JP2003500499A - ポリアミドの製造方法 - Google Patents
ポリアミドの製造方法Info
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Abstract
Description
からポリアミドを製造する方法に関する。
ば、DE−A19631521では、一酸化炭素の存在下におけるペンテンニト
リルの接触水素化(接触還元)を開示している。これにより得られる、6−アミ
ノカプロニトリルとヘキサメチレンジアミンとの混合物を、分離後、更に転化し
て、ナイロン6及びナイロン66を製造することもある。例えば、DE−A43
19134では、アミノカプロン酸を不均一系触媒の存在下で反応させて、カプ
ロラクタムを形成し、これをモノマーとして使用して、ナイロン6を製造可能な
方法を開示している。ヘキサメチレンジアミン及び更にアジピン酸も、ナイロン
66のブロックを形成するモノマーである。
場合には、アミノカプロニトリルを触媒の存在下で水と反応させても良い(DE
−A19709390、参照)。
ン66を製造する現在の方法の不都合は、水素化後に、2成分を、それぞれの重
合で別個に使用する必要がある点にある。更に、モノマーは高濃度(高純度)で
ある必要があり、これにより、エネルギーとコストの集約を分けることが一般的
に余儀なくされる。
ポニトリルの水素化生成物を用いるポリアミドの製造方法を提供することにある
。
チレンジアミン及びアミノカプロニトリルを含む混合物と、水及びジカルボン酸
とを反応させる本発明によるポリアミドの製造方法によって達成されるのを見出
した。使用される水素化混合物は、水素化段階で直接得られるもので、更なる精
製がなされていないのが好ましい。本発明の方法では、アミノニトリル、アジピ
ン酸及びヘキサメチレンジアミンを基礎とするポリアミドを提供する。
ピン酸又はテレフタル酸等の二官能性酸の存在下に、所定の温度及び圧力で特徴
付けられる複数の工程又は段階で反応させることにより、ポリアミド混合物に転
化することができる。
での6−アミノカプロニトリルとヘキサメチレンジアミンのモル比は、1:99
〜99:1の範囲が好ましく、5:95〜95:5の範囲がさらに好ましく、1
0:90〜90:10の範囲が特に好ましい。アミノカプロニトリル−ヘキサメ
チレンジアミン混合物は、通常、例えばDE−A836938、DE−A848
654又はUS5151543に開示されている公知方法によるアジポニトリル
の水素化により得られる。各種アミノニトリルとジアミンとの混合物を用いるこ
とも可能である。
術者等に公知の連鎖延長物質、連鎖枝分かれ物質及び連鎖調節物質、例えば一官
能性、二官能性及び三官能性化合物、UV及び熱安定剤、顔料、加工助剤、難燃
剤、染料又は耐衝撃性改良剤(例えば、DE−A19709390に開示)に添
加しても良い。
反応段階中又は第一反応段階後に反応混合物に添加するのが好ましい一方、顔料
、加工助剤及び染料を、触媒固定床を含む段階後に混合物に添加するのが好まし
い。
発明による方法の種々の形態で、ポリアミドに転化することができる。本発明に
従い、以下に開示される工程は、バッチ式、すなわち単一反応器において連続し
て、又は連続式、すなわち連続反応器において進行する。工程の一部を連続式で
、残りをバッチ式で行うことも可能である。
水及びジカルボン酸とを混合して反応混合物を形成し、次いで90〜300℃の
範囲の温度及び反応混合物が単一の液相を構成する圧力下で転化する工程、 (2)工程(1)の転化混合物を、230〜400℃の範囲の温度及び液相と
気相が得られる圧力下で更に転化し、液相から気相を分離する工程、及び (3)生成混合物を、250〜310℃の範囲の温度及び工程(2)の圧力よ
り低い圧力下で後縮合する工程。
えば静的混合器(static mixer)又は給送容器としても機能することがあるタン
ク型反応器で完全に混合する。酸の含有率は、ヘキサメチレンジアミン濃度の関
数として測定され、使用されるヘキサメチレンジアミンのモル量に対して、50
〜150モル%であるのが好ましく、90〜110モル%が特に好ましい。本発
明により、水を、アミノカプロニトリル:水=1:1〜1:6の範囲、特に好ま
しくは1:1〜1:4の範囲、最も好ましくは1:1〜1:3の範囲のモル量で
用い、且つ水素化混合物に含まれるアミノカプロニトリルに対して水を過剰に用
いるのが好ましい。
転化する。この反応工程での圧力は、混合物が単一液相を構成するように選択さ
れるのが好ましい。使用される反応器は、例えば、流動管であっても良い。この
反応段階での滞留時間は、10時間までであり、0.1〜3時間の範囲が好まし
く、0.1〜1時間の範囲が特に好ましい。
℃の範囲の温度で、液相及び気相が得られ且つこの気相を液相から分離可能な圧
力下にて更に転化する。この反応段階での滞留時間は、混合物の水含有率、反応
温度及び反応器の圧力、並びに反応時間の最後で生成物に必要される重合度に応
じて異なる。滞留時間は、10時間までであり、0.1〜5時間の範囲が好まし
く、0.1〜3時間の範囲が特に好ましい。
battery)、及び蒸発装置、例えば循環型蒸発器、又はフィルム押出器(filmtr
uder)によるような薄膜蒸発器、又は相界面の増大を保証する管状円盤反応器(
annular disk reactor)を用いて行うことができる。所定の状況下では、反応混
合物の再循環又はループ式反応器の使用により、相界面を増大させることが必要
な場合もある。更に、水蒸気又は不活性ガスを液相に添加することによって、気
相の除去を促進することもある。
ることによって第二段階から排出し、水浴で冷却し、そして当該技術者等に公知
の次処理工程、例えば押出、抽出、着色、焼き入れ(tempering)によって更に
処理することができる。
衡蒸気圧に等しいため、例えば100分間という限られた時間で、反応混合物か
ら水を除去することができる。しかしながら、重合度又は生成物の粘度が高いと
、低圧にて反応混合物の効果的な縮合を可能にする別の第三段階が必要となる。
器付ではない分離タンク又はタンク群、及び蒸発装置、例えば循環型蒸発器、又
はフィルム押出器によるような薄膜蒸発器、又は相界面の増大を保証する管状円
盤反応器を用いる第2工程と同様に行う。所定の状況下では、反応混合物の再循
環又はループ式反応器の使用により、相界面を増大させることが必要な場合もあ
る。更に、不活性ガスを液相及び気相に添加することによって、水の除去を促進
することが可能である。反応温度は、250〜310℃の範囲に設定されるのが
好ましく、270〜290℃の範囲に設定されるのが特に好ましく、反応圧力は
、2バール(2.0×105Pa)未満であるのが好ましい。
とを混合し、次いで90〜400℃の範囲の温度及び0.1〜15×106Pa
の範囲の圧力下で転化する工程、 (b)工程(a)で得た転化混合物を、200〜350℃の範囲の温度及び工
程(a)の圧力より低く且つ液相及び気相が得られるように調節された圧力下で
更に転化し、気相を液相から分離する工程、及び (c)これにより得られた転化混合物をジカルボン酸と混合して、反応混合物
を形成し、次いで反応混合物を、上述した工程(1)、工程(2)及び工程(3
)と同様に転化する工程。
ンジアミン水素化混合物を水と反応させるが、二官能性酸を添加しないで、一段
階以上の処理予備段階(process prestage)において反応させ、その後、これに
より得られた生成混合物を所望の酸、例えば好ましくはアジピン酸と組み合わせ
、そして上述した処理段階(1)〜(3)(処理工程(1)〜(3))で重合す
る。
〜310℃、特に220〜270℃の範囲の温度で水と加熱し、そして圧力を0
.1〜15×106Pa、好ましくは1〜10×106Pa、特に4〜9×10 6 Paの範囲に設定する。
に好ましくは1:1〜1:4、最も好ましくは1:1〜1:3で水を用い、且つ
使用されるアミノカプロニトリルに対して水を過剰に用いるのが好ましい。
しい。この単一相法で好ましい形態は、必要により以下に開示する触媒材料で充
填されている流動管である。
を得ることも可能である。この形態において、液相は転化混合物に相応する一方
、気相は除去される。主としてアンモニア及び水蒸気から構成される気相を、一
般に、蒸留装置を用いて絶えず除去する。この蒸留中に共除去される蒸留液(蒸
留物)の有機組成分、すなわち主として未転化アミノニトリル及びヘキサメチレ
ンジアミンを、完全に又は一部は、第1予備段階及び/又は次の予備段階に再循
環させても良い。
けられる、純水及びヘキサメチレンジアミンの蒸気圧より高く且つアンモニアの
平衡蒸気圧より低い圧力にて行われるのが好ましい。
つ必要により、気相除去用の別の開口を生成物出口の上側に備える竪型流動管を
利用する。この管型反応器は、触媒材料、特に触媒ペレットで完全に又は部分的
に充填されていても良い。好ましい形態において、二相法に使用される竪型反応
器は、相境界まで触媒材料で最大限充填されている。
1段階への導入前に、熱交換器によって加熱する。アミノニトリル−ヘキサメチ
レンジアミン水素化混合物及び水をそれぞれ別個に加熱し、そして第1段階で混
合素子によって混合することも適当であろう。
分〜6時間の範囲に設定されるのが好ましい。この滞留時間に対しては、限定が
ない。
いるのが好ましい。本発明により、第1予備段階で得られた転化混合物を、予備
段階2において、200〜350℃の範囲、好ましくは210〜300℃の範囲
、特に230〜270℃の範囲の温度及び段階1の圧力より低い圧力下で更に転
化する。第2段階での圧力は、段階1の圧力より低く、少なくとも0.5×10 6 Paであり、一般的には0.1〜45×106Paの範囲であり、0.5〜1
5×106Paの範囲が好ましく、特に2〜6×106Paの範囲である。
能となるように選択される。
蒸発装置、例えば循環型蒸発器、又はフィルム押出器によるような薄膜蒸発器、
又は相界面の増大を保証する管状円盤反応器を用いることによって行っても良い
。所定の状況下では、反応混合物の再循環又はループ式反応器の使用により、相
界面を増大させることが必要な場合もある。更に、水蒸気又は不活性ガスを液相
に添加することによって、気相の除去を促進する場合もある。
あり且つ予め決定された温度で反応混合物における他の成分の平衡蒸気圧を超え
るのが好ましい。このようにして、特にアンモニアの除去に有利となり得るため
、酸アミド基の加水分解速度を上昇させることが可能となる。
あり、30分〜3時間の範囲とするのが好ましい。滞留時間には、いかなる限定
もない。
はズルツァ(Sulzer)混合素子を具備して、転化混合物の気相への制御膨張を可
能にしても良い。これは、第一段階の単一相法に特に利用する。
性酸を、次の処理段階前に、この予備段階で得た転化混合物と混合する(上記を
参照)。これは、例えばこの予備段階で得た生成物流とアジピン酸又はテレフタ
ル酸の水溶液とを混合する静的又は動的混合器によって行うこともある。必要に
より、この酸を、混合素子又は撹拌素子を備えた第2予備段階に直接計量導入し
ても良い。
る。
い。しかし、必要により他の処理段階で用いても良い。触媒充填反応器を、単一
液相で運転させるのが好ましい。
ウム又は二酸化チタン触媒から選択されるブレンステッド酸触媒が好ましい。こ
れらの触媒の混合物を用いることも可能である。二酸化チタン触媒は、70〜1
00質量%のアナターゼ及び0〜30質量%のルチルを含んでいるのが好ましく
、二酸化チタンの40質量%までが酸化タングステンに置き換えられていても良
い。極めて高濃度(高純度)のアミノニトリルを使用する場合には、二酸化チタ
ン触媒中のアナターゼ留分を可能な限り高くする。純粋なアナターゼ触媒を用い
るのが好ましい。使用されるアミノニトリルが不純物を含んでいる場合(例えば
、1〜3質量%の不純物)には、アナターゼとルチルの混合物を含む二酸化チタ
ン触媒を用いるのが好ましい。アナターゼ留分は70〜80質量%であり、ルチ
ル留分は20〜30質量%であるのが好ましい。約70質量%のアナターゼ及び
約30質量%のルチルを含む二酸化チタン触媒の場合に特に好ましい。この触媒
の細孔容積は0.1〜5ml/gの範囲であり、0.2〜0.5ml/gの範囲
であるのが好ましい。平均孔径は、0.005〜0.1mmの範囲であるのが好
ましく、0.01〜0.06mmの範囲が特に好ましい。粘性の高い生成物を使
用する場合、平均孔径は大きくする。切断硬度は20Nを超えるのが好ましく、
25Nを超えるのが特に好ましい。BET表面積は40m2/gを超えるのが好
ましく、100m2/gを超えるのが特に好ましい。BET表面積を小さくする
場合、選択されるバルク体積(見かけ体積:bulk volume)を対応するように高
くして、適当な触媒性能を保証することが可能となる。特に好ましい触媒は、以
下の性質を有する:100質量%のアナターゼ、0.3ml/gの細孔容積、0
.02mmの平均孔径、32Nの切断硬度、116m2/gのBET表面積;又
は84質量%のアナターゼ、16質量%のルチル、0.3ml/gの細孔容積、
0.03mmの平均孔径、26Nの切断硬度、46m2/gのBET表面積。こ
の触媒を、例えばデグサ(Degussa)、フィンティ(Finnti)又はケミラ(Kemir
a)社から入手するような市販の粉末から得ても良い。酸化タングステンを使用
する場合、40質量%まで、好ましくは30質量%まで、特に好ましくは15〜
25質量%の二酸化チタンが酸化タングステンで置換されていても良い。この触
媒を、Ertl, Knoezinger, Weitkamp: "Handbook of heterogeous catalysis", V
HC Weinheim, 1997, 98頁以降に開示されているように調製しても良い。この触
媒を、所望の有用な形態で用いても良い。
のクレイ、0.8%の酸化アルミニウム及び約4%の酸化リンを含んでいる。4
mmの押出物に付形され、そしてか焼される上記組成の触媒は、100%耐防水
性であり、53Nを超える切断硬度を有する。
いるのが好ましい。このペレットは、生成混合物との分離を容易にし、且つ転化
の間に生成物の流動性を損なわないようにするため、充分に大きくするのが好ま
しい。この触媒がペレット状であることにより、第1段階の出口にて触媒の機械
的除去が可能となる。これは、触媒を含む処理段階の出口に機械的なフィルター
又は分子篩を設置することによって達成される場合がある。
1質量%濃度、そして非抽出ポリマーの場合は1.1質量%濃度の、それぞれ9
6%濃度硫酸溶液中でウッベローデ粘度計を用いて25℃にて測定した。非抽出
ポリマーを、分析前に20時間減圧下にて乾燥した。
00質量部と還流下にて100℃で32時間撹拌し、そして水を除去後、100
℃で減圧下に20時間徐々に乾燥、すなわち後縮合を避けて乾燥した。
6〜10において、水を、反応器の出口を介して、所定の間隔で反応混合物に絶
えず給送した。
まとめた。
り、そしてADAはアジピン酸である。
気し、そして窒素で繰り返しフラッシュした。その後、密閉反応器中の混合物を
215℃の反応温度に2時間曝した。次いで、反応温度を280℃まで昇温させ
、そして反応器を、内部圧を調節して18バール(1.8×106Pa)とする
ように制御弁によって開放した。1時間の反応時間後、オートクレーブ中の圧力
を30分で約5バール(5.0×105Pa)の環境圧(周囲の圧力:ambient
)に低下させた。その後、溶融ポリマーを280℃で60分間、後縮合し、そし
て水浴中で押出し、ペレット化し、乾燥した。
気し、そして窒素で繰り返しフラッシュした。その後、密閉反応器中の混合物を
270℃の反応温度に2時間曝した。次いで、反応温度を280℃まで昇温させ
、そして反応器を、内部圧を調節して18バール(1.8×106Pa)とする
ように制御弁によって開放した。1時間の反応時間後、オートクレーブ中の圧力
を30分で約5バール(5.0×105Pa)に低下させ、次いで1時間で約1
バール(1.0×105Pa)に低下させた。溶融ポリマーを280℃で45分
間、後縮合し、そして水浴中で押出し、ペレット化し、乾燥した。
気し、そして窒素で繰り返しフラッシュした。その後、密閉反応器中の混合物を
215℃の反応温度に2時間曝した。次いで、反応温度を280℃まで昇温させ
、そして反応器を、内部圧を調節して18バール(1.8×106Pa)とする
ように制御弁によって開放した。1時間の反応時間後、オートクレーブ中の圧力
を30分で約5バール(5.0×105Pa)に低下させ、次いで1時間で約1
バール(1.0×105Pa)に低下させた。溶融ポリマーを280℃で20分
間、後縮合し、そして水浴中で押出し、ペレット化し、乾燥した。
気し、そして窒素で繰り返しフラッシュした。その後、密閉反応器中の混合物を
215℃の反応温度に2時間曝した。次いで、反応温度を280℃まで昇温させ
、そして反応器を、内部圧を調節して18バール(1.8×106Pa)とする
ように制御弁によって開放した。1時間の反応時間後、オートクレーブ中の圧力
を30分で約5バール(5.0×105Pa)に低下させ、次いで1時間で約1
バール(1.0×105Pa)に低下させた。溶融ポリマーを280℃で50分
間、後縮合し、そして水浴中で押出し、ペレット化し、乾燥した。
気し、そして窒素で繰り返しフラッシュし、その後加熱した。反応温度を280
℃とした後、反応器を、内部圧を調節して18バール(1.8×106Pa)と
するように制御弁によって開放した。1時間の反応時間後、オートクレーブ中の
圧力を30分で約5バール(5.0×105Pa)に低下させ、次いで1時間で
約1バール(1.0×105Pa)に低下させた。溶融ポリマーを280℃で1
5分間、後縮合し、そして水浴中で押出し、ペレット化し、乾燥した。
気し、そして窒素で繰り返しフラッシュした。その後、密閉反応器中の反応混合
物を270℃の反応温度に1時間曝した。制御弁を開放して、反応器の内部圧を
30分で30バール(3.0×106Pa)に調節した。次いで、水を除去した
。ピストンポンプにより、60g/時間の速度で水を反応混合物に計量導入した
。2時間後、水の除去を終了し、オートクレーブ中の圧力を1時間で1バール(
1.0×105Pa)に低下させた。溶融ポリマーを270℃で更に2時間、転
化又は後縮合し、そして押出し、ペレット化し、乾燥した。
気し、そして窒素で繰り返しフラッシュした。その後、密閉反応器中の反応混合
物を270℃の反応温度に1時間曝した。制御弁を開放して、反応器の内部圧を
30分で30バール(3.0×106Pa)に調節した。次いで、水を除去した
。ピストンポンプにより、60g/時間の速度で水を反応混合物に計量導入した
。2時間後、水の除去を終了し、オートクレーブ中の圧力を1時間で1バール(
1.0×105Pa)に低下させた。溶融ポリマーを270℃で更に1時間、転
化又は後縮合し、そして押出し、ペレット化し、乾燥した。
気し、そして窒素で繰り返しフラッシュした。その後、反応混合物を密閉反応器
中で加熱した。270℃の生成物温度に達した直後、制御弁を開放して、反応器
の内部圧を30分で30バール(3.0×106Pa)に調節した。次いで、水
を除去した。ピストンポンプにより、60g/時間の速度で水を反応混合物に計
量導入した。2時間後、水の除去を終了し、オートクレーブ中の圧力を1時間で
1バール(1.0×105Pa)に低下させた。溶融ポリマーを270℃で更に
1時間、転化又は後縮合し、そして押出し、ペレット化し、乾燥した。
Claims (10)
- 【請求項1】 アジポニトリルの水素化により得られるヘキサメチレンジア
ミン及びアミノカプロニトリルを含む混合物と、水及びジカルボン酸とを反応さ
せるポリアミドの製造方法。 - 【請求項2】 使用される水素化混合物が、水素化段階で直接得られるもの
で、更なる精製がなされていない、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 ジカルボン酸として、アジピン酸又はテレフタル酸を使用す
る、請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 ジカルボン酸の量は、混合物中のヘキサメチレンジアミンの
量に対して50〜150モル%である、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。 - 【請求項5】 水を、アミノカプロニトリルに対して1:1〜6:1の範囲
のモル比で使用する、請求項1〜4のいずれかに記載の方法。 - 【請求項6】 以下の工程(1)〜(3): (1)ヘキサメチレンジアミン及びアミノカプロニトリルの水素化混合物と、
水及びジカルボン酸とを混合して反応混合物を形成し、次いで90〜300℃の
範囲の温度及び反応混合物が単一の液相を構成する圧力下で転化する工程、 (2)工程(1)の転化混合物を、230〜400℃の範囲の温度及び液相と
気相が得られる圧力下で更に転化し、液相から気相を分離する工程、及び (3)生成混合物を、250〜310℃の範囲の温度及び工程(2)の圧力よ
り低い圧力下で後縮合する工程、 を含む、請求項1〜5のいずれかに記載の方法。 - 【請求項7】 以下の工程(a)〜(c): (a)ヘキサメチレンジアミン及びアミノカプロニトリルの水素化混合物と水
とを混合し、次いで90〜400℃の範囲の温度及び0.1〜15×106Pa
の範囲の圧力下で転化する工程、 (b)工程(a)で得た転化混合物を、200〜350℃の範囲の温度及び工
程(a)の圧力より低く且つ液相及び気相が得られるように調節された圧力下で
更に転化し、気相を液相から分離する工程、及び (c)これにより得られた転化混合物をジカルボン酸と混合して、反応混合物
を形成し、次いで反応混合物を、請求項6に記載の工程(1)、工程(2)及び
工程(3)と同様に転化する工程、 を含む、請求項1〜5のいずれかに記載の方法。 - 【請求項8】 転化を、金属酸化物の固定床触媒の存在下に一工程以上で行
う、請求項1〜7のいずれかに記載の方法。 - 【請求項9】 触媒が、β−ゼオライト、シート状シリケート、酸化アルミ
ニウム又は二酸化チタン触媒から選択される、請求項8に記載の方法。 - 【請求項10】 請求項1〜9のいずれかに記載の方法により製造されるポ
リアミド。
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