CN108588640A - 一种掩膜板、显示器件的制作方法及显示器件 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种掩膜板、显示器件的制作方法及显示器件。掩膜板包括：掩膜板框架，所述掩膜板框架具有一开口区域；位于开口区域内、与掩膜板框架相分离的掩膜部；与掩膜部和所述掩膜板框架分别固定连接、将所述掩膜部固定在所述掩膜板框架上的至少一个掩膜条。制作方法包括：提供一显示基板，显示基板包括衬底基板和位于衬底基板上的显示功能层；采用本发明提供的上述掩膜板对显示基板进行无机材料蒸镀，形成覆盖显示基板的无机封装薄膜，该无机封装薄膜覆盖显示基板除预设区域之外的其他区域，预设区域与所述掩膜部对应。本发明的方案对掩模板进行了改进，通过该掩膜板实现的蒸镀工艺满足一部分显示一部分不显示的特殊显示器件的制备要求。

Description

一种掩膜板、显示器件的制作方法及显示器件

技术领域

本发明涉及显示器件的制作领域，特别是指一种掩膜板、显示器件的制作方法及显示器件。

背景技术

随着人们对新技术的电子产品的体验欲越来越强烈，电子产品已经有异形显示的特殊需求。例如，一些智能穿戴设备要求四周显示、中间不显示。

对于这类显示装置的图层就不能采用目前的整体掩膜方法进行蒸镀制备，即，现有的掩模板所实现的蒸镀工艺不能满足一部分显示一部分不显示的特殊显示器件的制备要求。

发明内容

本发明的目的是提供一种掩膜板、显示器件的制作方法及显示器件，能够使用掩膜板对一部分显示一部分不显示的特殊显示器件进行蒸镀制备。

为实现上述目的，一方面，本发明的实施例提供一种掩膜板，包括：

掩膜板框架，所述掩膜板框架具有一开口区域；

位于所述开口区域内、与所述掩膜板框架相分离的掩膜部；

与所述掩膜部和所述掩膜板框架分别固定连接、将所述掩膜部固定在所述掩膜板框架上的至少一个掩膜条。

其中，所述掩膜条为多个；

多个所述掩膜条的延伸方向交叉；或，多个所述掩膜条平行等间距设置在所述掩膜板框架上，所述掩膜条遮挡所述开口区域一半的部分。

另一方面，本发明的实施例还提供一种显示器件的制作方法，包括：

提供一显示基板，所述显示基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上的显示功能层；

采用本发明上述实施例提供的掩膜板对所述显示基板进行无机材料蒸镀，形成覆盖所述显示基板的无机封装薄膜，所述无机封装薄膜覆盖所述显示基板除预设区域之外的其他区域，所述预设区域与所述掩膜部对应。

其中，在进行无机材料蒸镀之前，所述制作方法还包括：

去除所述预设区域的显示功能层，暴露出所述预设区域的衬底基板。

其中，在进行无机材料蒸镀时，所述掩膜部在所述显示基板上的正投影完全覆盖所述预设区域。

其中，所述掩膜板的多个所述掩膜条平行等间距设置在所述掩膜板框架上，所述掩膜条遮挡所述开口区域一半的部分；

对所述显示基板进行无机材料蒸镀的步骤包括：

将所述掩膜板移动至第一位置，使用所述掩膜板对所述显示基板进行第一蒸镀工艺，在所述显示基板上形成第一无机薄膜；

将所述掩膜板移动至第二位置，使用所述掩膜板对所述显示基板进行第二蒸镀工艺，在所述显示基板上形成第二无机薄膜，所述第一无机薄膜和所述第二无机薄膜组成所述无机封装薄膜；

其中，所述掩膜板在形成所述第一蒸镀工艺中的掩膜条的排列方向与所述掩膜板在第二蒸镀工艺中的掩膜条的排列方向相同，且所述第一位置与所述第二位置相错一个掩膜条的宽度。

其中，在进行无机材料蒸镀之前，所述制作方法还包括：

在所述显示基板上形成包围所述预设区域的至少一圈挡墙。

其中，所述制作方法还包括：

在所述显示基板除预设区域之外的部分形成流变性有机材料，流变性有机材料被所述挡墙阻挡在所述挡墙远离所述预设区域的一侧，固化后形成有机封装薄膜。

其中，对所述显示基板完成封装后，所述方法还包括：

沿着所述预设区域的边界对所述显示基板进行切割。

此外，本发明的实施例还提供一种显示器件，所述显示器件采用本发明上述实施例所提供的制作方法制作得到。

本发明的上述方案具有如下有益效果：

本发明的方案对掩模板进行了改进，通过该掩膜板实现的蒸镀工艺能够满足一部分显示一部分不显示的特殊显示器件的制备要求，有利于异形显示器件的应用和推广。

附图说明

图1为本发明实施例提供的掩膜板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的掩膜板在实现方式一中的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的掩膜板在实现方式二中的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的制作方法制作显示器件的示意图；

图5A为本发明实施例提供的制作方法实现方式一中的一个流程的示意图；

图5B为本发明实施例提供的制作方法实现方式一中的一个流程的示意图；

图5C为本发明实施例提供的制作方法实现方式一中的一个流程的示意图；

图5D为本发明实施例提供的制作方法实现方式一中的一个流程的示意图；

图5E为本发明实施例提供的制作方法实现方式一中的一个流程的示意图；

图5F为本发明实施例提供的制作方法实现方式一中的一个流程的示意图；

图5G为本发明实施例提供的制作方法实现方式一中的一个流程的示意图；

图5H为本发明实施例提供的制作方法实现方式一中的一个流程的示意图；

图6A为本发明实施例提供的制作方法实现方式二中的一个流程的示意图；

图6B为本发明实施例提供的制作方法实现方式二中的一个流程的示意图；

图6C为本发明实施例提供的制作方法实现方式二中的一个流程的示意图。

具体实施方式

为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。在下面的描述中，提供诸如具体的配置和组件的特定细节仅仅是为了帮助全面理解本发明的实施例。因此，本领域技术人员应该清楚，可以对这里描述的实施例进行各种改变和修改而不脱离本发明的范围和精神。另外，为了清楚和简洁，省略了对已知功能和构造的描述。

应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本发明的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。

在本发明的各种实施例中，应理解，下述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本发明实施例的实施过程构成任何限定。

本发明针对现有的掩模板所实现的蒸镀工艺不能满足一部分显示一部分不显示的特殊显示器件的制备要求，提供一种解决方案。

一方面，本发明提供一种掩膜板，如图1所示，包括：

掩膜板框架11，该掩膜板框架具有一开口区域111；

位于开口区域111内、与掩膜板框架11相分离的掩膜部12；

与掩膜部12和掩膜板框架11分别固定连接、将掩膜部12固定在掩膜板框架11上的至少一个掩膜条13(图1以一个掩膜条示例)。

在使用本实施例的掩膜板进行蒸镀时，掩膜部对应不需要进行蒸镀的区域，因此可以制备一部分显示一部分不显示的特殊显示器件，例如，中间不显示、四周显示的异形显示器件。

下面对本实施例的掩膜板进行详细介绍。

实现方式一

如图2所示，本实施例的掩膜板具有多个掩膜条13，该多个掩膜条13的延伸方向交叉，掩膜部12固定在多个掩膜条13交叉的位置。

其中，本实现方式一中的掩膜条13仅用于将掩膜部12固定在开口区域111内，因此掩膜条13的宽度在满足结构强度前提下，越小越好，以至于不不会产生实质性的掩膜作用。

同理掩膜条13的数量也不宜过多，因此，如图2所示，作为优选方案，实现方式一以设置三个掩膜条13为优选方案，该三个掩膜条13交叉形成“Y”字结构，“Y”字结构具有较高的结构强度，满足遮挡部12的固定要求。

实现方式二

如图3所示，本实施例的掩膜板具有多个掩膜条13，该多个掩膜条13平行等间距设置在掩膜板框架11上，并遮挡开口区域111一半的部分。

在利用本实施例的掩膜板进行蒸镀时，先将掩膜板移动至第一位置，对待蒸镀位置进行第一次蒸镀工艺，形成第一薄膜；之后，在将掩膜板移动至第二位置，进行第二次蒸镀工艺，形成第二薄膜。第二位置与第一位置相错一个掩膜条的宽度。

显然，具有多个平行等间距设置的掩膜条13掩膜板在一次蒸镀工艺后，会形成趋近于多棱状结构的第一薄膜，之后掩膜板相错一个掩膜条的宽度，进行再次蒸镀，形成同样是多棱状结构的第二薄膜，第一薄膜较厚的部分对应第二薄膜较薄的部分，第一薄膜较薄的部分对应第二薄膜较厚的部分，因此第一薄膜与第二薄膜能够组成一个整体厚度相对均匀的薄膜，且结构更加牢靠。

此外，上述两次蒸镀工艺也可以使用两种不同的蒸镀材料，本实现方式二的掩膜板比较适用于制备复合材料的薄膜。

由此可见，实现方式二中的掩膜条13需要起到掩膜作用，即实现方式二的掩膜条13的相比于实现方式一的掩膜条13，可以设置更大的宽度，对于掩膜板的制作设备的工艺要求相对较低。考虑到像素显示的影响，掩膜条的宽度可以等于或趋近于显示器件中的半个子像素的宽度。

以上是对本实施例的掩膜板的介绍。基于该掩膜板，本实施例还可以用于制备异形的显示器件。

对应地，本发明的另一实施例还提供一种显示器件的制作方法，包括：

步骤一，提供一显示基板，该显示基板包括衬底基板和位于衬底基板上的显示功能层；

步骤二，采用本发明上述实施例所提供的掩膜板对显示基板进行无机材料蒸镀，形成覆盖显示基板的无机封装薄膜，该无机封装薄膜覆盖显示基板除预设区域之外的其他区域，预设区域与掩膜部对应。

其中，上述预设区域为不用于显示的区域，不需要设置显示功能层，或者是显示器件的非产品区(非产品区的部分在显示器件最终制备完成后不会保留)；上述其他区域可以是显示区域，或者也可以是指产品区(产品区包含显示区域)。

显然，本实施例的制作方法使用本发明上述实施例提供的掩膜板，可以对异形显示器件进行封装。

具体地，本实施例的封装膜为“第一无机封装膜-有机封装膜-第二无机封装膜”的三薄膜结构。其中，有机封装膜具有流变性质，能够吸收封装膜整体形变所受到的应力，使封装膜更具柔韧性。

下面对三薄膜结构的封装膜的制作方法进行详细介绍。

参考图4，在进行蒸镀之前，在显示基板上线形成包围预设区域D的至少一圈挡墙41(图4以一圈挡墙示例)。

之后，使用本发明实施例提供的上述掩膜板对显示基板进行第一蒸镀工艺，在显示基板上形成第一无机封装膜42；

在显示基板除预设区域D之外的部分形成流变性有机材料，流变性有机材料作为有机封装薄膜43，被挡墙41阻挡在挡墙41远离预设区域D的一侧，防止流变性有机材料流向预设区域D。

使用本发明实施例提供的上述掩膜板对显示基板进行第二蒸镀工艺，在显示基板上形成第二无机封装膜44。

可以看出，本实施例的制作方法通过设置挡墙41可阻挡有机封装薄膜43向封装膜边缘扩散，使封装膜密封性更可靠。

下面对本实施例的制作方法在实际应用中制作显示基板的流程进行详细介绍。

实现方式一

本实现方式一中，假设显示器件四周显示、中间的预设区域不进行显示，则如图5所示，制作方法包括：

步骤A1，参考图5A，提供一显示基板，该显示基板由预设区域D以及除预设区域D外的其他区域组成；

其中，显示基板的衬底基板51在其他区域上形成有显示器件的显示功能层52，该显示功能层52可以包括但不限于是本领域常见的薄膜晶体管、信号线、存储电容等。

步骤A2，参考图5B，去除预设区域D的显示功能层(即对除预设区域D进行挖孔)使其暴露出衬底基板51。

步骤A3，参考图5C，在预设区域D设置分别围绕预设区域D的两个挡墙53A、53B(挡墙数量不做限制，以两个或一个为宜)；其中，在远离预设区域D位置到靠近预设区域D位置的方向上，挡墙的高度可以逐渐增加。挡墙的形成材料可以包括：聚氨基甲酸酯、光感胶等。

此外，挡墙的高度范围以3μm至5μm为宜(包括3μm和5μm)，可以有效阻挡流变性有机材料，且不会产生较为明显的凸起。

步骤A4，参考图5D，使用图2所示的掩膜板在第一位置，对显示基板进行第一蒸镀工艺，使显示基板上形成第一无机封装薄膜54；

其中，掩膜板在第一位置时，掩膜部12对应预设区域D，即掩膜部12的形状与预设区域D的形状相匹配。一般情况下，为了降低蒸镀误差，掩膜部12的面积应略大于预设区域D的面积。图5D仅用于示例，第一无机封装膜54可以覆盖或部覆盖挡墙53A、53B。

步骤A5，参考图5E，在显示基板除预设区域D之外的部分形成流变性有机材料55，流变性有机材料作为机封装薄膜，被挡墙阻挡在挡墙远离预设区域的一侧，防止流变性有机材料流至预设区域，对后续接管切割预设区域产生影响。

此外，流变性有机材料作优选与挡墙的形成材料不亲和，从而使得流变性有机材料不易在挡墙上延展，可有效降低流变性有机材料扩散的概率。

步骤A6，参考图5F，继续将掩膜板移动至第一位置，对显示基板进行第二蒸镀工艺，在显示基板上形成第二无机封装膜56；在第二无机封装膜56形成后，实现显示器件的封装；

同理，第二无机封装膜56可以覆盖或部覆盖挡墙53A、53B。

步骤A7，参考图5G，若预设区域D不作为显示器件的产品区，则在完成封装后，还可以沿着预设区域D的边界进行激光切割，使衬底基板51的预设区域D的部分从衬底基板上脱离，得到图5H所示的显示器件。

当然，图5H的显示器件仅用于示例性介绍，其预设区域D的位置、形状、数量等都可以进行适当变化，对应的掩膜板也随之适应性改变即可。由于原理相同，本文不再举例赘述。

此外，本实现方式一中，掩膜板的掩膜条13的宽度相对较小，在蒸镀过程中不会起到实质性的掩膜作用，因此掩膜条13不会影响第一无机封装膜54和第二无机封装膜56的完整性。

实现方式二

与实现方式的制作方法一相比，实现方式二的制作方法仅是在制作第一无机封装膜和第二无机封装膜的步骤上存在不同。

本实现方式二的制作方法制作第一无机封装膜包括：

参考图6A，使用图3所示的掩膜板在第一位置，使用第一蒸镀材料源62，对显示基板进行第一蒸镀工艺，使显示基板上形成第一无机薄膜63；

其中，掩膜板在第一位置时，掩膜板框架11与显示基板对应，掩膜部12与预设区域D对应。即，掩膜部12的形状与预设区域D的形状相匹配。一般情况下，为了降低蒸镀误差，掩膜部12的面积应略大于预设区域D的面积。

显然，在第一蒸镀工艺完成，第一无机薄膜63对应掩膜条的位置的厚度相比于其他部分的厚度相对较小，形成多棱结构。

之后，参考图6B，将掩膜板移动至第二位置，使用第二蒸镀材料源64(第二蒸镀材料源64与第一蒸镀材料源62可以为同一材料，也可以为不同材料)，对显示基板进行第二蒸镀工艺，以在显示基板61上形成如图6C所示的第二无机薄膜65；

其中，掩膜板在形成第一蒸镀工艺中的掩膜条13的排列方向与掩膜板在第二蒸镀工艺中的掩膜条13的排列方向相同，且第一位置与第二位置在掩膜条13的排列方向上相错一个掩膜条13的宽度。即，第二次蒸镀工艺中，掩膜条13与第一无机薄膜63较厚的部分对应。

在第二无机薄膜65形成后，其较厚的部分对应第一无机薄膜63较薄的部分，其较薄的部分对应第一无机薄膜63较厚的部分，从而形成了一定程度上的互补，使得第一无机薄膜63和第二无机薄膜65整体结构趋近于平坦。

上述第一无机薄膜63和第二无机薄膜65共同组成第一无机封装膜。

本实施例的制作方法制作第二无机封装膜的步骤与制作第一无机封装膜的步骤相同，由于原理相同本文不再进行举例赘述。

此外，本发明的实施例提供一种显示器件，该显示器件采用本发明上述实施例的制作方法制作得到，因此该制作方法所能实现的技术效果，本实施例的显示器件同样能够实现。

在实际应用中，本实施例的显示装置可以是液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，特别是指异形的显示屏幕，例如中间显示、四周不显示的智能穿戴设备。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。

Claims (10)

1.一种掩膜板，其特征在于，包括：

掩膜板框架，所述掩膜板框架具有一开口区域；

位于所述开口区域内、与所述掩膜板框架相分离的掩膜部；

与所述掩膜部和所述掩膜板框架分别固定连接、将所述掩膜部固定在所述掩膜板框架上的至少一个掩膜条。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，

所述掩膜条为多个；

多个所述掩膜条的延伸方向交叉；或，多个所述掩膜条平行等间距设置在所述掩膜板框架上，所述掩膜条遮挡所述开口区域一半的部分。

3.一种显示器件的制作方法，其特征在于，包括：

提供一显示基板，所述显示基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上的显示功能层；

采用如权利要求1或2所述的掩膜板对所述显示基板进行无机材料蒸镀，形成覆盖所述显示基板的无机封装薄膜，所述无机封装薄膜覆盖所述显示基板除预设区域之外的其他区域，所述预设区域与所述掩膜部对应。

4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，在进行无机材料蒸镀之前，所述制作方法还包括：

去除所述预设区域的显示功能层，暴露出所述预设区域的衬底基板。

5.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，

在进行无机材料蒸镀时，所述掩膜部在所述显示基板上的正投影完全覆盖所述预设区域。

6.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，

所述掩膜板的多个所述掩膜条平行等间距设置在所述掩膜板框架上，所述掩膜条遮挡所述开口区域一半的部分；

对所述显示基板进行无机材料蒸镀的步骤包括：

将所述掩膜板移动至第一位置，使用所述掩膜板对所述显示基板进行第一蒸镀工艺，在所述显示基板上形成第一无机薄膜；

将所述掩膜板移动至第二位置，使用所述掩膜板对所述显示基板进行第二蒸镀工艺，在所述显示基板上形成第二无机薄膜，所述第一无机薄膜和所述第二无机薄膜组成所述无机封装薄膜；

其中，所述掩膜板在形成所述第一蒸镀工艺中的掩膜条的排列方向与所述掩膜板在第二蒸镀工艺中的掩膜条的排列方向相同，且所述第一位置与所述第二位置相错一个掩膜条的宽度。

7.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，在进行无机材料蒸镀之前，所述制作方法还包括：

在所述显示基板上形成包围所述预设区域的至少一圈挡墙。

8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：

在所述显示基板除预设区域之外的部分形成流变性有机材料，流变性有机材料被所述挡墙阻挡在所述挡墙远离所述预设区域的一侧，固化后形成有机封装薄膜。

9.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，对所述显示基板完成封装后，所述方法还包括：

沿着所述预设区域的边界对所述显示基板进行切割。

10.一种显示器件，其特征在于，所述显示器件采用如权利要求3-9中任一项所述的制作方法制作得到。