 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP6765501B2 (ja) * | 2016-07-28 | 2020-10-07 | プロメラス， エルエルシー | 無水ナジック酸重合体及びそれに由来する感光性組成物 |
| WO2022220080A1 (ja) * | 2021-04-14 | 2022-10-20 | 昭和電工株式会社 | 感光性樹脂組成物、及び有機ｅｌ素子隔壁 |
| CN114958113B (zh) * | 2022-06-24 | 2024-02-23 | 绍兴长木新材料科技有限公司 | 一种耐湿热、高硬度的水性光学扩散膜涂层及其制备方法 |
| CN120829655A (zh) * | 2025-09-19 | 2025-10-24 | 西部电缆陕西有限公司 | 一种抗老化电缆及其制备方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0613585B2 (ja) * | 1988-09-30 | 1994-02-23 | 工業技術院長 | 熱硬化性イミド樹脂組成物 |
| JPH03249654A (ja) * | 1990-02-27 | 1991-11-07 | Hitachi Chem Co Ltd | ポジ型放射線感応性組成物及びこれを用いたパタン形成方法 |
| JP3700880B2 (ja) * | 1996-08-19 | 2005-09-28 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型感光性組成物 |
| JP4665322B2 (ja) * | 2000-03-16 | 2011-04-06 | 東レ株式会社 | ポリ（脂環式オレフィン） |
| KR100465445B1 (ko) * | 2001-07-31 | 2005-01-13 | 삼성전자주식회사 | 액정배향막용 광배향재 |
| JP2003252877A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-09-10 | Mitsui Chemicals Inc | チオフェン誘導体及びその製造方法 |
-
2003
- 2003-03-26 JP JP2003084685A patent/JP4576797B2/ja not_active Expired - Fee Related