JP2003329833A - 光学補償シートの製造方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学補償シートにおける配向不良を低減す
る。 【解決手段】 配向膜形成用樹脂層をフィルムに塗布し
た後に乾燥し、バルクロールとして巻き取る。バルクロ
ールからフィルム１１ｂを引き出してラビング処理工程
へ送る。この経路に第１及び第２送風装置３３，３４を
設ける。第１送風装置３３から、乾球温度４５±２℃、
相対湿度５０％以上６０％以下の風をフィルム１１ｂの
配向膜形成用樹脂層に吹き付ける。第２送風装置３４か
ら乾球温度２５±１℃、相対湿度３０％以上３５％以下
に設定した風を配向膜形成用樹脂層に吹き付ける。送風
の後に、ラビング処理を施し、液晶化合物溶液を塗布、
乾燥してからラミネートする。第１送風装置３３からの
高温高湿風により、配向膜形成用樹脂層の部分的延伸の
痕跡を無くすことができ、配向不良が低減する。
る。 【解決手段】 配向膜形成用樹脂層をフィルムに塗布し
た後に乾燥し、バルクロールとして巻き取る。バルクロ
ールからフィルム１１ｂを引き出してラビング処理工程
へ送る。この経路に第１及び第２送風装置３３，３４を
設ける。第１送風装置３３から、乾球温度４５±２℃、
相対湿度５０％以上６０％以下の風をフィルム１１ｂの
配向膜形成用樹脂層に吹き付ける。第２送風装置３４か
ら乾球温度２５±１℃、相対湿度３０％以上３５％以下
に設定した風を配向膜形成用樹脂層に吹き付ける。送風
の後に、ラビング処理を施し、液晶化合物溶液を塗布、
乾燥してからラミネートする。第１送風装置３３からの
高温高湿風により、配向膜形成用樹脂層の部分的延伸の
痕跡を無くすことができ、配向不良が低減する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＳＴＮ液晶やＴＦ
Ｔ液晶あるいはＯＣＢ液晶の液晶表示板に用いる光学補
償シートの製造方法に関するものであり、特に配向不良
を低減した長尺状の光学補償シートの製造方法及び装置
に関する。
Ｔ液晶あるいはＯＣＢ液晶の液晶表示板に用いる光学補
償シートの製造方法に関するものであり、特に配向不良
を低減した長尺状の光学補償シートの製造方法及び装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子（以下、ＬＣＤと称する）
の普及に伴い、偏光板及び光学補償シートの需要が急増
している。光学補償シートの製造方法としては、透明な
ポリマーフィルムに配向膜を形成する層を付設し、これ
を乾燥させた後、ラビング処理を施して配向膜を形成さ
せ、その上に液晶化合物の溶液を塗布して乾燥させると
いうのが代表的である。この製造工程は連続の一貫工程
で実施する場合もあるが、生産ラインの部分的メンテナ
ンスや、各工程における原材料の入れ換え等を考慮し、
途中でロール状に巻き取る場合も多い。このロール状フ
ィルム（バルクロール）としての巻き取りは、配向膜形
成用樹脂層を形成した後であって、ラビング処理前の段
階で行われる。また、近年では、偏光板の透過軸に対す
る配向軸の任意設定を求められるなど、その多グレード
化の傾向がみられると同時に、コストダウンへの要求も
増している。
の普及に伴い、偏光板及び光学補償シートの需要が急増
している。光学補償シートの製造方法としては、透明な
ポリマーフィルムに配向膜を形成する層を付設し、これ
を乾燥させた後、ラビング処理を施して配向膜を形成さ
せ、その上に液晶化合物の溶液を塗布して乾燥させると
いうのが代表的である。この製造工程は連続の一貫工程
で実施する場合もあるが、生産ラインの部分的メンテナ
ンスや、各工程における原材料の入れ換え等を考慮し、
途中でロール状に巻き取る場合も多い。このロール状フ
ィルム（バルクロール）としての巻き取りは、配向膜形
成用樹脂層を形成した後であって、ラビング処理前の段
階で行われる。また、近年では、偏光板の透過軸に対す
る配向軸の任意設定を求められるなど、その多グレード
化の傾向がみられると同時に、コストダウンへの要求も
増している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】光学補償シートの生産
得率については、その配向不良の発現率に左右されるこ
とが多い。生産にあたっては、長尺状の連続方式で実施
する場合が多く、配向不良を有するものは、液晶化合物
の配向を乱して表示ムラを招くので、偏光板や液晶表示
板にこれを使用することができず、従来、廃棄処分とさ
れている。
得率については、その配向不良の発現率に左右されるこ
とが多い。生産にあたっては、長尺状の連続方式で実施
する場合が多く、配向不良を有するものは、液晶化合物
の配向を乱して表示ムラを招くので、偏光板や液晶表示
板にこれを使用することができず、従来、廃棄処分とさ
れている。
【０００４】配向不良は主に、ラビング処理実施時のフ
ィルム状態の不良が原因となっている。この不良発生
は、次の４つに起因することが多い。ひとつは、配向膜
形成用樹脂層を付与したフィルムを搬送するために設け
ているガイドロールによる損傷である。これはガイドロ
ール表面の平滑加工が十分でない場合や、フィルムとガ
イドロールの間に異物が存在してしまう場合に起こる現
象である。ふたつめは、配向膜形成用樹脂層を形成した
フィルムを一旦バルクロールとして巻き取った際の巻き
締まりによるものである。これは、フィルムが多重に巻
かれることによって、巻き締まりが生じ、バルクロール
内でフィルム同士が高い圧力で接触しながらずれること
により配向膜形成用樹脂層の表面が損傷してしまうもの
で、この現象は、特にその巻きの中間部に顕著である。
ィルム状態の不良が原因となっている。この不良発生
は、次の４つに起因することが多い。ひとつは、配向膜
形成用樹脂層を付与したフィルムを搬送するために設け
ているガイドロールによる損傷である。これはガイドロ
ール表面の平滑加工が十分でない場合や、フィルムとガ
イドロールの間に異物が存在してしまう場合に起こる現
象である。ふたつめは、配向膜形成用樹脂層を形成した
フィルムを一旦バルクロールとして巻き取った際の巻き
締まりによるものである。これは、フィルムが多重に巻
かれることによって、巻き締まりが生じ、バルクロール
内でフィルム同士が高い圧力で接触しながらずれること
により配向膜形成用樹脂層の表面が損傷してしまうもの
で、この現象は、特にその巻きの中間部に顕著である。
【０００５】第３の原因は、バルクロールへの巻き取り
において、バルクロールの芯表面の平滑性不足により、
それに接触するフィルム面に損傷を与えてしまう現象で
ある。第４の原因としてあげられるのは、バルクロール
への巻き取りはじめの端部での段差発生により、上に重
なるフィルム表面が損傷してしまうものである。以上の
不良発生は、長尺フィルムに断続的に、しかも高頻度で
発生し、かつ、必然的でもあるという問題がある。
において、バルクロールの芯表面の平滑性不足により、
それに接触するフィルム面に損傷を与えてしまう現象で
ある。第４の原因としてあげられるのは、バルクロール
への巻き取りはじめの端部での段差発生により、上に重
なるフィルム表面が損傷してしまうものである。以上の
不良発生は、長尺フィルムに断続的に、しかも高頻度で
発生し、かつ、必然的でもあるという問題がある。
【０００６】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、良好な配向性付与により光学的異方性を有する
光学補償シートを、高得率で製造する方法および装置を
提供することを目的とする。
であり、良好な配向性付与により光学的異方性を有する
光学補償シートを、高得率で製造する方法および装置を
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の光学補償シートの製造方法は、配向膜形成
用樹脂層を表面に有する長尺状のフィルムにラビング処
理を施して液晶化合物溶液を塗布する光学補償シートの
製造方法において、前記配向膜形成用樹脂層表面に対
し、前記ラビング処理工程への搬送過程で３０℃以上６
０℃以下、相対湿度５５％以上８０％以下の風を吹き付
けることを特徴として構成されている。
に、本発明の光学補償シートの製造方法は、配向膜形成
用樹脂層を表面に有する長尺状のフィルムにラビング処
理を施して液晶化合物溶液を塗布する光学補償シートの
製造方法において、前記配向膜形成用樹脂層表面に対
し、前記ラビング処理工程への搬送過程で３０℃以上６
０℃以下、相対湿度５５％以上８０％以下の風を吹き付
けることを特徴として構成されている。
【０００８】前記配向膜形成用樹脂層を形成したフィル
ムを巻き取り、この巻き取ったフィルムロールから前記
フィルムを送出して、これをラビング処理工程へ搬送す
る過程で送風を行うことが好ましい。さらに、前記送風
の後で、かつ、ラビング処理の前に、相対湿度３０％以
上５０％以下の風を吹き付けることが好ましい。
ムを巻き取り、この巻き取ったフィルムロールから前記
フィルムを送出して、これをラビング処理工程へ搬送す
る過程で送風を行うことが好ましい。さらに、前記送風
の後で、かつ、ラビング処理の前に、相対湿度３０％以
上５０％以下の風を吹き付けることが好ましい。
【０００９】また、本発明の光学補償シートの製造装置
は、配向膜形成用樹脂層を表面に有する長尺状のフィル
ムにラビング装置によりラビング処理を施して液晶化合
物溶液を塗布する光学補償シートの製造装置において、
前記ラビング処理装置へのフィルム搬送経路に設けら
れ、前記配向膜形成用樹脂層に対して３０℃以上６０℃
以下で、相対湿度が５５％以上８０％以下の風を送る第
１送風装置を有することを特徴として構成されている。
は、配向膜形成用樹脂層を表面に有する長尺状のフィル
ムにラビング装置によりラビング処理を施して液晶化合
物溶液を塗布する光学補償シートの製造装置において、
前記ラビング処理装置へのフィルム搬送経路に設けら
れ、前記配向膜形成用樹脂層に対して３０℃以上６０℃
以下で、相対湿度が５５％以上８０％以下の風を送る第
１送風装置を有することを特徴として構成されている。
【００１０】さらに、この第１送風装置に対してフィル
ム搬送方向の下流側に、相対湿度が３０％以上５０％以
下の風を送る第２送風装置を有することが好ましい。
ム搬送方向の下流側に、相対湿度が３０％以上５０％以
下の風を送る第２送風装置を有することが好ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施形態である
光学補償シートの製造工程の一例である。フィルムロー
ル１０のフィルム１１ａを送出機１２により送り出し、
駆動ローラ１３及びパスローラ１４を経て、ガイドロー
ラ１５で支持しながら表面除塵装置１６により除塵す
る。除塵した後、バックアップローラ１７で支持しなが
ら塗布装置１８にて配向膜形成用樹脂を主成分とする塗
布液を塗布して、乾燥ゾーン１９で乾燥する。配向膜形
成用樹脂層を形成された透明フィルム１１ｂを、ガイド
ローラ２０を経て一旦バルクロール２１としてフィルム
ロール２１ａに巻き取る。一般的なガイドローラ２０及
びフィルムロール２１ａは、その表面をハードクロムメ
ッキとしている。表面が平滑なもの、かつ異物が付着し
にくいものが好ましく、例えば研磨や樹脂コーティング
等の表面処理を施すとよい。これにより、形成した配向
膜形成用樹脂層の表面に与えるダメージをできるだけ低
減することができる。
光学補償シートの製造工程の一例である。フィルムロー
ル１０のフィルム１１ａを送出機１２により送り出し、
駆動ローラ１３及びパスローラ１４を経て、ガイドロー
ラ１５で支持しながら表面除塵装置１６により除塵す
る。除塵した後、バックアップローラ１７で支持しなが
ら塗布装置１８にて配向膜形成用樹脂を主成分とする塗
布液を塗布して、乾燥ゾーン１９で乾燥する。配向膜形
成用樹脂層を形成された透明フィルム１１ｂを、ガイド
ローラ２０を経て一旦バルクロール２１としてフィルム
ロール２１ａに巻き取る。一般的なガイドローラ２０及
びフィルムロール２１ａは、その表面をハードクロムメ
ッキとしている。表面が平滑なもの、かつ異物が付着し
にくいものが好ましく、例えば研磨や樹脂コーティング
等の表面処理を施すとよい。これにより、形成した配向
膜形成用樹脂層の表面に与えるダメージをできるだけ低
減することができる。
【００１２】配向膜形成用樹脂層を表面に付与したフィ
ルム１１ｂをバルクロール２１から送出機２２にて送出
し、駆動ローラ３０、ガイドローラ３１を経て、ラビン
グ処理装置３２に送る。ガイドローラ３１の上のフィル
ム１１ｂの近傍には第１及び第２の送風装置３３，３４
を設置している。この送風装置３３，３４により、フィ
ルム１１ｂのラビング処置対象面に対し温度及び湿度を
調整した風を当ててから、ラビング処理工程に導入す
る。
ルム１１ｂをバルクロール２１から送出機２２にて送出
し、駆動ローラ３０、ガイドローラ３１を経て、ラビン
グ処理装置３２に送る。ガイドローラ３１の上のフィル
ム１１ｂの近傍には第１及び第２の送風装置３３，３４
を設置している。この送風装置３３，３４により、フィ
ルム１１ｂのラビング処置対象面に対し温度及び湿度を
調整した風を当ててから、ラビング処理工程に導入す
る。
【００１３】ラビング処理装置３２は、ラビングローラ
３２ｃとスプリングでローラステージ３２ａに固定され
たガイドローラ３２ｂにより構成されており、フィルム
１１ｂに配向膜を形成する。配向膜を形成されたフィル
ム１１ｃを、ガイドローラ３３で支持しながら、前記表
面除塵装置１６とは別の表面除塵装置３５を用いて除塵
した後、これをパスロール３６にて塗布装置３７に搬送
する。
３２ｃとスプリングでローラステージ３２ａに固定され
たガイドローラ３２ｂにより構成されており、フィルム
１１ｂに配向膜を形成する。配向膜を形成されたフィル
ム１１ｃを、ガイドローラ３３で支持しながら、前記表
面除塵装置１６とは別の表面除塵装置３５を用いて除塵
した後、これをパスロール３６にて塗布装置３７に搬送
する。
【００１４】塗布装置３７では、フィルム１１ｃをバッ
クアップロール３８で支持しながら、液晶性化合物の溶
液を塗布する。塗膜を乾燥させた後、加熱ゾーン３９に
て加熱し、液晶層を形成させる。液晶化合物として、紫
外線硬化性の架橋性置換基を有するものを用いた場合
は、紫外線硬化性液晶層を形成されたフィルム１１ｄに
紫外線ランプ（商品名；メタルハライドランプ，アイグ
ラフィクス社製）４０により紫外線を照射して液晶層を
架橋させ、冷却機４１にて冷却する。この場合の冷却は
急速に行うことが好ましく、これにより、液晶層のネマ
ティック層が破壊されるのをある程度抑制することがで
きる。液晶化合物として、紫外線硬化性官能基をもたな
いものを用いた場合は紫外線ランプ４０による紫外線照
射及び冷却器４１による冷却は不要である。
クアップロール３８で支持しながら、液晶性化合物の溶
液を塗布する。塗膜を乾燥させた後、加熱ゾーン３９に
て加熱し、液晶層を形成させる。液晶化合物として、紫
外線硬化性の架橋性置換基を有するものを用いた場合
は、紫外線硬化性液晶層を形成されたフィルム１１ｄに
紫外線ランプ（商品名；メタルハライドランプ，アイグ
ラフィクス社製）４０により紫外線を照射して液晶層を
架橋させ、冷却機４１にて冷却する。この場合の冷却は
急速に行うことが好ましく、これにより、液晶層のネマ
ティック層が破壊されるのをある程度抑制することがで
きる。液晶化合物として、紫外線硬化性官能基をもたな
いものを用いた場合は紫外線ランプ４０による紫外線照
射及び冷却器４１による冷却は不要である。
【００１５】配向膜及び液晶層を形成されたフィルム１
１ｄの表面の光学特性を検査装置４２（商品名及び型
式；配向欠陥検査機、ヒューテック社製）にて検査した
あと、その表面に、フィルムロール４３から送出され、
バスロール４４で搬送された保護フィルム４５をラミネ
ート機４６ａ，４６ｂによってラミネートする。得られ
たフィルム１１ｅを光学補償シートとしてフィルムロー
ル４７に巻き取る。なお、本実施形態におけるパスロー
ラ及びガイドローラの数とフィルムとの相対位置につい
ては、これに限定されない。
１ｄの表面の光学特性を検査装置４２（商品名及び型
式；配向欠陥検査機、ヒューテック社製）にて検査した
あと、その表面に、フィルムロール４３から送出され、
バスロール４４で搬送された保護フィルム４５をラミネ
ート機４６ａ，４６ｂによってラミネートする。得られ
たフィルム１１ｅを光学補償シートとしてフィルムロー
ル４７に巻き取る。なお、本実施形態におけるパスロー
ラ及びガイドローラの数とフィルムとの相対位置につい
ては、これに限定されない。
【００１６】図２には本発明の実施形態であるラビング
処理前の送風工程の斜視図である。フィルム１１ｂはガ
イドローラ３１に支持されながら第１及び第２の送風装
置３３，３４より風を送られる。第１及び第２の送風装
置３３，３４はフィルム１１ｂに関し、ガイドローラ３
１とは反対面、つまり、のちにラビング処理を施す側の
面の近傍に設置されている。送風装置３３，３４には、
フィルム１１ｂの幅方向にできるだけ均一に風を吹き付
けることができるような送風口３３ａ，３４ａがそれぞ
れ備わっている。ただし、フィルム１１ｂの幅方向に必
要十分な風を送ることができるものであればこれに限ら
れるものではなく、小型のものをフィルム１１ｂの幅方
向に複数台配置してもよい。送風装置３３，３４の設置
位置及び向きについては、図２に示すような本実施形態
には限定されず、フィルム１１ｂのラビング処理へと移
行するための搬送工程に設置し、かつ、フィルム１１ｂ
の表面に対し均一で必要十分な送風が可能な向きであれ
ばよい。
処理前の送風工程の斜視図である。フィルム１１ｂはガ
イドローラ３１に支持されながら第１及び第２の送風装
置３３，３４より風を送られる。第１及び第２の送風装
置３３，３４はフィルム１１ｂに関し、ガイドローラ３
１とは反対面、つまり、のちにラビング処理を施す側の
面の近傍に設置されている。送風装置３３，３４には、
フィルム１１ｂの幅方向にできるだけ均一に風を吹き付
けることができるような送風口３３ａ，３４ａがそれぞ
れ備わっている。ただし、フィルム１１ｂの幅方向に必
要十分な風を送ることができるものであればこれに限ら
れるものではなく、小型のものをフィルム１１ｂの幅方
向に複数台配置してもよい。送風装置３３，３４の設置
位置及び向きについては、図２に示すような本実施形態
には限定されず、フィルム１１ｂのラビング処理へと移
行するための搬送工程に設置し、かつ、フィルム１１ｂ
の表面に対し均一で必要十分な送風が可能な向きであれ
ばよい。
【００１７】送風装置３３，３４にはそれぞれ温度と湿
度を独立して制御することができる温湿度制御部３３
ｂ，３４ｂが備わっている。第１送風装置３３より、乾
球温度を３０℃以上６０℃以下、相対湿度を５５％以上
８０％以下とした風を吹き付けて高温高湿処理を、さら
に第２送風装置３４により乾球温度を２０℃以上３０℃
以下、相対湿度を３０％以上５０％以下とした風での乾
燥処理を実施することが好ましい。また、風速は５ｍ／
ｓ以上３０ｍ／ｓ以下とすることが好ましい。
度を独立して制御することができる温湿度制御部３３
ｂ，３４ｂが備わっている。第１送風装置３３より、乾
球温度を３０℃以上６０℃以下、相対湿度を５５％以上
８０％以下とした風を吹き付けて高温高湿処理を、さら
に第２送風装置３４により乾球温度を２０℃以上３０℃
以下、相対湿度を３０％以上５０％以下とした風での乾
燥処理を実施することが好ましい。また、風速は５ｍ／
ｓ以上３０ｍ／ｓ以下とすることが好ましい。
【００１８】上記の操作により、ガイドローラ２０，３
０、３１等との接触やバルクロール２１としての巻き取
りに起因するフィルム１１ｂの表面の配向不良を改善す
ることができる。これは、高温高湿の風を吹き付けて、
配向膜形成用樹脂層の表面を適度に結露させることによ
り、配向膜層の表面分子の延伸の痕跡を緩和させること
ができることを意味する。第１送風装置３３の乾球温度
は４０℃以上５０℃以下、相対湿度は４５％以上６０％
以下とし、第２送風装置３４の乾球温度は２５℃以上３
０℃以下、相対湿度は３０％以上４０％以下とすること
がさらに好ましく、第１送風装置３３の乾球温度は４５
℃以上５０℃以下、相対湿度は５０％以上６０％以下と
し、第２送風装置３４の乾球温度は２５℃以上２７℃以
下、相対湿度は３０％以上３５％以下とすることがもっ
とも好ましい。なお、第１送風装置３３による送風開始
時において、フィルム１１ｂの配向膜形成用樹脂層の温
度は２５℃以上３０℃以下とすることが好ましい。
０、３１等との接触やバルクロール２１としての巻き取
りに起因するフィルム１１ｂの表面の配向不良を改善す
ることができる。これは、高温高湿の風を吹き付けて、
配向膜形成用樹脂層の表面を適度に結露させることによ
り、配向膜層の表面分子の延伸の痕跡を緩和させること
ができることを意味する。第１送風装置３３の乾球温度
は４０℃以上５０℃以下、相対湿度は４５％以上６０％
以下とし、第２送風装置３４の乾球温度は２５℃以上３
０℃以下、相対湿度は３０％以上４０％以下とすること
がさらに好ましく、第１送風装置３３の乾球温度は４５
℃以上５０℃以下、相対湿度は５０％以上６０％以下と
し、第２送風装置３４の乾球温度は２５℃以上２７℃以
下、相対湿度は３０％以上３５％以下とすることがもっ
とも好ましい。なお、第１送風装置３３による送風開始
時において、フィルム１１ｂの配向膜形成用樹脂層の温
度は２５℃以上３０℃以下とすることが好ましい。
【００１９】フィルム１１ｂの配向不良が比較的少な
く、高温低湿の環境下で製造している場合は、送風装置
３４による乾燥を実施せずにラビング処理工程へ移行し
てもよい。このように、どちらか一方の送風装置のみを
稼働して、常温低湿の送風はせずに高温高湿の風のみを
フィルムに吹き付けることもできる。つまり、フィルム
１１ｂの表面状態や表面温度、環境温度、環境湿度等に
応じて、適切な温度及び湿度、風量、風速等を設定する
とよい。
く、高温低湿の環境下で製造している場合は、送風装置
３４による乾燥を実施せずにラビング処理工程へ移行し
てもよい。このように、どちらか一方の送風装置のみを
稼働して、常温低湿の送風はせずに高温高湿の風のみを
フィルムに吹き付けることもできる。つまり、フィルム
１１ｂの表面状態や表面温度、環境温度、環境湿度等に
応じて、適切な温度及び湿度、風量、風速等を設定する
とよい。
【００２０】本発明の光学補償シートの製造方法におい
て、得られるフィルムの性能評価については、各工程毎
に、適宜その評価方法を選んで実施することができる。
本実施形態においては、検査装置４２を用いてフィルム
１１ｄを検査した。検査装置４２は、主に光源とＣＣＤ
カメラによって構成されており、ＣＣＤをフィルム１１
ｄの配向膜形成層側とし、光源をフィルム１１ｄに関し
てほぼ対象な位置に設置する。検査は、クロスニコルの
偏光板でフィルム１１ｄを挟んだ状態で行い、光源から
光をあて、その光の透過状態をＣＣＤカメラによって連
続的に監視して、透過率が設定基準値以上のものを配向
不良とする。
て、得られるフィルムの性能評価については、各工程毎
に、適宜その評価方法を選んで実施することができる。
本実施形態においては、検査装置４２を用いてフィルム
１１ｄを検査した。検査装置４２は、主に光源とＣＣＤ
カメラによって構成されており、ＣＣＤをフィルム１１
ｄの配向膜形成層側とし、光源をフィルム１１ｄに関し
てほぼ対象な位置に設置する。検査は、クロスニコルの
偏光板でフィルム１１ｄを挟んだ状態で行い、光源から
光をあて、その光の透過状態をＣＣＤカメラによって連
続的に監視して、透過率が設定基準値以上のものを配向
不良とする。
【００２１】本発明の製造方法において、配向膜形成用
樹脂層を付設するための塗布液としては、公知の樹脂の
溶液を用いることができるが、その樹脂としてはイオン
性不純物の少ない、高純度のものを使用することが好ま
しい。光学補償シートに電界をかけると、配向膜主成分
の高分子化合物の配向分極が起こるとともに、液晶内部
や配向膜に含まれているイオン性不純物が分極し、これ
らの分極が外部電界を切ったとしても残留して内部電界
として作用する。したがって、イオン性不純物の含有量
を低減することにより、発生電流を抑制することがで
き、さらに焼き付け等の問題を回避できることもある。
樹脂層を付設するための塗布液としては、公知の樹脂の
溶液を用いることができるが、その樹脂としてはイオン
性不純物の少ない、高純度のものを使用することが好ま
しい。光学補償シートに電界をかけると、配向膜主成分
の高分子化合物の配向分極が起こるとともに、液晶内部
や配向膜に含まれているイオン性不純物が分極し、これ
らの分極が外部電界を切ったとしても残留して内部電界
として作用する。したがって、イオン性不純物の含有量
を低減することにより、発生電流を抑制することがで
き、さらに焼き付け等の問題を回避できることもある。
【００２２】配向膜用樹脂としては、ポリメチルメタク
リレート（ＰＭＭＡ）、アクリル酸／メタクリル酸共重
合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニル
アルコール（ＰＶＡ）、ポリ（Ｎ−メチロールアクリル
アミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロ
スルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化
ビニル（ＰＶＣ）、塩素化ポリオレフィン、各種ポリエ
ステル、ポリイミド（ＰＩ）、酢酸ビニル／塩化ビニル
共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシ
メチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及び
ポリカーボネート（ＰＣ）等を例示することができる。
特に、長鎖アルキル変性ポリビニルアルコールやポリイ
ミド、ポリスチレン、スチレン誘導体高分子、ゼラチン
等が好ましいが、このなかで、ポリイミドの付設に関し
ては、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸の溶液
を塗布液として用い、加熱乾燥させることにより架橋反
応させてポリイミド膜を得る。
リレート（ＰＭＭＡ）、アクリル酸／メタクリル酸共重
合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニル
アルコール（ＰＶＡ）、ポリ（Ｎ−メチロールアクリル
アミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロ
スルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化
ビニル（ＰＶＣ）、塩素化ポリオレフィン、各種ポリエ
ステル、ポリイミド（ＰＩ）、酢酸ビニル／塩化ビニル
共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシ
メチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及び
ポリカーボネート（ＰＣ）等を例示することができる。
特に、長鎖アルキル変性ポリビニルアルコールやポリイ
ミド、ポリスチレン、スチレン誘導体高分子、ゼラチン
等が好ましいが、このなかで、ポリイミドの付設に関し
ては、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸の溶液
を塗布液として用い、加熱乾燥させることにより架橋反
応させてポリイミド膜を得る。
【００２３】本発明の光学補償シートの製造方法におい
て、フィルム１１ａには公知の様々な透明樹脂フィルム
を用いることができるが、光透過率が８０％以上である
もので、フィルム面に対向したときに光学的等方性を有
するもの、つまり、固有複屈折率の小さいものが好まし
い。しかし、固有複屈折率が比較的大きい材料であって
も、そのフィルム化条件及び延伸処理条件等を適宜設定
することにより、フィルム１１ａとして用いることが可
能な場合もある。
て、フィルム１１ａには公知の様々な透明樹脂フィルム
を用いることができるが、光透過率が８０％以上である
もので、フィルム面に対向したときに光学的等方性を有
するもの、つまり、固有複屈折率の小さいものが好まし
い。しかし、固有複屈折率が比較的大きい材料であって
も、そのフィルム化条件及び延伸処理条件等を適宜設定
することにより、フィルム１１ａとして用いることが可
能な場合もある。
【００２４】上記フィルム１１ａとして、例えば、ポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−
２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）、セルロースダイアセ
テート（ＤＡＣ）、セルローストリアセテート（ＴＡ
Ｃ）、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化
ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン、ＰＣ、ＰＩ、
ポリアミド（ＰＡ）、ＰＣ、ポリアリレート、ポリスル
フォン（ＰＳｆ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）
等の公知の各種プラスチックフィルム、ポリエチレン
（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、エチレンブテン共
重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類、
あるいはこれらを積層した各種複合材料が含まれる。こ
の中でも、ＴＡＣが特に好ましい。
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−
２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）、セルロースダイアセ
テート（ＤＡＣ）、セルローストリアセテート（ＴＡ
Ｃ）、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化
ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン、ＰＣ、ＰＩ、
ポリアミド（ＰＡ）、ＰＣ、ポリアリレート、ポリスル
フォン（ＰＳｆ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）
等の公知の各種プラスチックフィルム、ポリエチレン
（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、エチレンブテン共
重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類、
あるいはこれらを積層した各種複合材料が含まれる。こ
の中でも、ＴＡＣが特に好ましい。
【００２５】フィルム１１ａに対し、配向膜形成用樹脂
層を塗布により付設する前に、その付設良好性を図るた
め、つまり、配向膜形成用樹脂層溶液の塗布性を向上さ
せたり、その塗膜とフィルム１１ａとの密着性を向上さ
せるために、フィルム１１ａに対して下引き層を設けて
もよい。下引き層の付与は、下引き層の溶液を塗布、噴
霧したり、あるいはその溶液にフィルム１１ａを浸漬
し、その後乾燥工程を経る等の方法があり、適宜方法を
選択する。下引き層用の塗布液としては、主にゼラチン
溶液やポリビニルアルコール溶液がある。
層を塗布により付設する前に、その付設良好性を図るた
め、つまり、配向膜形成用樹脂層溶液の塗布性を向上さ
せたり、その塗膜とフィルム１１ａとの密着性を向上さ
せるために、フィルム１１ａに対して下引き層を設けて
もよい。下引き層の付与は、下引き層の溶液を塗布、噴
霧したり、あるいはその溶液にフィルム１１ａを浸漬
し、その後乾燥工程を経る等の方法があり、適宜方法を
選択する。下引き層用の塗布液としては、主にゼラチン
溶液やポリビニルアルコール溶液がある。
【００２６】本発明の製造方法において、ラビング処理
の方法としては、公知の一般的な方法を用いることがで
きる。つまり、もっとも一般的な機械的配向処理のほ
か、偏光紫外線の照射による光配向処理を実施すること
が可能である。後者の化学的処理の場合は、ダストや静
電気の発生が少ないので、製品の不良率を下げることが
できるという利点がある。機械的配向処理のラビング処
理に使用するラビング用布としては、ゴム、ナイロン、
ポリエステル等をその繊維素材としたシート状物、紙、
フェルト等がある。配向膜表面とラビング用布との相対
速度は、５０〜１０００ｍ／分が好ましく、１００〜５
００ｍ／分がさらに好ましい。
の方法としては、公知の一般的な方法を用いることがで
きる。つまり、もっとも一般的な機械的配向処理のほ
か、偏光紫外線の照射による光配向処理を実施すること
が可能である。後者の化学的処理の場合は、ダストや静
電気の発生が少ないので、製品の不良率を下げることが
できるという利点がある。機械的配向処理のラビング処
理に使用するラビング用布としては、ゴム、ナイロン、
ポリエステル等をその繊維素材としたシート状物、紙、
フェルト等がある。配向膜表面とラビング用布との相対
速度は、５０〜１０００ｍ／分が好ましく、１００〜５
００ｍ／分がさらに好ましい。
【００２７】本発明の製造方法における液晶化合物とし
ては、公知の種々の光学補償シート用液晶化合物を用い
ることができる。本実施形態においては、ディスコティ
ック液晶化合物の有機溶媒溶液を、配向膜１１ｃの上に
塗布し、乾燥させ、加熱ゾーン３９にてディスコティッ
クネマティック相形成温度にまで加熱し、その後冷却す
ることによって光学異方性層を得た。塗布液には液晶性
化合物のほか、光重合開始剤等、各種の添加剤を適宜加
えた。加熱ゾーン３９における加熱温度は、用いた液晶
化合物の液晶相／固相転移温度に応じて適宜設定する。
ては、公知の種々の光学補償シート用液晶化合物を用い
ることができる。本実施形態においては、ディスコティ
ック液晶化合物の有機溶媒溶液を、配向膜１１ｃの上に
塗布し、乾燥させ、加熱ゾーン３９にてディスコティッ
クネマティック相形成温度にまで加熱し、その後冷却す
ることによって光学異方性層を得た。塗布液には液晶性
化合物のほか、光重合開始剤等、各種の添加剤を適宜加
えた。加熱ゾーン３９における加熱温度は、用いた液晶
化合物の液晶相／固相転移温度に応じて適宜設定する。
【００２８】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２９】〔実施例１〕フィルム１１ａとしてセルロ
ーストリアセテート（商品名；フジタック、富士写真フ
イルム社製）を用い、これに塗布装置１８にて配向膜形
成用樹脂を主成分とする塗布液を塗布した。この塗布液
は、主成分を直鎖アルキル変性ポリビニルアルコール
（商品名；ＭＰ２０３、クラレ（株）社製）とし、溶媒
には水を用いて調製した。配向膜形成用樹脂層を付設し
たフィルム１１ｂを、一旦バルクロール２１としてフィ
ルムロール２１ａに巻き取った。バルクロール２１から
ラビング処理装置３２へ搬送する過程で、フィルム１１
ｂのラビング処理対象面に対し、第１及び第２の送風装
置３３，３４を稼働させて送風を実施した。フィルム１
１ｂの表面温度は２５±１℃であった。第１送風装置３
３からの送風は、乾球温度４５±２℃、相対湿度５０％
以上６０％以下となるように設定した。第１送風装置３
３による送風直後に、第２送風装置３４により、乾球温
度２５±１℃、相対湿度３０％以上３５％以下に設定し
た風をフィルム１１ｂの表面にあて、十分な乾燥を行っ
た。乾燥後のフィルム１１ｂを、ラビング処理した。な
お、ラビング処理におけるラビングローラの回転周速を
８ｍ／秒とし、フィルム１１ｂの張力を幅あたり３００
Ｎとした。
ーストリアセテート（商品名；フジタック、富士写真フ
イルム社製）を用い、これに塗布装置１８にて配向膜形
成用樹脂を主成分とする塗布液を塗布した。この塗布液
は、主成分を直鎖アルキル変性ポリビニルアルコール
（商品名；ＭＰ２０３、クラレ（株）社製）とし、溶媒
には水を用いて調製した。配向膜形成用樹脂層を付設し
たフィルム１１ｂを、一旦バルクロール２１としてフィ
ルムロール２１ａに巻き取った。バルクロール２１から
ラビング処理装置３２へ搬送する過程で、フィルム１１
ｂのラビング処理対象面に対し、第１及び第２の送風装
置３３，３４を稼働させて送風を実施した。フィルム１
１ｂの表面温度は２５±１℃であった。第１送風装置３
３からの送風は、乾球温度４５±２℃、相対湿度５０％
以上６０％以下となるように設定した。第１送風装置３
３による送風直後に、第２送風装置３４により、乾球温
度２５±１℃、相対湿度３０％以上３５％以下に設定し
た風をフィルム１１ｂの表面にあて、十分な乾燥を行っ
た。乾燥後のフィルム１１ｂを、ラビング処理した。な
お、ラビング処理におけるラビングローラの回転周速を
８ｍ／秒とし、フィルム１１ｂの張力を幅あたり３００
Ｎとした。
【００３０】ラビング処理を施したフィルム１１ｃに対
し、塗布装置３６にて塗布を行った。この塗布液には、
ディスコティック化合物の混合物に対して光重合開始剤
（商品名；イルガキュア９０７、日本チバガイギー社
製）を１重量％添加した１０重量％メチルエチルケトン
溶液である、液晶性化合物を含む溶液を用い、湿潤膜厚
４μｍとなるように、２５ｍ／分で搬送させたフィルム
１１ｃに対して塗布した。塗布後のフィルム１１ｄを、
１３０℃に設定した加熱ゾーン３９を通過させ、その表
面の液晶層に紫外線ランプ（６００Ｗ／ｃｍ2 メタルハ
ライドランプ、アイグラフィクス（株）製）を用いて紫
外線を照射して架橋させた。配向膜及び液晶層を形成さ
れたセルローストリアセテートフィルム１１ｄの表面を
検査装置４２にて検査した後、液晶層の上に保護フィル
ム４５をラミネートし、１５００ｍ巻き取った。本実施
例の結果、ガイドロール３０との接触による配向不良、
バルクロール２１としての巻き取りに起因する巻き締ま
りや巻芯との接触及び段差形成による配向不良は認めら
れなかった。
し、塗布装置３６にて塗布を行った。この塗布液には、
ディスコティック化合物の混合物に対して光重合開始剤
（商品名；イルガキュア９０７、日本チバガイギー社
製）を１重量％添加した１０重量％メチルエチルケトン
溶液である、液晶性化合物を含む溶液を用い、湿潤膜厚
４μｍとなるように、２５ｍ／分で搬送させたフィルム
１１ｃに対して塗布した。塗布後のフィルム１１ｄを、
１３０℃に設定した加熱ゾーン３９を通過させ、その表
面の液晶層に紫外線ランプ（６００Ｗ／ｃｍ2 メタルハ
ライドランプ、アイグラフィクス（株）製）を用いて紫
外線を照射して架橋させた。配向膜及び液晶層を形成さ
れたセルローストリアセテートフィルム１１ｄの表面を
検査装置４２にて検査した後、液晶層の上に保護フィル
ム４５をラミネートし、１５００ｍ巻き取った。本実施
例の結果、ガイドロール３０との接触による配向不良、
バルクロール２１としての巻き取りに起因する巻き締ま
りや巻芯との接触及び段差形成による配向不良は認めら
れなかった。
【００３１】〔実施例２〕バルクロール２１から送出し
たフィルム１１ｂに対し、ラビング処理を施す前に、第
１送風装置３３より乾球温度４５±２℃、相対湿度５０
〜６０％に設定した風を吹き付けた。第２送風装置３４
による送風は行わず、そのほかの条件については、実施
例１と同様に実施した。本実施例の結果、ガイドロール
３０との接触による配向不良、バルクロール２１として
の巻き取りに起因する巻き締まりや巻芯との接触及び段
差形成による配向不良は認められなかった。
たフィルム１１ｂに対し、ラビング処理を施す前に、第
１送風装置３３より乾球温度４５±２℃、相対湿度５０
〜６０％に設定した風を吹き付けた。第２送風装置３４
による送風は行わず、そのほかの条件については、実施
例１と同様に実施した。本実施例の結果、ガイドロール
３０との接触による配向不良、バルクロール２１として
の巻き取りに起因する巻き締まりや巻芯との接触及び段
差形成による配向不良は認められなかった。
【００３２】〔実施例３〕配向膜形成用樹脂層を形成さ
れたフィルム１１ｂを、バルクロール２１としては巻き
取らず、連続で、送風工程、ラビング処理工程へ移行さ
せた。送風工程では、第１送風装置３３により，乾球温
度４５±２℃、相対湿度５０％以上６０％以下となるよ
うに設定した風を吹き付けたが、第２送風装置３４によ
る送風は行わなかった。そのほかの条件については、実
施例１と同様に実施した。本実施例の結果、 ガイドロ
ール３０との接触による配向不良は認められなかった。
れたフィルム１１ｂを、バルクロール２１としては巻き
取らず、連続で、送風工程、ラビング処理工程へ移行さ
せた。送風工程では、第１送風装置３３により，乾球温
度４５±２℃、相対湿度５０％以上６０％以下となるよ
うに設定した風を吹き付けたが、第２送風装置３４によ
る送風は行わなかった。そのほかの条件については、実
施例１と同様に実施した。本実施例の結果、 ガイドロ
ール３０との接触による配向不良は認められなかった。
【００３３】〔比較例１〕バルクロール２１としての巻
き取り、及び２台の送風装置３３，３４による送風を実
施せず、そのほかの条件については実施例１と同様に実
施した。つまり、配向膜形成用樹脂層の塗布液を塗布し
て、乾燥ゾーン１９で乾燥した後、ガイドローラ２０，
３０，３１を経て、連続してラビング処理工程へ送っ
た。本実施例の結果、ガイドローラとの接触による配向
不良が、フィルム１１ｅの全長にわたり散発して見られ
た。
き取り、及び２台の送風装置３３，３４による送風を実
施せず、そのほかの条件については実施例１と同様に実
施した。つまり、配向膜形成用樹脂層の塗布液を塗布し
て、乾燥ゾーン１９で乾燥した後、ガイドローラ２０，
３０，３１を経て、連続してラビング処理工程へ送っ
た。本実施例の結果、ガイドローラとの接触による配向
不良が、フィルム１１ｅの全長にわたり散発して見られ
た。
【００３４】〔比較例２〕第１及び第２の送風装置３
３，３４による送風を実施しなかったほかは実施例１と
同様に実施した。本実施例の結果、ガイドローラとの接
触による配向不良が、フィルム１１ｅの全量にわたり散
発して見られた。また、バルクロール２１における巻き
はじめ端から２００ｍ〜７００ｍあたりで、巻き締まり
による配向不良が高頻度で認められた。さらに、バルク
ロール２１における巻きはじめの段差の影響による配向
不良が巻きはじめ端より３０ｍほどの範囲でみられたと
ともに、巻芯との接触面における配向不良も認められ
た。
３，３４による送風を実施しなかったほかは実施例１と
同様に実施した。本実施例の結果、ガイドローラとの接
触による配向不良が、フィルム１１ｅの全量にわたり散
発して見られた。また、バルクロール２１における巻き
はじめ端から２００ｍ〜７００ｍあたりで、巻き締まり
による配向不良が高頻度で認められた。さらに、バルク
ロール２１における巻きはじめの段差の影響による配向
不良が巻きはじめ端より３０ｍほどの範囲でみられたと
ともに、巻芯との接触面における配向不良も認められ
た。
【００３５】
【発明の効果】以上のように、本発明の光学補償シート
の製造方法により、ガイドローラ等での搬送による配向
膜表面の配向不良の発現や、配向膜を付与したフィルム
の巻き取りによる配向膜へのダメージを改善してラビン
グ処理を実施することが可能になり、結果として、良好
な光学補償シートを高い生産得率で製造することができ
る。
の製造方法により、ガイドローラ等での搬送による配向
膜表面の配向不良の発現や、配向膜を付与したフィルム
の巻き取りによる配向膜へのダメージを改善してラビン
グ処理を実施することが可能になり、結果として、良好
な光学補償シートを高い生産得率で製造することができ
る。
【図１】本発明の実施形態である光学補償シートの製造
方法の工程図である。
方法の工程図である。
【図２】本発明を実施したラビング処理前の送風工程の
斜視図である。
斜視図である。
１１ａ フィルム
１１ｂ 配向膜形成用樹脂層付与フィルム
１１ｃ 配向膜付与フィルム
１１ｄ 液晶層付与フィルム
１１ｅ ラミネート付与フィルム
２０ ガイドローラ
２１ａ フィルムロール
３３ 第１送風装置
３４ 第２送風装置
３２ ラビング処理装置
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H049 BA06 BA42 BB49 BC04 BC05
BC09 BC22
2H091 FA11 FC01 FC21 FC22 LA12
LA16
4F209 AC03 AG01 AH33 PA01 PB02
PH02 PH06 PH10 PW37
Claims (5)
- 【請求項１】 配向膜形成用樹脂層を表面に有する長尺
状のフィルムにラビング処理を施して液晶化合物溶液を
塗布する光学補償シートの製造方法において、 前記配向膜形成用樹脂層表面に対し、前記ラビング処理
工程への搬送過程で３０℃以上６０℃以下、相対湿度５
５％以上８０％以下の風を吹き付けることを特徴とする
製造方法。 - 【請求項２】 前記配向膜形成用樹脂層を形成した前記
フィルムを巻き取り、この巻き取ったフィルムロールか
ら前記フィルムを送出して前記ラビング処理工程への搬
送過程で前記送風を行うことを特徴とする請求項１記載
の製造方法。 - 【請求項３】 前記配向膜形成用樹脂層に対し前記送風
を行った後で、かつ、前記ラビング処理の前に、相対湿
度３０％以上５０％以下の風を吹き付けることを特徴と
する請求項１または２記載の製造方法。 - 【請求項４】 配向膜形成用樹脂層を表面に有する長尺
状のフィルムにラビング装置によりラビング処理を施し
て液晶化合物溶液を塗布する光学補償シートの製造装置
において、 前記ラビング装置へのフィルム搬送経路に設けられ、前
記配向膜形成用樹脂層にに対して３０℃以上６０℃以下
で、相対湿度が５５％以上８０％以下の風を送る第１送
風装置を有することを特徴とする光学補償シートの製造
装置。 - 【請求項５】 前記第１送風装置に対してフィルム搬送
方向の下流側に、相対湿度３０％以上５０％以下の風を
送る第２送風装置を有することを特徴とする請求項４記
載の光学補償シートの製造装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002137667A JP4052558B2 (ja) | 2002-05-13 | 2002-05-13 | 光学補償シートの製造方法及び装置 |
| US10/434,179 US7208194B2 (en) | 2002-05-13 | 2003-05-09 | Method and machine for producing optical compensation sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002137667A JP4052558B2 (ja) | 2002-05-13 | 2002-05-13 | 光学補償シートの製造方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003329833A true JP2003329833A (ja) | 2003-11-19 |
| JP4052558B2 JP4052558B2 (ja) | 2008-02-27 |
Family
ID=29416818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002137667A Expired - Fee Related JP4052558B2 (ja) | 2002-05-13 | 2002-05-13 | 光学補償シートの製造方法及び装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7208194B2 (ja) |
| JP (1) | JP4052558B2 (ja) |
Cited By (3)
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| US7372532B2 (en) | 2004-03-26 | 2008-05-13 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing optical compensation sheet comprising coating liquid crystal layer wider than oriented layer |
| JPWO2014041941A1 (ja) * | 2012-09-14 | 2016-08-18 | 株式会社ニコン | 基板処理装置及びデバイス製造方法 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| DE10325140B4 (de) * | 2003-06-04 | 2014-12-31 | Lts Lohmann Therapie-Systeme Ag | Direktbeschichtungsverfahren und dafür geeignete Vorrichtung |
| US8989523B2 (en) | 2004-01-22 | 2015-03-24 | Vescent Photonics, Inc. | Liquid crystal waveguide for dynamically controlling polarized light |
| US8463080B1 (en) * | 2004-01-22 | 2013-06-11 | Vescent Photonics, Inc. | Liquid crystal waveguide having two or more control voltages for controlling polarized light |
| US8860897B1 (en) * | 2004-01-22 | 2014-10-14 | Vescent Photonics, Inc. | Liquid crystal waveguide having electric field orientated for controlling light |
| JP3923062B2 (ja) * | 2004-08-02 | 2007-05-30 | 日東電工株式会社 | 液晶配向フィルムの製造方法、液晶配向フィルム、光学フィルムおよび画像表示装置 |
| JP4764350B2 (ja) * | 2004-10-08 | 2011-08-31 | ダイセル化学工業株式会社 | 偏光膜用保護フィルム及び偏光性積層体 |
| US9366938B1 (en) | 2009-02-17 | 2016-06-14 | Vescent Photonics, Inc. | Electro-optic beam deflector device |
| US8995038B1 (en) | 2010-07-06 | 2015-03-31 | Vescent Photonics, Inc. | Optical time delay control device |
| JP7039702B2 (ja) | 2018-07-02 | 2022-03-22 | 富士フイルム株式会社 | 加飾フィルム、加飾方法、加飾成型体の製造方法、及び、加飾成型フィルム |
| JP7066042B2 (ja) | 2019-02-27 | 2022-05-12 | 富士フイルム株式会社 | 積層体 |
| TW202109086A (zh) | 2019-06-27 | 2021-03-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 成形用裝飾膜、成形物以及顯示器 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03219237A (ja) * | 1990-01-25 | 1991-09-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラー感光材料の製造方法 |
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-
2002
- 2002-05-13 JP JP2002137667A patent/JP4052558B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-05-09 US US10/434,179 patent/US7208194B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US7208194B2 (en) | 2007-04-24 |
| US20030214059A1 (en) | 2003-11-20 |
| JP4052558B2 (ja) | 2008-02-27 |
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Legal Events
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| A977 | Report on retrieval |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101214 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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