CN107829065A - 一种开口掩膜板、母板及其制备方法、基板、显示装置 - Google Patents

一种开口掩膜板、母板及其制备方法、基板、显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种开口掩膜板、母板及其制备方法、基板、显示装置,涉及显示技术领域,可解决开口掩膜板无法蒸镀形成内部包含镂空部分的图案块的问题。开口掩膜板,包括至少一个镂空图案组;镂空图案组包括一行间隔排布的第一镂空图案和一行间隔排布的第二镂空图案;同一镂空图案组中,开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行第一镂空图案与开口掩膜板未旋转时的一行第二镂空图案可拼接成一行包围遮挡区的第三镂空图案,开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行第二镂空图案与开口掩膜板未旋转时的一行第一镂空图案可拼接成一行第三镂空图案;第一镂空图案的轮廓包含遮挡区的轮廓的一部分,第二镂空图案的轮廓包含遮挡区的轮廓的另一部分。

Description

一种开口掩膜板、母板及其制备方法、基板、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种开口掩膜板、母板及其制备方法、基板、显示装置。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机电致发光二极管)是自发光器件,不需要背光源,外观轻薄,具有功耗低、视角宽、屏幕响应快等优点。
制备OLED时,通常采用一种较为成熟且高精度的真空蒸镀技术,在制备过程中,OLED中功能层的材料会淀积在位于蒸发源上方的衬底。为了形成特有的图案,在衬底靠近蒸发源一侧设置有开口掩膜板,开口掩膜板上留有预先设计好的镂空图案,最终功能层的材料会通过金属掩膜板上的镂空区域沉积到衬底上。
现有的蒸镀用的open mask(开口掩膜板)使用范围较为局限,蒸镀形成一个完整的图案块没有问题,但当需要蒸镀形成一个内部包含镂空部分的图案块时,就无法满足需求。
发明内容
本发明的实施例提供一种开口掩膜板、母板及其制备方法、基板、显示装置,可解决开口掩膜板无法蒸镀形成内部包含镂空部分的图案块的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
第一方面,提供一种开口掩膜板,包括至少一个镂空图案组;所述镂空图案组包括一行间隔排布的第一镂空图案和一行间隔排布的第二镂空图案;同一所述镂空图案组中,所述开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行所述第一镂空图案与所述开口掩膜板未旋转时的一行所述第二镂空图案可拼接成一行包围遮挡区的第三镂空图案,所述开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行所述第二镂空图案与所述开口掩膜板未旋转时的一行所述第一镂空图案可拼接成一行所述第三镂空图案;所述第一镂空图案的轮廓包含所述遮挡区的轮廓的一部分,所述第二镂空图案的轮廓包含所述遮挡区的轮廓的另一部分。
可选的,所述第一镂空图案的轮廓包含所述遮挡区的轮廓的一半,所述第二镂空图案的轮廓包含所述遮挡区的轮廓的另一半。
可选的,所述遮挡区的轮廓为轴对称图形;所述第一镂空图案的轮廓包含所述轴对称图形中以对称轴作为分界划分得到的一半,所述第二镂空图案的轮廓包含所述轴对称图形中以对称轴作为分界划分得到的另一半。
可选的,所述开口掩膜板还包括一行间隔排布的第四镂空图案,所述第一镂空图案、所述第二镂空图案和所述第四镂空图案的行数之和为奇数;所述第四镂空图案所在行为中间行;所述开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行所述第四镂空图案与所述开口掩膜板未旋转时的一行所述第四镂空图案可拼接成一行包围遮挡区的第五镂空图案。
可选的,同一镂空图案组中的一行所述第一镂空图案与一行所述第二镂空图案呈镜像对称分布。
可选的,所述开口掩膜板的材料包括因瓦合金。
第二方面,提供一种母板的制备方法,所述方法包括:采用掩膜板在衬底上蒸镀形成多行第一图案块,所述掩膜板包括第一方面所述的开口掩膜板;将所述掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°,采用旋转后的所述掩膜板在形成有所述第一图案块的衬底上蒸镀形成与多行所述第一图案块无缝拼接的多行第二图案块;其中,多行所述第一图案块和多行所述第二图案块拼成多行内部具有镂空部分的第三图案块,所述镂空部分的轮廓与第一方面所述的开口掩膜板的遮挡区的轮廓相同。
第三方面,提供一种母板,包括多行内部具有镂空部分的第三图案块,多行所述第三图案块由多行蒸镀形成的第一图案块和多行蒸镀形成的第二图案块拼接而成;所述第一图案块的轮廓包含所述镂空部分的轮廓的一部分,所述第二镂空图案的轮廓包含所述镂空部分的轮廓的另一部分。
第四方面,提供一种基板,包括一个内部具有镂空部分的第三图案块,所述第三图案块由一个蒸镀形成的第一图案块和一个蒸镀形成的第二图案块拼接而成;所述第一图案块的轮廓包含所述镂空部分的轮廓的一部分,所述第二镂空图案的轮廓包含所述镂空部分的轮廓的另一部分。
第五方面,提供一种显示装置,包括第四方面所述的基板。
本发明提供一种开口掩膜板、母板及其制备方法、基板、显示装置,在利用本发明提供的开口掩膜板进行蒸镀时,通过采用将开口掩膜板沿其厚度方向旋转180°的方式,使利用旋转前的开口掩膜板蒸镀的图案和利用旋转后的开口掩膜板蒸镀的图案拼接成一个包含镂空部分的图案,即,仅通过一个开口掩膜板就能蒸镀形成包含镂空部分的图案,极大的减少了产品开发成本。
此外,镂空部分可以位于蒸镀形成的图案的任意位置,可满足各种不同的需求。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种开口掩膜板的结构示意图一;
图2为本发明实施例提供的一种开口掩膜板的结构示意图二;
图3为本发明实施例提供的开口掩膜板旋转前和旋转后的结构拼接后的结构示意图一;
图4为本发明实施例提供的开口掩膜板旋转前和旋转后的结构拼接后的结构示意图二;
图5为本发明实施例提供的一种开口掩膜板的结构示意图三;
图6为本发明实施例提供的一种开口掩膜板的结构示意图四;
图7为本发明实施例提供的一种开口掩膜板的镂空图案的结构示意图;
图8为本发明实施例提供的一种开口掩膜板的结构示意图五;
图9为本发明实施例提供的开口掩膜板旋转前和旋转后的结构拼接后的结构示意图三;
图10为本发明实施例提供的开口掩膜板旋转前和旋转后的结构拼接后的结构示意图四。
附图标记
10-镂空图案组;11-第一镂空图案;12-第二镂空图案;13-第三镂空图案;14-第四镂空图案;15-第五镂空图案;20-遮挡区。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种开口掩膜板,如图1所示,包括至少一个镂空图案组10;所述镂空图案组10包括一行间隔排布的第一镂空图案11和一行间隔排布的第二镂空图案12;如图3所示,同一镂空图案组10中,开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行第一镂空图案11(如图2所示)与开口掩膜板未旋转时的一行第二镂空图案12(如图1所示)可拼接成一行包围遮挡区20的第三镂空图案13,开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行第二镂空图案12与开口掩膜板未旋转时的一行第一镂空图案11可拼接成一行第三镂空图案13;第一镂空图案11的轮廓包含遮挡区20的轮廓的一部分,第二镂空图案12的轮廓包含遮挡区20的轮廓的另一部分。
需要说明的是,第一,每一行中的第一镂空图案11至少为两个,同一行中的第一镂空图案11可以相同,也可以不同,只要位于同一行中的镂空图案都称为第一镂空图案11,这里并不限定一行中的第一镂空图案11形状大小完全相同。在实施例中,以位于同一行中的第一镂空图案11形状大小完全相同为例。同样的,第二镂空图案12也可按此理解。例如可以采用湿法刻蚀的方式形成上述镂空图案。
同样的,第三镂空图案13是由第一镂空图案11和第二镂空图案12拼接而成的,由于同一行中的第一镂空图案11和第二镂空图案12并不一定完全相同,因此,同一行中的第三镂空图案13的形状大小也不一定完全相同。
同样的,同一行中的遮挡区20的轮廓并不一定完全相同。
第二,第三镂空图案13是由第一镂空图案11和第二镂空图案12拼接而成的,为了防止第三镂空图案13中间有缝隙,开口掩膜板旋转前和旋转后可以略有搭接。这样一来,第一镂空图案11和第二镂空图案12在形状上可以将搭接部分包括在内。
第三,当镂空图案组10包括多个时,镂空图案组10中的一行第一镂空图案11和一行第二镂空图案12的排布方式应如图1所示,以使开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后,同一镂空图案组10中的第一镂空图案11和第二镂空图案12拼接,使本发明提供的开口掩膜板能达到图4所示的掩膜板的蒸镀效果。。
第四,开口掩膜板在旋转前的结构如图1所示,在旋转后的结构如图2所示,同一镂空图案组10中的第一镂空图案11和第二镂空图案12拼接,形成两行镂空图案13。
第五,第一镂空图案11的轮廓包含遮挡区20的轮廓的一部分,第二镂空图案12的轮廓包含遮挡区20的轮廓的另一部分,是指,如图3所示,遮挡区20的轮廓为一个圆形,第一镂空图案11的轮廓中包括了圆形的一部分,第二镂空图案12包括了圆形的另一部分,当第一镂空图案11和第二镂空图案12拼接时,第一镂空图案11中包括的那一部分圆弧和第二镂空图案12中包括的那一部分圆弧,正好拼接成遮挡区20的轮廓。
其中,不对第一镂空图案11和第二镂空图案12的具体轮廓进行限定,根据需要合理设置即可。
此外,不对遮挡区20的轮廓的具体性转进行限定,只要上封闭图形即可。对于第一镂空图案11的轮廓和第二镂空图案12的轮廓分别包括遮挡区20的轮廓的多少不做限定,第一镂空图案11的轮廓和第二镂空图案12的轮廓包含的部分拼接起来能够拼接成遮挡区20的轮廓即可。
第六,此处包围遮挡区20的第三镂空图案13,是指,如图3所示,遮挡区20的轮廓位于第三镂空图案13的轮廓内。
第七,本领域技术人员应该明白,使用本发明提供的开口掩膜板时,会有一次旋转的过程,也就是说同一掩膜板使用两次,因此,相邻第一镂空图案11之间的间隙应能放置下第二镂空图案12对应形成的图案,同理,相邻第二镂空图案12之间的间隙应能放置下第一镂空图案11对应形成的图案。
第八,开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行第一镂空图案11与开口掩膜板未旋转时的一行第二镂空图案12可拼接成一行包围遮挡区20的第三镂空图案13,此处的“可”是能够拼接成的意思,并不是可以拼接也可以不拼接的意思。
本发明实施例提供一种开口掩膜板,在利用本发明提供的开口掩膜板进行蒸镀时,通过采用将开口掩膜板沿其厚度方向旋转180°的方式,使利用旋转前的开口掩膜板蒸镀的图案和利用旋转后的开口掩膜板蒸镀的图案拼接成一个包含镂空部分的图案,即,仅通过一个开口掩膜板就能蒸镀形成包含镂空部分的图案,极大的减少了产品开发成本。
此外,镂空部分可以位于蒸镀形成的图案的任意位置,可满足各种不同的需求。
为了便于开口掩膜板的制备和布局,本发明实施例优选的,如图5和图6所示,第一镂空图案11的轮廓包含遮挡区20的轮廓的一半,第二镂空图案12的轮廓包含遮挡区20的轮廓的另一半。
即,沿任意方向将遮挡区20平分为两部分,第一镂空图案11的轮廓包含一半,第二镂空图案12的轮廓包含另一半。此处的一半,是指遮挡区20的轮廓的周长长度的一半。第一镂空图案11的轮廓包含一半和第二镂空图案12的轮廓包含另一半的长度相等,但线条的轨迹不一定相同。
优选的,如图7所示,遮挡区20的轮廓为轴对称图形;第一镂空图案11的轮廓包含轴对称图形中以对称轴作为分界划分得到的一半,第二镂空图案12的轮廓包含轴对称图形中以对称轴作为分界划分得到的另一半。
即,轴对称图形以对称轴作为分界划分得到的两部分线条不管是长度还是线条的轨迹都相同。
如图8所示,所述开口掩膜板还包括一行间隔排布的第四镂空图案14,第一镂空图案11、第二镂空图案12和第四镂空图案14的行数之和为奇数;第四镂空图案14所在行为中间行;如图9所示,开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行第四镂空图案14与开口掩膜板未旋转时的一行第四镂空图案14可拼接成一行包围遮挡区20的第五镂空图案15。
需要说明的是,第一,第四镂空图案14原地旋转180°之后,能与未旋转的第四镂空图案14拼接成一个包围遮挡区20的第五镂空图案15,则第四镂空图案14例如可以是轴对称图形。
第二,如图8所示,第四镂空图案14可以与第一镂空图案11或第二镂空图案12相同,也可以不同,因此,拼接而成的第五镂空图案15与第三镂空图案13可以相同,也可以不同。
为了便于制备,优选的,如图6所示,同一镂空图案组10中的一行第一镂空图案11与一行第二镂空图案12呈镜像对称分布。
开口掩膜板的形成材料可包括不锈钢、镍、镍钴合金、因瓦合金等,本公开的实施例不限制于具体的材料。
由于因瓦合金的热膨胀系数低,不易变形,优选的,开口掩膜板的形成材料包括因瓦合金。
本发明实施例还提供一种母板的制备方法,所述方法包括:
采用掩膜板在衬底上蒸镀形成多行第一图案块,所述掩膜板包括上述的开口掩膜板。
将所述掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°,采用旋转后的掩膜板在形成有第一图案块的衬底上蒸镀形成与多行第一图案块无缝拼接的多行第二图案块。
其中,多行第一图案块和多行第二图案块拼成多行内部具有镂空部分的第三图案块,镂空部分的轮廓上述开口掩膜板的遮挡区的轮廓相同。
需要说明的是,第一,此处蒸镀形成的第一图案块至少为两行,一行与上述开口掩膜板的第一镂空图案11对应,一行与第二镂空图案12对应。因此,当开口掩膜板上的第一镂空图案11和第二镂空图案12的轮廓不同时,蒸镀形成的第一图案块也不包括两种形状。
同理的,第二图案块与第一图案块情况相同。
这样一来,第一图案块中与第一镂空图案11对应的图案和第二图案块中与第二镂空图案12对应的图案拼接形成第三图案块,第一图案块中与第二镂空图案12对应的图案和第二图案块中与第一镂空图案11对应的图案也拼接形成第三图案块。也就是说,第一镂空图案11和第二镂空图案12正好可以形成所需的第三图案块的图形。
第二,内部具有镂空部分的第三图案块,是指镂空部分的轮廓位于第三图案块的轮廓内,而不是边缘。
第三图案块中的镂空部分与开口掩膜板中的遮挡区对应。
利用本发明实施例提供的母板的制备方法,可以节省制备成本,提高生产效率。
本发明实施例还提供一种母板,包括多行内部具有镂空部分的第三图案块,多行第三图案块由多行蒸镀形成的第一图案块和多行蒸镀形成的第二图案块拼接而成;第一图案块的轮廓包含镂空部分的轮廓的一部分,第二镂空图案的轮廓包含镂空部分的轮廓的另一部分。
其中,同一行中的第三图案块的轮廓可以相同,也可以不同。
当母板上第三图案块的形状确定后,如图10所示,在排布时将目标第三图案块以x轴对称排列;将第三图案块沿通过圆孔的y轴方向分割成两部分a、b,将b旋转180°得到c(如图7所示),优选以通过圆孔中心的直线方向进行分割,但并不对分割方式进行限制;开口掩模板上的镂空图案的设计如图6所示,x轴以上镂空图案开口形状为a,x轴以下镂空图案开口形状为d,将该开口掩模板旋转180°与原开口掩模板对位后,正好可以形成完整的第三图案图形。
不限制开口掩模板上镂空图案的形状,设计原则是将开口掩模板旋转180°与原开口掩模板对位后,正好可以形成完整的所需图形。
本发明实施例还提供一种基板,包括一个内部具有镂空部分的第三图案块,所述第三图案块由一个蒸镀形成的第一图案块和一个蒸镀形成的第二图案块拼接而成;第一图案块的轮廓包含镂空部分的轮廓的一部分,第二镂空图案的轮廓包含镂空部分的轮廓的另一部分。
即,基板上包括第三图案,第三图案的内部具有镂空部分,镂空部分的轮廓可以是任何形状,可以位于任何位置。
本发明实施例提供的基板,当实现全屏显示技术需在显示区设置其他部件时,例如将摄像头置于屏幕显示有效区内,在显示区要做一个通孔放置摄像头,这就要求在基板上制备膜层的过程中对应显示屏通孔的位置不可以蒸镀上材料,本发明提供的基板可满足上述结构。
本发明实施例还提供一种显示装置,包括上述基板。
上述显示装置可以为有机电致发光二极管显示器、液晶显示器、液晶电视、数码相框、手机、平板电脑、导航仪等具有任何显示功能的产品或者部件。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种开口掩膜板,其特征在于,包括至少一个镂空图案组;
所述镂空图案组包括一行间隔排布的第一镂空图案和一行间隔排布的第二镂空图案;同一所述镂空图案组中,所述开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行所述第一镂空图案与所述开口掩膜板未旋转时的一行所述第二镂空图案可拼接成一行包围遮挡区的第三镂空图案,所述开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行所述第二镂空图案与所述开口掩膜板未旋转时的一行所述第一镂空图案可拼接成一行所述第三镂空图案;
所述第一镂空图案的轮廓包含所述遮挡区的轮廓的一部分,所述第二镂空图案的轮廓包含所述遮挡区的轮廓的另一部分。
2.根据权利要求1所述的开口掩膜板,其特征在于,所述第一镂空图案的轮廓包含所述遮挡区的轮廓的一半,所述第二镂空图案的轮廓包含所述遮挡区的轮廓的另一半。
3.根据权利要求1所述的开口掩膜板,其特征在于,所述遮挡区的轮廓为轴对称图形;
所述第一镂空图案的轮廓包含所述轴对称图形中以对称轴作为分界划分得到的一半,所述第二镂空图案的轮廓包含所述轴对称图形中以对称轴作为分界划分得到的另一半。
4.根据权利要求1所述的开口掩膜板,其特征在于,还包括一行间隔排布的第四镂空图案,所述第一镂空图案、所述第二镂空图案和所述第四镂空图案的行数之和为奇数;所述第四镂空图案所在行为中间行;
所述开口掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°后的一行所述第四镂空图案与所述开口掩膜板未旋转时的一行所述第四镂空图案可拼接成一行包围遮挡区的第五镂空图案。
5.根据权利要求1所述的开口掩膜板,其特征在于,同一镂空图案组中的一行所述第一镂空图案与一行所述第二镂空图案呈镜像对称分布。
6.根据权利要求1所述的开口掩膜板,其特征在于,所述开口掩膜板的材料包括因瓦合金。
7.一种母板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
采用掩膜板在衬底上蒸镀形成多行第一图案块,所述掩膜板包括权利要求1-6任一项所述的开口掩膜板;
将所述掩膜板以其厚度方向为轴旋转180°,采用旋转后的所述掩膜板在形成有所述第一图案块的衬底上蒸镀形成与多行所述第一图案块无缝拼接的多行第二图案块;
其中,多行所述第一图案块和多行所述第二图案块拼成多行内部具有镂空部分的第三图案块,所述镂空部分的轮廓与权利要求1-6任一项所述的开口掩膜板的遮挡区的轮廓相同。
8.一种母板,其特征在于,包括多行内部具有镂空部分的第三图案块,多行所述第三图案块由多行蒸镀形成的第一图案块和多行蒸镀形成的第二图案块拼接而成;所述第一图案块的轮廓包含所述镂空部分的轮廓的一部分,所述第二镂空图案的轮廓包含所述镂空部分的轮廓的另一部分。
9.一种基板,其特征在于,包括一个内部具有镂空部分的第三图案块,所述第三图案块由一个蒸镀形成的第一图案块和一个蒸镀形成的第二图案块拼接而成;所述第一图案块的轮廓包含所述镂空部分的轮廓的一部分,所述第二镂空图案的轮廓包含所述镂空部分的轮廓的另一部分。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求9所述的基板。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108866476A (zh) * 2018-06-29 2018-11-23 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制作方法、蒸镀方法、显示屏
CN109371361A (zh) * 2018-12-15 2019-02-22 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板组件和显示面板及其制作方法
CN109860250A (zh) * 2019-01-29 2019-06-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Oled显示屏及其制备方法
WO2020151448A1 (zh) * 2019-01-22 2020-07-30 京东方科技集团股份有限公司 蒸镀方法、蒸镀掩膜模组、显示面板及显示装置
US10879330B1 (en) 2019-06-27 2020-12-29 Wuhan Tianma Micro-Electronics Co., Ltd. Array substrate, display panel and display device
US11355575B2 (en) 2019-06-27 2022-06-07 Wuhan Tianma Micro-Electronics Co., Ltd. Organic light-emitting display panel and manufacturing method thereof, and mask

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106191767A (zh) * 2014-10-31 2016-12-07 三星显示有限公司 沉积用掩模、沉积用掩模框架组件及其制造方法
US20170247788A1 (en) * 2016-02-29 2017-08-31 Japan Display Inc. Shadow mask, film forming system using shadow mask and method of manufacturing a display device
CN107236927A (zh) * 2017-06-16 2017-10-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板模组、有机电致发光显示面板及其制作方法
CN207552428U (zh) * 2017-09-05 2018-06-29 信利(惠州)智能显示有限公司 掩膜板

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106191767A (zh) * 2014-10-31 2016-12-07 三星显示有限公司 沉积用掩模、沉积用掩模框架组件及其制造方法
US20170247788A1 (en) * 2016-02-29 2017-08-31 Japan Display Inc. Shadow mask, film forming system using shadow mask and method of manufacturing a display device
CN107236927A (zh) * 2017-06-16 2017-10-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板模组、有机电致发光显示面板及其制作方法
CN207552428U (zh) * 2017-09-05 2018-06-29 信利(惠州)智能显示有限公司 掩膜板

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108866476A (zh) * 2018-06-29 2018-11-23 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制作方法、蒸镀方法、显示屏
US11355707B2 (en) 2018-06-29 2022-06-07 Boe Technology Group Co., Ltd. Mask having shielding part within opening and manufacturing method thereof, evaporation method and display screen with active area surrounding functional component area
WO2020001387A1 (zh) * 2018-06-29 2020-01-02 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制作方法、蒸镀方法、显示屏
CN108866476B (zh) * 2018-06-29 2020-03-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制作方法、蒸镀方法、显示屏
CN109371361A (zh) * 2018-12-15 2019-02-22 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板组件和显示面板及其制作方法
WO2020118888A1 (zh) * 2018-12-15 2020-06-18 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板组件及膜层制作方法
WO2020151448A1 (zh) * 2019-01-22 2020-07-30 京东方科技集团股份有限公司 蒸镀方法、蒸镀掩膜模组、显示面板及显示装置
US11889743B2 (en) 2019-01-22 2024-01-30 Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Evaporation method, evaporation mask assembly, display panel and display device
WO2020155347A1 (zh) * 2019-01-29 2020-08-06 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Oled显示屏及其制备方法
CN109860250A (zh) * 2019-01-29 2019-06-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Oled显示屏及其制备方法
US11362312B2 (en) 2019-01-29 2022-06-14 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. OLED display screen having opening corresponding to camera module and manufacturing method thereof
US10879330B1 (en) 2019-06-27 2020-12-29 Wuhan Tianma Micro-Electronics Co., Ltd. Array substrate, display panel and display device
US11355575B2 (en) 2019-06-27 2022-06-07 Wuhan Tianma Micro-Electronics Co., Ltd. Organic light-emitting display panel and manufacturing method thereof, and mask

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