JP5044623B2 - 電気泳動表示装置用アレイ基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
ここで、データ配線、ソース電極、ゲート電極及びゲート配線に対応して、有機絶縁物質で構成されてドレイン電極の一部を露出させる第2保護層を形成する段階は、画素領域全面に第1保護層を形成する段階と、第1保護層上に第1厚さの有機絶縁物質を全面に塗布して有機絶縁物質層を形成する段階と、有機絶縁物質層に対してハーフトーン露光または回折露光を実施して現像することにより、ゲート配線、データ配線、ソース電極、ゲート電極及びドレイン電極に対応して、第1厚さを有する第1有機絶縁パターンを形成し、同時に画素領域に対応して第1厚さよりも薄い第2厚さを有する第2有機絶縁パターンを形成し、ドレイン電極の一部に対応して第1保護層を露出させる段階と、第3ガス雰囲気でドライエッチングを実施することで、第1保護層を除去してドレイン電極の一部を露出させるドレインコンタクトホールを形成する段階と、第4ガス雰囲気でドライエッチングを実施することによって、第2厚さを有する第2有機絶縁パターンを除去し、同時に第1厚さの第1有機絶縁パターンの厚さを減らして第3厚さを有する第2保護層を形成する段階とを含むものである。
図5は、本発明の実施の形態1による電気泳動表示装置用アレイ基板の1つの画素領域に対する平面図であり、図6は、図5を切断線VI−VIに沿って切断した部分に対する断面図である。
Claims (10)
- 基板上で互いに交差して複数の画素領域を定義するように形成されたゲート配線及びデータ配線と、
前記ゲート配線と平行に離隔して形成された共通配線と、
前記複数の画素領域内に順次積層されたゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体層、並びに互いに離隔するソース電極及びドレイン電極で構成された薄膜トランジスタと、
前記ゲート絶縁膜の下部で前記共通配線から分岐し、画素領域の1/2よりも大きい面積を有して前記画素領域に形成された第1ストレージ電極と、
前記薄膜トランジスタと前記ゲート配線及びデータ配線とに対応して、有機絶縁物質により前記ドレイン電極を露出させるように形成された第2保護層と、
前記第2保護層上に、前記ドレイン電極と接触し、前記画素領域と前記画素領域を囲むゲート配線及びデータ配線とのうち、前記薄膜トランジスタと接続されたゲート配線及びデータ配線と重なって形成された画素電極と、を備え、
前記画素電極は、前記第1ストレージ電極と重なる部分が、第2ストレージ電極を形成し、互いに重なる前記第1ストレージ電極と前記ゲート絶縁膜と前記第2ストレージ電極とがストレージキャパシタを形成する
ことを特徴とする電気泳動表示装置用アレイ基板。 - 前記ソース電極及びドレイン電極と前記第2保護層との間に、前記画素領域全面に無機絶縁物質により形成されて、前記ドレイン電極を露出させる第1保護層をさらに備えた
ことを特徴とする請求項1に記載の電気泳動表示装置用アレイ基板。 - 前記第2保護層の上部に、無機絶縁物質で構成されて、前記ドレイン電極を露出させる第3保護層をさらに備えた
ことを特徴とする請求項1に記載の電気泳動表示装置用アレイ基板。 - 前記第2保護層の厚さは、2〜4μmである
ことを特徴とする請求項1に記載の電気泳動表示装置用アレイ基板。 - 画素領域が定義された基板上に一方向に延長するゲート配線、前記ゲート配線に接続されたゲート電極、前記ゲート配線と離隔して平行に延長する共通配線、及び前記共通配線から分岐して前記画素領域内に前記画素領域の1/2よりも大きい面積を有する第1ストレージ電極を前記画素領域に形成する段階と、
前記ゲート配線、前記ゲート電極、前記共通配線及び前記第1ストレージ電極上の全面にゲート絶縁膜を形成する段階と、
前記ゲート絶縁膜上に、前記ゲート配線と交差して前記画素領域を定義するデータ配線を形成し、前記ゲート電極に対応する半導体層とその上部に互いに離隔するソース電極及びドレイン電極とを形成する段階と、
前記データ配線、ソース電極、ゲート電極、ゲート配線及びドレイン電極に対応して、有機絶縁物質で構成されて前記ドレイン電極の一部を露出させる第2保護層を形成する段階と、
前記第2保護層上に、透明導電性物質で構成され、前記画素領域並びにゲート配線及びデータ配線と重なり、前記露出したドレイン電極と接触し、前記第1ストレージ電極に対応する部分が第2ストレージ電極を形成する画素電極を形成する段階と、
を備えたことを特徴とする電気泳動表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記データ配線と半導体層とソース電極及びドレイン電極とは、半透過領域を含む露光マスクを利用して、回折露光またはハーフトーン露光を含む1回のマスク工程により形成される
ことを特徴とする請求項5に記載の電気泳動表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記第2保護層を形成する前に、前記画素領域全面に無機絶縁物質により、前記ドレイン電極を露出させる第1保護層を形成する
ことを特徴とする請求項5に記載の電気泳動表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記データ配線、ソース電極、ゲート電極及びゲート配線に対応して、有機絶縁物質で構成されて前記ドレイン電極の一部を露出させる第2保護層を形成する段階は、
前記画素領域全面に前記第1保護層を形成する段階と、
前記第1保護層上に第1厚さの有機絶縁物質を全面に塗布して有機絶縁物質層を形成する段階と、
前記有機絶縁物質層に対してハーフトーン露光または回折露光を実施して現像することにより、前記ゲート配線、データ配線、ソース電極、ゲート電極及び前記ドレイン電極に対応して、前記第1厚さを有する第1有機絶縁パターンを形成し、同時に前記画素領域に対応して前記第1厚さよりも薄い第2厚さを有する第2有機絶縁パターンを形成し、前記ドレイン電極の一部に対応して前記第1保護層を露出させる段階と、
第3ガス雰囲気でドライエッチングを実施することで、前記第1保護層を除去して前記ドレイン電極の一部を露出させるドレインコンタクトホールを形成する段階と、
第4ガス雰囲気でドライエッチングを実施することによって、前記第2厚さを有する前記第2有機絶縁パターンを除去し、同時に前記第1厚さの前記第1有機絶縁パターンの厚さを減らして第3厚さを有する第2保護層を形成する段階と、
を含むことを特徴とする請求項7に記載の電気泳動表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記画素電極を形成する前に、前記第2保護層の上部に、無機絶縁物質により第3保護層を形成する
ことを特徴とする請求項5または7に記載の電気泳動表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記第2保護層の厚さは、2〜4μmである
ことを特徴とする請求項5に記載の電気泳動表示装置用アレイ基板の製造方法。
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