CN207552428U - 掩膜板 - Google Patents

Abstract

一种掩膜板，包括：掩膜框架和与掩膜框架连接的掩膜基板；掩膜基板开设有若干第一开口和若干第二开口，每一第一开口与一第二开口对应；对于每一第一开口与每一第二开口，掩膜基板在第一开口的边沿向第一开口的中部延伸设置第一延伸部，掩膜基板在第二开口的边沿向第二开口的中部延伸设置第二延伸部，且各第一延伸部和各第二延伸部的朝向均相同；每一第一开口用于绕掩膜框架的几何中心转动180°后与一第二开口对齐，且第一开口设置有第一延伸部的边沿与第二开口设置有第二延伸部的边沿重合，每一第一延伸部用于绕掩膜框架的几何中心转动180°后与一第二延伸部对齐。上述掩膜板，通过两次使用，制得的显示器件具有中间不显示、外围显示的显示效果。

Description

掩膜板

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜板。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)是自发光器件，不需要背光源，外观轻、薄，而传统的LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器) 需要背光源才能工作，外观尺寸较厚。且OLED显示器的视角宽、响应快、功耗低，最能符合人们未来对显示器的要求，已经成为显示技术领域中第三代显示器件的主力军。随着新技术的不断涌现，OLED显示器有望在不久的将来取代 LCD，具有很高的市场潜力。

OLED具有依次形成于基板上的阳极、有机发光层和阴极。OLED的各功能材料层与阴极金属层薄膜通过真空热蒸镀工艺制备，真空热蒸镀工艺过程中需要使用到掩膜板(Mask)。掩膜板的作用是使OLED材料蒸镀到预设的位置，而使OLED材料蒸镀到预设的位置由掩膜板上的开孔图案决定。因此，掩膜板的开孔位置、形状以及表面平整度都相当重要。目前较为成熟的技术是采用真空蒸镀技术，在器件制备过程中，有机材料会透过掩膜板沉积在位于蒸发源上方的基板上，形成特有的图案。即在基板下方紧贴有掩膜板，掩膜板上留有预先设计排版好的图案开口，最终有机材料会通过掩膜板上的图案开口沉积到基板上面。

目前掩膜板对整个显示屏进行掩膜，掩膜板的制作一般采用对掩膜区域进行整体刻蚀，如图1所示，其为一个实施例中传统的掩膜板的结构示意图，利用该掩膜板50即蒸发源的蒸镀材料会全部透过该掩膜图案开口501到显示器件的玻璃基板20，得到与图案开口相同的图案500，如图2所示，其为使用图1 中掩膜板在显示器件的玻璃基板20上形成的图案的示意图。利用该掩膜板不能满足制得具有中间不显示、外围显示效果的显示器件的要求。

实用新型内容

基于此，有必要针对传统的掩膜板不能满足制得具有中间不显示、外围显示的效果的特殊显示器件的技术问题，提供一种掩膜板。

一种掩膜板，包括：掩膜框架和与所述掩膜框架连接的掩膜基板；所述掩膜基板开设有若干第一开口和若干第二开口，每一所述第一开口与所述第二开口对应；对于每一所述第一开口与每一所述第二开口，所述掩膜基板在所述第一开口的边沿向所述第一开口的中部延伸设置第一延伸部，所述掩膜基板在所述第二开口的边沿向所述第二开口的中部延伸设置第二延伸部，且各所述第一延伸部和各所述第二延伸部的朝向均相同；每一所述第一开口用于绕所述掩膜框架的几何中心转动180°后与一所述第二开口对齐，且所述第一开口设置有所述第一延伸部的边沿与所述第二开口设置有所述第二延伸部的边沿重合，每一所述第一延伸部用于绕所述掩膜框架的几何中心转动180°后与一所述第二延伸部对齐。

在其中一个实施例中，所述第一开口与所述第二开口的形状和尺寸相同。

在其中一个实施例中，所述第一延伸部与所述第二延伸部的形状和尺寸相同。

在其中一个实施例中，所述第一开口和所述第二开口均匀分布在所述掩膜基板上。

在其中一个实施例中，所述第一开口和所述第二开口呈矩形阵列分布在所述掩膜基板上。

在其中一个实施例中，所述掩膜基板包括相互连接的基板本体和连接框架，所述连接框架位于所述掩膜框架上且与所述掩膜框架的内侧连接。

在其中一个实施例中，所述第一开口和所述第二开口的形状均为半椭圆形。

在其中一个实施例中，所述第一开口和所述第二开口的形状均为半正多边形。

在其中一个实施例中，所述第一延伸部和所述第二延伸部的形状均为半椭圆形。

在其中一个实施例中，所述第一延伸部和所述第二延伸部的形状均为半正多边形。

上述掩膜板，第一开口与其内部设置的第一延伸部构成允许蒸镀材料通过的第一镀膜开口，第二开口与其内部设置的第二延伸部构成允许蒸镀材料通过的第二镀膜开口，第一次使用该掩膜板，显示器件的玻璃基板在与每一第一镀膜开口的位置相对应的位置将形成与第一镀膜开口的形状大小相同的第一图案、在与每一第二镀膜开口的位置相对应的位置将形成与第二镀膜开口的形状大小相同的第二图案，将该掩膜板旋转180°后第二次使用该掩膜板，显示器件的玻璃基板在每一与原第一镀膜开口的位置的边沿重合且位于边沿的另一侧的位置形成与第二镀膜开口的形状大小相同的第三图案、在每一与原第二镀膜开口的位置的边沿重合且位于边沿的另一侧的位置形成与第一镀膜开口的形状大小相同的第四图案，由此，每一与第一镀膜开口的形状大小相同的第一图案和一与第二镀膜开口的形状大小相同的第三图案的边沿重合且分别位于边沿的两侧，每一与第二镀膜开口的形状大小相同的第二图案和与第一镀膜开口的形状大小相同的第四图案的边沿重合且分别位于边沿的两侧，即在显示器件的玻璃基板上形成若干均与第一镀膜开口和第二镀膜开口拼接而成的形状相同的图案，这种图案中间无蒸镀材料、外围有蒸镀材料，使得显示器件具有中间不显示、外围显示的显示效果。

附图说明

图1为传统的一种掩膜板的结构示意图；

图2为使用图1所示掩膜板蒸镀后在显示器件上形成的图案的示意图；

图3为一个实施例中掩膜板的结构示意图；

图4为使用图3所示掩膜板蒸镀一次后在显示器件上形成的图案的示意图；

图5为使用图3所示掩膜板蒸镀一次后再将掩膜板绕掩膜框架的几何中心旋转180°后在显示器件上形成的图案的示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

本实用新型公开一种掩膜板，包括：掩膜框架和与所述掩膜框架连接的掩膜基板；所述掩膜基板开设有若干第一开口和若干第二开口，每一所述第一开口与一所述第二开口对应；对于每一所述第一开口与每一所述第二开口，所述掩膜基板在所述第一开口的边沿向所述第一开口的中部延伸设置第一延伸部，所述掩膜基板在所述第二开口的边沿向所述第二开口的中部延伸设置第二延伸部，且各所述第一延伸部和各所述第二延伸部的朝向均相同；每一所述第一开口用于绕所述掩膜框架的几何中心转动180°后与一所述第二开口对齐，且所述第一开口设置有所述第一延伸部的边沿与所述第二开口设置有所述第二延伸部的边沿重合，每一所述第一延伸部用于绕所述掩膜框架的几何中心转动180°后与一所述第二延伸部对齐。

本实施例的掩膜板，由于掩膜板绕其掩膜框架的几何中心转动180°后，第一开口位置的边沿与原第二开口位置的边沿重合且第一开口的位置与原第二开口的位置分别位于边沿的两侧，第二开口位置的边沿与原第一开口位置的边沿重合且第二开口的位置与原第一开口的位置分别位于边沿的两侧，这样，第一次使用该掩膜板，显示器件的玻璃基板在与每一第一开口的位置相对应的位置将形成与第一开口的形状和尺寸相同的第一图案、在与每一第二开口的位置相对应的位置将形成与第二开口的形状大小相同的第二图案，将该掩膜板旋转 180°后第二次使用该掩膜板，显示器件的玻璃基板在每一与原第一开口的位置的边沿重合且位于边沿的另一侧的位置形成与第二开口的形状和尺寸相同的第三图案，并且，显示器件的玻璃基板在每一与原第二开口的位置的边沿重合且位于边沿的另一侧的位置形成与第一开口的形状大小相同的第四图案，由此，每一与第一开口的形状和尺寸相同的第一图案和一与第二开口的形状和尺寸相同的第三图案的边沿重合且分别位于边沿的两侧，每一与第二开口的形状和尺寸相同的第二图案和一与第一开口的形状和尺寸相同的第四图案的边沿重合且分别位于边沿的两侧，即在显示器件的玻璃基板上形成若干均与第一开口和第二开口拼接而成的形状和尺寸相同的图案，这种图案中间无蒸镀材料、外围有蒸镀材料，使得显示器件具有中间不显示、外围显示的显示效果。

请参阅图3，其为一实施例中掩膜板的结构示意图。例如，一种掩膜板10，包括：掩膜框架100和与掩膜框架100连接的掩膜基板200。例如，掩膜框架 100的截面形状为矩形，掩膜基板200的截面形状为矩形。例如，掩膜基板200 的面积大于掩膜框架100内侧中空的面积，掩膜基板200的边缘位于掩膜框架 100上且与掩膜框架100连接。例如，掩膜基板200的边缘与掩膜框架100焊接。具体地，掩膜基板200包括相互连接的基板本体210和连接框架220，连接框架 220位于掩膜框架100上且与掩膜框架100的内侧连接，即连接框架220为掩膜基板200的边缘。例如，连接框架220与掩膜框架100焊接。

掩膜基板200开设有若干第一开口201和若干第二开口202，每一第一开口 201与一第二开口202对应，即每开设一个第一开口201均对应开设一个第二开口202，即若干第一开口201和若干第二开口202一一对应。具体地，第一开口 201和第二开口202均位于基板本体210上。例如，第一开口201和第二开口 202的形状和尺寸相同。例如，第一开口201和第二开口202的形状均为半椭圆形，例如，第一开口201和第二开口202的形状均为半圆形。又例如，第一开口201和第二开口202的形状均为半正多边形，例如，第一开口201和第二开口202的形状均为矩形，例如，第一开口201和第二开口202的形状均为半五角星形，例如第一开口201和第二开口202的形状均为三角形。需要说明的是，第一开口201和第二开口202的形状在此只做举例说明，第一开口201和第二开口202可以为任意具有对称性质的图形的一半，不限于此。优选地，第一开口201和第二开口202的形状均为半圆形。例如，第一开口201和第二开口202 均匀分布在掩膜基板200上，例如，第一开口201和第二开口202呈矩形阵列分布在掩膜基板200上。

对于每一第一开口201与每一第二开口202，掩膜基板200在第一开口201 的边沿向第一开口201的中部延伸设置第一延伸部2011，掩膜基板200在第二开口202的边沿向第二开口202的中部延伸设置第二延伸部2021，且各第一延伸部2011和各第二延伸部2021的朝向相同。由于第一开口201和第二开口202 空心的部分允许蒸镀材料通过，而第一延伸部2011和第二延伸部2021为实心的结构不允许蒸镀材料通过，当蒸镀时，在显示器件的玻璃基板上形成周围有蒸镀材料、中间无蒸镀材料的图案。

每一所述第一开口用于绕所述掩膜框架的几何中心转动180°后与一所述第二开口对齐，且所述第一开口设置有所述第一延伸部的边沿与所述第二开口设置有所述第二延伸部的边沿重合，每一所述第一延伸部用于绕所述掩膜框架的几何中心转动180°后与一所述第二延伸部对齐。例如，各个第一开口与各个第二开口一一对应；每一所述第一开口在其绕所述掩膜框架的几何中心转动 180°后与对应的一所述第二开口对齐，以使该第一开口与该第二开口共同形成一个轴对称的第一预设图案；即，所述第一开口与所述第二开口分别为该第一预设图案的一半，该一半即为将第一预设图案沿其任一对称轴分成对称的两部分中的任一部分；且所述第一开口设置有所述第一延伸部的边沿与所述第二开口设置有所述第二延伸部的边沿重合，每一所述第一延伸部用于绕所述掩膜框架的几何中心转动180°后与一所述第二延伸部对齐，以使该第一延伸部与该第二延伸部共同形成一个轴对称的第二预设图案；即，所述第一延伸部与所述第二延伸部分别为该第二预设图案的一半，该一半即为将第二预设图案沿其任一对称轴分成对称的两部分中的任一部分；例如，第一预设图案与第二预设图案均为或分别为圆形、环形、椭圆形、等腰三角形、菱形或边数大于4的正多边形等。每一第一开口201用于绕掩膜框架100的几何中心转动180°后与一第二开口202对齐。需要说明的是，这里所说的每一第一开口201用于绕掩膜框架 100的几何中心转动180°后与一第二开口202对齐，是指转动后的第一开口201 与转动前的掩膜板上的第二开口202对齐，而实际上转动后掩膜板上的第二开口202的位置也会改变。第一开口201设置有第一延伸部2011的边沿与第二开口202设置有第二延伸部2021的边沿重合，每一第一延伸部2011用于绕掩膜框架100的几何中心转动180°后与一第二延伸部2021对齐。同样，这里所说的每一第一延伸部2011用于绕掩膜框架100的几何中心转动180°后与一第二延伸部2021对齐，也是指转动后的第一延伸部2011与转动前的掩膜板上的第二延伸部2021对齐，而实际上转动后掩膜板上的第二延伸部2021的位置也会改变。其中，掩膜框架100为规则图案才具有几何中心，且本实用新型中所说的对齐是指两种结构接触得整齐，例如，某一第一开口201绕掩膜框架100的几何中心转动180°后与转动前的与该第一开口201对应的第二开口202接触得整齐，即某一第一开口201绕掩膜框架100的几何中心转动180°后，与转动前的掩膜板上的一个第二开口202能够形成一个规则图形，例如，圆形或者同心圆形，例如，掩膜板如图3所示，采用转动前的掩膜板上的各个第一开口及各个第二开口进行第一次蒸镀之后得到的图案如图4所示，在第一次蒸镀基础之上，采用转动后的掩膜板上的各个第一开口及各个第二开口进行第二次蒸镀之后得到的图案如图5所示，任一第一开口绕掩膜框架100的几何中心转动180°后，与转动前的掩膜板上的某一个对应的第二开口202所形成的图案接触得整齐，为一个规则的环形。例如，掩膜基板200的几何中心与掩膜框架100的几何中心相同，也即为掩膜板的几何中心。例如，第一延伸部2011与第二延伸部 2021的形状和尺寸相同。例如，第一延伸部2011和第二延伸部2021的形状均为半椭圆形，例如，第一延伸部2011和第二延伸部2021的形状均为半圆形。又例如，第一延伸部2011和第二延伸部2021的形状均为半正多边形，半正多边形即将正多边形沿任一对称轴分成对称的两部分中的任一部分，例如，第一延伸部2011和第二延伸部2021的形状均为矩形，例如，第一延伸部2011和第二延伸部2021的形状均为半五角星形，例如第一延伸部2011和第二延伸部2021 的形状均为三角形。需要说明的是，第一延伸部2011和第二延伸部2021的形状在此只做举例说明，第一延伸部2011和第二延伸部2021可以为任意具有对称性质的图形的一半，不限于此。优选地，第一延伸部2011和第二延伸部2021 的形状均为半圆形。

第一开口201和第二开口202可以理解为开设于掩膜基板200上相同形状的开口，且各开口尺寸相同，开口数量为偶数，这样，每一个开口将与另一开口对应，且每一开口绕掩膜框架的几何中心转动180°后均可对齐与其对应的另一开口，且两者的边沿重合，每一开口朝向中部凸起设置延伸部，这样，当首次蒸镀时，蒸镀材料通过各开口蒸镀将形成如图4中所示的第一次蒸镀图案300，由于延伸部的遮挡，使得第一次蒸镀图案中部具有凹陷部，即延伸部对应第一次蒸镀图案的凹陷部，随后，将掩膜板绕掩膜框架的几何中心转动180°后，再次蒸镀时，蒸镀材料通过各开口蒸镀将形成如图5中所示的第二次蒸镀图案400，每一开口恰好转动至对齐于其对应的另一开口的位置，且开口的延伸部对齐于第一次蒸镀图案的凹陷部，每一开口恰好与一第一次蒸镀图案(即前述第一图案和第二图案)轴对称，再次蒸镀，蒸镀材料通过开口形成第二次蒸镀图案(即前述所述第三图案和第四图案)与第一次蒸镀图案恰好连接，且延伸部再次遮挡蒸镀材料，使得第二次蒸镀图案与第一次蒸镀图案中部形成未蒸镀的遮挡区域。即，这种图案中间无蒸镀材料，外围有蒸镀材料，使得显示器件具有中间不显示、外围显示的显示效果。

例如，第一开口201和第二开口202分别关于与掩膜框架100的中轴线平行的直线对称，这样，通过蒸镀形成的第一图案、第二图案、第三图案和第四图案分别关于与掩膜框架100的中轴线平行的直线对称。例如，第一开口201 和第二开口202形状和尺寸相同，则通过蒸镀形成的第一图案和第三图案关于第一图案和第二图案重合的直线对称，第二图案和第四图案关于第一图案和第二图案重合的直线对称，这样，在显示装置的玻璃基板上形成的图案为中心对称图案。

例如，掩膜基板200以及掩膜框架100可以采用相同或不同的材质。例如，掩膜基板200以及掩膜框架100分别采用镍铁合金、镍钴合金和不锈钢其中的一种材质制成。例如，掩膜基板200以及掩膜框架100均采用因瓦合金制成，因瓦合金属于铁镍合金的一种，其成分一般为镍36％、铁63.8％、碳0.2％，在常温下(-80～230℃)内表现出很小的热膨胀系数，各个组成部分均由因瓦合金制成的掩膜板不易变形，不受温度变化影响。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种掩膜板，其特征在于，包括：掩膜框架和与所述掩膜框架连接的掩膜基板；

所述掩膜基板开设有若干第一开口和若干第二开口，每一所述第一开口与一所述第二开口对应；

对于每一所述第一开口与每一所述第二开口，所述掩膜基板在所述第一开口的边沿向所述第一开口的中部延伸设置第一延伸部，所述掩膜基板在所述第二开口的边沿向所述第二开口的中部延伸设置第二延伸部，且各所述第一延伸部和各所述第二延伸部的朝向均相同；

每一所述第一开口用于绕所述掩膜框架的几何中心转动180°后与一所述第二开口对齐，且所述第一开口设置有所述第一延伸部的边沿与所述第二开口设置有所述第二延伸部的边沿重合，每一所述第一延伸部用于绕所述掩膜框架的几何中心转动180°后与一所述第二延伸部对齐。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口与所述第二开口的形状和尺寸相同。

3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一延伸部与所述第二延伸部的形状和尺寸相同。

4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口和所述第二开口均匀分布在所述掩膜基板上。

5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口和所述第二开口呈矩形阵列分布在所述掩膜基板上。

6.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜基板包括相互连接的基板本体和连接框架，所述连接框架位于所述掩膜框架上且与所述掩膜框架的内侧连接。

7.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口和所述第二开口的形状均为半椭圆形。

8.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口和所述第二开口的形状均为半正多边形。

9.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一延伸部和所述第二延伸部的形状均为半椭圆形。

10.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一延伸部和所述第二延伸部的形状均为半正多边形。