JP2003508374A - vic−ジクロロ酸フルオリド化合物の製造方法 - Google Patents
vic−ジクロロ酸フルオリド化合物の製造方法Info
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Abstract
Description
ロロ構造を有する酸フルオリド化合物の新規な製造方法に関する。
素に、塩素原子が1個結合した構造)を有し、かつフルオロカルボニル基(−C
OF)を併有する化合物は、フッ素化樹脂またはフッ素樹脂原料モノマーの製造
中間体として有用である。たとえば、−CF2ClCFClを有する化合物は、
亜鉛と反応させ、次に脱塩素化することにより、ペルフルオロビニル基(CF2
=CF−)を有する酸フルオリド化合物を生成させることができる。該化合物の
ペルフルオロビニル基は重合性基であり、これを重合させることにより種々のフ
ッ素化樹脂が製造できる。フッ素化樹脂は耐熱性および耐薬品性に優れた有用な
樹脂である。
テル)[CF2=CFCF2CF2OCF=CF2]の単独重合体は、透明なフッ素
化樹脂として種々の分野に用いられている。かかるフッ素化樹脂のモノマーであ
る、ペルフルオロ(3−ブテニルビニルエーテル)は、従来、次の製造ルートで
合成されている。
し、該化合物(A)とテトラフルオロエチレンとを反応させて化合物(B)を生
成し、該化合物(B)と発煙硫酸とを反応させて化合物(C)を生成する。さら
に化合物(C)をKF等のフッ化アルカリの存在下にヘキサフルオロプロピレン
オキシド(HFPO)と反応させて化合物(D)を生成し、さらに化合物(D)
をソーダ灰またはガラスビーズの存在下、250℃以上に加熱して化合物(E)
とし、さらに化合物(E)を亜鉛と反応させて脱塩素化することにより、ペルフ
ルオロ(3−ブテニルビニルエーテル)を得る方法である。
は、化合物(A)を製造する工程において、化合物(A)とともに、その異性体
であるCF2ICFCl2が副生する問題があった。そして該異性体量を制御する
ことが困難であった。また、これら従来の製造方法は、反応工程が多く、原料の
価格も高いので、経済的に不利であった。また、塩化ヨウ素や発煙硫酸等を使用
することから、装置が腐食する問題や、反応試薬の取り扱いが難しい問題があっ
た。
しては、元素状フッ素を用いて直接フッ素化する方法(以下、直接フッ素化法と
いう。)及び、電解槽中でフッ化水素を電気分解し、発生する生成物を用いてフ
ッ素化反応を行う方法(いわゆる電解フッ素化反応)が知られている。そして、
直接フッ素化反応には、気相中でフッ素化する反応(以下、気相反応という。)
と、液相中でフッ素化する反応(以下、液相反応という。)が知られている。
フルオリド化合物を得る方法も知られている。該酸フルオリド化合物は、対応す
る炭素骨格を有する炭化水素系のエステル化合物を原料とし、これをフッ素を用
いて液相で直接フッ素化することにより生成できると記載されている(J.Am
.Chem.Soc.,120,7117(1998))。
存在下に反応させてペルフルオロ酸フルオリドを生成する方法も提案されている
。(米国特許5466877号) しかし、上記した直接フッ素化法や電解フッ素化反応などにより、ペルフルオ
ロ(3−ブテニルビニルエーテル)の前駆体である、パーフルオロ(3,4−ジ
クロロブチルビニルエーテル)などのvic−ジクロロ構造を有する酸フルオリ
ド化合物(1)を製造しようとすることは、従来、考えられてもいないし、また
提案されてもいない。
る、パーフルオロ(3,4−ジクロロブチルビニルエーテル)などのvic−ジ
クロロ構造を有する酸フルオリド(III)を、安価で入手容易な原料化合物から
短工程で製造しうる方法を提供することにある。従来の方法は、反応工程が多く
、原料の価格も高く、経済的に不利であり、また、塩化ヨウ素や発煙硫酸等を使
用することから、装置が腐食する問題や、反応試薬の取り扱いが難しい問題を含
んでいた。
させ、該化合物(II)のエステル結合を分解して下記化合物(III)、または、
下記化合物(III)および下記化合物(IV)を生成させることを特徴とするvic
−ジクロロ酸フルオリド化合物の製造方法を提供する。 (RH1−EH1−)CRH2RH3CH2−OCORHB(I) (CF2ClCFCl−EF1−)CRF2RF3CF2−OCORFB(II) (CF2ClCFCl−EF1−)CRF2RF3COF(III) FCORFB(IV) ただし、 RH1:CX1X2ClCX3Cl−またはCClX4=CCl−。ただし、X1〜
X4は、それぞれ独立して水素原子またはフッ素原子。 RH2、RH3:それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、1価飽和炭化水素基
、ハロゲノ1価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有1価飽和炭化水素基、またはハ
ロゲノ(ヘテロ原子含有1価飽和炭化水素)基。 EH1:2価連結基または単結合。 EF1:EH1に対応する基であり、EH1が単結合である場合は、EF1は単結合で
あり、EH1が1つまたはそれ以上の水素原子を有する2価連結基である場合には
、EF1は該水素原子の1個以上がフッ素化された基であり、EH1が水素原子を有
しない2価連結基である場合にはEF1はEH1と同一の基。 RHB:1価飽和炭化水素基、ハロゲノ1価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有1
価飽和炭化水素基、またはハロゲノ(ヘテロ原子含有1価飽和炭化水素)基。 RF2、RF3、RHB:RF2はRH2がフッ素化された基、RF3はRH3がフッ素フッ
素化された基、RFBはRHBがフッ素化された基であり、RH2、RH3、RHB中に水
素原子が存在する場合は、該水素原子の1個以上がフッ素化された基であり、R H2 、RH3、RHB中に水素原子が存在しない場合には、RH2、RH3、RHBと同一の
基。
用いて、短い工程かつ高い収率でvic−ジクロロ構造を有する酸フルオリド化
合物(III)が製造できる。 また、本発明の製造方法は、塩化ヨウ素や発煙硫酸等を使用しないことから、
装置が腐食する問題や、反応試薬の取り扱いなどが難しい問題もない。 さらに、vic−ジクロロ構造を有する酸フルオリド化合物(III)とともに
得られる化合物(IV)を原料製造工程にリサイクルすることによる化合物(III
)の連続製造方法も提供される。 さらに、本発明では、上記反応工程を通じて従来にない新規な化合物も提供さ
れる。
(すなわちシクロアルキル基)、または部分的に環構造を有する構造の基が挙げ
られる。1価飽和炭化水素基の炭素数は1〜20が好ましく、特に1〜10が好
ましい。
またはヨウ素原子であり、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子が好ましい。 また、本明細書における「ハロゲノ」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子
、およびヨウ素原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子により、基中に
存在する水素原子の1個以上が置換されたことをいう。ハロゲノ基の基中には、
水素原子が存在していても、存在しなくてもよい。なお、「フルオロ」などの用
語の意味も同様である。 「部分ハロゲノ」とは、ハロゲノ基の基中にハロゲン原子に置換されない水素
原子が存在することをいう。なお、「部分フルオロ」、「ペルフルオロ」などの
用語の意味も同様である。
素基中の水素原子の1個以上がハロゲン原子に置換された基である。ハロゲノ1
価飽和炭化水素基中のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、または臭
素原子が好ましい。ペルハロゲノ1価飽和炭化水素基中のハロゲン原子としては
、フッ素原子のみであるか、フッ素原子とフッ素原子以外のハロゲン原子からな
るのが好ましい。なお、これらの基の具体例は、下記化合物の例示中に記載する
基が挙げられる。
炭化水素基中にフッ素化反応により変化しないヘテロ原子またはフッ素化反応に
より変化しないヘテロ原子を含む基が挙げられる。特に1価飽和炭化水素基中に
、フッ素化反応により変化しない2価ヘテロ原子または2価ヘテロ原子団を含む
基、が好ましい。 ここで、フッ素化反応により変化しない2価ヘテロ原子としては、エーテル性
酸素原子が好ましく、フッ素化反応により変化しない2価ヘテロ原子団としては
、−C−C(=O)−C−、−C−SO2−C−が挙げられる。
キル基、または、シクロアルキル基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が
挿入された基、またはシクロアルキル基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原
子が挿入された1価飽和炭化水素基が好ましい。 また、ハロゲノ(ヘテロ原子含有1価飽和炭化水素)基としては、前記ヘテロ
原子含有1価飽和炭化水素基中の水素原子の1個以上がハロゲン原子に置換され
た基であり、ハロゲノ(アルコキシアルキル)基、またはハロゲノアルコキシ基
が挙げられる。
−(ただし、X1〜X4は、それぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を示す。
)であり、原料の入手しやすさ、および、本発明の方法の経済性を考慮するとX 1 〜X4の全てが水素原子であるのが好ましい。
結合することをいう。EH1が2価連結基である場合、2価飽和炭化水素基、2価
ハロゲノ飽和炭化水素基、2価(ヘテロ原子含有飽和炭化水素基)または、2価
ハロゲノ(ヘテロ原子含有飽和炭化水素基)基が好ましい。2価連結基は、直鎖
構造であっても、分岐構造であっても、環構造を含む構造であってもよい。
手しやすさの点から水素原子、アルキル基、ハロゲノアルキル基、ヘテロ原子含
有アルキル基、ヘテロ原子含有ハロゲノアルキル基が好ましい。また、後述する
フッ素化反応によりRH2およびRH3中にフッ素原子が導入されうることから、R H2 およびRH3がハロゲノ基である場合には、フッ素原子以外のハロゲン原子を含
む基であるのが経済性の点から好ましい。
のを適宜選択すればよく、入手しやすさ、および、製造方法の経済性等を考慮す
ると、フッ素原子を含まない基が好ましい。さらに、EH1は、アルキレン基また
はヘテロ原子含有アルキレン基が好ましく、RH2およびRH3は、水素原子、アル
キル基、またはヘテロ原子含有アルキル基が好ましい。
構造を調節するのが好ましい。RHBは、ハロゲノアルキル基またはハロゲノ(ヘ
テロ原子含有アルキル)基であるのが好ましく、フッ素原子を必須とするこれら
の基が特に好ましく、とりわけペルフルオロアルキル基、ペルフルオロ(部分ク
ロロアルキル)基、ペルフルオロ(ヘテロ原子含有アルキル)基、またはペルフ
ルオロ(部分クロロ(ヘテロ原子含有アルキル))基が好ましい。RHBがフッ素
原子を必須とする基である場合には、化合物(I)を次に液相中でフッ素化する
際に、液相中への溶解性が良好になり、フッ素化反応を均一な系で実施しうるこ
とから特に好ましい。
素化反応に用いる液相の種類に応じて適宜変更するのが好ましい。通常はフッ素
含量(化合物の分子量に対するフッ素原子の割合)の下限は10質量%が好まし
く、特に30質量%が好ましい。また、上限は86質量%が好ましく、特に80
質量%が好ましい。さらに、化合物(I)の分子量は300〜1000であるの
が、液相中でのフッ素化反応時に、気相中での反応が起こることを防止でき、反
応を円滑に実施できる点で好ましい。分子量が小さすぎると化合物(I)が気化
しやすくなるため、液相でのフッ素化反応時に気相中で分解反応が起こるおそれ
がある。一方、分子量が大きすぎると化合物(I)の精製が困難になるおそれが
ある。
る。 CClH=CClO(CH2)5OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3 CH2=CH(CH2)2O(CH2)3OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3 CH2ClCHCl(CH2)2O(CH2)3OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3
化は、化合物(I)を溶媒中で元素状フッ素と反応させてフッ素化する方法(フ
ッ素化法−1)、または、電気化学的フッ素化(フッ素化法−2)が挙げられ、
なかでもフッ素化法−1が好ましい。 フッ素化法−2でフッ素化を行う場合には、無水フッ化水素酸に化合物(I)
を溶解して溶液とし、この溶液を電解槽中で電解することにより化合物(I)を
フッ素化して化合物(II)を生成するのが好ましい。
媒(以下、溶媒1という。)中で反応させて、化合物(II)を生成させるのが好
ましい。フッ素ガスは、100%のフッ素ガスを用いても、不活性ガスで希釈し
たフッ素ガスを用いてもよい。不活性ガスとしては、窒素ガス、ヘリウムガスが
好ましく、経済的な理由から窒素ガスが特に好ましい。不活性ガスとフッ素ガス
の混合ガス中のフッ素ガス量は、5vol%以上とするのが効率の点で好ましく
、なかでも5〜30vol%とするのが塩素の引き抜きや塩素のマイグレーショ
ンを防ぐ点で特に好ましい。
須的に含む溶媒が好ましい。さらに、ペルフルオロアルカン類、または、塩素原
子、窒素原子、および酸素原子から選ばれる1種以上の原子を構造中に有する公
知の有機溶剤をペルフルオロ化した有機溶剤が好ましい。さらに溶媒1としては
、化合物(I)の溶解性が高い溶媒を用いるのが好ましく、特に、溶媒と化合物
(I)との総量に対して、化合物(I)を1質量%以上溶解しうる溶媒、特には5
質量%以上溶解しうる溶媒を用いるのが好ましい。
ルオロアルカン類(FC−72等)、ペルフルオロエーテル類(FC−75、F
C−77等)、ペルフルオロポリエーテル類(商品名:クライトックス、フォン
ブリン、ガルデン、デムナム等。)、クロロフルオロカーボン類(商品名:フロ
ンルーブ)、クロロフルオロポリエーテル類、ペルフルオロアルキルアミン[た
とえば、ペルフルオロトリアルキルアミン等]、不活性流体(商品名:フロリナ
ート)等が挙げられる。このうち、溶媒1としては、ペルフルオロトリアルキル
アミン、または化合物(II)が好ましい。特に、化合物(II)を用いる場合には
反応後の後処理が容易になる利点がある。溶媒1の量は、化合物(I)に対して
、5倍質量以上が好ましく、特に10〜100倍質量が好ましい。
しい。特に、反応収率と選択率の点から、以下に説明する連続方式が好ましく、
なかでも連続方式(その2)が好ましい。またフッ素ガスは、バッチ方式で実施
する場合においても、連続方式で実施する場合においても、窒素ガス等の不活性
ガスで希釈したものを使用してもよい。
開始する。この方法は、所定の反応温度と反応圧力下で、フッ素ガスを、連続的
に供給しながら反応させる方法である。
は、所定の反応温度と反応圧力下で、化合物(I)と溶媒1とフッ素ガスとを所
定のモル比で連続的かつ同時に供給する方法である。 連続方式(その2)において化合物(I)を供給する際には、溶媒1で希釈し
てもしなくてもよい。また、連続方式(その2)において、化合物(I)を溶媒
で希釈する際には、化合物(I)に対する溶媒1の量を、5倍質量以上とするの
が好ましく、特に10倍質量以上とするのが好ましい。
フッ素の量が常に過剰当量となるようにフッ素ガスを仕込むのが好ましく、特に
、化合物(I)中の水素原子に対して1.5倍当量以上(1.5モル倍以上)とな
るようにフッ素ガスを仕込むのが選択率の点から好ましい。また、連続プロセス
で反応を実施する場合には、化合物(I)中の水素原子に対して、フッ素量が過
剰当量となるようにフッ素ガスを供給し続けるのが好ましく、特に、化合物(I
)中の水素原子に対して1.5倍当量以上(1.5モル倍以上)となるようにフ
ッ素ガスを連続的に供給することが、選択率の点から好ましい。
が、−60℃以上かつ化合物(I)の沸点以下が好ましい。反応収率、選択率、
および工業的実施上の効率の点から−50℃〜+100℃が特に好ましく、−2
0℃〜+50℃が塩素の引き抜きや塩素のマイグレーションを防ぐ点でとりわけ
好ましい。フッ素化反応の反応圧力は特に限定されず、常圧〜2MPa(ゲージ
圧、以下も同じ)が、反応収率、選択率、工業的な実施上の効率の観点から特に
好ましい。
合含有化合物を添加するか、または、紫外線照射下に実施するのが好ましい。た
とえば、フッ素化反応後期にC−H結合含有化合物を反応系中に添加するか、ま
たは、紫外線を照射するのが好ましい。これにより、通常フッ素化されにくい水
素原子を効率的にフッ素化でき、反応率を飛躍的に向上させうる。紫外線照射時
間は、0.1〜3時間であるのが好ましい。
芳香族炭化水素が好ましい。とりわけベンゼン、トルエン等が好ましい。該C−
H結合含有化合物の添加量は、化合物(I)中の水素原子に対して0.1〜10
モル%であるのが好ましく、特に0.1〜5モル%であるのが好ましい。 C−H結合含有化合物は、反応系中に元素状のフッ素が存在する状態で添加す
るのが好ましい。さらに、C−H結合含有化合物を加えた場合には、反応系を加
圧するのが好ましい。加圧時の圧力としては、0.01〜5MPaが好ましい。
のRH1はフッ素化反応により、水素原子がフッ素原子に置換され、また、RH1が
CClX4=CClである場合は、不飽和結合部分にフッ素原子が付加して、C
F2ClCFCl−になる。
結基である場合には該2価連結基と同一の基、EH1が1つ以上の水素原子を含む
2価連結基である場合には、EF1は該水素原子の1個以上がフッ素化された基で
ある。たとえば、EH1がペルハロゲノ基である場合のEF1はEH1と同一基である
。EH1がアルキレン基またはアルキレン基の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素
原子が挿入された基である場合には、EF1はこれらの基中の水素原子の1個以上
がフッ素原子に置換された基である。EF1はペルフルオロアルキレン基またはペ
ルフルオロ(ヘテロ原子含有)アルキレン基であるのが好ましい。
ロゲノ(1価飽和炭化水素)基、または部分ハロゲノ若しくはペルハロゲノ(ヘ
テロ原子含有1価飽和炭化水素)基が好ましい。RH2およびRH3中に水素原子が
存在しないときはRH2およびRH3がフッ素化により変化しないことから、RF2お
よびRF3は、それぞれRH2およびRH3と同一である。RH2およびRH3が水素原子
を含む基である場合(たとえば、RH2およびRH3がそれぞれ部分フルオロ1価飽
和炭化水素基である場合)には、RF2およびRF3はそれぞれ該水素原子の1個以
上がフッ素化された基であり、好ましくは、ペルフルオロ1価飽和炭化水素基で
ある。また、RH2およびRH3がそれぞれ部分クロロ1価飽和炭化水素基である場
合には、RF2およびRF3はそれぞれ、基中の水素原子の1個以上がフッ素化され
たフルオロ(部分クロロ1価飽和炭化水素基)であり、特に、ペルフルオロ(部
分クロロアルキル)基が好ましい。
ルオロアルコキシ基であるのが好ましい。 RFBは、RHBに対応する基であり、RHBがハロゲノ基である場合にはRHBと同
一基であり、RHBが水素含有基である場合には、該水素がフッ素化された基であ
る。RFBはペルフルオロアルキル基またはペルフルオロ(アルコキシアルキル)
基であるのが好ましい。
。副生したHFを除去するには、反応系中にHFの捕捉剤を共存させるか、また
は反応器ガス出口でHF捕捉剤と出口ガスを接触させるのが好ましい。該HF捕
捉剤としては、アルカリ金属フッ化物(たとえばフッ化ナトリウム等)などの塩
基が好ましく、該塩基は反応系中に存在させてもよい。HF捕捉剤としては、ア
ルカリ金属フッ化物が好ましく、NaFが特に好ましい。
水素原子量に対して1〜20倍モルが好ましく、1〜5倍モルが好ましい。反応
器ガス出口にHF捕捉剤をおく場合には、(1)冷却器(10℃〜室温に保持す
るのが好ましく、特には約20℃に保持するのが好ましい。)、(2)NaFペ
レットなどのHF捕捉剤の充填層、および(3)冷却器(−78℃〜+10℃に
保持するのが好ましく、−30℃〜0℃に保持するのが好ましい)を(1)−(
2)−(3)の順に直列に設置するのが好ましい。なお、(3)の冷却器からは
凝集した液を反応器に戻すための液体返送ラインを設置してもよい。
てもよく、または精製して高純度のものにしてもよい。精製方法としては、粗生
成物をそのまま常圧または減圧下に蒸留する方法等が挙げられる。
II)および/または化合物(IV)を得る。本発明の製造方法による目的化合物は、
化合物(III)であっても、化合物(IV)であっても、または化合物(III)と化合物(I
V)の両方であってもよい。
2つのーCOF基を形成する反応である。該反応は、熱分解反応または求核剤も
しくは求電子剤の存在下に行なう分解反応により実施するのが好ましい。 熱分解反応は、化合物(II)を加熱することにより実施できる。熱分解反応の
反応形式としては、化合物(II)の沸点とその安定性により選択するのが好まし
い。たとえば、気化しやすい化合物(II)は、熱的に分解される。気相で連続的
に分解させて、得られた化合物(III)を含む出口ガスを凝縮し、回収する気相熱
分解法を採用しうる。
好ましく、とりわけ150〜250℃が好ましい。また、反応系中に、反応には
直接関与しない不活性ガスを共存させてもよい。不活性ガスとしては、窒素、二
酸化炭素等が挙げられる。不活性ガスは化合物(II)に対して0.01〜50体
積%程度を添加するのが好ましい。不活性ガスの添加量が多いと、生成物回収量
が低減することがある。
内で液状で加熱する液相熱分解法を採用するのが好ましい。この場合の反応圧力
は限定されない。通常の場合、エステル分解の生成物は、より低沸点であること
から、該反応は蒸留塔を付けた反応器を用いて低沸点の生成物を連続的に抜き出
しながら行なうのが好ましい。また加熱終了後に反応器中から一括して生成物を
抜き出す方法であってもよい。この液相熱分解法の反応温度は50〜300℃が
好ましく、特に100〜250℃が好ましい。
2という。)の存在下に行ってもよい。溶媒2としては、化合物(II)と反応せ
ず、かつ化合物(II)と相溶性のあるもので、生成物と反応しないものであれば
特に限定されない。また、溶媒2としては、生成物の精製時に分離しやすいもの
を選定するのが好ましい。溶媒2の具体例としては、ペルフルオロトリアルキル
アミン、ペルフルオロデカリン、またはクロロトリフルオロカーボンなどの不活
性溶媒、特に好ましくは、高沸点であるクロロトリフルオロエチレンオリゴマー
(たとえば、旭硝子社商品名:フロンルーブ)、が好ましい。また、溶媒2の量
は化合物(II)に対して10〜1000質量%が好ましい。
合を分解させる場合、該反応は、無溶媒で行っても、溶媒(以下、溶媒3という
。)の存在下に行ってもよい。溶媒3としては、溶媒2と同様のものがよい。求
核剤としてはフッ素イオン(F-)が好ましく、特にアルカリ金属のフッ化物由
来のフッ化物陰イオンが好ましい。アルカリ金属のフッ化物としては、NaF、
NaHF2、KF、CsFがよい。これらのうち経済性の面からNaFが特に好
ましい。
存在するカルボニル基にF-が求核的に付加し、CF2ClCFClEF1CRF2R F3 CF2O-が脱離するとともに酸フルオリド[化合物(IV)]が生成する。CF 2 ClCFClEF1CRF2RF3CF2O - からはさらにF-が脱離して酸フルオリド
[化合物(III)]が生成する。脱離したF-は別の化合物(II)分子と同様に反
応する。したがって、反応の最初に用いる求核剤は触媒量であるのが好ましいが
、過剰に用いてもよい。すなわちF-等の求核剤の量は化合物(II)に対して1
〜500モル%が好ましく、11〜100モル%が特に好ましく、とりわけ5〜
50モル%が好ましい。反応温度の下限は、−30℃であるのが好ましく、上限
は、溶媒3または化合物(II)の沸点のうち低い温度が好ましい。反応温度は、
通常−20℃〜250℃が特に好ましい。この方法も、蒸留塔を付けた反応器を
用いて実施するのが好ましい。
例中に記載する反応により対応するvic−ジクロロ酸フルオリド化合物に導か
れる。 CClF2CClFO(CF2)5OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3 CF2ClCFCl(CF2)2O(CF2)3OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3 エステル結合の分解反応は、NaFの存在下に実施するのが好ましい。NaF
の存在下で熱分解反応を実施することにより、熱分解反応を低い温度で実施でき
、化合物の分解反応を防止できる。
挙げられる。 CClF2CClFO(CF2)4COF CF2ClCFCl(CF2)2O(CF2)2COF
く、また、公知の化合物から製造してもよい。化合物(I)としては、目的とす
る化合物に対応する種々の構造のものが容易に入手できる。また、次のような原
料製造ルート1により入手できる.また化合物(I)のうちRH1−がCX1X2=
CX3−である化合物(B)は原料製造ルート2の方法によっても入手できる。
せることにより化合物(I)を製造する方法である。ただし、下記の式において
、Xはハロゲン原子を示し、RH1、EH1、RH2、およびRH3は、上記と同じ意味
を示す。 (RH1−EH1−)CRH2RH3CH2−OH(A1) XCORHB(A2)
させて下記化合物(B3)とし、次に該化合物(B3)を塩素化剤と反応させて
、化合物(I)中のRH1がCX1X2ClCX3Cl−である化合物(IB)を製造
する方法である。ただし、下式中の記号は、上記と同じ意味を示し、X10は、ハ
ロゲン原子、または水酸基を示す。 (CX1X2=CX3−EH1−)CRH2RH3CH2−OH(B1) X10CORHB(B2) (CX1X2=CX3−EH1−)CRH2RH3CH2−OCORHB (B3) (CX1X2ClCX3Cl−EH1−)CRH2RH3CH2−OCORHB (IB)
物(A2)との反応、化合物(B1)と化合物(B2)との反応は、通常のエス
テル化反応の条件が採用できる。該反応は、溶媒(以下、溶媒4という。)の存
在下に実施してもよいが、溶媒4の不存在下に実施するのが容積効率の点から好
ましい。溶媒4としては、ハロゲン化炭化水素系溶媒が好ましく、たとえば、ジ
クロロメタン、クロロホルム等が挙げられる。溶媒4の使用量は、化合物(A1
)と化合物(A2)(または化合物(B1)と化合物(B2))の総質量に対し
て0.5〜5倍量とするのが好ましい。
化合物のうち、下記化合物は新規化合物である。 CHCl=CClO(CH2)5OH CH2=CH(CH2)2OCH2CH2CH2OH CH2=CH(CH2)2OCOCF2CFClCF2Cl CH2=CH(CH2)2OCH(CH3)CH2OCOCF(CF3)O CF2CF2CF3
2)または化合物(B2)を用いた場合には、HFが発生する。このHFの捕捉
剤として、アルカリ金属フッ化物(たとえばフッ化ナトリウム等)や、トリアル
キルアミン、ピリジン等の塩基を反応系中に存在させてもよい。HF捕捉剤を用
いる場合の量は、化合物(A2)または化合物(B2)に対して1〜10倍モル
とするのが好ましい。HFの捕捉剤を使用しない場合には、HFを窒素気流に同
伴させて反応系外に排出するのが好ましい。
+100℃または溶媒4の沸点のうち、低い温度が好ましい。また、反応時間は
、原料の供給速度と反応に用いる化合物量に応じて適宜変更され、反応圧力は0
〜2MPaが好ましい。
次に塩素化剤を反応させて、化合物(IB)を生成させる。該反応は通常の塩素
化反応の操作および反応条件で実施できる。塩素化剤としては、塩素(Cl2)
が好ましい。塩素を使用する場合の量は、化合物(B3)に対して1〜10倍モ
ルが好ましく、1〜5倍モルが特に好ましい。化合物(B3)と塩素化剤との反
応は、溶媒(以下、溶媒5という。)の存在下に実施してもよいが、溶媒5の不
存在下に実施するのが容積効率の点から好ましい。溶媒5を用いる場合には、ジ
クロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒を用いるのが好まし
い。溶媒5の使用量は、化合物(B3)の質量に対して0.5〜5倍量であるの
が好ましい。また、反応温度は−78℃〜+200℃が好ましい。
製を行い高純度のものとしても、そのまま、次の反応に用いてもよい。化合物(
I)を含む粗生成物を精製する方法としては、粗生成物をそのまま蒸留する方法
、粗生成物を希アルカリ水などで処理して分液する方法、粗生成物を適当な有機
溶媒で抽出した後に蒸留する方法、等が挙げられる。 さらに、本発明の製造方法は、化合物(I)〜(IV)における各置換基の種類
を選択をすることにより、生成物の分離工程を省略したり、また製造方法を連続
方法にせしめることにより,さらに効率的な下記プロセス1〜3となしうる。な
お、以下において定義を記さない基は、上記した定義と同じ意味を示す。
セスである。該プロセスでは、生成物を分離する工程を省略できる。該プロセス
1は、下記のプロセス3と部分的に共通であり、プロセス3において説明される
。
るようにRHBを選択したプロセスである。該プロセスによれば、生成した化合物
(IV)を再び化合物(A1)または(B1)との反応に用いることができ、本発
明の製造方法を連続製造方法にできる。 このプロセスの具体例としては、化合物(A2)または化合物(B2)中のR HB としてペルハロゲノ基を採用した例が挙げられる。たとえば、化合物(A)と
して化合物(A2−1)を用いた場合には、以下の製造プロセスとなしうる。
て、生成した化合物(A2-1)を再び化合物(A1-1)との反応に用いることによ
る連続製造方法である。 (CH3)(CH2ClCHCl(CH2)2O)CHCH2OH (A1-1) + FCOCF(CF3)(OCF2CF2CF3) (A2-1) →(CH3)(CH2ClCHCl(CH2)2O)CHCH2OCOCF(CF3)(OCF2CF2CF3)(I-1) →(CF3)(CF2ClCFClCF2CF2O)CFCF2OCOCF(CF3)(OCF2CF2CF3)(II-1) →(CF3)(CF2ClCFClCF2CF2O)CFCOF(III-1)+化合物(A2-1)
において、生成した化合物(A2-2)を再び化合物(A1-2)との反応に用い
ることにより連続製造方法とできる。 CH2ClCHCl(CH2)2OH(A1-2)+ FCOCF2CF3(A2-2) →CH2ClCHCl(CH2)2OCOCF2CF3(I-2) →CF2ClCFClCF2CF2OCOCF2CF3(II-2) →CF2ClCFClCF2COF(III-2) + 化合物(A2-2)
2)または化合物(B2)とも同一構造となるように基を選択して実施するプロ
セスである。該プロセスにおいては、生成物を分離する必要がなく、かつ生成し
た化合物の一部または全部を再び化合物(A2)または化合物(B2)との反応
に用いて連続製造方法となしうることから特に好ましい。
よる化合物(A2-3)の連続製造方法がある。 CH2ClCHCl(CH2)2OH(A1-2) + FCOCF2CFClCF2Cl(A2-3) →CH2ClCHCl(CH2)2OCOCF2CFClCF2Cl(I-3) →CF2ClCFClCF2CF2OCOCF2CFClCF2Cl(II-3) →化合物(A2-3)
定されない。なお、以下において、幾つかの用語をそれぞれそれらの省略語で記
載する。すなわち、ガスクロマトグラフィ:GC、核磁気共鳴スペクトル分析:
NMR,ガスクロマトグラフィ質量分析:GC−MS、テトラメチルシラン:T
MS、N,N−ジメチルホルムアミド:DMF、ジクロロペンタフルオロプロパ
ン:AK−225、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン
:R113、リットル:L。また、GC純度とはガスクロマトグラフィによるピ
ーク面積比から求めた純度をいう。
F3)OCF2CF2CF3の製造 <例1−1>CH3CH(O(CH2)2CH=CH2)COO(CH2)2CH=
CH2の製造 CH3CHClCOOH(50g)とCH2=CH(CH2)2OH(75mL)
をフラスコに入れ、濃硫酸10mLを滴下し室温で10分撹拌した。反応液を飽
和炭酸ナトリウム水250mLに注いだ。水(150mL)とtert−ブチル
メチルエーテル150mLを加え分液し、tert−ブチルメチルエーテル層を
有機層として得た。さらに、有機層を水150mLで洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、ろ過し、粗液を得た。粗液を濃縮してCH3CHClCOO(C
H2)2CH=CH2を得た。
フラスコに入れ、内温が8〜9℃に保たれるように冷却した。水素化ナトリウム
(10g)を30分かけて添加し、室温で30分撹拌した後、再び冷却した。次
に先に得たCH3CHClCOO(CH2)2CH=CH2(50g)をDMF30
mLに溶かし、1.5時間かけて滴下した。滴下後、内温を80〜85℃に保ち
ながら3時間加熱した。室温(25℃)に戻し、2mol/Lの塩酸200mL
を加えた。へキサン/酢酸エチル=2/1の溶液400mLで4回抽出して有機
層を得た。有機層を濃縮後、水500mLで2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後、ろ過し、再度濃縮し、36gのCH3CH(O(CH2)2CH=CH2 )COO(CH2)2CH=CH2を得た。GC純度は83%であった。NMRス
ペクトルデータは以下のとおりであった。 1H−NMR(399.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):1.39(d,J=7.0Hz,3H),2.33−2.45(m,4H
),3.41(dt,J=7.0,9.1Hz,1H),3.63(dt,J=
7.0,9.1Hz,1H),3.96(q,J=7.0Hz,1H),4.1
5−4.27(m,2H),5.02−5.14(m,4H),5.73−5.
88(m,2H)。
テル240mLをフラスコに入れ、氷浴下で撹拌した。ここに例1−1で得たG
C純度83%のCH3CH(O(CH2)2CH=CH2)COO(CH2)2CH=
CH2(36g)を45分かけて滴下した後、室温(25℃)で3.5時間撹拌
した。氷浴下で氷水100mLを滴下し、さらに水100mLを加えて室温(2
5℃)にした後、ろ過した。生じたケークをジエチルエーテル450mLで洗浄
し、ろ液を分液した。水層をさらにジエチルエーテル200mLで2回抽出し、
集めたジエチルエーテル層を有機層として得た。有機層を硫酸マグネシウムで乾
燥した後、ろ過し、粗液を得た。粗液を35gまで濃縮した後、減圧蒸留で28
〜49℃/9.33kPaの留分6.6gを取り除き、残った留分から19.2
gのCH3CH(O(CH2)2CH=CH2)CH2OHを得た。GC純度は98
%であった。NMRスペクトルデータは以下のとおりであった。 1H−NMR(399.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):1.12(d,J=6.2Hz,3H),2.35(tq,J=1.3,
6.7Hz,2H),3.42−3.48(m,2H),3.51−3.59(
m,2H),3.64−3.69(m,1H),5.04−5.15(m,2H
),5.79−5.89(m,1H)。
OCF2CF2CF3の製造 例1−2で得たGC純度98%のCH3CH(O(CH2)2CH=CH2)CH 2 OH(19.2g)をフラスコに入れ、窒素ガスをバブリングさせながら撹拌
した。FCOCF(CF3)OCF2CF2CF3(50g)を、内温を25〜30
℃に保ちながら1時間かけて滴下した。滴下終了後、室温で3時間撹拌し、飽和
炭酸水素ナトリウム水80mLを内温15℃以下で加えた。
機層として得た。さらに有機層を水100mLで2回洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、ろ過し、粗液を得た。粗液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィ(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=40/1)で精製した後、再度シ
リカゲルカラムクロマトグラフィ(展開溶媒:AK−225)で精製して37g
のCH3CH(O(CH2)2CH=CH2)CH2OCOCF(CF3)OCF2C
F2CF3を得た。GC純度は99%であった。NMRスペクトルデータは以下の
とおりであった。 1H−NMR(399.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):1.2(dd,J=1.2,6.4Hz,3H),2.29(q,J=6
.7Hz,2H),3.45−3.51(m,1H),3.53−3.59(m
,1H),3.67−3.73(m,1H),4.25−4.29(m,1H)
,4.35−4.41(m,1H),5.01−5.10(m,2H),5.7
5−5.85(m,1H)。 19F−NMR(376.2MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−80.5(1F),−81.9(3F),−82.7(3F),−
86.9(1F),−130.3(2F),−132.2(1F)。
CF3)OCF2CF2CF3の製造 例1−3で得たGC純度99%のCH3CH(O(CH2)2CH=CH2)CH 2 OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3(36g)をフラスコに入れ氷浴下で
撹拌した。塩素ガス(9.5g)を内温を0〜5℃に保ちながら3時間かけて吹
き込んだ。室温にして窒素ガスをバブリングさせながら1時間撹拌した。反応生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(展開溶媒:AK−225)で精製し
、22gのCH2ClCHCl(CH2)2OCH(CH3)CH2OCOCF(C
F3)OCF2CF2CF3を得た。GC純度は88%であった。 1H−NMR(399.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):1.21(dd,J=1.3,6.3Hz,3H),1.81−1.93
(m,1H),2.19−2.26(m,1H),3.59−3.65(m,1
H),3.68−3.80(m,4H),4.20−4.46(m,3H)。 19F−NMR(376.2MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−80.3(1F),−81.6(3F),−82.4(3F),−
86.7(1F),−130.0(2F),−132.0(1F)。
CF3)OCF2CF2CF3の製造 500mLのニッケル製オートクレーブに、R−113(313g)を加えて
撹拌し、25℃に保った。オートクレーブガス出口には、20℃に保持した冷却
器、NaFペレット充填層、および−10℃に保持した冷却器を直列に設置した
。なお、−10℃に保持した冷却器からは凝集した液をオートクレーブに戻すた
めの液体返送ラインを設置した。窒素ガスを1.3時間吹き込んだ後、窒素ガス
で20%に希釈したフッ素ガスを、流速5.77L/hで1時間吹き込んだ。次
に、窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例1
−4で得たCH3CH(O(CH2)2CHClCH2Cl)CH2OCOCF(C
F3)OCF2CF2CF3(4.63g)をR−113(100g)に溶解した溶
液を7.3時間かけて注入した。
ベンゼン濃度が0.01g/mLであるR−113溶液を25℃から40℃にま
で昇温しながら6mL注入し、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、さらに
オートクレーブの出口バルブを閉め、圧力が0.20MPaになったところでオ
ートクレーブのフッ素ガス入口バルブを閉めて、1時間撹拌を続けた。次に圧力
を常圧にし、反応器内温度を40℃に保ちながら、上記のベンゼン溶液を3mL
注入し、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、さらにオートクレーブの出口
バルブを閉め、圧力が0.20MPaになったところでオートクレーブのフッ素
ガス入口バルブを閉めて、1時間撹拌を続けた。
R−113の注入総量は29mLであった。さらに、窒素ガスを1.5時間吹き
込んだ。目的物を19F−NMRで定量したところ、標記化合物の収率は63%で
あった。 19F−NMR(376.0MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−64.7(2F),−76.5〜−80.0(1F),−80.0
〜−81.0(4F),−82.2(3F),−82.5(3F),−82.0
〜−82.9(1F),−86.4〜88.1(3F),−117.0〜−11
9.7(2F),−130.4(2F),−131.9(1F),−132.3
(1F),−145.9(1F)。
F(CF3)OCF2CF2CF3(1.2g)をNaF粉末(0.01g)と共に
フラスコに仕込み、激しく撹拌しながらオイルバス中で120℃で5時間加熱し
た。フラスコ上部には20℃に温度調節した還流器を設置した。冷却後、液状サ
ンプル(1.2g)を回収した。GC−MSにより標記化合物が主生成物である
ことを確認した。標記化合物のNMR収率は72.3%であった。
CF2CF3の製造 <例2−1>CHCl=CClO(CH2)5OHの製造 500mLの4つ口フラスコにテトラヒドロフラン(THF、160mL)、
水素化ナトリウム(60%、24g)を仕込み撹拌し、氷冷下、HO(CH2)5 OH(260g)を滴下した。滴下終了後、室温で1時間撹拌した。次に、CH
Cl=CCl2(66g)を5分間かけて滴下した。滴下終了後、浴温70℃で
2.5時間撹拌した。室温まで冷却した後、氷冷下、水(400mL)、塩化メ
チレン(400mL)を加え、分液し、塩化メチレン層を有機層として得た。さ
らに有機層を水(400mL)で洗浄し、MS4Aで乾燥した後、粗生成物をそ
のまま例2−2の工程に使用した。 1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):1.37〜1.79(m,6H)、3.64(t,J=6.3Hz,2H
)、4.00(t,J=6.5Hz,2H)、5.47(s,1H)。
CF3の製造 例2−1で得たCHCl=CClO(CH2)5OH(13g)とトリエチルア
ミン(25g)をフラスコに入れ、氷浴下撹拌した。FCOCF(CF3)OC
F2CF2CF3(41g)を内温を10℃以下に保ちながら1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、室温で2時間撹拌し、水30mLを内温15℃以下で加えた。
乾燥した後、ろ過し、粗液を得た。減圧蒸留でCHCl=CClO(CH2)5O
COCF(CF3)OCF2CF2CF3(19g)を118〜120℃/0.5k
Paの留分として得た。GC純度は77%であった。 1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):1.41〜1.83(m,6H)、4.00(t,J=6.0Hz,2H
)、4.29〜4.45(m,2H)、5.48(s,1H)。 19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−79.9(1F),−81.4(3F),−82.2(3F),−
86.5(1F),−129.5(2F),−131.5(1F)。
撹拌し、25℃に保った。オートクレーブガス出口には、20℃に保持した冷却
器、NaFペレット充填層、および−10℃に保持した冷却器を直列に設置した
。なお、−10℃に保持した冷却器からは凝集した液をオートクレーブに戻すた
めの液体返送ラインを設置した。窒素ガスを1.0時間吹き込んだ後、窒素ガス
で20%に希釈したフッ素ガスを、流速7.40L/hで1時間吹き込んだ。次
に、窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例2
−2で得たCClH=CClO(CH2)5OCOCF(CF3)OCF2CF2C
F3(3.37g)をR−113(100g)に溶解した溶液を5.3時間かけ
て注入した。
ベンゼン濃度が0.01g/mLであるR−113溶液を25℃から40℃にま
で昇温しながら6mL注入し、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、さらに
オートクレーブの出口バルブを閉め、圧力が0.20MPaになったところでオ
ートクレーブのフッ素ガス入口バルブを閉めて、0.9時間撹拌を続けた。次に
圧力を常圧にし、反応器内温度を40℃に保ちながら、上記のベンゼン溶液を3
mL注入し、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、さらにオートクレーブの
出口バルブを閉め、圧力が0.20MPaになったところでオートクレーブのフ
ッ素ガス入口バルブを閉めて、0.9時間撹拌を続けた。
R−113の注入総量は18mLであった。さらに、窒素ガスを1.5時間吹き
込んだ。目的物を19F−NMRで定量したところ、標記化合物の収率は73%で
あった。 19F−NMR(376.0MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−71.5(2F),−77.3(1F),−80.1(1F),−
82.1(3F),−82.3(3F),−83.4(1F),−85.1(1
F),−87.2(2F),−87.3(1F),−123.2(2F),−1
26.2(2F),−126.3(2F),−130.4(2F),−132.
4(1F)。
CF2CF3(0.8g)をNaF粉末(0.01g)と共にフラスコに仕込み、
激しく撹拌しながらオイルバス中で120℃で4時間、140℃で12.3時間
加熱した。フラスコ上部には20℃に温度調節した還流器を設置した。冷却後、
液状サンプル(0.7g)を回収した。GC−MSにより、CF3CF(OCF2 CF2CF3)COFおよび標記化合物が主生成物であることを確認した。NMR
で求めた標記化合物の収率は54.9%であった。 19F−NMR(376.0MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):24.9(1F),−71.3(2F),−77.1(1F),−8
3.1(1F),−84.9(1F),−118.8(2F),−123.1(
2F),−125.6(2F)。
を示す)の製造 反応器に3−ブテン−1−オール(33.2g)、ピリジン(230mL)を
仕込み、氷浴で冷却して内温を5℃以下に保ちながら塩化p−トルエンスルホニ
ル(96.7g)を3.5時間かけて加えた。30分間攪拌した後、反応混合物
を水(250mL)に加えた。ジクロロメタン(250mL)を加え、分液した
。下層に飽和炭酸ナトリウム水溶液(250mL)と水(200mL)を加えて
洗浄し、分液した後、さらに水(200mL)で2回洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥した。濾過後、溶媒を留去して、CH2=CH(CH2)2OTsを98.
1g得た。 1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):2.36〜2.43(m,2H)、2.43(s,3H)、4.06(t
,J=6.6Hz,2H)、5.04〜5.11(m,2H)、5.60〜5.
66(m,1H)、7.34(d,J=8.4Hz,2H)、7.77(d,J
=8.1Hz,2H)
5g)を仕込んで攪拌し、内温75℃で30分間加熱した。内温80℃で、例3
−1で得たCH2=CH(CH2)2OTs(69.5g)を3時間かけて加え、
1時間攪拌した後、放冷した。反応混合物を水(250mL)に加え、塩酸を加
えて中和した。濾過し、濾液からt−ブチルメチルエーテル(300mL)で4
回抽出した。併せた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去し
て、CH2=CH(CH2)2O(CH2)3OHを15.5g得た。 1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):1.83(dt,J=5.4Hz,11Hz,2H)、2.34(m,2
H)、2.6(bs,1H)、3.50(t,J=6.6Hz,2H)、3.6
3(t,J=6.0Hz,2H)、3.77(t,J=5.4Hz,2H)、5
.03〜5.13(m,2H)、5.81(ddt,J=6.6,11,17H
z,1H)。
8.3g)とトリエチルアミン(13.6g)をフラスコに入れ、氷浴下撹拌し
た。FCOCF(CF3)OCF2CF2CF3(30g)を内温を10℃以下に保
ちながら1時間かけて滴下した。滴下終了後、室温で2時間撹拌し、水50mL
を内温15℃以下で加えた。
乾燥した後、ろ過し、粗液を得た。粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(
展開溶媒:ジクロロペンタフルオロプロパン(商品名:AK−225))で精製
してCH2=CHCH2CH2OCH2CH2CH2OCF(CF3)OCF2CF2C
F3(18.5g)を得た。GC純度は97%であった。 1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):1.93〜2.01(m、2H)、2.26〜2.34(m、2H)、3
.42〜3.49(m、4H)、4.41〜4.54(m、2H)、5.02(
d,J=10、3Hz,1H)、5.07(d,J=17Hz、1H)、5.7
2〜5.85(m、1H)。 19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−79.9(1F)、−81.4(3F),−82.2(3F),−
86.6(1F),−129.6(2F),−131.5(1F)。
OCF2CF2CF3の製造 例3−3で得たGC純度97%のCH2=CHCH2CH2OCH2CH2CH2O
CF(CF3)OCF2CF2CF3(18.4g)をフラスコに入れ浴温−10℃
で撹拌した。塩素ガス(4.4g)を内温を0℃以下に保ちながら1時間かけて
吹き込んだ。室温にして窒素ガスをバブリングさせながら1時間撹拌し、GC純
度85%のCH2ClCHClCH2CH2OCH2CH2CH2OCF(CF3)O
CF2CF2CF3(19.8)を得た。得られた粗生成物をそのまま例3−5の
工程に使用した。 1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):1.93〜2.01(m、2H)、2.26〜2.34(m、2H)、3
.44(t,J=6.6Hz,2H)、3.47(t,J=6.0Hz、2H)
、4.41〜4.54(m、2H)、4.99〜5.10(m、2H)、5.7
1〜5.85(m、1H)。 19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−79.9(1F)、−81.3(3F),−82.2(3F),−
86.6(1F),−129.5(2F),−131.5(1F)。
CF2CF2CF3の製造 500mLのニッケル製オートクレーブに、R−113(312g)を加えて
撹拌し、25℃に保った。オートクレーブガス出口には、20℃に保持した冷却
器、NaFペレット充填層、および−10℃に保持した冷却器を直列に設置した
。なお、−10℃に保持した冷却器からは凝集した液をオートクレーブに戻すた
めの液体返送ラインを設置した。窒素ガスを1.0時間吹き込んだ後、窒素ガス
で20%に希釈したフッ素ガスを、流速8.04L/hで1.5時間吹き込んだ
。次に、窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、
例3−4で得たCH2ClCHCl(CH2)2O(CH2)3OCOCF(CF3)
OCF2CF2CF3(4.44g)をR−113(100g)に溶解した溶液を
5.3時間かけて注入した。
ベンゼン濃度が0.01g/mLであるR−113溶液を25℃から40℃にま
で昇温しながら6mL注入し、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、さらに
オートクレーブの出口バルブを閉め、圧力が0.20MPaになったところでオ
ートクレーブのフッ素ガス入口バルブを閉めて、0.4時間撹拌を続けた。次に
圧力を常圧にし、反応器内温度を40℃に保ちながら、上記のベンゼン溶液を3
mL注入し、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、さらにオートクレーブの
出口バルブを閉め、圧力が0.20MPaになったところでオートクレーブのフ
ッ素ガス入口バルブを閉めて、0.4時間撹拌を続けた。
R−113の注入総量は30mLであった。さらに、窒素ガスを1.5時間吹き
込んだ。目的物を19F−NMRで定量したところ、標記化合物の収率は45%で
あった。 19F−NMR(376.0MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−64.4(2F),−80.0(1F),−81.3(2F),−
81.9(3F),−82.1(3F),−84.0(2F),−87.1(1
F),−87.3(2F),−117.2〜−119.4(2F),−129.
4(2F),−130.3(2F),−131.8(1F),−132.3(1
F)。
に仕込み、激しく撹拌しながらオイルバス中で120℃で3.7時間、140℃
で12時間加熱した。フラスコ上部には20℃に温度調節した還流器を設置した
。冷却後、液状サンプル(2.9g)を回収した。GC−MSにより、FCOC
F(CF3)OCF2CF2CF3および標記化合物が主生成物であることを確認し
た。NMRで求めた標記化合物の収率は73.0%であった。 19F−NMR(376.0MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):24.3(1F),−64.8(2F),−81.7(2F),−8
6.4(2F),−118.8〜−120.0(2F),−122.1(2F)
,−131.9(1F)。
バブリングさせながら撹拌した。CF3CF2COF(310g)を内温を25℃
〜30℃を保ちながら3時間かけてフィードした。フィード終了後、飽和炭酸水
素ナトリウム水50mLを内温を15℃以下で加えた。クロロホルム(50mL
)を加えて分液し、クロロホルム層を有機層として得た。さらに有機層を水20
0mLで2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、粗液を得た。粗
液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留して、73〜75℃/0.9kP
aの留分(24g)を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ(展開溶
媒は、ヘキサン:酢酸エチル=20:1)で精製して精製物(18.8g)を得
た。GC純度は98%であった。NMRスペクトルから標記化合物が主成分であ
ることを確認した。 1H−NMR(399.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):2.11(m,1H),2.52(m,1H),3.69(dd,J=7
.9,11.4Hz,1H),3.84(dd,J=4.7,11.4Hz,1
H),4.15(m,1H),4.60(m,2H)。 19F−NMR(376.2MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−83.8(3F),−122.5(2F)。
撹拌し、−10℃に冷却した。窒素ガスを1時間吹き込んだ後、窒素ガスで20
%に希釈したフッ素ガスを、流速5.66L/hで1時間吹き込んだ。窒素ガス
で20%に希釈したフッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例4−1で得たC
F3CF2COO(CH2)2CHClCH2Cl(6.58g)をR−113(1
34g)に溶解した溶液を6.9時間かけて注入した。
ベンゼンのR−113溶液(0.01g/mL)を注入し、オートクレーブの出
口バルブを閉め、圧力が0.12MPaになったところでオートクレーブの入口
バルブを閉めて、1時間撹拌を続けた。さらに、ベンゼンを注入する同様の操作
を−10℃から40℃にまで昇温しながら1回、次に40℃で8回くり返した。
ベンゼンの注入総量は0.330g、R−113の注入総量は33mLであった
。さらに、窒素ガスを2時間吹き込んだ。生成物を19F−NMRで定量したとこ
ろ、標記化合物の収率は51%であった。 19F−NMR(376.2MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−65.4(2F),−84.2(3F),−85.4(2F),−
119.1(2F),−123.1(2F),−132.5(1F)。
をNaF粉末(0.03g)と共にフラスコに仕込み、激しく撹拌しながらオイ
ルバス中で120℃で5時間加熱した。フラスコ上部には20℃に温度調節した
還流器を設置した。冷却後、液状サンプル(0.8g)、ガス状サンプル(0.
6g)を回収した。GC−MSにより、CF3CF2COFおよび標記化合物が主
生成物であることを確認した。NMRで求めた標記化合物の収率は75.1%で
あった。
物の製造 <例5−1>CF2ClCFClCF2COO(CH2)2CHClCH2ClとC
F2ClCF2CFClCOO(CH2)2CHClCH2Clの混合物の製造 CH2ClCHCl(CH2)2OH(49.5g)をフラスコに入れ、窒素ガ
スをバブリングさせながら撹拌した。CF2ClCFClCF2COFとCF2C
lCF2CFClCOFの89:11(モル比)の混合物(86.1g)を、内
温を25〜30℃に保ちながら、1時間40分で滴下した。滴下終了後、室温で
2時間45分撹拌し、飽和炭酸水素ナトリウム水(100mL)を内温を15℃
を超えないようにしながら添加した。クロロホルム(150mL)を加えて分液
し、クロロホルム層を得た。さらにクロロホルム層を水200mLで2回洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、粗液を得た。粗液をエバポレーター
で濃縮し、次いで減圧蒸留して、99〜106℃/0.48kPaの留分(1)
(55.4g)、100〜109℃/0.47kPaの留分(2)(7.9g)
を得た。上記混合物としてのGC純度は、留分(1)が85%、留分(2)が8
4%であった。
キサン:酢酸エチル=20:1)で精製して精製物(7.5g)を得た。精製物
のGC純度は98%であった。精製物のNMRスペクトルから、CF2ClCF
ClCF2COO(CH2)2CHClCH2ClとCF2ClCF2CFClCOO
(CH2)2CHClCH2Clの混合物が主成分であり、それらの比が87:1
3(モル比)であることを確認した。 CF2ClCFClCF2COO(CH2)2CHClCH2Cl: 1H−NMR(399.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(pp
m):2.09(m,1H),2.52(m,1H),3.69(dd,J=7
.6,11.4Hz,1H),3.84(dd,J=4.7,11.4Hz,1
H),4.17(m,1H),4.58(m,2H)。 19F−NMR(376.2MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−63.6(1F),−64.8(1F),−110.9(1F),
−114.0(1F),−131(1F)。
m):2.09(m,1H),2.52(m,1H),3.69(dd,J=7
.6,11.4Hz,1H),3.84(dd,J=4.7,11.4Hz,1
H),4.17(m,1H),4.58(m,2H)。 19F−NMR(376.2MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−66.9(1F),−67.0(1F)、−113.4(1F),
−117.6(1F),−129.0(1F)。
F2ClCF2CFClCOOCF2CF2CFClCF2Clの混合物の製造 500mLのニッケル製オートクレーブに、R−113(200g)を加えて
撹拌し、窒素ガスを室温で1時間吹き込んだ後、窒素ガスで20%に希釈したフ
ッ素ガスを、室温で、流速5.66L/hで1時間吹き込んだ。 次に、窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、
例5−1で得たCF2ClCFClCF2COO(CH2)2CHClCH2Clと
CF2ClCF2CFClCOO(CH2)2CHClCH2Clの87:13(モ
ル比)の混合物(12g)をR−113(243g)に溶解した溶液を11.5
時間かけて注入した。
ベンゼンのR−113溶液(0.01g/mL)を注入し、オートクレーブの出
口バルブを閉め、圧力が0.12MPaになったところでオートクレーブの入口
バルブを閉めて、1時間撹拌を続けた。さらに、ベンゼンを注入する同様の操作
を室温から40℃にまで昇温しながら1回、次に40℃で8回くり返した。ベン
ゼンの注入総量は0.342g、R−113の注入総量は33mLであった。さ
らに、窒素ガスを2時間吹き込んだ。生成物の19F−NMRスペクトル(内部標
準:C6F6)から求まる標記混合物の収率は80%であった。 CF2ClCFClCF2COOCF2CF2CFClCF2Cl: 19F−NMR(564.6MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(
ppm):−64.4〜−65.9(2F),−65.4(2F),−85.5
〜−86.3(2F),−111.1〜−115.1(2F),−118.7〜
−120.1(2F),−132.0(1F),−132.5(1F)。 13C−NMR(150.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:CDCl3)δ(
ppm):104.4,104.5,109.4,110.8,116.6,1
24.3,124.6,152.0。
ppm):−64.4〜−66.0(2F),−68.0(2F),−85.5
〜−86.3(2F),−113.7〜−115.3(2F),−118.7〜
−120.1(2F),−130.0(1F),−132.5(1F)。 13C−NMR(150.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:CDCl3)δ(
ppm):99.0,104.4,110.2,110.8,116.6,12
2.8,124.6,153.2。
の混合物の製造 例5−2で得たCF2ClCFClCF2COOCF2CF2CFClCF2Cl
とCF2ClCF2CFClCOOCF2CF2CFClCF2Clの混合物(5.
6g)をNaF粉末(0.12g)と共にフラスコに仕込み、激しく攪拌を行い
ながらオイルバス中で140℃で5時間加熱した。フラスコ上部には20℃に温
度調節した還流器を設置した。冷却後液状サンプルを5.2g回収した。GC−
MSにより、標記混合物が主成分であることを確認した。NMRで求めた収率は
83.4%であった。
をバブリングさせながら撹拌した。CF2ClCFClCF2COFとCF2ClCF2CFClCOFの89:
11(モル比)の混合物(264.5g)を内温を25〜30℃に保ちながら1
時間かけて滴下した。滴下終了後、室温で4時間撹拌し、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水500mlを内温15℃以下で加えた。得られた粗液を分液し、フルオロカ
ーボン層として得た。さらにフルオロカーボン層を水200mlで2回洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、粗液を得た。減圧蒸留で81.2gの
CH2=CHCH2CH2OCOCF2CFClCF2Clを69〜72℃/1.0kPaの留分として得た
。GCによる純度は96%であった。NMRスペクトルデータは以下のとおりで
あった。 1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(ppm):2.46〜2.50(m,2H),4.41(t,
J=6.6Hz,1H),5.11〜5.21(m,2H),5.70〜5.84(m,1H)。 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):-62.9(1F),-64.1(1F),-1
10.1(1F),-113.1(1F),-130.4(1F)。
)をフラスコに入れ浴温−10℃で撹拌した。塩素ガス(24.5g)を内温を
0℃以下に保ちながら1.5時間かけて吹き込んだ。室温にして窒素ガスをバブ
リングさせながら1時間撹拌し、得られた粗液をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィ(展開溶媒:ジクロロペンタフルオロプロパン(商品名:AK−225))
で精製してGC純度85%のCH2ClCHClCH2CH2OCOCF2CFClCF2Cl(93.0g)を
得た。
H2CH2OCOCF2CFClCF2Cl(93.0g)に変え、他の試薬を7.7倍量にして同様
の条件で反応を行い、標記化合物を収率80%で得た。
lCF2Cl(43.4g)に変え、他の試薬を7.7倍量にして同様の条件で反応を
行い、標記化合物を収率84%で得た。
、例6−1〜例6−4と同様の反応を順に行い、CF2ClCFClCF2COFを得た。
クトルにより、CH2=CH(CH2)2OHであることを確認した。該留分(7
5mL)を用いて例1−1〜1−2と同様の反応を行い、CH3CH(O(CH2 )2CH=CH2)COO(CH2)2CH=CH2を得た。
り、FCOCF(CF3)OCF2CF2CF3(0.8g)を得た。残った高沸分
は保存した。得られたFCOCF(CF3)OCF2CF2CF3を用いて、例3−
3〜例3−6の反応を同様に行ったあと、常圧で蒸留精製し、55℃の留分を分
取してFCOCF(CF3)OCF2CF2CF3(0.7g)を得た。残った高沸
分を、先の保存しておいた高沸分と併せ、常圧で蒸留精製して138〜139℃
の留分を分取することにより、CF2ClCFClCF2CF2O(CF2)2CO
F(2.0g)を得た。
い工程かつ高い収率でvic−ジクロロ酸フルオリド化合物が製造できる。特に
、本発明では、従来の方法では入手が困難であった低分子のvic−ジクロロ酸
フルオリド化合物や、複雑な構造のvic−ジクロロ酸フルオリド化合物を容易
に製造できる。
種々の化合物に使用でき、汎用性に優れた方法であることから、好みの骨格を有
するvic−ジクロロ酸フルオリド化合物を自由に製造できる。また、置換基の
構造を選択することにより、本発明の方法は連続プロセスとなりうる。
l−部分を有する。該部分は公知の方法により重合性の炭素−炭素二重結合に導
きうる。たとえば本発明の製造方法により得られるvic−ジクロロ酸フルオリ
ド化合物(CF2ClCFClCF2COF)は、前述の公知の方法により、フッ
素樹脂のモノマーであるペルフルオロ(3−ブテニルビニルエーテル)に導かれ
うる。該ペルフルオロ(3−ブテニルビニルエーテル)を重合させたフッ素樹脂
は、耐熱性と耐薬品性に優れ、かつ透明である有用なフッ素樹脂である。
分子末端に「C1F−C2−COF」なる部分構造を必須とする化合物は、公知の
反応(Methods of Organic Chemistry,4,Vol.10b,Part 1,p.703等)により分子
末端を「C1=C2」に変換しできる。該化合物もまた、フッ素樹脂原料として有
用である。すなわち、本発明の製造方法における化合物(III)および/または化
合物(IV)は、フッ素樹脂原料の前駆体として有用な化合物である。また、本発
明により提供される新規な化合物は、該前駆体の中間体として有用な化合物であ
る。
Claims (11)
- 【請求項1】 下記化合物(I)を液相中でフッ素化して下記化合物(II)を生成させ、該化
合物(II)のエステル結合を分解して下記化合物(III)、または、下記化合物
(III)および下記化合物(IV)を生成させることを特徴とするvic−ジクロロ
酸フルオリド化合物の製造方法。 (RH1−EH1−)CRH2RH3CH2−OCORHB(I) (CF2ClCFCl−EF1−)CRF2RF3CF2−OCORFB(II) (CF2ClCFCl−EF1−)CRF2RF3COF(III) FCORFB(IV) ただし、 RH1:CX1X2ClCX3Cl−またはCClX4=CCl−。ただし、X1〜
X4は、それぞれ独立して水素原子またはフッ素原子。 RH2、RH3:それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、1価飽和炭化水素基
、ハロゲノ1価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有1価飽和炭化水素基、またはハ
ロゲノ(ヘテロ原子含有1価飽和炭化水素)基。 EH1:2価連結基または単結合。 EF1:EH1に対応する基であり、EH1が単結合である場合は、EF1は単結合で
あり、EH1が1つまたはそれ以上の水素原子を有する2価連結基である場合には
、EF1は該水素原子の1個以上がフッ素化された基であり、EH1が水素原子を有
しない2価連結基である場合にはEF1はEH1と同一の基。 RHB:1価飽和炭化水素基、ハロゲノ1価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有1
価飽和炭化水素基、またはハロゲノ(ヘテロ原子含有1価飽和炭化水素)基。 RF2、RF3、RFB:RF2はRH2がフッ素化された基、RF3はRH3がフッ素化さ
れた基、RFBは、RHBがフッ素化された基であり、RH2、RH3、またはRHB中に
1つまたはそれ以上の水素原子が存在する場合は、RF2、RF3またはRFBはそれ
ぞれRH2、RH3およびRHBの水素原子の1個以上がフッ素化された基であり、R H2 、RH3またはRHB中に水素原子が存在しない場合には、RF2、RF3またはRFB はそれぞれRH2、RH3、RHBと同一の基。 - 【請求項2】 化合物(I)の分子量が200〜1000であり、かつ、フッ素含量が30〜
86質量%である請求項1に記載の製造方法。 - 【請求項3】 化合物(I)中の水素原子に対して過剰当量のフッ素を液相中に供給しながら
反応させて、液相中で化合物(I)から化合物(II)を生成させる請求項1また
は2に記載の製造方法。 - 【請求項4】 液相中でのフッ素化の反応系中にC−H結合含有化合物を存在させるか、また
は紫外線照射しながらフッ素化反応を行なう請求項1、2または3に記載の製造
方法。 - 【請求項5】 化合物(I)が、下記化合物(A1)と下記化合物(A2)とを反応させるこ
とによって製造される請求項1〜4のいずれか一つに記載の製造方法。ただし、
Xはハロゲン原子を示し、RH1、EH1、RH2、RH3は、請求項1と同じ意味を有
する。 (RH1−EH1−)CRH2RH3CH2−OH(A1) XCORHB(A2) - 【請求項6】 化合物(I)中のRH1がCX1X2ClCX3Cl−である化合物(Ia)が、下
記化合物(B1)に下記化合物(B2)を反応させて下記化合物(B3)を生成
させ、次に該化合物(B3)を塩素化剤と反応させることによって製造される請
求項1〜4のいずれか一つに記載の製造方法。ただし、X1、X2、X3、RH2、
RH3、およびRHBは、請求項1と同じ意味を有する。 (CX1X2=CX3−EH1−)CRH2RH3CH2−OH (B1) XCORHB (B2) (CX1X2=CX3−EH1−)CRH2RH3CH2−OCORHB (B3) (CX1X2ClCX3Cl−EH1−)CRH2RH3CH2−OCORHB (Ia) - 【請求項7】 塩素化剤が塩素である請求項6に記載の製造方法。
- 【請求項8】 化合物(IV)と化合物(B2)とが同一化合物である請求項6または7に記載の
製造方法。 - 【請求項9】 化合物(IV)と化合物(B2)とが同一化合物であり、生成した化合物(IV)の一
部または全部を再び化合物(A1)または化合物(B1)との反応に用いる請求
項5、6または7に記載の製造方法。 - 【請求項10】 化合物(III)と化合物(IV)とが同一化合物である請求項1〜9のいずれか一つ
に記載の製造方法。 - 【請求項11】 下記の式で表されるのいずれか一つの新規化合物。 CHCl=CClO(CH2)5OH CH2=CH(CH2)2OCH2CH2CH2OH CH2=CH(CH2)2OCOCF2CFClCF2Cl CH2=CH(CH2)2OCH(CH3)CH2OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3 CClH=CClO(CH2)5OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3 CClF2CClFO(CF2)5OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3 CH2=CH(CH2)2O(CH2)3OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3 CH2ClCHCl(CH2)2O(CH2)3OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3 CF2ClCFCl(CF2)2O(CF2)3OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3 CClF2CClFO(CF2)4COF CF2ClCFCl(CF2)2O(CF2)2COF
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