|
JP2005079203A
(ja)
|
2003-08-28 |
2005-03-24 |
Canon Inc |
電界効果型トランジスタおよびその製造方法
|
|
JP2005150156A
(ja)
*
|
2003-11-11 |
2005-06-09 |
Toshiba Corp |
磁気記憶装置
|
|
WO2005086254A1
(en)
|
2004-03-10 |
2005-09-15 |
Canon Kabushiki Kaisha |
Field effect transistor, method of producing the same, and method of producing laminated member
|
|
JP4401826B2
(ja)
|
2004-03-10 |
2010-01-20 |
キヤノン株式会社 |
電界効果型トランジスタおよびその製造方法
|
|
JP4401836B2
(ja)
|
2004-03-24 |
2010-01-20 |
キヤノン株式会社 |
電界効果型トランジスタおよびその製造方法
|
|
JP2005322895A
(ja)
*
|
2004-04-09 |
2005-11-17 |
Mitsubishi Chemicals Corp |
有機電子デバイスの製造方法及び有機電子デバイス
|
|
JP2006165533A
(ja)
*
|
2004-11-11 |
2006-06-22 |
Mitsubishi Chemicals Corp |
電界効果トランジスタ
|
|
EP1811573A4
(en)
|
2004-11-11 |
2010-03-24 |
Mitsubishi Chem Corp |
Field effect transistor
|
|
JP2006303423A
(ja)
*
|
2005-03-25 |
2006-11-02 |
Mitsubishi Chemicals Corp |
電界効果トランジスタ
|
|
JP4696700B2
(ja)
*
|
2005-06-06 |
2011-06-08 |
三菱化学株式会社 |
有機半導体薄膜の製造方法、有機電子デバイスの製造方法及び有機電界効果トランジスタの製造方法
|
|
US7435989B2
(en)
|
2005-09-06 |
2008-10-14 |
Canon Kabushiki Kaisha |
Semiconductor device with layer containing polysiloxane compound
|
|
US7695999B2
(en)
*
|
2005-09-06 |
2010-04-13 |
Canon Kabushiki Kaisha |
Production method of semiconductor device
|
|
EP1970948A4
(en)
*
|
2006-01-06 |
2009-08-26 |
Fuji Electric Holdings |
THIN FILM FIELD EFFECT TRANSISTOR AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
|
|
JP5044226B2
(ja)
*
|
2006-01-27 |
2012-10-10 |
国立大学法人愛媛大学 |
ビシクロポルフィリン化合物、ビシクロピロール化合物、化合物の製造方法、有機半導体及びその製造方法
|
|
JP5243714B2
(ja)
*
|
2006-11-29 |
2013-07-24 |
三菱化学株式会社 |
有機光電変換素子の製造方法及び有機光電変換素子
|
|
JP2007324587A
(ja)
*
|
2006-05-02 |
2007-12-13 |
Mitsubishi Chemicals Corp |
有機光電変換素子の製造方法
|
|
KR101165656B1
(ko)
*
|
2006-05-02 |
2012-07-16 |
미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 |
유기 광전 변환 소자의 제조 방법 및 유기 광전 변환 소자
|
|
JP2008016834A
(ja)
*
|
2006-06-09 |
2008-01-24 |
Mitsubishi Chemicals Corp |
有機光電変換素子の製造方法及び有機光電変換素子
|
|
WO2009011204A1
(ja)
|
2007-07-18 |
2009-01-22 |
Konica Minolta Holdings, Inc. |
有機薄膜トランジスタの製造方法、及び有機薄膜トランジスタ
|
|
CN101855740A
(zh)
|
2007-09-12 |
2010-10-06 |
富士胶片株式会社 |
制造脱取代的化合物的方法、有机半导体膜和其制造方法
|
|
JP2009105336A
(ja)
*
|
2007-10-25 |
2009-05-14 |
Mitsubishi Chemicals Corp |
膜の製造方法、有機電子素子の製造方法及びナフタロシアニン膜
|
|
CN102067726B
(zh)
|
2008-06-16 |
2014-06-04 |
东丽株式会社 |
图案形成方法及使用其的装置的制造方法以及装置
|
|
EP2309823A4
(en)
|
2008-08-05 |
2012-08-08 |
Toray Industries |
METHOD OF MANUFACTURING THE DEVICE
|
|
JP5531243B2
(ja)
*
|
2009-01-23 |
2014-06-25 |
三菱化学株式会社 |
半導体デバイスの製造方法及び太陽電池
|
|
EP2418684A4
(en)
|
2009-04-10 |
2016-12-14 |
Mitsubishi Chem Corp |
FIELD EFFECT TRANSISTOR, METHOD FOR ITS MANUFACTURE AND ELECTRONIC DEVICE THEREFOR
|
|
JP2011074161A
(ja)
*
|
2009-09-29 |
2011-04-14 |
Mitsubishi Chemicals Corp |
ジアザポルフィリン化合物又はその塩、半導体材料、膜、電子デバイス、電界効果トランジスタ、及び光電変換素子
|
|
EP2509396A1
(en)
|
2009-12-03 |
2012-10-10 |
Toray Industries, Inc. |
Donor substrate, patterning method, and method for producing device
|
|
KR101266828B1
(ko)
|
2010-03-31 |
2013-05-27 |
도레이 카부시키가이샤 |
전사용 도너 기판, 디바이스의 제조 방법 및 유기 el 소자
|
|
JP2012231149A
(ja)
*
|
2012-06-05 |
2012-11-22 |
Mitsubishi Chemicals Corp |
有機光電変換素子の製造方法及び有機光電変換素子
|
|
KR20150143548A
(ko)
|
2013-04-12 |
2015-12-23 |
가부시키가이샤 셀모 엔터테인먼트 재팬 |
광전 변환 소자, 축방전 기능을 갖는 광전 변환 소자 및 2차전지
|
|
JP6455008B2
(ja)
|
2013-08-29 |
2019-01-23 |
日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 |
ゲート絶縁膜、有機薄膜トランジスタ、及び有機薄膜トランジスタの製造方法
|
|
JP6455007B2
(ja)
|
2013-08-29 |
2019-01-23 |
日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 |
ゲート絶縁膜、有機薄膜トランジスタ、及び有機薄膜トランジスタの製造方法
|
|
EP3750863B1
(en)
|
2016-08-03 |
2022-07-06 |
NGK Insulators, Ltd. |
Reaction product preparation method
|
|
CN113659076A
(zh)
*
|
2021-07-27 |
2021-11-16 |
光华临港工程应用技术研发(上海)有限公司 |
畴壁存储器的制备方法以及畴壁存储器
|