JP2003512977A - 低圧プラズマを用いた容器の処理装置用の真空回路 - Google Patents
低圧プラズマを用いた容器の処理装置用の真空回路Info
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Abstract
Description
ラズマを用いて処理するための装置の分野に関する。
述されており、本発明に記載の装置により実施することができる方法に関するあ
らゆる説明に関して、この出願を参照することができる。上で引用した文書に記
述されている装置においては、気密空洞と外部囲壁とを含む処理装置内に各容器
が置かれるようになっている。この装置は、処理すべき容器を投入できるように
空洞を開くことが可能な可動上蓋を備える。閉位置では蓋は、低温プラズマと呼
ばれるプラズマを発生するのに必要な低圧を空洞内で得ることができるように、
気密状態でこの空洞を閉じる。有利には装置の蓋は、開位置と閉位置との間の蓋
の移動により容器の投入および取り出しが確実に行われるように、容器の支持手
段を含む。
が容器の隔壁上への材料の付着を行うことを目的とする装置である。そのために
は、プラズマの形態でイオン化される前駆ガスを処理空洞内に供給することが必
要である。したがって有利には、前記文書は、前駆ガスの注入手段が空洞の蓋に
取り付けられたインジェクタを含むことを予定している。
呼ばれる回路によりポンピング手段に接続しなければならない。その場合も、上
に引用した文書は、この真空回路の端部が空洞内に直接開口するように蓋の上に
配設されることを予定している。
に記述してはいない。
る真空回路の具体的な設計を提供することを目的とする。
空回路の固定端に通じさせる結合管路を含むことを特徴とする、前に記述したタ
イプの処理装置を提供する。
、空洞を画定する蓋の内面内に開口する2つの終端とを含み、処理すべき容器の
開口部を蓋の前記内面に気密押圧するための支持手段が設けられ、容器が、前記
終端のうちの第1終端により真空回路に接続された第1部分と、第2終端により
真空回路に接続された第2部分とを空洞内に画定するように、開口部は前記終端
の内の第1終端を完全に取り囲み、 −2つの終端のうちの一方は、蓋が閉位置にある時、空洞の2つの部分を気密
状態で分離することができるよう制御されるシャッタを含み、 −シャッタは制御弁であり、 −結合管路の第1終端により、反応ガスを容器の内部に供給するためにインジ
ェクタが通過することが可能となり、 −結合管路は、自由大気に通じ、処理の終了時、空洞を大気に接続できるよう
に制御される遮蔽シャッタを具備する空気取り込みオリフィスを含む。
することにより明らかになろう。
示した。ここでは装置10は、垂直軸A0を中心とする連続回転運動を行うター
ンテーブル12を含む回転機械の一部をなす。したがってターンテーブル12は
、図示する装置と同一の一連の複数の処理装置10をその外周に支承するように
なっており、装置は軸A0を中心として角度的に等間隔に分布する。
れた外部囲壁14を含む。囲壁14はたとえば金属など電導性材料で作製され、
垂直軸A1の管状円筒形壁18の形を成している。囲壁は底部下部壁20により
その下端が閉じられる。
磁場を囲壁14の内部に発生するための手段(図示せず)を含むハウジング22
がある。この場合、対象となっているのは、UHF領域、すなわちマイクロ波領
域内に電磁放射を発生することができる手段である。したがってこの場合、ハウ
ジング22は、アンテナ24が導波路26内に通じるマグネトロンを内包するこ
とができる。この導波路26はたとえば、軸A0に対し放射状に延び、側壁18
を通って囲壁14の内部に直接通じる矩形断面トンネルである。しかしながら、
無線周波数型の放射源を備えた装置の範囲内で本発明を実施することができ、お
よび/または、放射源をたとえば囲壁14の軸方向下端など、異なる位置に配設
することができる。
透過する材料で作製された軸A1の管28がある。たとえば石英で管28を作製
することが可能である。この管28は処理すべき容器30を収容するためのもの
である。したがって管の内径は容器の直径に適合しているべきである。またこの
内径は、容器が囲壁の内部に入ったら直ちに10−4バール程度の減圧が生じる
空洞32を画定するものでなければならない。
28が上方に完全に開くように、管28の直径にほぼ等しい直径の中央開口部3
8を具備する上部壁36により上端が部分的に閉じられる。反対に、管28の下
端が気密的に接続されている金属製下部壁20は空洞32の底部を形成している
ことがわかる。
示す高位置と図2に示す閉じ低位置との間で軸方向に移動可能な蓋34を含む。
高位置では蓋は十分に開放されるので、空洞32内に容器30を挿入することが
できる。
圧するようになる。管28の上端は気密的に上部壁36に接続されるので、蓋3
4は空洞32を気密的に閉じることができる。このために、トーリックリング型
で、蓋34により支承され、中央オリフィス38の周囲の空洞14の上部壁36
を押圧するようになるパッキン40が設けられる。
2を含み、このリングは、蓋34が閉位置にあるとき、囲壁14とこの蓋との間
に電気的結合を確保するように隔壁36を押圧するようになる。実際、蓋は導電
材料で作製され、空洞32内にプラズマを発生することができる電磁場を囲壁1
4の内部に確立することができるように囲壁14を閉じる機能も有する。有利に
は、このリングは、導電性をもつようにするために金属粒子が充填された(シリ
コーン型)可とう材料を母材として作製することができる。実際このようなリン
グは、パッキンの役割と、蓋と囲壁14との間の電気的結合の役割を同時に果た
すことができる。
、ターンテーブル12に固設された案内面46上を滑動するキャリッジ44によ
って支承される。しかしながら、蓋34が、たとえば水平軸を中心とする旋回運
動など、空洞14に対する開位置と閉位置との間の他の相対運動をもつようにす
ることも可能であろう。
制御するために処理装置が回転ターンテーブル上に取り付けられるという事実を
利用する。実際、機械は、軸A0を中心として円弧状に延び上面が転動トラック
を形成する定置カム48を含む。もちろんカム48の高さは、軸A0を中心とす
る角度位置に応じて変化する。
たがってターンテーブル12に回転できるように固設される。したがってカム4
8が起立する角度の領域内にローラ50が到達すると、ローラにより、上位置側
への蓋の起立が生じる。反対に、その他の角度の領域内では、カムの高さが下が
り、ローラ50により蓋34は閉位置側に再度降下する。もちろん本発明の範囲
から逸脱することなく蓋34の移動の他の制御手段を想定することが可能である
。
めて有利である。実際、蓋は追加の装置を支承する。
器はたとえばポリエチレンテレフタレート(PET)などの熱可塑性材料のボト
ルである。これらのボトルは、首の周囲かつカラーの下側に嵌合またはラチェッ
ティングするフォーク54を使用してボトルを把握することができるように、そ
の首58の基部に放射状の突起のカラーを含む。したがってこのフォーク54は
、蓋34を横断するロッド56の下端に取り付けられる。このロッド56は、ボ
トル30が蓋から若干下方に離された状態でフォークに嵌合されるように、蓋に
対し上下方向に可動である(図1)。ボトル30はいったんフォーク54に支承
されると、蓋34の支承面60を上向きに押圧することができるようになる。こ
の支承は、蓋が閉位置にある時、空洞32の内空間が容器の隔壁により2つの部
分、すなわち容器の内部と外部とに分割されるよう気密であるのが好ましい。
を処理することが可能である。図示例は容器の隔壁の内面のみを処理するケース
である。
を同時に制御できることが必要である。そのためには、容器の内部は減圧源なら
びにガス分配回路に通じることができるようになっていなければならない。した
がって蓋34は、軸A1に沿って配置され、半径方向において容器30をフォー
ク54まで移動させることができる隠された高位置(図1)とインジェクタ62
が容器30の内部に投入される低位置(図2)との間を蓋34に対して移動可能
なインジェクタ62を含む。
磁場の作用によりプラズマを形成することができるようにするためには、容器内
の圧力は10−4バール程度である必要がある。蓋34は、容器の内部を減圧源
(たとえばポンプ)と通じるようにするために、主端65が蓋の内面内、より正
確にはボトル30の首が押圧される支承面60の中央に開口する内部管路64を
含む。
はなく、蓋34の下に固定される軸A1のはめ込み管状部材61の環状下端上に
形成される。この場合、この管状部材61の内径は主端65の延長部を構成して
いる。したがって容器の首の上端が支承面60を押圧する時、この上端により画
定される容器30の開口部は、主端65が蓋34の下側面内に開口する際に通過
するオリフィスを完全に取り囲む。
実際には、蓋34が可動であるため、蓋とポンピング回路との間に可とう管路を
設ける必要があろう。しかしながらこのような管路は真空回路においてはほとん
ど適さない。なぜなら可とう管路は大気圧の作用により破砕する傾向があるから
である。
空回路は、蓋が閉位置にある時に2つの端部66、68が互いに向かい合うよう
に配設される固定端68を含む。
軸A0に対し内側に延びる延長部70を有する。この延長部70にはオリフィス
72が穿孔され、真空回路の管路74の接続を行えるようにするための手段を含
む。この管路74はたとえば単数または複数のポンプ(図示せず)に接続される
。好ましくはこれらのポンプは機械の外側に配設され、この場合、ターンテーブ
ルの回転を妨げないよう、回転継手(図示せず)を介して管路74に接続される
。
4は剛直であるかきわめて低い可とう性のものにすることができる。
形状を有し、したがって接合端66は、管路74が接続されるオリフィス72に
対し垂直に、蓋34の下側面内に開口する。
ート76と上側カバー78で作製される。シート76より上の面内には内部管路
64が穿孔され、接合端66および主端65のみが下面内に開口する。カバー7
8がシートに気密押圧されている時には、可能な行き来は接合端66と端部の間
にしかなく、したがって管路64により管路74と空洞32との間に気密結合が
確保される。
である。このような容器は、ボトルの外部と内部の間の1バール程度の過圧に耐
えることができないおそれがある。したがってボトルを変形することなく10− 4 バール程度の圧力をボトル内で得るためには、ボトルの外側の空洞32の部分
も少なくとも部分的に減圧されなければならない。また、蓋34の内部管路64
は、主端65の他、同じく蓋の下面を通るが、容器の首58が押圧される環状支
承面60の、半径方向において外側に開口する副端80を含む。
がつくり出される。
するためには、内部の10−4バールの圧力に対し、外部の圧力は0.05から
0.1バールより下まで下降しないのが好ましい。さらに、たとえ薄肉ボトルで
も顕著な変形を受けることなくこの圧力差に耐えることができることがわかる。
この理由から、副端80を塞ぐことができる制御弁82を蓋に装備させるように
なっている。
8との間に閉じ込められ、「常時閉」型である。弁82は、蓋34のカバー78
を通して上側に延びる弁のロッド84の下端に配置される。
働するようになっているローラシステム86により駆動される。カム88は、タ
ーンテーブルの回転のある所与の点において、蓋34上の水平軸A2を中心とし
て連接されたレバー90に固設されたローラ86の起立を発生させる。したがっ
てローラはレバー90を旋回させ、レバーは制御ナット92を介してロッド84
を持ち上げる。カム88によりローラが再度下降できるようになると、蓋34と
レバー90との間に作用する復元ばね94は、弁のロッド84を下側に移動させ
るようになり、その結果、副端80の周囲に形成された弁座96に弁82を押圧
する。
ことが可能である。したがってたとえばシリンダまたは電磁石を使用することが
可能であろう。
ク54は低位置にあり、インジェクタは図1に示すような高い格納位置にある。
したがってたとえばノッチ方式トランスファーホイールにより、容器30をフォ
ーク54上のこの点に移動させることができる。そのようなホイールはひろく知
られており、PETボトルの製造機械および充填機械において使用されている。
このホイールは容器のローディング点においてターンテーブルに接することにな
る。
動を継続し、蓋は閉位置側に下降する。同時に、蓋34の支承面58に容器を気
密に押圧するように、フォーク54を支承するロッド56が駆動され、インジェ
クタ62は下降され、容器の内部に投入されるようになる。また、インジェクタ
は管路64の主端65を通して下降するが、主端を塞ぐことはないことに留意さ
れたい。
れている空洞32内に含まれている空気を吸引することが可能である。
くように制御されている。ターンテーブル12が所定の角度位置に到達すると、
容器の外部の真空レベルが十分なレベルに到達したとみなされ、カム88および
ローラ86のシステムが弁82の閉動作を駆動する。したがって専ら容器30の
内部でのみポンピングを継続することができる。
内部被覆を付着させることを行うことができ、この付着はインジェクタ62によ
り容器内に注入される前駆ガスのプラズマ状態のイオン化により得られる。
戻す。その場合、管路74を大気圧に接続することによりこの作業を行うように
するか、管路を大気に直接接続することができる被制御開口部(図示せず)を管
路64に備えるようにするかを決めることができる。両者の場合とも、大気圧が
容器の外部および内部に同時に確立されるように弁82の開度を制御するよう初
めは注意する。
、インジェクタを格納すること、および、処理した容器の排出ができるよう、蓋
34から下に向かってフォーク54の位置をずらすことが可能である。
ぜなら蓋のレベルにおいては、繰り返し応力を受け、したがって破損のおそれが
ある可とうシステムを使用しないからである。
略図である。
図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 処理すべき容器(30)を収納するために設けられた定置空
洞(32)を備える少なくとも1つの処理装置(14)を含み、空洞(32)が
、真空回路(74)を介して減圧源に接続されるようになっており、処理装置(
14)が、空洞(32)を気密に閉じることができる可動蓋(34)を含み、か
つ処理前の空洞(32)への容器の投入および処理後の容器の取り出しが、空洞
(32)に対する蓋(34)の移動によって行われるタイプの、電磁波によるガ
スの励起により発生する低圧プラズマを用いた容器(30)の処理のための装置
であって、蓋(34)が空洞(32)を気密にした閉位置にあるとき、空洞(3
2)を真空回路(74)の固定端(68)に連通させる結合管路(64)を蓋(
34)が含むことを特徴とする装置。 - 【請求項2】 結合管路(64)が、真空回路の固定端(68)と協働する
接合端(66)と、蓋が閉位置にある時、空洞を画定する蓋(34)の内面内に
開口する2つの終端(65、80)とを含むこと、および処理すべき容器(58
、30)の開口部を蓋(34)の前記内面(60)に気密押圧するための支持手
段(54)が設けられ、容器(30)が、前記終端のうちの第1終端(65)に
より真空回路に接続された第1部分と、第2終端(80)により真空回路に接続
された第2部分とを空洞(32)内に画定するように、開口部が前記終端の内の
第1終端を完全に取り囲むことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項3】 2つの終端(65、80)のうちの一方が、蓋(34)が閉
位置にあるとき、空洞の2つの部分を気密に分離することができるように制御さ
れるシャッタ(82)を含むことを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 【請求項4】 シャッタが制御弁(82)であることを特徴とする請求項3
に記載の装置。 - 【請求項5】 結合管路(64)の第1終端(65)により、反応ガスを容
器(30)の内部に供給するためにインジェクタ(62)が通過できるようにな
ることを特徴とする請求項2から4のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項6】 結合管路が、自由大気に通じ、処理の終了時、空洞(32)
を大気に接続することができるように制御される遮蔽シャッタを具備する空気取
り込みオリフィスを含むことを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載
の装置。 - 【請求項7】 蓋(34)が容器(30)の支持手段(54)を含むことを
特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の装置。
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