JP2003287873A

JP2003287873A - フォトマスク、基準基板および露光機ならびにカラーフィルターの製造方法

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Publication number: JP2003287873A
Application number: JP2002089854A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Kajiki; 聡加治木; Masatake Kitayama; 雅丈北山
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 2002-03-27
Filing date: 2002-03-27
Publication date: 2003-10-10
Anticipated expiration: 2022-03-27
Also published as: JP3987747B2

Abstract

(57)【要約】【課題】マスクの下側に位置する基準基板のマーカーを
フォトマスクの上側より容易にかつ迅速に見つけ出す。【解決手段】基板上に所定のパターンの着色層を形成す
るカラーフィルターの製法にて、さらに露光機に設置し
た基準基板に対し位置合せし露光する工程を含むフォト
リソグラフィー法に用いるフォトマスクであって、基準
基板と位置合せするためのマーカーを設けるとともに、
このマーカーが基準基板との間にて位置を定める光透過
性の位置規定部と、この位置規定部の周囲に設けて基準
基板との間にて位置を探索する光透過性の位置探索部と
からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はカラー撮像素子や液
晶表示装置に用いられるカラーフィルターの製造方法に
関し、詳しくはフォトマスクを露光機に用いる基準基板
に位置合わせする方法（あるいは基準基板を用いて、フ
ォトマスクに基板を位置合わせする方法）にて、それに
用いるフォトマスクに関するものである。さらに基準基
板および露光機に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ガラス基板等の透明基板上にブラック遮
光膜、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の画素を所定のピ
ッチで規則正しく配列させたカラーフィルターはカラー
撮像素子や液晶表示装置等のカラー表示装置に広範に利
用されている。従来、これらのブラックの遮光パターン
や色画素はフォトリソグラフィー技術を用いて形成され
ている。

【０００３】遮光パターンについては、表示のコントラ
ストを向上させるものであるが、従来、Ｃｒ等の金属膜
が主流であった。しかし、最近、製造コストの問題や環
境問題に鑑み、樹脂製のブラックに置き換えたものが普
及されている。

【０００４】これら樹脂ブラックを始め、顔料分散型の
ＲＧＢレジスト材料は、通常、ネガ型の紫外線感光性樹
脂である。

【０００５】つぎに１色目に樹脂ブラック遮光膜を形成
する場合を説明する。透明基板全面にブラックレジスト
をスピンコーターやバーコーターもしくはスリットノズ
ルコーター等を用いて塗布し、ついでこの基板を仮乾燥
し、露光、現像、ポストベークし、これら一連の工程を
経て、樹脂ブラック遮光膜を所定のパターンにて形成す
る。

【０００６】このようなプロセスにおいて、透明基板上
にマトリクスもしくはストライプのブラックパターンを
形成すると同時に、２色目以降の他の色画素パターンを
形成する際に用いるフォトマスクにおいて、このマスク
との位置合わせに使用するアライメントマーカーも同時
に形成する。

【０００７】そして、かかるアライメントマーカーの基
板上での位置精度は、その後の２色目以降のＲＧＢの各
色画素を形成する際の位置基準に大きく係わる。また、
液晶表示装置においては、その液晶パネルの製造工程に
て、カラーフィルター以外の他の部材を形成する際のマ
ーカーとしての基準になる。

【０００８】したがって、このアライメントマーカーの
位置精度は製品の品質を向上させたり、製造歩留まりを
高めるために、非常に重要な工程である。

【０００９】仮に位置精度に劣り、基板に対するパター
ン位置のズレが発生したり、さらには、その後のプロセ
スの装置でのマーカー読みとりにおいて、認識エリアを
外れた場合には、読み取りできなくなることもあった。

【００１０】以上の例によれば、１色目に樹脂ブラック
遮光膜を形成すると同時に、２色目以降の他の色画素パ
ターンを形成する際に用いるフォトマスクにおいて、こ
のマスクとの位置合わせに使用するアライメントマーカ
ーも同時に形成したもので、露光機に用いる基準基板と
している。

【００１１】しかし、その基準基板は、それだけのため
に作製したものを用いてもよい。このような専用の基板
であれば、フォトマスクとの位置合わせに使用するアラ
イメントマーカーだけでよい。

【００１２】このように最初の露光時には（ファースト
露光と呼ぶ）、露光機に基準基板を用いるが、この基準
基板によれば、その基板の基準面（通常、隣り合う２
辺）に対するパターンおよびアライメントマーカーの位
置精度をあらかじめ測定し、確認したものである。そし
て、このような基準基板を基準として１色目のフォトマ
スクセット位置を決定する。あるいは露光機にあらかじ
めセットしたフォトマスクを基準にして、フォトマスク
と位置合わせした基準基板を保持し、そして、露光ステ
ージの位置を決定する。

【００１３】また、かかるファースト露光によれば、露
光機内での基準基板の位置は基準面でのピンアライメン
トもしくはセンサーによる位置決めが行われる。この繰
り返し精度は個々の基板の最終的な位置精度を決定す
る。

【００１４】ところで、ファースト露光では、搬入され
た露光機内の基準基板を用いて、この基準基板に対し、
フォトマスクのセット位置を決定したり、あるいはあら
かじめセットしたフォトマスクを用いて、このマスクと
位置合わせした基準基板を保持し、露光ステージの位置
を決定するが、このようなセッテイングによれば、通
常、基準基板はこの基板に対してマスクで焼き付けたパ
ターン位置精度の測定を行い、その修正を繰り返すこと
によって基準寸法に対し位置精度を高めることで作成さ
れる。もしくは生産品の中から基準寸法に対するバラツ
キが小さいものを選択してもよい。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】上述したごとく、１色
目に樹脂ブラック遮光膜を形成すると同時に、２色目以
降の他の色画素パターンを形成する際に用いるフォトマ
スクにおいて、このマスクとの位置合わせに使用するア
ライメントマーカーも同時に形成したもので、露光機に
用いる基準基板としているが、この基準基板を用いてカ
ラーフィルターを作製すると、フォトリソグラフィーに
したがって露光する工程にて、下記のような課題があ
る。

【００１６】露光機において、フォトマスクを基準基板
に対し位置合せするために、双方ともアライメントマー
カーを設けるが、通常、精度の高い位置決めを行なうた
めに、フォトマスクに設けたアライメントマーカーを、
たとえば十字状のマーカーにして、他方、基準基板上の
アライメントマーカーについても同一の十字状のパター
ンにして、双方間にて位置合わせする工程がある。

【００１７】この工程によれば、一般的にネガタイプの
感光レジストを用いることで、フォトマスクはマーカー
の形状に対応して、その部分だけが窓が開いた構造、す
なわち光透過性な十字体であり、アライメント用の透過
照明下においては、画像上黒地に白い十字が表示され
る。

【００１８】したがって、この十字の部分だけから透過
照明の透過光が認知でき、これにより、ＣＣＤカメラを
用いて、フォトマスクの上から十字マーカー形状の窓の
みを通して、基準基板上の黒い十字マーカーを見つけ出
し、これらの双方のマーカーがぴったりと合致する位置
まで、フォトマスク（あるいは基準基板）をＸ、Ｙ、θ
方向にずらしている。

【００１９】このようなアライメントマーカーについて
は、通常、フォトマスクおよび基準基板に対し、それぞ
れ２箇所の位置に形成し、アライメント動作を行う。

【００２０】しかしながら、かかるマーカーのサイズ
は、マスクセット位置（あるいは基板を保持している露
光ステージ）の可動領域に対し小さすぎ、これにより、
マスクの下に配置した基準基板のマーカーが、フォトマ
スクのマーカーに対し、どの位置に存在するか、すぐに
は確認できなかった。

【００２１】したがって、マスクの十字窓越しに基準基
板の十字マーカーを見つけ出すのは非常に困難な作業と
なり、マスク（あるいは基板）の位置をＸ、Ｙ、θ方向
に大きく動かしながら試行錯誤し、まずはアライメント
マーカーを見つけ出し、その上で、位置合わせしければ
ならず、時間と労力を要していた。なお、落射照明での
反射光検出の場合でも煩雑さは同様である。

【００２２】

【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
消するために、以下のように完成されたものであって、
本発明のフォトマスクは、基板上に所定のパターンを形
成するカラーフィルターの製法にて、さらに露光機に設
置した基準基板に対し位置合せし露光する工程を含むフ
ォトリソグラフィー法に用いるものであり、そして、こ
の基準基板と位置合せするためのマーカーを設けるとと
もに、このマーカーが基準基板との間にて位置を定める
光透過性の位置規定部と、この位置規定部の周囲に設け
て基準基板との間にて位置を探索する光透過性の位置探
索部とからなることを特徴とする。

【００２３】本発明の基準基板は、本発明のフォトマス
クに対し位置合せするためのマーカーを設けるととも
に、このマーカーが、そのフォトマスクとの間にて位置
を定める光遮光性の位置規定部と、この位置規定部の周
囲に設けてフォトマスクとの間にて位置を探索する光遮
光性の位置探索部とからなることを特徴とする。

【００２４】本発明の露光機は、かかる本発明の基準基
板を用いたことを特徴とする。

【００２５】本発明のカラーフィルターの製造方法は、
順次下記（イ）〜（ニ）の各工程を経た後に、この着色
樹脂を一部現像除去し、しかる後に硬化せしめることを
特徴とする。（イ）・・・基板上にネガ型着色樹脂を塗布する。（ロ）・・・露光機に請求項２の基準基板を配設する。（ハ）・・・前記露光機に請求項１のフォトマスクを前
記基準基板と位置合せし配設する。（ニ）・・・前記露光機にてフォトマスクを通して前記
ネガ型着色樹脂に対し露光する。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を液晶表示装置に用
いるカラーフィルターを例にして図面にて説明する。

【００２７】カラーフィルター用基板の上に樹脂ブラッ
ク遮光膜をパターン形成し、この遮光膜パターンを形成
した後に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の順序にて、
それぞれの画素を所定のピッチで所定の着色層パターン
にて、規則正しく配列させる場合にて例示する。

【００２８】（基準基板）本例においては、基板上にス
トライプ状のブラックパターンを形成したものを、露光
機に用いる基準基板とする。そして、この基準基板を用
いて、樹脂ブラック遮光膜を形成したカラーフィルター
用基板を得る。

【００２９】上記のようにストライプ状のブラックパタ
ーン形成した基準基板については、下記のように作製す
る。なお、このブラックパターンは、マトリックスパタ
ーンにしてもよい。

【００３０】まず、基板をウェット洗浄し、そして、乾
燥させ、このように洗浄した基板の一方主面に黒色のレ
ジストをスピンコーターまたはバーコーターないしはス
リットノズルコーター等を用いて全面に塗布する。

【００３１】つぎに、乾燥炉で仮乾燥し、その後、露光
機でフォトマスクを介して、所要の部位に対し紫外線を
照射する。さらにアルカリ現像液に曝すことで、一部の
樹脂が溶解するが、紫外線を照射した部分は不溶化して
おり、これによって、所定のブラックパターンが形成さ
れる。

【００３２】しかる後に、純水でリンスし、その後、焼
成炉で硬化させ、ブラックパターンを形成した基準基板
が得られる。

【００３３】このように作成した基準基板を図１と図３
に示す。同図Ａはこの基板の平面図であり、同図Ｂはマ
ーカーの要部拡大の平面図である。また、図３は基準基
板を露光機に位置決めして設置した場合を示す。

【００３４】５はガラス基板であり、このガラス基板５
の上にブラックパターン６が形成されている。このパタ
ーン６によれば、ブラック遮光膜を成すようにパターン
形成しているが、このパターンの両側に、位置合せ用の
アライメントマーカーも同時に形成している。

【００３５】本例によれば、このような基準基板の作製
に用いる露光を含む、１色目の形成のための露光を、フ
ァースト露光と呼ぶが、そのためにフォトマスクを用意
し、ガラス基板５の上にブラックレジスト樹脂を塗布
し、このマスクを通して紫外線で焼きつけ、その後、現
像することで得られる。

【００３６】ガラス基板５に対するブラックパターン６
やアライメントマーカーの位置関係は、図３に示すごと
く、その基板５の基準辺９、９’にて規定され、設計上
の公差（±１５０μｍ前後）も考慮される。この位置関
係は、同図において、距離（ｘ１，ｙ１）と距離（ｘ
２，ｙ２）に相当する。

【００３７】また、アライメントマーカーについては、
図１Ｂにて示すように、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
の所定の着色層パターンに形成するために、それぞれ黒
い十字体が３個配列されている。７Ｒは赤の着色層の画
素パターンの形成において、露光の際に位置合せするマ
ーカーである。同様に７Ｇは緑の着色層の画素パターン
の形成に用いるマーカー、７Ｂは青の着色層の画素パタ
ーンの形成に用いるマーカーである。

【００３８】そして、これらのマーカーの近辺に、樹脂
ブラック遮光膜を形成したカラーフィルター用基板を設
けるべく、フォトマスクとの関係で、このフォトマスク
と位置合せするためのマーカー８を設けている。

【００３９】そして、本発明においては、マーカー８
が、その後の工程にて用いるフォトマスクとの間にて、
双方間にて位置を精確に定める光遮光性の位置規定部
と、この位置規定部の周囲に設けて、そのフォトマスク
との間にて位置を探索する光遮光性の位置探索部とから
なることが特徴である。

【００４０】本例においては、かかる光遮光性の位置規
定部は、十字状をなしている。また、光遮光性の位置探
索部は、この十字を囲むような枠体をなしている。

【００４１】（フォトマスク）このフォトマスクは、樹
脂ブラック遮光膜を形成したカラーフィルター用基板を
作製するに際し用いるフォトマスクである。そして、露
光機に設置した上記の基準基板に対し位置合せし、露光
する工程に用いる。

【００４２】このフォトマスクを図２に示す。同図Ａは
この基板の平面図であり、同図Ｂはマーカーの要部拡大
の平面図である。

【００４３】１は石英基板であり、この石英基板１の上
にＣｒなどの金属にてパターン膜を形成し、この膜に開
口部２がパターン化されている。この開口部２は、遮光
膜を所定のパターン（たとえばストライプ状）にて形成
するように設けられている。

【００４４】そして、このストライプパターンの両側
に、位置合せ用のアライメントマーカーも開口して同時
に形成している。

【００４５】また、アライメントマーカーについては、
図２Ｂにて示すように、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
の所定の着色層パターンに形成するために、それぞれ黒
い十字体が３個開口して配列されている。３Ｒは赤の着
色層の画素パターンの形成にて、露光の際に位置合せす
るマーカーである。同様に３Ｇは緑の着色層の画素パタ
ーンの形成に用いるマーカー、３Ｂは青の着色層の画素
パターンの形成に用いるマーカーである。

【００４６】そして、これらのマーカーの近辺に、基準
基板のマーカー８と位置合せするために、マーカー４を
形成している。

【００４７】このマーカー４は、基準基板との間にて位
置を定める光透過性の位置規定部と、この位置規定部の
周囲に設けて基準基板との間にて位置を探索する光透過
性の位置探索部とからなる。

【００４８】本例においては、かかる光透過性の位置規
定部は、十字状をなしている。また、光透過性の位置探
索部は、この十字を囲むような枠体をなしている。

【００４９】（カラーフィルターの製造方法）つぎに本
発明のカラーフィルターの製造方法を述べる。本例によ
れば、樹脂ブラック遮光膜を形成したカラーフィルター
用基板の製造方法を述べる。

【００５０】順次下記（イ）〜（ニ）の各工程を経た後
に、この樹脂を一部現像除去し、しかる後に硬化する。

【００５１】前記基準基板によれば、位置合せ用のアラ
イメントマーカーとともに、ブラックストライプパター
ン６も形成したものであることで、この基準基板を用い
て、かかる遮光膜を形成したカラーフィルター用基板を
形成する場合でもって説明する。

【００５２】（イ）・・・基板上にネガ型着色樹脂を塗
布する。

【００５３】すなわち、カラーフィルター用の基板の上
に黒のネガ型樹脂を全面にわたって塗布する。

【００５４】（ロ）・・・前工程にて得られた基準基板
を露光機に配設する。

【００５５】図３に示すように、露光機には基準ピン１
０、１０’が設けられ、これら基準ピン１０、１０’に
基準基板が突き当るように配置する。

【００５６】（ハ）・・・前記露光機に前記フォトマス
クを基準基板と位置合せし配設する。

【００５７】本発明のフォトマスクを用いて、マーカー
４の光透過性位置探索部を通して、基準基板のマーカー
８を容易に認識することができる。

【００５８】実際には、図４に示すように認識される。
同図の左側は、まさに認識される状態を示し、同図右側
によれば、双方のマーカー４、８同士を合致させようと
する状態を示す。

【００５９】このようにフォトマスクの下に設けた基準
基板のマーカーを容易に見つけ出すことで、つぎにマー
カー８の十字状の光遮光性位置規定部と、マーカー４の
十字状の光透過性位置規定部とを合致させることで、フ
ォトマスクを基準基板に対し精確に位置合せすることが
できた。

【００６０】また、完全に重なるように位置の微調整を
行うには、ＣＣＤリニアセンサーやＴＶカメラ等を用い
て、フォトマスクのマーカーと基準基板のマーカーとを
同時にモニターしながら重ね合わせ操作を行う。

【００６１】以上のような作業により、短時間のＸ、
Ｙ、θの位置調整でもってアライメント動作が完了す
る。

【００６２】（ニ）・・・前記露光機にてフォトマスク
を通してネガ型黒色樹脂に対し露光する。

【００６３】しかる後に、現像工程でもって、この着色
樹脂を一部エッチング除去し、そして、焼成すること
で、その樹脂を硬化させ、これにより、ブラックパター
ンが高い精度に形成される。

【００６４】以上の各プロセスでもって樹脂ブラック遮
光膜を形成したカラーフィルター用基板が得られる。

【００６５】つぎに赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の順
序にて、それぞれの画素を所定のピッチで所定の着色層
パターンにて、規則正しく配列形成する。

【００６６】（２色目以降のカラーフィルターの製造方
法）緑（Ｇ）の画素を所定のピッチで所定の着色層パタ
ーンにて形成するカラーフィルターの製造方法を述べ
る。

【００６７】順次下記（イ’）〜（ニ’）の各工程を経
た後に、この樹脂を一部現像除去し、しかる後に硬化す
る。

【００６８】前記基準基板によれば、位置合せ用のアラ
イメントマーカーとともに、図１Ｂにて示すように、赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の所定の着色層パターンに
形成するためのマーカー７Ｒ、７Ｇ、７Ｂも形成したも
のであることで、この基準基板を用いて緑（Ｇ）の着色
層を画素形成する場合でもって説明する。

【００６９】（イ’）・・・基板上にネガ型着色樹脂を
塗布する。

【００７０】すなわち、カラーフィルター用の基板の上
に緑のネガ型樹脂を全面にわたって塗布する。

【００７１】（ロ’）・・・前工程にて得られた基準基
板を露光機に配設する。

【００７２】図３に示すように、露光機には基準ピン１
０、１０’が設けられ、これら基準ピン１０、１０’に
基準基板が突き当るように配置する。

【００７３】（ハ’）・・・前記露光機に赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の所定の着色層パターンを形成する第
２のフォトマスクを基準基板と位置合せし配設する。

【００７４】この工程にて用いる第２のフォトマスクに
ついては、図６に示すようなマーカー１１Ｇを設けたフ
ォトマスクを用る。

【００７５】このような他の位置合せ方法によれば、緑
（Ｇ）の着色層を画素形成する場合であることから、フ
ォトマスクは基準基板に対し、それぞれの色に対応する
左右１対の１１Ｇと７Ｇのマーカー中心が完全に重なる
ように位置の微調整（アライメント動作）を行う。

【００７６】すなわち十字マーカー７Ｇを、中空の正方
形状の線状体に対し、位置合わせするが、この中空部ａ
が基準基板との間にて位置を定める光透過性の位置規定
部に相当する。さらに中空の正方形状の線状体の周囲に
形成した透過性の枠体ｂが基準基板との間にて位置を探
索する光透過性の位置探索部に相当する。

【００７７】同様にＣＣＤリニアセンサーやＴＶカメラ
等を用いて、フォトマスクのマーカーと基準基板のマー
カーとを同時にモニターしながら重ね合わせ操作を行
う。

【００７８】以上のような作業により、短時間のＸ、
Ｙ、θの位置調整でもってアライメント動作が完了す
る。

【００７９】一旦、基準基板と第２のフォトマスクとの
位置合わせの位置登録が完了すると、緑のネガ型着色樹
脂を塗布した基板は露光機の画像認識エリアに入るの
で、その後は露光機の自動アライメント動作により１１
Ｇと７Ｇのマーカーの中心を±２μｍ以内の精度でアラ
イメントされ、緑のネガ型着色樹脂基板に対して連続し
て露光される。

【００８０】（ニ’）・・・前記露光機にてフォトマス
クを通して緑のネガ型着色樹脂に対し露光する。

【００８１】しかる後に、現像工程でもって、この着色
樹脂を一部現像除去し、そして、焼成することで、その
樹脂を硬化させ、これにより、緑（Ｇ）の画素が高い精
度に形成される。

【００８２】以上のようなプロセスを繰り返すことで、
同様に赤（Ｒ）の画素、青（Ｂ）の画素を位置精度良く
形成することができる。

【００８３】そして、液晶表示装置においては、上記の
工程を経た後に、つづけて透明な平滑膜をスピンコート
等で塗布して焼成し、そして、電極用にＩＴＯなどから
なる透明導電膜をスパッタリングで成膜する。

【００８４】なお、工程（ハ、ハ’）においては、基準
基板に対し、フォトマスクをセットし、その位置を微調
整して位置合わせしているが、これに代えて、セットし
たフォトマスクを基準として、このフォトマスクと位置
合わせした基準基板をもとに基板を保持する露光ステー
ジ位置の基準位置を決定して位置合わせしてもよい。

【００８５】すなわち、露光機にフォトマスクをセット
し、このマスク位置を基準にして基準基板を吸着した露
光ステージをマスクに位置合わせして（露光ステージに
吸着された基準基板とマスクをそれぞれ対応するマーカ
ー同士（たとえば１色目形成ではマーカー８と４、もし
くは２色目以降ではマーカー７Ｇと１１Ｇ）が完全に重
なるようにステージ位置で微調整を行い、ステージの基
準位置としての位置決めを完了する）、そして、ステー
ジの基準位置を位置登録することにより、毎回ズレ補正
をかけて、フォトマスクとネガ型着色樹脂塗布基板を露
光機内で再現よく位置合わせでき、その結果、高い位置
精度にてパターンおよびマーカー類を形成できる。

【００８６】参考までに、図５にて従来における１色目
の形成における基準基板とフォトマスクとの位置合せを
示し、その認識の仕方を示す。

【００８７】同図の左側は、まさに認識される状態を示
し、同図右側によれば、双方のマーカー３Ｇ、７Ｇ同士
を合致させようとする状態を示すが、従来によれば、こ
のように双方とも十字体のマーカーを備えた基準基板と
フォトマスクとの間にて位置合せを行なっていた。

【００８８】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種
々の変更や改良等はなんら差し支えない。たとえば、位
置規定部は十字状にしたが、これに代えて、音楽符号の
シャープ記号のようなものであってもよい。また、位置
探索部を枠体にしたが、これに代えて位置規定部の周囲
に単なる穴を設けるだけでもよい。

【００８９】

【発明の効果】以上のとおり、本発明のように、基準基
板との間にて位置を定める光透過性の位置規定部と、こ
の位置規定部の周囲に設けて基準基板との間にて位置を
探索する光透過性の位置探索部とからなるマーカーを設
けたフォトマスクを用いたり、さらにフォトマスクとの
間にて位置を定める光遮光性の位置規定部と、この位置
規定部の周囲に設けてフォトマスクとの間にて位置を探
索する光遮光性の位置探索部とからなるマーカーを設け
た基準基板を用いることで、マスクの下側に位置する基
準基板のマーカーをフォトマスクの上側より容易にかつ
迅速に見つけ出すことができ、製造効率を高め、その結
果、低コストなカラーフィルター製品ならびにカラー撮
像素子やカラー液晶表示装置が提供できた。

【図面の簡単な説明】

【図１】Ａは基準基板の平面図であり、Ｂはマーカーの
要部拡大の平面図である。

【図２】Ａはフォトマスクの平面図であり、Ｂはマーカ
ーの要部拡大の平面図である。

【図３】基準基板の露光機に位置決めして設置した場合
の平面図である。

【図４】本発明に係るフォトマスクと基準基板との位置
合せ状態を示す説明図である。

【図５】従来におけるフォトマスクと基準基板との位置
合せ状態を示す説明図である。

【図６】本発明の他のフォトマスクの要部平面図であ
る。

【符号の説明】

１、５・・・ガラス基板２・・・開口部３Ｒ、７Ｒ・・・赤の着色層の画素パターンにおける位
置合せマーカー３Ｒ、７Ｇ・・・緑の着色層の画素パターンにおける位
置合せマーカー３Ｂ、７Ｂ・・・青の着色層の画素パターンにおける位
置合せマーカー４、８・・・位置合せ用アライメントマーカー６・・・ブラックマトリクスパターン９、９’・・・基準基板の基準辺１０、１０’・・・基準ピン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に所定のパターンを形成するカラー
フィルターの製法にて、さらに露光機に設置した基準基
板に対し位置合せし露光する工程を含むフォトリソグラ
フィー法に用いるフォトマスクであって、前記基準基板
と位置合せするためのマーカーを設けるとともに、この
マーカーが基準基板との間にて位置を定める光透過性の
位置規定部と、この位置規定部の周囲に設けて基準基板
との間にて位置を探索する光透過性の位置探索部とから
なるフォトマスク。
【請求項２】請求項１のフォトマスクに対し位置合せす
るためのマーカーを設けるとともに、このマーカーが当
該フォトマスクとの間にて位置を定める光遮光性の位置
規定部と、この位置規定部の周囲に設けて該フォトマス
クとの間にて位置を探索する光遮光性の位置探索部とか
らなる基準基板。
【請求項３】請求項２の基準基板を用いた露光機。
【請求項４】順次下記（イ）〜（ニ）の各工程を経た後
に、この着色樹脂を一部現像除去し、しかる後に硬化せ
しめるカラーフィルターの製造方法。（イ）・・・基板上にネガ型着色樹脂を塗布する。（ロ）・・・露光機に請求項２の基準基板を配設する。（ハ）・・・前記露光機に請求項１のフォトマスクを前
記基準基板と位置合せし配設する。（ニ）・・・前記露光機にてフォトマスクを通して前記
ネガ型着色樹脂に対し露光する。