JP2003526702A - 表面およびその製造および使用 - Google Patents

表面およびその製造および使用

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Abstract

(57)【要約】 ポリマー物質(プラスチック)でカバーされた表面に、非重合可能ガスのガスプラズマにおける処理により、より親水性を提供する方法。本方法は、表面が永久的により親水性となるようにプラズマの強度を選択することを特徴とする。即時水接触角30°、例えば20°を有し、該水接触角は、エタノール/水混合物(70%w/w)での洗浄により±20%以下および/または±5°以下の変化である、剥き出しのプラスチックのプラズマ処理表面。(a)(i)合成ポリマー物質(プラスチック)から製造され、(ii)その上に少なくとも一つのチャンバーおよび/または少なくとも一つの溝がある、表面を含むマイクロデバイス、および(b)デバイス中で検出する蛍光物質を含むキット。キットは、プラスチックが物質が蛍光を発する波長での物質の蛍光に対して無視できる蛍光を有することを特徴とする。不飽和部分を有する重合化脂肪族モノマーである、ポリマー物質(プラスチック)中/上に形成された液体輸送システムを有するマイクロデバイス。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、プラズマで処理することによる、ポリマー表面の親水性の促進法に
関する。
【0002】 プラスチックの表面修飾のための一般法は、それらを種々の形のプラズマ処理
に付すことである(Chen et al., Surface Science Reports 24 (1996) 1-54; an
d Garbassi et al, Polymer Surfaces - From Physics to Technology, John Wi
ley (1998) 238-241)。これは、低圧のガスを含む真空容器であるプラズマリア
クター中で行われる(典型的に10から1000mTorr)。高周波数電場をリアク
ターに適用したとき、イオン、遊離ラジカルおよび真空UVのような反応性種を
含む、プラズマ(またグロー放電とも呼ばれる)が形成される。これらの種はプラ
スチック表面と反応し、ガスの性質およびプラズマパラメーターに依存した特性
で化学修飾をもたらす。酸素およびアルゴンのようなガスは典型的に、非極性プ
ラスチックの親水性化および接着改善に使用され、一方重合化モノマーの蒸気は
多くの様々な目的のためにプラスチックに薄コーティングを適用するのに使用で
きる(Yasuda, Plasma polymerization, Academic Press 1985)。
【0003】 酸素およびアルゴンプラズマでポリカーボネート表面を処理することに関する
多くの刊行物がある。安定性試験(Morra et al, Angew. Makromol. Chem. 189 (
3184) (1991) 125-136)は、処置された表面の親水性の殆どが水を抜き取るかま
たは3日間の乾燥貯蔵の後に損失した。水抜き取り後の親水性損失は、プラズマ
処理中の低分子量水溶性表面種の形成によるものであった。貯蔵不安定性は、表
面におけるポリマー鎖の再配置に帰するものであった。ESCA試験(Greenwood
et al, Macromolecules 30 (1997) 1091-1098)は、酸素プラズマ処理によりポ
リカーボネート表面に包含された酸素の79%が1:1シクロヘキサン/イソプ
ロパノール混合物での洗浄後に除去されたことを示した。これは、プラズマ処理
中のポリマー鎖の分解に帰する。
【0004】 ポリスチレンに関しても同様の効果が観察された。プラズマ処理組織培養ポリ
スチレン表面のESCA試験は、洗浄後の表面酸素の約35%の損失を示した(O
nyiriuka et al., J. Coll. Interf. Sci. 144(1) (1991) 98)。二つの他のES
CA試験において、酸素プラズマ処理ポリスチレンは、洗浄後に25%表面酸素
損失をした(Callen et al., J. Vac. Sci. Technol. A 13(4) (1991) 2023-2029
), (Morra et al., Angew. Macromo. Chem. 189 (3184) (1991) 125-136)。酸素
プラズマで処理したポリスチレン表面は、最初7°の水接触角であったが、メタ
ノール洗浄後、接触角は64°まで増加した(Murakami et al., J. Coll. Inter
f. Sci. 202 (1998) 37-44)。
【0005】 WO9618498は、プラスチック性の永久的親水性化表面の製造の試みを記載して
いる。方法は、表面に電荷を導入するための無機ガスプラズマ中の第1段階、お
よび逆の電荷を有する多イオンポリマーが表面に吸着される第2段階を含む。
【0006】 EP-A-106,046は、主成分が重合化窒素含有有機化合物であるガスプラズ中での
処理による、フッ素化ポリマー表面の親水性化を記載する。
【0007】 GB2,061,969は、無機ガスプラズマ中での処理による、親水性および静電気防
止性塩化ビニルポリマーの製造を記載する。プラスチックに永久的親水性を与え
る問題は記載されていない。
【0008】 適用される電気励起場は、典型的に電磁波またはマイクロ波、即ち、各々kHz-
MHzまたはGHzにおける周波数を有する。プラズマによりもたらされるポリマー表
面の修飾(親水性化)は、主に:プラズマに存在する種のタイプ、空間的分散、エ
ネルギー分散および方向的分散のような多くの内部プラズマパラメーターに依存
する。次ぎに、これらのパラメーターは、複合的な方法で外部プラズマパラメー
ター:リアクター幾何学、励起のタイプ、適用される力、処理ガスのタイプ、ガ
ス圧およびガス流速に依存する。
【0009】 極性液体と表面の間の接触が関与する多くの出願において、導入された親水性
が洗浄に対して安定であるか否かは大きな問題ではなかった。特定の問題は、水
性液体を自己吸引により導入するか、または求心力により導入することが必要な
場合、高程度の親水性が必要である、ポリマー表面がキャピラリー寸法の溝の一
部である場合に遭遇する。これは、反復接触を行う場合特に当て嵌まり、この場
合、不安定表面修飾が最初の液体接触の間に洗い流される。溝の寸法が小さいほ
ど、この問題はより深刻になる。
【0010】 本発明の内容において、“プラズマ処理表面”なる用語は、特記しない限り、
、恐らく表面にしっかり結合した別の反応種を含むように誘導体化されている、
非被覆の剥き出しのプラズマ処理表面を意味する。
【0011】 マイクロデバイス(microfabricated device)における細胞培養は、以前に、例
えば、1998年4月28日の優先日でWO9955827に記載されている。
【0012】 細胞凝集物は、以前に、30°より小さい水接触角の容器中で培養されている
(日本特許出願19930119579;Derwentアブストラクトアクセッション
番号1995-047885)。
【0013】 水接触角20−45°でのガスプラズマ処理ポリテトラフルオロエチレン(P
TFE)表面への細胞の接着は、試験されている(Dekker et al., Clinical Mate
rials 11 (1992) 157-162)。接着は、最も一般的に使用される10%またはそれ
以下と比較して、接着を促進するために異常に高い濃度の物質(20%ヒト血清
含有培養培地)を必要とするように見える。
【0014】 CHP細胞の、ガスプラズマ親水性化された表面へのHO蒸気中での接着は
、プラスチック表面の最適細胞培養特性を探すために試験されている(Lee et al
., Biomaterials 12 (5) (1991) 443-448)。殆どの親水性表面における欠しい細
胞接着が観察されている。
【0015】 液体輸送システムが親水性/疎水性バリアにより限定されている微小流体デバ
イスは、以前、例えば、1998年5月8日の優先日でWO9958245に記
載されている。
【0016】 本発明に一部対応する実験的結果が、Second International Symposium on Po
lymer Surface Modification, New Ark June 1999 (Anders Larsson: Plasma Tr
eated Polycarbonate as Substrate for Culture of Adherent Mammalian Cells
)で発表されている。
【0017】 本発明の目的 ・第1の目的は、導入された親水性の安定性を促進する、ポリマー表面の親水性
化のためのガスプラズマ法の提供である。 ・第2の目的は、処理後に親水性であり、反復湿潤/乾燥の上でもそのままであ
る、即ち、親水性液体、例えば、エタノール/水混合物との接触により最初の親
水性が明白には変わらない、プラズマ処理処表面の提供である。
【0018】 ・第3の目的は、内部表面が第2の目的で定義されたとオリであり、再現性のあ
る方法での水性液体の反復導入が可能である、例えば、キャピラリー/溝/チャ
ンバーを有するマイクロ加工形のキャピラリー/溝/チャンバーシステムの提供
である。 ・第4の目的は、内部表面の少なくとも一部が第2の目的に従っている、液体輸
送システムの提供である。 ・第5の目的は、細胞培養、アッセイ反応等に使用できるプラズマ処理表面の提
供である。
【0019】 これらの目的は、主に、プラズマ処理前に相対的に高い即時水接触角、例えば
20°、例えば30°、または50°でさえ有する表面に適合される。
“即時水接触角”なる用語は、接触角を、適用した液体が明らかに蒸発する前に
乾燥表面で測定することを意味する。実験部分参照。
【0020】 本発明 我々は、本発明により、上記の目的が、ポリマー表面(プラスチック表面)が高
密度(エネルギインプット/ガス分子)のガスプラズマとの接触によりもたらされ
ることを発見した。我々の発見は、挿入される二つのタイプの極性基:(1)ポリ
マー表面に堅く保持される基および(2)緩く保たれたフラグメントに配置された
基の観点から説明できる。第1の選択肢は、安定な親水性をもたらす。第2の選
択肢は、水性溶液のような極性液体との接触により容易に除去される、親水性を
もたらす。
【0021】 したがって、本発明の第1の態様は、堅く結合した極性基を表面上に導入する
ように、表面をガスプラズマと接触させることによる、永久的により親水性なポ
リマー表面(プラスチック表面)を付与する方法である。これらの極性基が、表面
を構成するポリマー骨格上に直接導入され、恐らく表面相の架橋が関与すること
が最もありそうである。
【0022】 ヒドロキシおよびまたはアミノ基、カルボキシ基、エーテル基等および、炭素
原子が酸素、硫黄および窒素から選択されるヘテロ原子に結合している他の基が
、挿入し得る極性基の例である。このタイプの基が存在する表面の変換は、ES
CA(XPS)により試験し得る。
【0023】 “永久的により親水性”および“安定な親水性”なる表現は、即時水接触角が
、エタノール(70%w/w、洗浄法は実験部に記載の通り)での洗浄において本
質的に未変化のまま残ることを意図する。これは、洗浄工程が、±20%以上お
よび/または±5°以上の即時水接触角の変化をもたらすことを可能にすべきで
はないことを意味する。
【0024】 親水性化表面の貯蔵安定性(乾燥形)は、10°より大きくない、好ましくは5
°より大きくない、即時水接触角の許容される増加で少なくとも1ヶ月であるべ
きである。乾燥形の貯蔵安定性が許容されない場合、しばしば、十分な貯蔵安定
性が水性雰囲気または水性液体中で達成できる。
【0025】 本発明の方法は、ガスプラズマ処理段階に続く所望の洗浄段階を含み得る。こ
の洗浄工程は、ガスプラズマ処理表面を、水性溶液、またはある他の極性液体を
接触させ、緩く保たれた親水性親水性化合物を除去することを意味する。洗浄溶
液は好ましくは水、水混和性液体またはこれらの混合物である。水混和性液体の
例は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−プロパノール、t−ブ
タノール、sec−ブタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフオキシ
ド、アセトンおよび、水に同様の溶解性を有する他の液体化合物である。
【0026】 プラズマの必要な強度は、上記の種々の変数に依存する。十分なガスプラズマ
が、適用された電気励起力が250W、好ましくは300W、および典型的
に500±100Wで、50cm/分、好ましくは25cm/分の区間で選
択されたガス流の場合に見られ得る。プラズマ強度に関して、区間は通常5W
/cm/分、例えば10W/cm/分または20W/cm/分または35
W/cm/分でさえある。電極領域mあたりの標準化値は、典型的に30W
/m/cm/分、例えば、60W/m/cm/分、または120W/m /cm/分、または215W/m/cm/分でさえある。圧力は典型的に
100mTorrより治作、好ましくは50mTorrである圧力である。これらの範囲
は、25℃の温度、大気圧および酸素で適用される。他のガスに関して、値はM 02 /M(ここで、M02およびMは各々酸素および他のガスの分子量であ
る)倍しなければならない。
【0027】 使用するガスは、意図するプラズマのタイプにおいて非重合可能でなければな
らない。典型的に、このようなガスは無機である。これは、適当なガスが酸素、
窒素、希ガス(ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンのような)お
よびこれらの混合物、例えば、空気および酸素と窒素の他の割合を含む混合物の
中で見られることを意味する。他の有用な可能性のあるガスは、二酸化炭素、一
酸化炭素、水蒸気等であり、これらは単独でまたは組合わせて使用し得る。ガス
の組成を変えることにより、表面に挿入される基は、種類および密度に関して変
えることができるようである。
【0028】 重合可能ガスの説明的例は、低級炭化水素およびアリル−またはアクリルモノ
マー、芳香族などの蒸気のような揮発性低有機分子である。無機非重合可能ガス
は、ガス形で重合可能有機化合物と共に存在し得る。
【0029】 適当なガス流速度と合わさった充分に高いパワーのアウトプットを可能にする
プラズマリアクター容器は、商品として入手可能である。上記のように、リアク
ター容器は、例えば、マイクロ波または電磁波の範囲の、電気的励起力インプッ
トを可能にしなければならない。適当なプラズマリアクターは、0−500Wの
無線周波数(RF)力および0−100または0−100スタンダードcm/分の
ガス流を可能にするPS0500(BOC Coating Technology, USA)である。
【0030】 処理の結果は、使用したリアクター容器の設計に依存し得、ある程度への最適
区間が1つのリアクター設計から別のものへ変わることを意味する。結果はまた
リアクター中のどこを処置中に置くかにも依存し得る。
【0031】 ガスプラズマ処理する表面をカバーするポリマー物質(プラスチック)の即時水
接触角は、典型的に20°である。本発明の大きな利点は、30°、例えば 50°のような大きい即時水接触角を提供するポリマー物質で得られる。これ
らの数字は、水溶性化合物および低分子量化合物(典型的に1kD)に関して綺麗
にされてるプラスチック表面に関する。水接触角がポリマーでどのように変わり
得るかの例は表1に示す。
【0032】 本発明法は、典型的に永久的親水性の増加をもたらし、これは最初のプラスチ
ック表面の即時水接触角の20%以上、例えば、50%以上(水溶性化合物、低
分子量化合物等の除去後)の低下に対応する。親水性の大きな増加は、親水性プ
ラスチックよりも疎水性のものでより重要である。
【0033】 表1 プラスチック 水接触角 PTFE(Teflon) 108° シリコンラバー (Sylgard 184) 106° ポリプロピレン 95° ポリエチレン 94° ポリスチレン 90° ポリカーボネート 78° PET(ポリエステル) 76° スチレン−アクリロニトリル 73° PMMA(Plexiglas) 59°
【0034】 典型的に、表面上のポリマーは、不飽和部分、例えば、炭素−炭素二重結合ま
たは炭素−炭素三重結合を含むモノマーの重合化により得られている。ポリマー
はホモポリマーまたはコポリマーであり得る。
【0035】 モノマーは、例えば、モノ−、ジ−およびポリ/オリゴ−不飽和化合物、例え
ばビニル化合物および、不飽和部分を含む他の化合物から選択され得る。モノマ
ーは、フルオロおよび/またはクロロのようなハロゲン置換基を含んでも含んで
いなくてもよい。説明的モノマーは: (i)アルケン/アルカジエン(例えば、エチレン、ブタジエン、プロピレン、お
よびビニルエーテルのような置換形を含む)、シクロアルケン、モノフルオロビ
ニルおよびジおよびポリフルオロビニル炭化水素(例えば、テトラフルオロエチ
レン)、アルケン含有酸、エステル、アミド、ニトリル等、例えばメタクリル/
アクリル化合物;および (ii)所望により例えば低級アルキル基(C1−6)等で置換されていてもよいビニ
ルアリール化合物(モノ−、ジ−およびトリビニルベンゼン)である。
【0036】 別のタイプのポリマーは、モノマーがアミノ、ヒドロキシ、カルボキシ等から
なる群から選択される2個以上の基を示す化合物から選択される(いわゆる多官
能性化合物)。特記されるモノマーは、ポリアミノモノマー、ポリカルボキシモ
ノマー(対応する反応性ハライド、エステルおよび無水物を含む)、ポリヒドロキ
シモノマー、アミノ−カルボキシモノマーであり、ここでポリは2、3またはそ
れ以上の官能基を意味する。多官能性化合物は、二回反応性の、例えば、炭酸ま
たはホルムアルデヒドである官能基を有する化合物を含む。意図されるポリマー
は、典型的にポリカーボネート、ポリアミド、ポリアミン、ポリエーテル等であ
る。ポリエーテルは、シリコンラバーのような対応する対応するシリコンアナロ
グを含む。
【0037】 ポリマーは架橋形であり得る。
【0038】 表面上のポリマーは、2個以上の異なるポリマー/コポリマーの混合物であり
得る。この場合、上記の水接触角およびそれらの変化がこれらの混合物、即ち実
際の表面に適用される。
【0039】 特に興味深いポリマーは、200−800nmの区間の励起波長および400−
900nmの区間の放出波長に関してできる蛍光を有するものである。無視できる
蛍光なる用語は、上記放出波長区間における蛍光強度が、対照プラスチック(=
蛍光付加なしのビスフェノールAのポリカーボネート)の蛍光強度の50%より
小さくなければならないことを意味する。実際、プラスチックの蛍光強度が、対
照プラスチックの蛍光強度の<30%または<15%より低い、例えば<5%ま
たは<1%である場合、害にならない。許容できる蛍光を有する典型的プラスチ
ックは、重合可能炭素−炭素二重結合を含む脂肪族モノマーのポリマー、例えば
、シクロアルケン(例えば、ノルボルネンおよび置換ノルボルネン)、エチレン、
プロピレンなどのポリマー、ならびに抗純度の他の非芳香族ポリマー、例えば、
一定グレードのポリメチルメタクリレートである。
【0040】 低蛍光の必要条件は、プラスチックを、1個以上の蛍光置換基を検出/測定す
るサンプルの担持に使用する場合、特に重要である。殆どの場合、これは、物質
の放出波長におけるプラスチックの蛍光波長が、物質の蛍光波長の50%より小
さくなければならないことを意味する。実際、プラスチックの蛍光強度が、対照
物質の蛍光強度の<30%または<15%、またはそれより低い、例えば<5%
または<1%である場合、害にならない。異なる波長で光を放出する数個の物質
の蛍光を測定する場合、プラスチックの蛍光がその時は広い波長バンド、または
数個のバンドに関して無視できるべきであるため、プラスチックにより過酷な要
求がされる。
【0041】 プラズマ処理の後、所望により緩く保たれた親水性化合物を除去するための洗
浄工程の後、表面は、1個以上の反応性基、即ち、あるタイプの親和性を会して
、または共有結合的結合を介して他の化合物に結合できる基を示すために更に誘
導体化され得る。誘導体化は、好ましくは洗浄工程後に行われ、例えば、誘導体
化に使用できる付加的親水性基を担持するコーティングを表面に提供する、コー
ティング段階より前であり得る。
【0042】 加水分解の前に表面のある部分をマスキングし、他の部分をマスキングしない
ままにすることにより、疎水性表面上の親水性パターンを得ることができる。あ
るいは、疎水性パターンを、親水性化の後に表面にプリントし得る。これらの技
術は、マイクロ液体輸送システムの製造において価値があり得る。下記参照。
【0043】 ヒドロキシ、アミノまたはカルボキシ基等の親水性基を示すポリマー上に反応
性基を導入するための種々の方法は、当分野の標準的技術者には既知である。既
知の親和性基は荷電基、および他のタイプの相互作用を介して、恐らく荷電−荷
電相互作用と組み合わさって、親和性を作用する基である。荷電基の説明的例は
、イオン交換基、例えば、アニオンおよびカチオン交換基であり、典型的例はア
ンモニウムイオン(1級、2級、3級および4級アンモニウムイオン)、スルフェ
ート、スルホネート、ホスフェート、ホスホネート等である。他の親和性基の説
明的例は、抗体−抗原/ハプテン、相補的核酸、Ig結合タンパク質−Ig(例
えば、プロテインAまたはプロテインG−IgG)、レクチン−炭水化物構造、
細胞−細胞接合分子(フィブロネクチン、コラーゲン、RGD−ペプチド等)のよ
うなリガンド−レセプターペアの個々のメンバーを含む、いわゆるバイオアフィ
ニティー基である。バイオアフィニティー基に含まれるのはまた、天然バイオア
フィニティーを多かれ少なかれ完全に模倣する半−および全−合成リガンドであ
る。
【0044】 親水性化表面はまた異なる物理的形のアレンジメントの一部であり得る。親水
性化表面は、マイクロタイターウェルおよび他のタイプの容器の底/壁であり得
、また多孔性および無孔性粒子状物質の外表面であり得る。親水性化表面は、親
水性が小さいより大きな表面(例えば、疎水性表面)の一部であり得る。
【0045】 親水性化表面は、水性液体の輸送を意図したシステムにおける液体接触表面の
大部分を提供し得る。これらのシステムは、キャピラリー寸法、例えば、二つの
逆の壁の間が1000μm、例えば100μm、または10μm、例えば
1μmの距離でさえある、溝を有し得る。これらのシステムはまた溝に接続する
1個以上のチャンバーを含み得、500μl、例えば100μl、およびまた 10μl、例えば1μlでさえある容量を有し得る。チャンバーの深さは典型
的に1000μmの区間、例えば100μm、例えば10μm、または
μdさえあり得る。下限はまた使用する試薬の最大より常に有意に大きい。下限
は典型的に乾燥形で送達するデバイスに関しては、0.1−0.01μmの範囲で
ある。このタイプの1個以上の液体輸送システムは一般的なプレート、例えば、
回転可能な、例えば、CDタイプのディスク上に置き得る。回転可能形の場合、
液体はディスクの回転(求心力)により、輸送システムの1個以上のセグメントを
介して押しつけられ得る。この後者の場合、液体輸送システムは放射状に置く。
他のタイプの圧力発生システムをまた上記の液体輸送システムにおける液体の輸
送に使用し得る。
【0046】 1000μm、例えば100μmまたは10μmより小さくさえある、例え
1μmの深さの溝およびチャンバーを含む1個以上の液体輸送システムを有
するデバイスは、更にマイクロデバイスと呼ばれる。チャンバーおよび溝はマイ
クロフォーマットと言われる。マイクロデバイスは、典型的に、プレートの表面
、例えば、ディスク上のような、一つの面に溝およびチャンバーを有する。プレ
ートは円形、卵形、方形または任意の他の2D幾何学的形であり得る。
【0047】 溝および/またはチャンバーは、液流を導くべき液体バリアーにより限定され
る。液体バリアーは物理的な壁、底および天井の形であり得る。水性液体を導く
ための疎水性バリアーの形である、そして非極性液体を導くための親水性バリア
ーの形である壁が示されている(1998年4月27日の優先日のWO9955827)。
伝達ラインおよび点のパターンを残して表面(I)をマスクでカバーし、例えば、
本発明にしたがって親水性化することにより、表面(I)は親水性パターンを示す
。疎水性表面(II)(カバーまたはトップ)を親水性パターンに対して配置し、キャ
ピラリー溝穴を表面の間に残すことにより、液体輸送システムが得られる。表面
(II)はまた表面(I)の親水性パターンに適合した親水性パターンを有し得る。上
記のように、親水性パターンはまた全表面を親水性化し、次いで所望の疎水性パ
ターンをその上にプリントすることにより得られ得る。トップ/カバーは液体の
蒸発を防止する。液体の添加/除去を意図した通し穴の形の小さい部分/点を有
し得る。
【0048】 疎水性表面にトップ/カバーを付ける有利な方法は、2000年1月30日に
出願のSE出願0000300−4(本明細書に引用して包含させる)に記載のよ
うなサーモグルーイングによる。トップ/カバーはまた培養チャンバーと環境雰
囲気の間のガス交換を可能にする。
【0049】 上記のタイプの液体輸送システムはまたバルブ、ポンプ、フィルター等を含み
得る。
【0050】 表面は無機および/または有機/生化学的性質の化学反応の実施に使用し得る
。表面はクロマトグラフィーにおける、細胞培養のための、オリゴ/ポリペプチ
ド、オリゴ/ポリヌクレオチド、他の有機ポリマーおよび他の有機化合物の固相
化学合成のための、担体マトリックスとして使用し得る。本発明の表面で行う反
応の説明的例は、慣用の化学反応、または幾何学的適合性を介した認識および水
素結合、ファンデルヴァールス結合、双極子−双極子相互作用、電荷−双極子相
互作用、電荷−双極子相互作用等に基づいた相互作用が関与する親和性に基づく
反応である。細胞培養に関して、更なる詳細を下に記載する。
【0051】 本発明により得られた表面の更なる有利な開発は、国際特許出願PCT/EP
99/10347に記載されている(本明細書に引用して包含させる)。これらの
開発において、本発明のプラズマ親水性化は、液体輸送システムの一部、または
全体に適用されている。親水性化後、モノメトキシポリエチレングリコール鎖が
結合するポリエチレンイミンが処理表面に吸着される。液体輸送システムの好ま
しい設計も記載されている。
【0052】 本発明の第2の態様は、上で定義され、単独でまたは組み合わさって、上記の
他の性質と適合する、永久的に親水性化された剥き出しのプラズマ処理ポリマー
表面(プラスチック表面)である。
【0053】 本発明の第3の態様は、本発明に従って得たおよび/または本明細書に記載さ
れ、本発明の親水性化法を通して達成できる任意の性質を有する表面の、上記ま
たは下記の種々の使用である。
【0054】 マイクロデバイスを含むキット 第4の態様は、 (a)合成ポリマー(プラスチック)を含む、少なくとも一つのチャンバーおよび/
または少なくとも一つの溝がある、液体輸送システムを含む、マイクロデバイス
、および (b)デバイスで検出する蛍光物質 を含むキットである。
【0055】 キットは、合成ポリマー物質が、本明細書で先に記載のものと同じ観点で、無
視できる蛍光を有する。マイクロデバイスの溝およびチャンバーの表面は、例え
ば、好ましくは、本明細書に記載の方法に従った、ガスプラズマ処理により、全
部または一部ガスプラズマ処理され得る。壁(表面)のプラスチックの化学組成お
よびその物理的パラメーターに関して、上記と同じ優先傾向を有する同じ物質を
使用し得る。
【0056】 別の親水性化プロトコールは、物質の液体接触表面上の、酸化酸およびUV酸
化での処理、コロナ放電処理、増加した数の極性基等を提供するポリマーでのグ
ラフティングおよび慣用のコーティングである。言及される極性基は、例えば、
ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、アミド、ポリエチレンオキサイド等である。
【0057】 蛍光物質の説明的例は、有機または無機起源のフルオロフォアである。前者の
場合、しばしば低分子量(典型的に<1kD)である。重要なフルオロフォアは、4
00−750nmの区画、好ましくは480−670nmの区画に明瞭な放出波長を
明瞭な最大と共に有する。フルオレッセイン、天然または化学的修飾されていて
もよいフィコシアニン、ローダミン、Texas Red、蛍光希土類キレート(特にユー
ロピウムおよびテルビウム)、セレン化カドミウムナノ粒子等が、典型的な例で
ある。使用に際し、フルオロフォアは、共役形であり得、即ち、使用する試薬に
共有結合し得る。この形において、蛍光物質は典型的に分子量1kDを有する。キ
ット、特に蛍光物質と組み合わさったチャンバーおよび溝は、化学反応、アッセ
イ、分離、細胞培養、本明細書の他の場所に記載のような他のものの実施に使用
し得る。
【0058】 マイクロデバイス 第5の本発明の態様は、上記のようなマイクロデバイスであり、液体輸送シス
テムがポリマー物質(材料)中/上に形成され、プラスチックは本紙素敵に上記の
種類の1個以上の脂肪族モノマーの重合化により得られる1個以上のポリマーか
ら成る。この態様において、デバイスは本明細書に記載の他の本発明の態様の1
個以上の性質を有し得る。
【0059】 細胞培養 第6の本発明の態様は、細胞培養法である。本明細書で使用する細胞の培養な
る用語は、単層培養、懸濁培養等を含み、細胞凝集物、組織、生検材料等は除く
。本明細書で意図される細胞培養は、本来の正常細胞培養プラクティス、例えば (a)細胞の数は、培養期間中に少なくとも2倍または少なくとも3倍にならなけ
ればならない。 (b)不均質表現型集団を意味する接着依存性(anchorage-dependant)細胞の培養
は、使用する表面に接着する細胞に関し、低淘汰圧下で行わなければならないこ
れは、接着依存性細胞に関し、細胞表面が培養細胞の少なくとも30%が支持体
表面に接着するように選択すしなければならないことを意味する。より好ましく
は、この接着割合は50%以上、例えば少なくとも90%でなければならない。
(c)細胞と支持体表面の相互作用を促進するために、細胞接着因子は、典型的に
培養培地に存在する。哺乳類接着細胞に関して、培養培地は典型的に、確立され
た方法に従って15%(w/w)までの血清を含む。 を含む。
【0060】 細胞、特に接着依存性細胞の培養は、プラスチックから成る指示体表面の存在
下で成されている。即時水接触角は40°−60°である。マイクロデバイス中
での細胞培養に関して、この相対的に低い親水性に関する液体流体工学の問題が
ある。
【0061】 本発明により、様々な種類の細胞の培養が、40°−60°より有意に低い即
時水接触角を有する、超親水性支持体との接触により行うことができることが判
明した。マイクロ装置に適用したとき、この発見は、液体流体に関する状態を改
善する。第6の態様は、従って、細胞培養が、即時水接触角30°、例えば 20°を提供するプラスチックから成る表面の存在下で行われることを特徴とす
る。表面は主に培養容器の内壁上に提供されるが、例えば、容器中に懸濁した粒
子によりまた提供され得る。
【0062】 即時水接触角は、好ましくは、上記のように反復洗浄に対して安定である親水
性を意味する。
【0063】 本明細書に記載されているガスプラズマ処理による親水性化が好ましい。
【0064】 好ましいプラズマは、一つでまたは組合わせて下記の荷電/極性基の混合物に
挿入できる1個以上のガスを含む。試験したガスの中で、酸素と窒素の混合物が
好ましく、一つのガスはあまり好ましくなく、アルゴンがもっとも好ましくない
。二酸化硫黄および五酸化二リン(diphosphorous pentoxide)のようなガスは、
それらがもたらす取扱い問題を無視した場合、酸素および/または窒素と共に使
用することが遊離である。
【0065】 接着依存性細胞の十分な培養および行動の最も重要な因子は、細胞が生育する
表面である。このタイプの細胞をそれらが接着できないまたは殆ど接着しない表
面で培養した場合、それらは生育しない。細胞機能は細胞とその基底との間の動
的相互作用を必要とする。これらの相互作用は、経膜タンパク質(インテグリン
;Hynes RO, Integrins: versatility, modulation and signalling in cell ad
hesion. Cell 69: 11-25, 1992)が細胞の内部が外部基底と結合する場所である
、分化した接触部位で起こる。表面官能基およびそれらの荷電特性特性ならびに
親水性/疎水性、および表面遊離エネルギーが細胞行動に重要であるLee JH et
al., Biomaterials 18:351-358. 1997)。適当な密度でのアミン(アンモニウム)
、アミド、ヒドロキシル、カルボキシル(カルボキシレート)およびスルホニル(
スルホネート)およびスルフェート基が差硫黄表面または接着タンパク質との静
電気的相互作用の部位として、および細胞外マトリックス成分上の接着接着を模
倣するとして考えられる(Maroudas, J. Theor. Biol. 49 (1975) 417-442; Lee
et al., Biomaterials 15 (1994) 704-711; and Lee et al., Biomaterials 18
(1997) 351-358)。
【0066】 非接着依存性細胞は、しばしばそのライフサイクルのある部分の間、支持体表
面を必要とする。
【0067】 典型的に、荷電基の密度は、Åあたり1−2基以上でなければならない。経
験則として、HeLa細胞(10−20μm)のようなより小さい細胞は、線維芽細胞(
約30×100μm)のようなより大きい細胞よりも高い密度を必要とする。最適
値は、細胞タイプで異なり、当分野で既知のように決定し得る。
【0068】 本発明のこの態様に従った細胞培養は、広範囲の細胞に当て嵌まる。細胞は、
接着、または非接着依存性であり得る。それらは、正常または腫瘍起源でり得、
それらは培養に際し遺伝的に操作され得る。それらは哺乳類、細菌、真菌(酵母)
、植物、魚、鳥、両生類、爬虫類等由来であり得る。哺乳類細胞に関して、それ
らは任意の組織、例えば、上皮、内皮、線維芽細胞、筋肉、神経、色素、造血細
胞および胚細胞由来であり得る。
【0069】 各々のそれぞれの細胞の種類に関して、条件およびプロトコールを選択する規
則は、他の容器中または粒子上で培養するのと原則として同じである。
【0070】 ポリマー表面物質は、培養する細胞に毒性であってはならない。我々は、例え
ば、アクリロニトリルモノマーまたはあくリル酸モノマーから構築されたガスプ
ラズマ処理ポリマーが、恐らく、ポリマーの分解のために毒性であり得ることを
認識している。これは、これらの種類の材料を避けることにより、または使用す
る前の物質の適切な後処理により、回避し得る。
【0071】 本発明は、以下に非限定的実施例により説明する。本発明は、明細書の一部で
ある特許請求の範囲により更に定義される。
【0072】 実験部分 材料 表面(ディスク):ビスフェノールAとポリメチルメタクリレートのポリカーボネ
ートCDブランク、Toolex Alpha AB, Sundbyberg, Swedenで注入鋳造。非パタ
ーン化CDブランク、Zeonex(日本ゼオン、日本からのシクロオレフィンコポリ
マー)またはLuran KR2536(BASF, Germanyからのスチレンアクリロニトリルコポ
リマー(SAN))を、Åmic AB, Uppsala, Swedenで注入鋳造。ディスクの平面(非パ
ターン化)側を全ての実験で使用した。
【0073】 ガス:酸素、アルゴンおよび合成空気は、l'Air Liquide, Franceからであった
【0074】 プラズマリアクター:Plasma Science, PS0500 (BOC Coating Technology)主調
節可能パラメーター:無線周波数(RF)力0−500Wおよびガス流0−100
または0−1000sccm(標準cm/分)。 通常、リアクターPS0500は3つの電極プレートを備えるが、再構築した後、一
つのプレートのみ残る。
【0075】 方法 洗浄:プラズマ処理前に、全てのディスクをpro analysiイソプロパノールに2
分浸し、短く99%エタノールでフラッシュし、家庭用(house)窒素で送風乾燥
した。これは、プラズマ処理を妨害するかもしれない放出薬剤、静電気防止剤等
の除去のために行った。
【0076】 プラズマ処理:ディスクを二つの位置:チャンバー床から20.5cmのプラスチ
ック支持体上、または電極プレート上に置かれたガラス支持体(チャンバー床か
ら45cm)の一つでプラズマリアクター中に置いた。60mTorrの基底圧に排気し
た後、ガスを入れ、ガス流を所望のレベルに調節した。次いでRF力のスイッチ
を意図した時間入れ、リアクターチャンバーを最後に大気中に発散させた。
【0077】 接触角測定:処理した直後、平衡水接触角を、Rame-Hartゴニオメーターベンチ
上の静滴法で測定した。各サンプルに次いで、6個の測定を行った(各々3個の
水滴の2面)。接触角測定をまた切片を2分、70%エタノール/水中に浸し、
家庭用窒素で送風乾燥させた後に行った。測定は、例えば、水滴の蒸発による接
触角の変化を避けるために、液体が適用されてから20秒以内に行った。
【0078】 架橋の導入のチェック:ポリマー物質を、元のポリマーに関して適当であるが、
プラズマ処理の間に架橋したポリマーに関して適当ではない溶媒に、ガスプラズ
マ処理前および後に溶解した。処理後の不溶性物質の存在を、架橋の導入の指標
として取った。
【0079】 極性酸素含有基の導入のチェック:ESCAによる以前の試験は、表面における
これらの基のパターンがガスプラズマ処理により、表面結合酸素の増加を示唆す
る方法で変化することを示した。ESCAは、細胞培養に重要であり得る種々の
極性/荷電基の測定に使用できる。
【0080】 貯蔵試験:プラズマ処理ディスクをポリスチレンペトリ皿に入れ、環境研究室条
件に貯蔵した。一定間隔の小切片を切断し、即時水接触角を直接および70%エ
タノール/水に浸した後の両方に測定した。
【0081】 許容基準:親水性の観点から、予備的許容基準は、水接触角が、70%エタノー
ルで洗浄後20°以下であることであった。
【0082】 細胞培養: 表面を評価する方法: 細胞が基底層上に非常に高い要求を提示するので、細胞培養を、プラズマ処理
表面の評価の方法として使用した。
【0083】 プラズマ処理物質の切片を多ウェルプレートに入れ、細胞培地中の細胞の懸濁
液を核ウェルに添加し、プレートを細胞培養雰囲気中、種々の時間インキュベー
トした。細胞接着、形態学および増殖を顕微鏡的に、および時々細胞接触マーカ
ーおよび接着性接触に対する免疫細胞化学の使用により評価した。予備的結果は
、プラズマ処理表面が細胞培養に使用でき、細胞が最適行動のための必要な特性
を示すことを明らかにした。このような特徴は、正常細胞運動性および細胞分割
の徴候である材料表面上の均質にパターン化された、適切な細胞核酸における殆
ど全ての培養細胞の接着を含む。空胞、過剰な量のリソゾーム顆粒、気泡、また
は膜破壊を含む病理的徴候は、意味がない。現在まで試験した細胞系は、MRC5(
正常胚線維芽細胞)、HeLa(上皮様起源の頸部癌細胞)、Chang(肝癌、肝臓細胞)を
含む。細胞は、表面上の広範囲の要求をカバーするように選択している。非接着
依存性細胞は、それ自体、非常に小さな要求を表面上にした。このような細胞の
例(Rajiリンパ腫)は、プラズマ処理表面の存在下で十分培養されている。
【0084】 我々の結果は、我々の発明のプラズマ親水性化表面の十分な細胞培養特性を示
す。十分な細胞接着および生育が、線維芽細胞に関して10−40°の区画の水
接触角を有する表面上で、および上皮様細胞に関しては5−40°の区画で達成
される。
【0085】 結果 平面CDディスクプラズマ処理 一つの電極プレートを供えたPlasma Science PS0500リアクター サンプルを、チャンバーの中心のリアクターチャンバー床から20cmのポリプロ
ピレン支持体上に置いた。
【表1】
【表2】
【表3】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C08L 101:00 C08L 101:00 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI ,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MA ,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ, PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,S K,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG ,US,UZ,VN,YU,ZA,ZW (72)発明者 ヘレネ・デランド スウェーデン、エス−187 35タビー、エ ンスタヴァーゲン33番 Fターム(参考) 4B065 AA90X BB25 BC41 4F073 BA07 BA08 BA15 BA16 BA17 BA18 BA20 BA26 BA27 BA29 CA01 CA13

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面が永久的により親水性となるようにプラズマの強度を選
    択すること、および表面を続いて水、水混和性溶媒およびそれらの混合物から選
    択される溶媒で洗浄する所望の段階を有することを特徴とする、非重合可能ガス
    のガスプラズマ中での処理により、ポリマー物質(プラスチック)でカバーされた
    表面により親水性を提供する方法。
  2. 【請求項2】 プラズマ強度が5W/cm/分、特に力が250Wおよ
    び流れが50cm/分であることを特と湯とする、請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 (a)ポリマー物質が即時水接触角20°を有するプラスチ
    ックから選択されており、そして (b)プラズマ処理条件が、プラズマ処理および続くエタノール(70%w/w)で
    の洗浄後の即時水接触角が30°、例えば20°であるように設定する
    ことを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 表面上のポリマー物質が (a)モノマーが(i)アルケン/アルカジエン(例えば、エチレン、ブタジエン、
    プロピレン、およびビニルエーテルのような置換形を含む)、シクロアルケン、
    モノフルオロビニルおよびジおよびポリフルオロビニル炭化水素(例えば、テト
    ラフルオロエチレン)、アルケン含有酸、エステル、アミド、ニトリル等、例え
    ばメタクリル/アクリル化合物;および(ii)所望により例えば低級アルキル基(
    C1−6)等で置換されていてもよいビニルアリール化合物(モノ−、ジ−および
    トリビニルベンゼン)のような不飽和であるポリマー/コポリマー等; (b)モノマーがアミノ、ヒドロキシ、カルボキシ等からなる群から選択される2
    個以上の基を示す化合物である縮合ポリマー/コポリマー から選択されることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
  5. 【請求項5】 プラズマが電磁波および/またはマイクロ波により誘導され
    ることを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
  6. 【請求項6】 プラズマガスが酸素、窒素、またはアルゴンのような希ガス
    、またはこれらのガスの混合物であることを特徴とする、請求項1から5のいず
    れかに記載の方法。
  7. 【請求項7】 プラズマ処理に続き、表面が陽性、陰性および両性基;ヒド
    ロキシ基、バイオアフィニティー基、キレート化基等を示すために誘導体化され
    ることを特徴とする、請求項1から6のいずれかに記載の方法。
  8. 【請求項8】 表面の少なくとも一部が、マイクロデバイスの液体輸送系に
    加工されることを特徴とする、請求項1から7のいずれかに記載の方法。
  9. 【請求項9】 表面が即時水接触角30°、例えば20°を有し、該水
    接触角がエタノール/水混合物(70%w/w)での洗浄により±20%以下およ
    び/または±5°以下の変化であることを特徴とする、剥き出しのプラスチック
    のプラズマ処理表面。
  10. 【請求項10】 表面が (a)モノマーが(i)アルケン/アルカジエン(例えば、エチレン、ブタジエン、
    プロピレン、およびビニルエーテルのような置換形を含む)、シクロアルケン、
    モノフルオロビニルおよびジおよびポリフルオロビニル炭化水素(例えば、テト
    ラフルオロエチレン)、アルケン含有酸、エステル、アミド、ニトリル等、例え
    ばメタクリル/アクリル化合物;および(ii)所望により例えば低級アルキル基(
    C1−6)等で置換されていてもよいビニルアリール化合物(モノ−、ジ−および
    トリビニルベンゼン)のような不飽和であるポリマー/コポリマー等; (b)モノマーがアミノ、ヒドロキシ、カルボキシ等からなる群から選択される2
    個以上の基を示す化合物である縮合ポリマー/コポリマー から選択されるポリマー物質から成り、該ポリマー物質は所望により架橋しおよ
    び/または所望によりポリマー/コポリマーの2個以上の混合物であることを特
    徴とする、請求項9記載の剥き出しの表面。
  11. 【請求項11】 先にガスプラズマ処理されたポリマー物質が30°の即
    時水接触角を示すことを特徴とする、請求項9または10に記載の剥き出しの表
    面。
  12. 【請求項12】 剥き出しの表面の少なくとも一部がマイクロデバイスの液
    体輸送システムの一部であることを特徴とする、請求項9から11のいずれかに
    記載の剥き出しの表面。
  13. 【請求項13】 細胞培養のための、請求項0から11のいずれかに記載の
    および/または請求項1から8のいずれかに記載の方法により得られる表面の使
    用。
  14. 【請求項14】 プラスチックが物質が蛍光を発する波長での物質の蛍光に
    対して無視できる蛍光を有する、特にプラスチックの蛍光強度が物質の蛍光強度
    の<50%であることを特徴とする、 (a)(i)合成ポリマー物質(プラスチック)から製造され、(ii)その上に少なくと
    も一つのチャンバーおよび/または少なくとも一つの溝がある、表面を含むマイ
    クロデバイス、および (b)デバイス中で検出する蛍光物質 を含む、キット。
  15. 【請求項15】 支持体表面が即時水接触角30°を有するプラスチック
    表面を提供することを特徴とする、ライフサイクルのある部分の間支持体表面を
    必要とする細胞の培養法。
  16. 【請求項16】 即時水接触角30°を有するプラスチック表面が、プラ
    スチックから成る表面の請求項1から8のいずれかに記載のガスプラズマ処理に
    より得られることを特徴とする、請求項15記載の方法。
  17. 【請求項17】 接着依存性細胞に関して、条件が培養細胞の少なくとも3
    0%が支持体表面に接着するという条件が付いた、請求項15または16に記載
    の方法。
  18. 【請求項18】 最大15%の血清が培養培地に存在することを特徴とする
    、請求項15から17のいずれかに記載の方法。
  19. 【請求項19】 培養を細胞の数が少なくとも2倍になる期間行うことを特
    徴とする、請求項15から18のいずれかに記載の方法。
  20. 【請求項20】 細胞培養をマイクロデバイスのチャンバーで行うことを特
    徴とする、請求項15から19のいずれかに記載の方法。
  21. 【請求項21】 液体輸送システムが、不飽和部分を有する重合化脂肪族モ
    ノマーを含むポリマー物質(プラスチック)中/上に形成されている、マイクロデ
    バイス。
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