CN103969873B - 用于将掩模版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法 - Google Patents
用于将掩模版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103969873B CN103969873B CN201410164615.8A CN201410164615A CN103969873B CN 103969873 B CN103969873 B CN 103969873B CN 201410164615 A CN201410164615 A CN 201410164615A CN 103969873 B CN103969873 B CN 103969873B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mark
- substrate alignment
- mask
- pattern
- alignment mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
本发明公开了用于将掩模版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法，对齐的方法包括如下步骤：在基板上形成至少一个基板对位标记集合，其包括n个基板对位标记，n个基板对位标记是X种形貌的基板对位标记，n是每个像素包括的子像素的个数，n是大于等于3的自然数，X是小于等于n的自然数；在掩模版上形成与基板对位标记集合一一对应的掩模对位标记集合，其包括n个掩模对位标记，n个掩模对位标记是Y种形貌的掩模对位标记，Y是小于等于n的自然数且XY≥n；掩模对位标记集合和与之对应的基板对位标记集合对位，每一个掩模对位标记与一个基板对位标记对位形成n种不同的对位形貌。制造的方法包括对齐方法。本发明便于进行对位的确认。
Description
技术领域
本发明涉及彩膜基板制造领域，特别涉及一种用于将掩模版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法。
背景技术
液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)具有体积小、重量轻、功耗低、辐射低等特点，已经被广泛应用于各种电子设备中。为制造液晶显示装置，需要制造彩膜基板。在制造彩膜基板的彩色滤光片的膜层的曝光工序中，经常采用四点定位的方式来对齐掩模版和玻璃基板，即通过对位掩模版位于四角的对位标记和玻璃基板位于四角的对位标记来对齐掩模版和玻璃基板。
下面以所制造的彩膜基板的每个像素包括的子像素是红色子像素，绿色子像素和蓝色子像素为例，说明用于将掩模版和基板对齐的方法，其中，四点定位的方式中的每点的定位方法相同，以其中一个为例进行说明。如图1所示，形成在玻璃基板上的形貌相同的红色子像素基板对位标记11，绿色子像素基板对位标记12和蓝色子像素基板对位标记13；如图2所示，形成在掩模版上的形貌相同的红色子像素掩模对位标记21，绿色子像素掩模对位标记22和蓝色子像素掩模对位标记23；在对位后，红色子像素掩模对位标记21和红色子像素基板对位标记11应该对位，绿色子像素掩模对位标记22和绿色子像素基板对位标记12应该对位，蓝色子像素掩模对位标记23和蓝色子像素基板对位标记33应该对位，形成三个形貌相同的对位形貌，如图3所示。由于玻璃基板上的三个基板对位标记形貌相同，掩模版上的三个掩模对位标记形貌相同，存在对位对错的情况，如将红色子像素掩模对位标记和绿色子像素基板对位，掩模版和基板对齐的效率低下，进而降低了生产效率。
发明内容
本发明提供了一种用于将掩模版和基板对齐的方法及彩膜基板制造方法，与现有技术相比，便于进行对位的确认，减少对位错误的几率，提高了掩模版和基板对齐的效率，进而提高了生产效率。
为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：
一种用于将掩模版和基板对齐的方法，包括如下步骤：
在基板上形成至少一个基板对位标记集合，每个所述基板对位标记集合包括n个基板对位标记，所述n个基板对位标记是X种形貌的基板对位标记，其中，n是所制造彩膜基板的每个像素包括的子像素的个数，n是大于等于3的自然数，X是小于等于n的自然数；
在掩模版上形成与所述基板对位标记集合一一对应的掩模对位标记集合，每个所述掩模对位标记集合包括n个掩模对位标记，所述n个掩模对位标记是Y种形貌的掩模对位标记，Y是小于等于n的自然数且XY≥n；
所述掩模对位标记集合和与之对应的基板对位标记集合对位，每一个掩模对位标记与一个基板对位标记对位形成n种不同的对位形貌。
优选的，所述X种形貌的基板对位标记分别是第一种形貌的基板对位标记，第二种形貌的基板对位标记，......，第X种形貌的基板对位标记；其中，所述第二种形貌的基板对位标记，......，第X种形貌的基板对位标记是所述第一种形貌的基板对位标记旋转后的形貌；
所述Y种形貌的掩模对位标记分别是第一种形貌的掩模对位标记，第二种形貌的掩模对位标记，......，第Y种形貌的掩模对位标记；其中，所述第二种形貌的掩模对位标记，......，第Y种形貌的掩模对位标记是所述第一种形貌的掩模对位标记旋转角度后的形貌。
优选的，n＝3，X＝Y＝2，所述第二种形貌的基板对位标记是第一种形貌的基板对位标记旋转45度的形貌，所述第二种形貌的掩模对位标记是第一种形貌的掩模对位标记旋转45度的形貌。
优选的，所制造的彩膜基板的每个像素包括红色子像素，绿色子像素和蓝色子像素，所述3个基板对位标记分别是红色子像素基板对位标记，绿色子像素基板对位标记和蓝色子像素基板对位标记；
所述3个掩模对位标记分别是红色子像素掩模对位标记，绿色子像素掩模对位标记和蓝色子像素掩模对位标记；
所述三种不同的对位形貌分别是由红色子像素掩模对位标记和红色子像素基板对位标记对位形成的第一种对位形貌，由绿色子像素掩模对位标记和绿色子像素基板对位标记对位形成的第二种对位形貌，由蓝色子像素掩模对位标记和蓝色子像素基板对位标记对位形成的第三种对位形貌。
优选的，n＝4，X＝Y＝2，所述第二种形貌的基板对位标记是第一种形貌的基板对位标记旋转45度的形貌，所述第二种形貌的掩模对位标记是第一种形貌的掩模对位标记旋转45度的形貌。
优选的，所制造的彩膜基板的每个像素包括红色子像素，绿色子像素，蓝色子像素和白色子像素，所述4个基板对位标记分别是红色子像素基板对位标记，绿色子像素基板对位标记，蓝色子像素基板对位标记和白色子像素基板对位标记；
所述4个掩模对位标记分别是红色子像素掩模对位标记，绿色子像素掩模对位标记，蓝色子像素掩模对位标记和白色子像素掩模对位标记；
所述四种不同的对位形貌分别是由红色子像素掩模对位标记和红色子像素基板对位标记对位形成的第一种对位形貌，由绿色子像素掩模对位标记和绿色子像素基板对位标记对位形成的第二种对位形貌，由蓝色子像素掩模对位标记和蓝色子像素基板对位标记对位形成的第三种对位形貌，由白色子像素掩模对位标记和白色子像素基板对位标记对位形成的第四种对位形貌。
优选的，X＝1，Y＝n或X＝n，Y＝1。
优选的，n＝3或n＝4。
本发明还提供以下技术方案：
一种彩膜基板的制造方法，掩模版和基板对齐采用上述任一所述的方法。
本发明提供的用于将掩模版和基板对齐的方法及彩膜制造方法，所制造彩膜基板的每个像素包括的子像素的个数是n个，掩模对位标记集合和与之对应的基板对位标记集合对位，n个基板对位标记是X种形貌的基板对位标记，n个掩模对位标记是Y种形貌的掩模对位标记，X和Y是小于等于n的自然数且XY≥n，这样能够保证掩模对位标记集合和与之对应的基板对位标记集合对位，每一个掩模对位标记与一个基板对位标记对位形成n种不同的对位形貌。这样，n个子像素的对位形貌不同，便于进行对位的确认，减少对位错误的几率，提高了掩模版和基板对齐的效率，进而提高了生产效率。
附图说明
图1为现有的形成在玻璃基板上的形貌相同的三个基板对位标记的示意图；
图2为现有的形成在掩模版上的形貌相同的三个掩模对位标记的示意图；
图3为现有的三个掩模对位标记和三个基板对位标记对位后形成的形貌相同的对位形貌的示意图；
图4为本发明的一个实施例的用于将掩模版和基板对齐的方法的流程图；
图5为本发明的一个具体的实施例的用于将掩模版和基板对齐的方法中3个基板对位标记的示意图；
图6为本发明的一个具体的实施例的用于将掩模版和基板对齐的方法中3个掩模对位标记的示意图；
图7为本发明的一个具体的实施例的用于将掩模版和基板对齐的方法中形成的第一种对位形貌的示意图；
图8为本发明的一个具体的实施例的用于将掩模版和基板对齐的方法中形成的第二种对位形貌的示意图；
图9为本发明的一个具体的实施例的用于将掩模版和基板对齐的方法中形成的第三种对位形貌的示意图；
图10为本发明的另一个具体的实施例的用于将掩模版和基板对齐的方法中形成的第四种对位形貌的示意图。
主要元件附图标记说明：
现有技术中：
11红色子像素基板对位标记，12绿色子像素基板对位标记，13蓝色子像素基板对位标记，
21红色子像素掩模对位标记，22绿色子像素掩模对位标记，23蓝色子像素掩模对位标记；
本发明中：
101红色子像素基板对位标记，102绿色子像素基板对位标记，103蓝色子像素基板对位标记，104白色子像素基板对位标记，
201红色子像素掩模对位标记，202绿色子像素掩模对位标记，203蓝色子像素掩模对位标记，204白色子像素掩模对位标记。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明的第一个实施例的用于将掩模版和基板对齐的方法，如图4所示，包括如下步骤：
步骤001：在基板上形成至少一个基板对位标记集合，每个基板对位标记集合包括n个基板对位标记，n个基板对位标记是X种形貌的基板对位标记，其中，n是所制造彩膜基板的每个像素包括的子像素的个数，n是大于等于3的自然数，X是小于等于n的自然数；
步骤002：在掩模版上形成与基板对位标记集合一一对应的掩模对位标记集合，每个掩模对位标记集合包括n个掩模对位标记，n个掩模对位标记是Y种形貌的掩模对位标记，Y是小于等于n的自然数且XY≥n；
步骤003：掩模对位标记集合和与之对应的基板对位标记集合对位，每一个掩模对位标记与一个基板对位标记对位形成n种不同的对位形貌。
本实施例的用于将掩模版和基板对齐的方法，所制造彩膜基板的每个像素包括的子像素的个数是n个，掩模对位标记集合和与之对应的基板对位标记集合对位，n个基板对位标记是X种形貌的基板对位标记，n个掩模对位标记是Y种形貌的掩模对位标记，X和Y是小于等于n的自然数且XY≥n，这样能够保证掩模对位标记集合和与之对应的基板对位标记集合对位，每一个掩模对位标记与一个基板对位标记对位形成n种不同的对位形貌。这样，n个子像素的对位形貌不同，便于进行对位的确认，减少对位错误的几率，提高了掩模版和基板对齐的效率，进而提高了生产效率。
本发明的第二个实施例的用于将掩模版和基板对齐的方法，在第一个实施例的基础上进行进一步限定：
X种形貌的基板对位标记分别是第一种形貌的基板对位标记，第二种形貌的基板对位标记，......，第X种形貌的基板对位标记；其中，第二种形貌的基板对位标记，......，第X种形貌的基板对位标记是第一种形貌的基板对位标记旋转后的形貌；
Y种形貌的掩模对位标记分别是第一种形貌的掩模对位标记，第二种形貌的掩模对位标记，......，第Y种形貌的掩模对位标记；其中，第二种形貌的掩模对位标记，......，第Y种形貌的掩模对位标记是第一种形貌的掩模对位标记旋转角度后的形貌。
将第一种形貌的基板对位标记旋转不同角度后的形貌作为第二种形貌的基板对位标记，......，第X种形貌的基板对位标记，可以通过简单的方式得到多种基板对位标记；
将第一种形貌的掩模对位标记旋转不同角度后的形貌作为第二种形貌的掩模对位标记，......，第Y种形貌的掩模对位标记，可以通过简单的方式得到多种掩模对位标记。
需要说明的是，X种形貌的基板对位标记和Y种形貌的掩模对位标记的实现形式有多种，上述仅用于举例说明。
在一个具体的例子中，所制造的彩膜基板的每个像素包括红色子像素，绿色子像素和蓝色子像素，即n＝3。
3个基板对位标记分别是红色子像素基板对位标记，绿色子像素基板对位标记和蓝色子像素基板对位标记；其中，如图5所示，红色子像素基板对位标记101是方块，绿色子像素基板对位标记102和蓝色子像素基板对位标记103是方块旋转45度，即X＝2。
3个掩模对位标记分别是红色子像素掩模对位标记，绿色子像素掩模对位标记和蓝色子像素掩模对位标记；其中，如图6所示，红色子像素掩模对位标记201和蓝色子像素掩模对位标记203是四撇，绿色子像素掩模对位标记202是四撇旋转45度，即Y＝2。
如图7所示，红色子像素掩模对位标记201和红色子像素基板对位标记101对位形成的第一种对位形貌；如图8所示，绿色子像素掩模对位标记202和绿色子像素基板对位标记102对位形成的第二种对位形貌；如图9所示，蓝色子像素掩模对位标记203和蓝色子像素基板对位标记103对位形成的第三种对位形貌。
需要说明的是，在所制造的彩膜基板的每个像素包括红色子像素，绿色子像素和蓝色子像素，3个基板对位标记和3个掩模对位标记形成三种不同的对位形貌的实现形式有多种，上述仅用于举例说明。如可以是3个基板对位标记是一种基板对位标记，3个掩模对位标记是三种掩模对位标记，形成三种不同的对位形貌的实现形式；还可以是3个基板对位标记是三种基板对位标记，3个掩模对位标记是一种掩模对位标记，形成三种不同的对位形貌的实现形式。
在另一个具体的例子中，所制造的彩膜基板的每个像素包括红色子像素，绿色子像素，蓝色子像素和白色子像素，即n＝4。
4个基板对位标记分别是红色子像素基板对位标记，绿色子像素基板对位标记，蓝色子像素基板对位标记和白色子像素基板对位标记；红色子像素基板对位标记和白色子像素基板对位标记是方块，绿色子像素基板对位标记和蓝色子像素基板对位标记是方块旋转45度，即X＝2。
4个掩模对位标记分别是红色子像素掩模对位标记，绿色子像素掩模对位标记，蓝色子像素掩模对位标记和白色子像素掩模对位标记；其中，红色子像素掩模对位标记和蓝色子像素掩模对位标记是四撇，绿色子像素掩模对位标记和白色子像素掩模对位标记是四撇旋转45度，即Y＝2。
红色子像素掩模对位标记201和红色子像素基板对位标记101对位形成的第一种对位形貌，如图7所示；绿色子像素掩模对位标记202和绿色子像素基板对位标记102对位形成的第二种对位形貌，如图8所示；蓝色子像素掩模对位标记203和蓝色子像素基板对位标记103对位形成的第三种对位形貌，如图9所示；白色子像素掩模对位标记204和白色子像素基板对位标记104对位形成的第四种对位形貌，如图10所示。
需要说明的是，在所制造的彩膜基板的每个像素包括红色子像素，绿色子像素，蓝色子像素和白色子像素，4个基板对位标记和4个掩模对位标记形成4种不同的对位形貌的实现形式有多种，上述仅用于举例说明。如可以是4个基板对位标记是一种基板对位标记，4个掩模对位标记是四种掩模对位标记，形成四种不同的对位形貌的实现形式；还可以是4个基板对位标记是四种基板对位标记，4个掩模对位标记是一种掩模对位标记，形成四种不同的对位形貌的实现形式。
本发明的彩膜基板的制造方法，掩模版和基板对齐采用上述任一的对齐方法。
显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (9)
1.一种用于将掩模版和基板对齐的方法，其特征在于，包括如下步骤：
在基板上形成至少一个基板对位标记集合，每个所述基板对位标记集合包括n个基板对位标记，所述n个基板对位标记是X种形貌的基板对位标记，其中，n是所制造彩膜基板的每个像素包括的子像素的个数，n是大于等于3的自然数，X是小于等于n的自然数；
在掩模版上形成与所述基板对位标记集合一一对应的掩模对位标记集合，每个所述掩模对位标记集合包括n个掩模对位标记，所述n个掩模对位标记是Y种形貌的掩模对位标记，Y是小于等于n的自然数且XY≥n；
所述掩模对位标记集合和与之对应的基板对位标记集合对位，每一个掩模对位标记与一个基板对位标记对位形成n种不同的对位形貌。
2.根据权利要求1所述的用于将掩模版和基板对齐的方法，其特征在于，所述X种形貌的基板对位标记分别是第一种形貌的基板对位标记，第二种形貌的基板对位标记，......，第X种形貌的基板对位标记；其中，所述第二种形貌的基板对位标记，......，第X种形貌的基板对位标记是所述第一种形貌的基板对位标记旋转后的形貌；
所述Y种形貌的掩模对位标记分别是第一种形貌的掩模对位标记，第二种形貌的掩模对位标记，......，第Y种形貌的掩模对位标记；其中，所述第二种形貌的掩模对位标记，......，第Y种形貌的掩模对位标记是所述第一种形貌的掩模对位标记旋转角度后的形貌。
3.根据权利要求2所述的用于将掩模版和基板对齐的方法，其特征在于，n＝3，X＝Y＝2，所述第二种形貌的基板对位标记是第一种形貌的基板对位标记旋转45度的形貌，所述第二种形貌的掩模对位标记是第一种形貌的掩模对位标记旋转45度的形貌。
4.根据权利要求3所述的用于将掩模版和基板对齐的方法，其特征在于，所制造的彩膜基板的每个像素包括红色子像素，绿色子像素和蓝色子像素，所述3个基板对位标记分别是红色子像素基板对位标记，绿色子像素基板对位标记和蓝色子像素基板对位标记；
所述3个掩模对位标记分别是红色子像素掩模对位标记，绿色子像素掩模对位标记和蓝色子像素掩模对位标记；
所述三种不同的对位形貌分别是由红色子像素掩模对位标记和红色子像素基板对位标记对位形成的第一种对位形貌，由绿色子像素掩模对位标记和绿色子像素基板对位标记对位形成的第二种对位形貌，由蓝色子像素掩模对位标记和蓝色子像素基板对位标记对位形成的第三种对位形貌。
5.根据权利要求2所述的用于将掩模版和基板对齐的方法，其特征在于，n＝4，X＝Y＝2，所述第二种形貌的基板对位标记是第一种形貌的基板对位标记旋转45度的形貌，所述第二种形貌的掩模对位标记是第一种形貌的掩模对位标记旋转45度的形貌。
6.根据权利要求5所述的用于将掩模版和基板对齐的方法，其特征在于，所制造的彩膜基板的每个像素包括红色子像素，绿色子像素，蓝色子像素和白色子像素，所述4个基板对位标记分别是红色子像素基板对位标记，绿色子像素基板对位标记，蓝色子像素基板对位标记和白色子像素基板对位标记；
所述4个掩模对位标记分别是红色子像素掩模对位标记，绿色子像素掩模对位标记，蓝色子像素掩模对位标记和白色子像素掩模对位标记；
所述四种不同的对位形貌分别是由红色子像素掩模对位标记和红色子像素基板对位标记对位形成的第一种对位形貌，由绿色子像素掩模对位标记和绿色子像素基板对位标记对位形成的第二种对位形貌，由蓝色子像素掩模对位标记和蓝色子像素基板对位标记对位形成的第三种对位形貌，由白色子像素掩模对位标记和白色子像素基板对位标记对位形成的第四种对位形貌。
7.根据权利要求2所述的用于将掩模版和基板对齐的方法，其特征在于，X＝1，Y＝n或X＝n，Y＝1。
8.根据权利要求7所述的用于将掩模版和基板对齐的方法，其特征在于，n＝3或n＝4。
9.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，掩模版和基板对齐采用权利要求1-8中任一所述的方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410164615.8A CN103969873B (zh) | 2014-04-23 | 2014-04-23 | 用于将掩模版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410164615.8A CN103969873B (zh) | 2014-04-23 | 2014-04-23 | 用于将掩模版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103969873A CN103969873A (zh) | 2014-08-06 |
| CN103969873B true CN103969873B (zh) | 2016-05-25 |
Family
ID=51239562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201410164615.8A Expired - Fee Related CN103969873B (zh) | 2014-04-23 | 2014-04-23 | 用于将掩模版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103969873B (zh) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104950506B (zh) * | 2015-07-29 | 2018-03-06 | 武汉华星光电技术有限公司 | Tft基板与cf基板的对位方法 |
| CN105182680B (zh) * | 2015-10-22 | 2019-12-17 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 色阻掩膜板及其使用方法 |
| KR20180078409A (ko) * | 2016-12-29 | 2018-07-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치 및 이의 제조방법 |
| CN106647011A (zh) * | 2017-03-14 | 2017-05-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板的制作方法、显示基板、显示面板和显示装置 |
| CN107065281B (zh) * | 2017-04-12 | 2020-07-03 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种彩色色阻的制作方法 |
| CN106918948B (zh) * | 2017-04-12 | 2020-07-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种彩色色阻的制作方法 |
| CN107065283B (zh) * | 2017-04-17 | 2020-04-07 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 高ppi面板cf光罩共用的方法 |
| CN108776406B (zh) * | 2018-05-29 | 2021-06-01 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003287873A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Kyocera Corp | フォトマスク、基準基板および露光機ならびにカラーフィルターの製造方法 |
| JP2007256581A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Hitachi High-Technologies Corp | カラーフィルタ基板の露光装置及び露光方法 |
| CN102650819A (zh) * | 2011-08-03 | 2012-08-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板和掩膜板的定位方法 |
| CN102681251A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-09-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置 |
| CN102866576A (zh) * | 2012-08-27 | 2013-01-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板组及应用掩膜板组确定对位精度范围的方法 |
| CN102944970A (zh) * | 2012-11-16 | 2013-02-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基板掩膜对位方法 |
-
2014
- 2014-04-23 CN CN201410164615.8A patent/CN103969873B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003287873A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Kyocera Corp | フォトマスク、基準基板および露光機ならびにカラーフィルターの製造方法 |
| JP2007256581A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Hitachi High-Technologies Corp | カラーフィルタ基板の露光装置及び露光方法 |
| CN102650819A (zh) * | 2011-08-03 | 2012-08-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板和掩膜板的定位方法 |
| CN102681251A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-09-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置 |
| CN102866576A (zh) * | 2012-08-27 | 2013-01-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板组及应用掩膜板组确定对位精度范围的方法 |
| CN102944970A (zh) * | 2012-11-16 | 2013-02-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基板掩膜对位方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN103969873A (zh) | 2014-08-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103969873B (zh) | 用于将掩模版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法 | |
| CN107236927B (zh) | 掩膜板模组、有机电致发光显示面板及其制作方法 | |
| US9715173B2 (en) | Alignment exposure method and method of fabricating display substrate | |
| CN102262319B (zh) | 液晶显示基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器 | |
| CN104330912A (zh) | 一种母板、对盒后的母板、对应制作方法及液晶显示面板 | |
| CN104614931B (zh) | 掩模板及制造彩膜基板的方法和彩膜基板 | |
| CN107359285B (zh) | 一种oled显示装置及其制备方法 | |
| CN102096328B (zh) | 液晶面板的曝光工序及其掩膜 | |
| CN102681251A (zh) | 一种彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置 | |
| US20180113354A1 (en) | Color film substrate, manufacturing method thereof and display device | |
| CN103869518B (zh) | 液晶显示器的制造方法及其产品 | |
| US9891464B2 (en) | Color resist mask sheet and method of use thereof | |
| CN106373982A (zh) | 显示基板及其制作方法、以及显示装置 | |
| CN103984202A (zh) | 掩膜板和彩膜基板的制作方法 | |
| WO2020088082A1 (zh) | 显示基板母板及其制作方法 | |
| CN106019814A (zh) | 掩膜板及膜层的制备方法 | |
| CN107829065A (zh) | 一种开口掩膜板、母板及其制备方法、基板、显示装置 | |
| CN106125517A (zh) | 显示基板曝光方法 | |
| CN104778904A (zh) | 一种显示面板母板及其制备方法 | |
| CN104571716A (zh) | 上基板及制备方法、触控显示面板及制备方法 | |
| CN203941362U (zh) | 液晶面板 | |
| CN106773259A (zh) | 一种彩膜基板及其制备方法、显示装置 | |
| CN106647011A (zh) | 显示基板的制作方法、显示基板、显示面板和显示装置 | |
| CN104503144B (zh) | 一种液晶显示基板 | |
| CN105093818B (zh) | 掩模图形的制造方法和掩模图形 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20160525 Termination date: 20200423 |