JP2003303781A - 縦型熱処理装置 - Google Patents
縦型熱処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ヒータエレメントの交換等のメンテナンス作
業を容易にし、メンテナンス性の向上を図る。 【解決手段】 多数の被処理体ｗを収容して熱処理する
ための処理容器４と、該処理容器４の周囲を覆う筒状の
ヒータ６と、該ヒータ６を設置するヒータ設置部７と、
前記ヒータ６を一側からメンテナンス可能に収容した筐
体１１とを備え、前記ヒータ６は複数のヒータエレメン
ト３１を個々に交換可能に有し、前記ヒータ設置部７に
はヒータ６を回転可能に支持する回転支持機構４０が設
けられている。
業を容易にし、メンテナンス性の向上を図る。 【解決手段】 多数の被処理体ｗを収容して熱処理する
ための処理容器４と、該処理容器４の周囲を覆う筒状の
ヒータ６と、該ヒータ６を設置するヒータ設置部７と、
前記ヒータ６を一側からメンテナンス可能に収容した筐
体１１とを備え、前記ヒータ６は複数のヒータエレメン
ト３１を個々に交換可能に有し、前記ヒータ設置部７に
はヒータ６を回転可能に支持する回転支持機構４０が設
けられている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、縦型熱処理装置に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造においては、被処理体
例えば半導体ウエハに例えば酸化、拡散、ＣＶＤ、アニ
ール等の各種の熱処理を施す工程があり、これらの工程
を実行するための熱処理装置の一つとして多数枚のウエ
ハを一度に熱処理することが可能な縦型熱処理装置が用
いられている。
例えば半導体ウエハに例えば酸化、拡散、ＣＶＤ、アニ
ール等の各種の熱処理を施す工程があり、これらの工程
を実行するための熱処理装置の一つとして多数枚のウエ
ハを一度に熱処理することが可能な縦型熱処理装置が用
いられている。
【０００３】この縦型熱処理装置においては、複数枚の
ウエハを収容して熱処理するための処理容器を備えてい
ると共に、この処理容器の周囲を覆う筒状のヒータが設
置されている。従来のヒータは、筒状の断熱材の内周に
ヒータエレメントを設けて構成されていた。
ウエハを収容して熱処理するための処理容器を備えてい
ると共に、この処理容器の周囲を覆う筒状のヒータが設
置されている。従来のヒータは、筒状の断熱材の内周に
ヒータエレメントを設けて構成されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記縦
型熱処理装置においては、ヒータエレメントと断熱材と
が一体に形成されているため、ヒータエレメントの劣化
または断線等の故障が発生した場合、ヒータエレメント
のみの交換ができず、ヒータ全体を交換しなければなら
ないという問題があった。一方、ヒータとしては、複数
のヒータエレメントを個々に交換可能に備えたものも提
案されているが、通常、縦型熱処理装置においては、ヒ
ータを収容した筐体の一側からメンテナンスを行うよう
になっている構造上、筐体内の他側（反対側）に位置す
るヒータエレメントの交換や保守等のメンテナンス作業
を行う場合、作業性すなわちメンテナンス性が非常に悪
いという問題があった。
型熱処理装置においては、ヒータエレメントと断熱材と
が一体に形成されているため、ヒータエレメントの劣化
または断線等の故障が発生した場合、ヒータエレメント
のみの交換ができず、ヒータ全体を交換しなければなら
ないという問題があった。一方、ヒータとしては、複数
のヒータエレメントを個々に交換可能に備えたものも提
案されているが、通常、縦型熱処理装置においては、ヒ
ータを収容した筐体の一側からメンテナンスを行うよう
になっている構造上、筐体内の他側（反対側）に位置す
るヒータエレメントの交換や保守等のメンテナンス作業
を行う場合、作業性すなわちメンテナンス性が非常に悪
いという問題があった。
【０００５】本発明は、前記事情を考慮してなされたも
ので、ヒータエレメントの交換等のメンテナンス作業が
容易にでき、メンテナンス性の向上が図れる縦型熱処理
装置を提供することを目的とする。
ので、ヒータエレメントの交換等のメンテナンス作業が
容易にでき、メンテナンス性の向上が図れる縦型熱処理
装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のうち、請求項１
の発明は、多数の被処理体を収容して熱処理するための
処理容器と、該処理容器の周囲を覆う筒状のヒータと、
該ヒータを設置するヒータ設置部と、前記ヒータを一側
からメンテナンス可能に収容した筐体とを備え、前記ヒ
ータは複数のヒータエレメントを個々に交換可能に有
し、前記ヒータ設置部にはヒータを回転可能に支持する
回転支持機構が設けられていることを特徴とする。
の発明は、多数の被処理体を収容して熱処理するための
処理容器と、該処理容器の周囲を覆う筒状のヒータと、
該ヒータを設置するヒータ設置部と、前記ヒータを一側
からメンテナンス可能に収容した筐体とを備え、前記ヒ
ータは複数のヒータエレメントを個々に交換可能に有
し、前記ヒータ設置部にはヒータを回転可能に支持する
回転支持機構が設けられていることを特徴とする。
【０００７】請求項２の発明は、請求項１記載の縦型熱
処理装置において、前記ヒータが水冷構造の筒状の覆い
体の内周に複数のヒータエレメントを配し、各ヒータエ
レメントの端子部が覆い体を貫通して外周に突出し、コ
ネクタに接続されていることを特徴とする。
処理装置において、前記ヒータが水冷構造の筒状の覆い
体の内周に複数のヒータエレメントを配し、各ヒータエ
レメントの端子部が覆い体を貫通して外周に突出し、コ
ネクタに接続されていることを特徴とする。
【０００８】請求項３の発明は、請求項１記載の縦型熱
処理装置において、前記回転支持機構がヒータの底部を
持ち上げ下げする複数のネジ式ジャッキ部材と、各ジャ
ッキ部材の上部に回転可能に設けられヒータの底部を回
転可能に支持する球体とから構成されていることを特徴
とする。
処理装置において、前記回転支持機構がヒータの底部を
持ち上げ下げする複数のネジ式ジャッキ部材と、各ジャ
ッキ部材の上部に回転可能に設けられヒータの底部を回
転可能に支持する球体とから構成されていることを特徴
とする。
【０００９】請求項４の発明は、請求項３記載の縦型熱
処理装置において、前記ジャッキ部材は同一円周上に配
置され、ヒータの底部には前記ジャッキ部材の球体が係
合する環状のガイド溝が設けられていることを特徴とす
る。
処理装置において、前記ジャッキ部材は同一円周上に配
置され、ヒータの底部には前記ジャッキ部材の球体が係
合する環状のガイド溝が設けられていることを特徴とす
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を添
付図面に基いて詳述する。図１は本発明の実施の形態を
示す縦型熱処理装置の縦断面図、図２は回転支持機構の
構成を示す概略的断面図、図３はジャッキ部材の構成を
示す拡大断面図、図４はジャッキ部材の底面図である。
なお、図２において、左半分はヒータの固定状態を、右
半分は、ヒータをジャッキアップした状態を示してい
る。
付図面に基いて詳述する。図１は本発明の実施の形態を
示す縦型熱処理装置の縦断面図、図２は回転支持機構の
構成を示す概略的断面図、図３はジャッキ部材の構成を
示す拡大断面図、図４はジャッキ部材の底面図である。
なお、図２において、左半分はヒータの固定状態を、右
半分は、ヒータをジャッキアップした状態を示してい
る。
【００１１】図１において、１は縦型熱処理装置で、こ
の縦型熱処理装置１は外郭を形成する筐体１１を有し、
この筐体１１内の上方に被処理体例えば半導体ウエハｗ
を収容して所定の処理例えば酸化処理を施すための縦型
の熱処理炉２が設けられている。この熱処理炉２は、下
部が炉口３として開口された縦長の処理容器例えば石英
製の反応管４と、この反応管４の炉口３を開閉する昇降
可能な蓋体５と、前記反応管４の周囲を覆うように設け
られ、反応管（炉）４内を所定の温度例えば３００〜１
２００℃に加熱制御可能なヒータ６とから主に構成され
ている。
の縦型熱処理装置１は外郭を形成する筐体１１を有し、
この筐体１１内の上方に被処理体例えば半導体ウエハｗ
を収容して所定の処理例えば酸化処理を施すための縦型
の熱処理炉２が設けられている。この熱処理炉２は、下
部が炉口３として開口された縦長の処理容器例えば石英
製の反応管４と、この反応管４の炉口３を開閉する昇降
可能な蓋体５と、前記反応管４の周囲を覆うように設け
られ、反応管（炉）４内を所定の温度例えば３００〜１
２００℃に加熱制御可能なヒータ６とから主に構成され
ている。
【００１２】前記筐体１１内には、図２にも示すよう
に、熱処理炉２を構成する反応管４やヒータ６を設置す
るための例えばＳＵＳ製のベースプレート（ヒータ設置
部）７が架台２９介して水平に設けられている。ベース
プレート７には反応管４を下方から上方に挿入するため
の開口部８ａが形成されている。前記ヒータ６は筐体１
１内に一側からメンテナンス可能に収容されている。筐
体１１の一側にはヒータ６のメンテナンスを行うための
メンテナンス口１１ａが設けられ、このメンテナンス口
１１ａは通常時は図示しない蓋で閉塞されている。
に、熱処理炉２を構成する反応管４やヒータ６を設置す
るための例えばＳＵＳ製のベースプレート（ヒータ設置
部）７が架台２９介して水平に設けられている。ベース
プレート７には反応管４を下方から上方に挿入するため
の開口部８ａが形成されている。前記ヒータ６は筐体１
１内に一側からメンテナンス可能に収容されている。筐
体１１の一側にはヒータ６のメンテナンスを行うための
メンテナンス口１１ａが設けられ、このメンテナンス口
１１ａは通常時は図示しない蓋で閉塞されている。
【００１３】反応管４は、例えば石英製であり、図示例
（実施例）では一重管からなっている。この反応管４の
下端部には外向きのフランジ部４ａが形成され、このフ
ランジ部４ａをフランジ保持部材８にてベースプレート
７の下部に保持することにより、反応管４がベースプレ
ート７の開口部７ａを下方から上方に挿通された状態に
設置されている。反応管４は、洗浄等のためにベースプ
レート７から下方に取り外せるようになっている。
（実施例）では一重管からなっている。この反応管４の
下端部には外向きのフランジ部４ａが形成され、このフ
ランジ部４ａをフランジ保持部材８にてベースプレート
７の下部に保持することにより、反応管４がベースプレ
ート７の開口部７ａを下方から上方に挿通された状態に
設置されている。反応管４は、洗浄等のためにベースプ
レート７から下方に取り外せるようになっている。
【００１４】反応管４のフランジ部４ａには反応管４内
に処理ガスやパージ用の不活性ガスを導入する複数のガ
ス導入管９が設けられ、これらガス導入管９にはガス供
給系の配管が接続されている。また、反応管４の頂部は
漸次縮径され、この頂部にはＬ字形の排気口１０が形成
されており、この排気口１０には反応管４内を減圧制御
可能な真空ポンプや圧力制御弁等を有する排気系の配管
が接続されている（図示省略）。
に処理ガスやパージ用の不活性ガスを導入する複数のガ
ス導入管９が設けられ、これらガス導入管９にはガス供
給系の配管が接続されている。また、反応管４の頂部は
漸次縮径され、この頂部にはＬ字形の排気口１０が形成
されており、この排気口１０には反応管４内を減圧制御
可能な真空ポンプや圧力制御弁等を有する排気系の配管
が接続されている（図示省略）。
【００１５】前記筐体１１内におけるベースプレート７
より下方には、蓋体５上に設けられた熱処理用ボート１
６を熱処理炉（すなわち反応管４）２内に搬入（ロー
ド）したり、熱処理炉２から搬出（アンロード）した
り、或いはボート１６に対するウエハｗの移載を行うた
めの作業領域（ローディングエリア）１２が設けられて
いる。この作業領域１２にはボート１６の搬入、搬出を
行うべく蓋体５を昇降させるための昇降機構１３が設け
られている。
より下方には、蓋体５上に設けられた熱処理用ボート１
６を熱処理炉（すなわち反応管４）２内に搬入（ロー
ド）したり、熱処理炉２から搬出（アンロード）した
り、或いはボート１６に対するウエハｗの移載を行うた
めの作業領域（ローディングエリア）１２が設けられて
いる。この作業領域１２にはボート１６の搬入、搬出を
行うべく蓋体５を昇降させるための昇降機構１３が設け
られている。
【００１６】前記蓋体５は、例えばＳＵＳ製であり、複
数の緩衝機構例えばバネ１４を介して保持板１５上に保
持されており、この保持板１５が前記昇降機構１３に連
結されている。蓋体５は炉口３の開口端に当接して炉口
３を密閉するように構成されている。蓋体５の下部中央
部にはボート１６を回転するためのボート回転機構２０
が設けられている。
数の緩衝機構例えばバネ１４を介して保持板１５上に保
持されており、この保持板１５が前記昇降機構１３に連
結されている。蓋体５は炉口３の開口端に当接して炉口
３を密閉するように構成されている。蓋体５の下部中央
部にはボート１６を回転するためのボート回転機構２０
が設けられている。
【００１７】前記ボート１６は、例えば石英製であり、
大口径例えば直径３００ｍｍの多数例えば７５〜１００
枚程度のウエハｗを水平状態で上下方向に間隔をおいて
多段に支持するボート本体１７と、このボート本体１７
をウエハの周方向に回転させるための回転機構２０の回
転軸に連結される一本足の脚部１８とを備え、これらボ
ート本体１７と脚部１８が一体に形成されている。前記
脚部１８にはフランジ部１９が形成され、このフランジ
部１９が回転機構２０の回転軸部にネジで締結されてい
る。
大口径例えば直径３００ｍｍの多数例えば７５〜１００
枚程度のウエハｗを水平状態で上下方向に間隔をおいて
多段に支持するボート本体１７と、このボート本体１７
をウエハの周方向に回転させるための回転機構２０の回
転軸に連結される一本足の脚部１８とを備え、これらボ
ート本体１７と脚部１８が一体に形成されている。前記
脚部１８にはフランジ部１９が形成され、このフランジ
部１９が回転機構２０の回転軸部にネジで締結されてい
る。
【００１８】前記蓋体５上には炉口保温手段である炉口
加熱機構２１が固定されている。この炉口加熱機構２１
は、蓋体５の上面を覆うように載置される環状の覆い板
２２と、この覆い板２２上に周方向に適宜間隔で立設さ
れた複数の支柱２３と、これら支柱２３の上端部に水平
に掛け渡した設けられた面状の発熱抵抗体２４と、この
発熱抵抗体２４の下方に適宜間隔で支柱２３に掛け渡し
て設けられた複数例えば２枚の遮熱板２５とから主に構
成されている。
加熱機構２１が固定されている。この炉口加熱機構２１
は、蓋体５の上面を覆うように載置される環状の覆い板
２２と、この覆い板２２上に周方向に適宜間隔で立設さ
れた複数の支柱２３と、これら支柱２３の上端部に水平
に掛け渡した設けられた面状の発熱抵抗体２４と、この
発熱抵抗体２４の下方に適宜間隔で支柱２３に掛け渡し
て設けられた複数例えば２枚の遮熱板２５とから主に構
成されている。
【００１９】前記覆い板２２、支柱２３及び遮熱板２５
は、例えば石英製であり、覆い板２２により蓋体５上面
が腐食性を有する処理ガスから保護されている。前記発
熱抵抗体２４及び遮熱板２５にはボート１６のフランジ
部１９を含む脚部１８が貫通する貫通穴２６が設けられ
ている。また、前記発熱抵抗体２４に電気を供給するケ
ーブルを導通するための導通管２７が保持板１５から蓋
体５を気密に貫通した状態で設けられている。前記覆い
板２２上には、前記フランジ部１９の周囲及び上方を覆
う環状の遮熱カバー２８が図示例で二重に設けられてい
る。これら遮熱カバー２８は、例えば石英製であり、着
脱が容易にできるよう半割に形成されている。
は、例えば石英製であり、覆い板２２により蓋体５上面
が腐食性を有する処理ガスから保護されている。前記発
熱抵抗体２４及び遮熱板２５にはボート１６のフランジ
部１９を含む脚部１８が貫通する貫通穴２６が設けられ
ている。また、前記発熱抵抗体２４に電気を供給するケ
ーブルを導通するための導通管２７が保持板１５から蓋
体５を気密に貫通した状態で設けられている。前記覆い
板２２上には、前記フランジ部１９の周囲及び上方を覆
う環状の遮熱カバー２８が図示例で二重に設けられてい
る。これら遮熱カバー２８は、例えば石英製であり、着
脱が容易にできるよう半割に形成されている。
【００２０】一方、前記ヒータ６は、水冷構造の筒状好
ましくは円筒状の覆い体３０と、この覆い体３０の内周
に個々に交換可能に設けられた複数のヒータエレメント
３１とから主に構成されている。覆い体３０は、下端部
に環状の底板部３０ａを、且つ上端部に環状の天板部３
０ｂを一体的に有している。この天板部３０ｂの中央の
開口部３２から反応管４の排気口１０が突出されてい
る。覆い体３０は、例えばＳＵＳ製であることが好まし
い。覆い体３０には冷却水を流通させるための通水路３
３が例えば螺旋状等に設けられている。
ましくは円筒状の覆い体３０と、この覆い体３０の内周
に個々に交換可能に設けられた複数のヒータエレメント
３１とから主に構成されている。覆い体３０は、下端部
に環状の底板部３０ａを、且つ上端部に環状の天板部３
０ｂを一体的に有している。この天板部３０ｂの中央の
開口部３２から反応管４の排気口１０が突出されてい
る。覆い体３０は、例えばＳＵＳ製であることが好まし
い。覆い体３０には冷却水を流通させるための通水路３
３が例えば螺旋状等に設けられている。
【００２１】ヒータエレメント３１は、例えば抵抗発熱
体であるカーボンファイバ束を縦長形状に編み込み、こ
れを石英管内に封入してなるカーボンヒータからなり、
両端に端子部３４を有している。ヒータエレメント３１
として、覆い体３０の内周における上下方向に沿って設
けられるメインヒータエレメント３１ａと、覆い体３０
の内周における上部に設けられる上部ヒータエレメント
３１ｂと、覆い体３０の内周における下部に設けられる
下部ヒータエレメント３１ｃと、天板部３０ｂの開口部
３２に設けられる頂部ヒータエレメント３１ｄとが用い
られている。上部ヒータエレメント３１ｂは蛇行状に形
成されており、下部ヒータエレメント３１ｃ及び頂部ヒ
ータエレメント３１ｄは螺旋状に形成されている。
体であるカーボンファイバ束を縦長形状に編み込み、こ
れを石英管内に封入してなるカーボンヒータからなり、
両端に端子部３４を有している。ヒータエレメント３１
として、覆い体３０の内周における上下方向に沿って設
けられるメインヒータエレメント３１ａと、覆い体３０
の内周における上部に設けられる上部ヒータエレメント
３１ｂと、覆い体３０の内周における下部に設けられる
下部ヒータエレメント３１ｃと、天板部３０ｂの開口部
３２に設けられる頂部ヒータエレメント３１ｄとが用い
られている。上部ヒータエレメント３１ｂは蛇行状に形
成されており、下部ヒータエレメント３１ｃ及び頂部ヒ
ータエレメント３１ｄは螺旋状に形成されている。
【００２２】各ヒータエレメント３１は覆い体３０の内
周に配設され、各ヒータエレメント３１の端子部３４が
覆い体３０を半径方向に貫通して外周に突出し、コネク
タ３５に接続されている。前記覆い体３０の外周部にお
ける上部と下部とには環状の鍔状部材３６が設けられ、
この鍔状部材３６に端子部３４を接続するためのコネク
タ３５が取付けられていると共に、端子部３４の途中部
分を支持固定するための固定金具３７が取付けられてい
る。コネクタ３５はケーブル３８を介して電力供給部に
電気的に接続されている。
周に配設され、各ヒータエレメント３１の端子部３４が
覆い体３０を半径方向に貫通して外周に突出し、コネク
タ３５に接続されている。前記覆い体３０の外周部にお
ける上部と下部とには環状の鍔状部材３６が設けられ、
この鍔状部材３６に端子部３４を接続するためのコネク
タ３５が取付けられていると共に、端子部３４の途中部
分を支持固定するための固定金具３７が取付けられてい
る。コネクタ３５はケーブル３８を介して電力供給部に
電気的に接続されている。
【００２３】筐体１１内の他側に位置するヒータエレメ
ント３１の交換等のメンテナンス作業を行う場合にメン
テナンス箇所が筐体１１内の一側（メンテナンス口１１
ａ側）に来るようにヒータ６を回転させてメンテナンス
作業を容易にするために、ヒータ設置部であるベースプ
レート７には、ヒータ６を回転可能に支持する回転支持
機構４０が設けられている。この回転支持機構４０は、
ヒータ６の底部（底板部３０ａの下面）を持ち上げ下げ
する複数例えば４個のネジ式ジャッキ部材４１と、各ジ
ャッキ部材４１の上部に回転可能に設けられヒータ６の
底部を回転可能に支持する球体４２とから構成されてい
る。
ント３１の交換等のメンテナンス作業を行う場合にメン
テナンス箇所が筐体１１内の一側（メンテナンス口１１
ａ側）に来るようにヒータ６を回転させてメンテナンス
作業を容易にするために、ヒータ設置部であるベースプ
レート７には、ヒータ６を回転可能に支持する回転支持
機構４０が設けられている。この回転支持機構４０は、
ヒータ６の底部（底板部３０ａの下面）を持ち上げ下げ
する複数例えば４個のネジ式ジャッキ部材４１と、各ジ
ャッキ部材４１の上部に回転可能に設けられヒータ６の
底部を回転可能に支持する球体４２とから構成されてい
る。
【００２４】ジャッキ部材４１は、図３ないし図４に示
すように下端部に回転工具が係合される例えば六角の係
合部４３ａを有するネジ棒部４３と、このネジ棒部４３
を上下方向に移動可能に螺合したブラケット部４４と、
ネジ棒部４３の上端部に球体支持部（ベアリング）４５
を介して回転可能に設けられた球体４２とから主に構成
されており、ブラケット部４４がベースプレート７の下
面に複数例えば３個のネジ４６で着脱可能に取付られて
いる。前記ジャッキ部材４１は、ネジ棒部４３の先端部
に球体４２を回転可能に備えているため、いわゆるボー
ルペン型の回転支持機構ということができる。
すように下端部に回転工具が係合される例えば六角の係
合部４３ａを有するネジ棒部４３と、このネジ棒部４３
を上下方向に移動可能に螺合したブラケット部４４と、
ネジ棒部４３の上端部に球体支持部（ベアリング）４５
を介して回転可能に設けられた球体４２とから主に構成
されており、ブラケット部４４がベースプレート７の下
面に複数例えば３個のネジ４６で着脱可能に取付られて
いる。前記ジャッキ部材４１は、ネジ棒部４３の先端部
に球体４２を回転可能に備えているため、いわゆるボー
ルペン型の回転支持機構ということができる。
【００２５】前記ベースプレート７には、ブラケット部
４４の筒状の上端部が係合すると共に球体４２を含む球
体支持部４５の昇降移動を許容する穴部４７が設けられ
ている。前記球体支持部４５はネジ棒部４３の先端部
（上端部）に設けられ、この球体支持部４５の上端部か
ら球体４２の一部が突出する状態で、球体支持部４５内
には球体４２が回転自在に収容支持されている。前記ブ
ラケット部４４には球体４２を含む球体支持部４５を球
体４２がベースプレート７の上面より突出しないように
収容する収容凹部４８が形成されている。前記ジャッキ
部材４１は常設されていてもよいが、ヒータ６のメンテ
ナンス時のみに取付けて使用するようにしてもよい。
４４の筒状の上端部が係合すると共に球体４２を含む球
体支持部４５の昇降移動を許容する穴部４７が設けられ
ている。前記球体支持部４５はネジ棒部４３の先端部
（上端部）に設けられ、この球体支持部４５の上端部か
ら球体４２の一部が突出する状態で、球体支持部４５内
には球体４２が回転自在に収容支持されている。前記ブ
ラケット部４４には球体４２を含む球体支持部４５を球
体４２がベースプレート７の上面より突出しないように
収容する収容凹部４８が形成されている。前記ジャッキ
部材４１は常設されていてもよいが、ヒータ６のメンテ
ナンス時のみに取付けて使用するようにしてもよい。
【００２６】ジャッキ部材４１は例えばＳＵＳ製である
ことが好ましい。また、前記ブラケット部４４の上端側
外周部にはフランジ部４４ａが形成され、このフランジ
部４４ａがネジ４６でベースプレート７の下面に取付固
定されるようになっている。この場合、ネジ４６を取り
外すこと無くジャッキ部材４１を取外し可能とするため
に、フランジ部４４ａにはベースプレート７に螺着され
たネジ４６と対応する箇所にネジ４６の頭部４６ａが挿
通可能な孔部１９と、この孔部４９から周方向へのネジ
４６の相対的移動（すなわちブラケット部４４の回動）
を許容すると共にネジ４６の頭部４６ａが挿通しない長
穴部４９ａとが設けられている。
ことが好ましい。また、前記ブラケット部４４の上端側
外周部にはフランジ部４４ａが形成され、このフランジ
部４４ａがネジ４６でベースプレート７の下面に取付固
定されるようになっている。この場合、ネジ４６を取り
外すこと無くジャッキ部材４１を取外し可能とするため
に、フランジ部４４ａにはベースプレート７に螺着され
たネジ４６と対応する箇所にネジ４６の頭部４６ａが挿
通可能な孔部１９と、この孔部４９から周方向へのネジ
４６の相対的移動（すなわちブラケット部４４の回動）
を許容すると共にネジ４６の頭部４６ａが挿通しない長
穴部４９ａとが設けられている。
【００２７】ヒータ６をその周方向（軸心回り）に安定
して回転ないし回動可能に支持するために、前記ジャッ
キ部材４１はヒータ６の軸心を中心とする同一円周上
（すなわちヒータと同心円上）に配置されており、ヒー
タ６の底部には前記ジャッキ部材４１の球体４２が係合
する環状のガイド溝５０が設けられている。このガイド
溝５０は、ヒータ６と同心円上の環状に形成されてい
る。また、ガイド溝５０は、断面Ｖ字状の溝であること
が好ましい。
して回転ないし回動可能に支持するために、前記ジャッ
キ部材４１はヒータ６の軸心を中心とする同一円周上
（すなわちヒータと同心円上）に配置されており、ヒー
タ６の底部には前記ジャッキ部材４１の球体４２が係合
する環状のガイド溝５０が設けられている。このガイド
溝５０は、ヒータ６と同心円上の環状に形成されてい
る。また、ガイド溝５０は、断面Ｖ字状の溝であること
が好ましい。
【００２８】前記ヒータ６は、通常時には下方からねじ
込んだ固定ネジ５１によりベースプレート７上に固定さ
れており、ヒータ６のメンテナンス時には固定ネジ５１
を取り外し、ジャッキ部材４１のネジ棒部４３を回転工
具で回転してヒータ６をベースプレート７上から所定高
さｈだけジャッキアップすれば良い。これによりヒータ
６を容易に回転することが可能となる。なお、図１中、
３９はヒータの上部に排気口１０との間の開口部３２を
覆うべく設けられた環状で半割構造の断熱材である。
込んだ固定ネジ５１によりベースプレート７上に固定さ
れており、ヒータ６のメンテナンス時には固定ネジ５１
を取り外し、ジャッキ部材４１のネジ棒部４３を回転工
具で回転してヒータ６をベースプレート７上から所定高
さｈだけジャッキアップすれば良い。これによりヒータ
６を容易に回転することが可能となる。なお、図１中、
３９はヒータの上部に排気口１０との間の開口部３２を
覆うべく設けられた環状で半割構造の断熱材である。
【００２９】ヒータエレメント３１の交換等のメンテナ
ンスを行う場合には、反応管４をベースプレート７から
取り外し、ヒータ６内から下方に抜き取って他の場所に
移しておく。そして、例えば図１の左側、すなわち筐体
１１のメンテナンス口１１ａとは反対側にあるヒータエ
レメント３１の交換を行う場合には、ヒータ６の背後で
あるため、手が届きにくく、作業性が非常に悪い。
ンスを行う場合には、反応管４をベースプレート７から
取り外し、ヒータ６内から下方に抜き取って他の場所に
移しておく。そして、例えば図１の左側、すなわち筐体
１１のメンテナンス口１１ａとは反対側にあるヒータエ
レメント３１の交換を行う場合には、ヒータ６の背後で
あるため、手が届きにくく、作業性が非常に悪い。
【００３０】そこで、ヒータ６をベースプレーと７に固
定している固定ボルト５１を取り外し、ヒータ６の回転
支持機構４０を構成するジャッキ部材４１によりヒータ
６ををジャッキアップする（持ち上げる）。この場合、
ジャッキ部材４１を構成するネジ棒部４３の下端の係合
部４３ａにスパナ等の回転工具を係合させてネジ棒部４
３を回転し、ネジ送り作用でネジ棒部４３を上昇移動さ
せれば良い。これにより、ジャッキ部材の上端の球体が
ヒータ６の底部のガイド溝５０に係合し、ヒータ６の底
部を押し上げ、重量の重いヒータ６をベースプレート７
上から容易に持ち上げることができる。
定している固定ボルト５１を取り外し、ヒータ６の回転
支持機構４０を構成するジャッキ部材４１によりヒータ
６ををジャッキアップする（持ち上げる）。この場合、
ジャッキ部材４１を構成するネジ棒部４３の下端の係合
部４３ａにスパナ等の回転工具を係合させてネジ棒部４
３を回転し、ネジ送り作用でネジ棒部４３を上昇移動さ
せれば良い。これにより、ジャッキ部材の上端の球体が
ヒータ６の底部のガイド溝５０に係合し、ヒータ６の底
部を押し上げ、重量の重いヒータ６をベースプレート７
上から容易に持ち上げることができる。
【００３１】全てのジャッキ部材４１を操作してヒータ
６を水平に持ち上げたなら、図１の左側のヒータエレメ
ント３１が右側のメンテナンス口１１ａに来るようにヒ
ータ６を手動で回転させる。ジャッキ部材４１の上部に
球体４２を備えているため、ヒータ６を円滑に且つ容易
に回転させることができる。交換すべきヒータエレメン
ト３１が図１の右側に来たら、当該ヒータエレメント３
１の端子部３４を鍔状部３６の固定金具３７及びコネク
タ３５から外し、当該ヒータエレメント３１をヒータ６
内、すなわち覆い体３０の内側から取り外す。そして、
新たなヒータエレメントと交換すれば良く、このように
ヒータエレメントの交換等のメンテナンスを容易に行う
ことができる。
６を水平に持ち上げたなら、図１の左側のヒータエレメ
ント３１が右側のメンテナンス口１１ａに来るようにヒ
ータ６を手動で回転させる。ジャッキ部材４１の上部に
球体４２を備えているため、ヒータ６を円滑に且つ容易
に回転させることができる。交換すべきヒータエレメン
ト３１が図１の右側に来たら、当該ヒータエレメント３
１の端子部３４を鍔状部３６の固定金具３７及びコネク
タ３５から外し、当該ヒータエレメント３１をヒータ６
内、すなわち覆い体３０の内側から取り外す。そして、
新たなヒータエレメントと交換すれば良く、このように
ヒータエレメントの交換等のメンテナンスを容易に行う
ことができる。
【００３２】以上の構成からなる縦型熱処理装置１によ
れば、多数のウエハｗを収容して熱処理するための処理
容器である反応管４と、この反応管４の周囲を覆う筒状
のヒータ６と、このヒータ６を設置するベースプレート
（ヒータ設置部）７と、前記ヒータ６を一側からメンテ
ナンス可能に収容した筐体１１とを備え、前記ヒータ６
は複数のヒータエレメント３１を個々に交換可能に有
し、前記ベースプレート７にはヒータ６を回転可能に支
持する回転支持機構４０が設けられているため、筐体１
１内の他側に位置するヒータエレメント３１の交換等の
メンテナンス作業を行う場合には、メンテナンス箇所が
筐体１１内の一側に来るようにヒータ６を回転させてメ
ンテナンス作業を容易に行うことができ、メンテナンス
性の向上が図れる。
れば、多数のウエハｗを収容して熱処理するための処理
容器である反応管４と、この反応管４の周囲を覆う筒状
のヒータ６と、このヒータ６を設置するベースプレート
（ヒータ設置部）７と、前記ヒータ６を一側からメンテ
ナンス可能に収容した筐体１１とを備え、前記ヒータ６
は複数のヒータエレメント３１を個々に交換可能に有
し、前記ベースプレート７にはヒータ６を回転可能に支
持する回転支持機構４０が設けられているため、筐体１
１内の他側に位置するヒータエレメント３１の交換等の
メンテナンス作業を行う場合には、メンテナンス箇所が
筐体１１内の一側に来るようにヒータ６を回転させてメ
ンテナンス作業を容易に行うことができ、メンテナンス
性の向上が図れる。
【００３３】この場合、前記ヒータ６が水冷構造の筒状
の覆い体３０の内周に複数のヒータエレメント３１を配
し、各ヒータエレメント３１の端子部３４が覆い体３０
を貫通して外周に突出し、コネクタ３５に接続されてい
るため、覆い体３０の外側で端子部３４をコネクタ３５
から外すことによりヒータエレメント３１を覆い体３０
の内側から容易に取り外すことができ、ヒータ６の回転
支持機構４０を備えていることと相俟ってヒータエレメ
ント３１の交換等のメンテナンスが容易になり、メンテ
ナンス性の向上が図れる。
の覆い体３０の内周に複数のヒータエレメント３１を配
し、各ヒータエレメント３１の端子部３４が覆い体３０
を貫通して外周に突出し、コネクタ３５に接続されてい
るため、覆い体３０の外側で端子部３４をコネクタ３５
から外すことによりヒータエレメント３１を覆い体３０
の内側から容易に取り外すことができ、ヒータ６の回転
支持機構４０を備えていることと相俟ってヒータエレメ
ント３１の交換等のメンテナンスが容易になり、メンテ
ナンス性の向上が図れる。
【００３４】また、前記回転支持機構４０がヒータ６の
底部を持ち上げ下げする複数のネジ式ジャッキ部材４１
と、各ジャッキ部材４１の上部に回転可能に設けられヒ
ータ６の底部を回転可能に支持する球体４２とから構成
されているため、簡単な構造で、重量の重い例えば３４
０ｋｇ程度のヒータ６を持ち上げて容易に回転すること
ができ、メンテナンス性の向上が図れる。更に、前記ジ
ャッキ部材４１は同一円周上に配置され、ヒータ６の底
部には前記ジャッキ部材４１の球体４２が係合する環状
のガイド溝５０が設けられているため、ヒータ６をその
周方向に確実且つ容易に回転することができ、メンテナ
ンス性の向上が図れる。
底部を持ち上げ下げする複数のネジ式ジャッキ部材４１
と、各ジャッキ部材４１の上部に回転可能に設けられヒ
ータ６の底部を回転可能に支持する球体４２とから構成
されているため、簡単な構造で、重量の重い例えば３４
０ｋｇ程度のヒータ６を持ち上げて容易に回転すること
ができ、メンテナンス性の向上が図れる。更に、前記ジ
ャッキ部材４１は同一円周上に配置され、ヒータ６の底
部には前記ジャッキ部材４１の球体４２が係合する環状
のガイド溝５０が設けられているため、ヒータ６をその
周方向に確実且つ容易に回転することができ、メンテナ
ンス性の向上が図れる。
【００３５】以上、本発明の実施の形態を図面により詳
述してきたが、本発明は前記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の
設計変更等が可能である。例えば、熱処理装置として
は、酸化処理以外に、ＣＶＤ処理、拡散処理、アニール
処理等を行うように構成されていてもよい。前記ボート
の材質としては、石英以外に、例えば炭化珪素やポリシ
リコン（Ｓｉ）等であっても良い。被処理体としては、
半導体ウエハ以外に、例えばＬＣＤ基板または石英等で
あっても良い。また、反応管は、内管と外管の二重管構
造とされていても良い。炉口保温手段としては、保温筒
であってもよい。
述してきたが、本発明は前記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の
設計変更等が可能である。例えば、熱処理装置として
は、酸化処理以外に、ＣＶＤ処理、拡散処理、アニール
処理等を行うように構成されていてもよい。前記ボート
の材質としては、石英以外に、例えば炭化珪素やポリシ
リコン（Ｓｉ）等であっても良い。被処理体としては、
半導体ウエハ以外に、例えばＬＣＤ基板または石英等で
あっても良い。また、反応管は、内管と外管の二重管構
造とされていても良い。炉口保温手段としては、保温筒
であってもよい。
【００３６】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な効果を奏することができる。
な効果を奏することができる。
【００３７】（１）請求項１の発明によれば、多数の被
処理体を収容して熱処理するための処理容器と、該処理
容器の周囲を覆う筒状のヒータと、該ヒータを設置する
ヒータ設置部と、前記ヒータを一側からメンテナンス可
能に収容した筐体とを備え、前記ヒータは複数のヒータ
エレメントを個々に交換可能に有し、前記ヒータ設置部
にはヒータを回転可能に支持する回転支持機構が設けら
れているため、筐体内の他側に位置するヒータエレメン
トの交換等のメンテナンス作業を行う場合には、メンテ
ナンス箇所が筐体内の一側に来るようにヒータを回転さ
せてメンテナンス作業を容易に行うことができ、メンテ
ナンス性の向上が図れる。
処理体を収容して熱処理するための処理容器と、該処理
容器の周囲を覆う筒状のヒータと、該ヒータを設置する
ヒータ設置部と、前記ヒータを一側からメンテナンス可
能に収容した筐体とを備え、前記ヒータは複数のヒータ
エレメントを個々に交換可能に有し、前記ヒータ設置部
にはヒータを回転可能に支持する回転支持機構が設けら
れているため、筐体内の他側に位置するヒータエレメン
トの交換等のメンテナンス作業を行う場合には、メンテ
ナンス箇所が筐体内の一側に来るようにヒータを回転さ
せてメンテナンス作業を容易に行うことができ、メンテ
ナンス性の向上が図れる。
【００３８】（２）請求項２の発明によれば、前記ヒー
タが水冷構造の筒状の覆い体の内周に複数のヒータエレ
メントを配し、各ヒータエレメントの端子部が覆い体を
貫通して外周に突出し、コネクタに接続されているた
め、覆い体の外側で端子部をコネクタから外すことによ
りヒータエレメントを覆い体の内側から容易に取り外す
ことができ、ヒータの回転支持機構を備えていることと
相俟ってヒータエレメントの交換等のメンテナンスが容
易になり、メンテナンス性の向上が図れる。
タが水冷構造の筒状の覆い体の内周に複数のヒータエレ
メントを配し、各ヒータエレメントの端子部が覆い体を
貫通して外周に突出し、コネクタに接続されているた
め、覆い体の外側で端子部をコネクタから外すことによ
りヒータエレメントを覆い体の内側から容易に取り外す
ことができ、ヒータの回転支持機構を備えていることと
相俟ってヒータエレメントの交換等のメンテナンスが容
易になり、メンテナンス性の向上が図れる。
【００３９】（３）請求項３の発明によれば、前記回転
支持機構がヒータの底部を持ち上げ下げする複数のネジ
式ジャッキ部材と、各ジャッキ部材の上部に回転可能に
設けられヒータの底部を回転可能に支持する球体とから
構成されているため、簡単な構造で重量の重いヒータを
持ち上げて容易に回転することができ、メンテナンス性
の向上が図れる。
支持機構がヒータの底部を持ち上げ下げする複数のネジ
式ジャッキ部材と、各ジャッキ部材の上部に回転可能に
設けられヒータの底部を回転可能に支持する球体とから
構成されているため、簡単な構造で重量の重いヒータを
持ち上げて容易に回転することができ、メンテナンス性
の向上が図れる。
【００４０】（４）請求項４の発明によれば、前記ジャ
ッキ部材は同一円周上に配置され、ヒータの底部には前
記ジャッキ部材の球体が係合する環状のガイド溝が設け
られているため、ヒータをその周方向に確実且つ容易に
回転することができ、メンテナンス性の向上が図れる。
ッキ部材は同一円周上に配置され、ヒータの底部には前
記ジャッキ部材の球体が係合する環状のガイド溝が設け
られているため、ヒータをその周方向に確実且つ容易に
回転することができ、メンテナンス性の向上が図れる。
【図１】本発明の実施の形態を示す縦型熱処理装置の縦
断面図である。
断面図である。
【図２】回転支持機構の構成を示す概略的断面図であ
る。
る。
【図３】ジャッキ部材の構成を示す拡大断面図である。
【図４】ジャッキ部材の底面図である。
ｗ 半導体ウエハ（被処理体）
１ 縦型熱処理装置
４ 反応管（処理容器）
６ ヒータ
７ ベースプレート（ヒータ設置部）
１１ 筐体
３０ 覆い体
３１ ヒータエレメント
３４ 端子部
３５ コネクタ
４０ 回転支持機構
４１ ジャッキ部材
４２ 球体
５０ ガイド溝
フロントページの続き
(72)発明者 山賀 健一
東京都港区赤坂五丁目３番６号 ＴＢＳ放
送センター 東京エレクトロン株式会社内
Ｆターム(参考） 5F045 BB08 DP19 DP28 DQ05 EB05
EK06 EK08
Claims (4)
- 【請求項１】 多数の被処理体を収容して熱処理するた
めの処理容器と、該処理容器の周囲を覆う筒状のヒータ
と、該ヒータを設置するヒータ設置部と、前記ヒータを
一側からメンテナンス可能に収容した筐体とを備え、前
記ヒータは複数のヒータエレメントを個々に交換可能に
有し、前記ヒータ設置部にはヒータを回転可能に支持す
る回転支持機構が設けられていることを特徴とする縦型
熱処理装置。 - 【請求項２】 前記ヒータは水冷構造の筒状の覆い体の
内周に複数のヒータエレメントを配し、各ヒータエレメ
ントの端子部が覆い体を貫通して外周に突出し、コネク
タに接続されていることを特徴とする請求項１記載の縦
型熱処理装置。 - 【請求項３】 前記回転支持機構は、ヒータの底部を持
ち上げ下げする複数のネジ式ジャッキ部材と、各ジャッ
キ部材の上部に回転可能に設けられヒータの底部を回転
可能に支持する球体とから構成されていることを特徴と
する請求項１記載の縦型熱処理装置。 - 【請求項４】 前記ジャッキ部材は同一円周上に配置さ
れ、ヒータの底部には前記ジャッキ部材の球体が係合す
る環状のガイド溝が設けられていることを特徴とする請
求項３記載の縦型熱処理装置。
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