JP2003286277A - ガンマブチロラクトンの精製方法 - Google Patents
ガンマブチロラクトンの精製方法Info
- Publication number
- JP2003286277A JP2003286277A JP2002091442A JP2002091442A JP2003286277A JP 2003286277 A JP2003286277 A JP 2003286277A JP 2002091442 A JP2002091442 A JP 2002091442A JP 2002091442 A JP2002091442 A JP 2002091442A JP 2003286277 A JP2003286277 A JP 2003286277A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- butyrolactone
- gamma
- exchange resin
- crude
- distillation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガンマブチロラクトンを高度に精製するため
の方法を提供する。 【構成】 粗ガンマブチロラクトンを４０℃以上１００
℃未満で酸性イオン交換樹脂と接触させた後、蒸留塔に
供給し蒸留することを特徴とするガンマブチロラクトン
の精製方法。
の方法を提供する。 【構成】 粗ガンマブチロラクトンを４０℃以上１００
℃未満で酸性イオン交換樹脂と接触させた後、蒸留塔に
供給し蒸留することを特徴とするガンマブチロラクトン
の精製方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｎ−メチルピロリ
ドンの原料や電解液溶媒として有用なガンマブチロラク
トンの精製方法に関するものである。
ドンの原料や電解液溶媒として有用なガンマブチロラク
トンの精製方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ガンマブチロラクトンは、無水マレイン
酸若しくは無水コハク酸の水素化反応、又は１，４−ブ
タンジオールの脱水素反応等の方法により製造されてい
る。ガンマブチロラクトンの製造には、反応中に生成す
る４−ヒドロキシブタナール、テトラヒドロフラノ−２
−オキシブタナール等のアルデヒド類及び２−ヒドロキ
シテトラヒドロフラン等のヘミアセタール類とガンマブ
チロラクトンとの分離が困難であるという問題がある。
酸若しくは無水コハク酸の水素化反応、又は１，４−ブ
タンジオールの脱水素反応等の方法により製造されてい
る。ガンマブチロラクトンの製造には、反応中に生成す
る４−ヒドロキシブタナール、テトラヒドロフラノ−２
−オキシブタナール等のアルデヒド類及び２−ヒドロキ
シテトラヒドロフラン等のヘミアセタール類とガンマブ
チロラクトンとの分離が困難であるという問題がある。
【０００３】特開平１１−２８６４８２号公報に記載さ
れているように、粗ガンマブチロラクトンの精製方法と
しては、２基の蒸留塔を用い、第一塔においてガンマブ
チロラクトンよりも低沸点物を留去し、次いで第二塔に
おいて減圧蒸留により精製ガンマブチロラクトンを留出
させて取得する方法、又は１基の蒸留塔を用い、低沸点
物及び高沸点物をそれぞれ塔頂及び塔底から排出し精製
ガンマブチロラクトンを側流として取得する方法等が行
われている。このような方法で９９％以上、更には９
９．５％以上の純度のガンマブチロラクトンを得ること
ができる。しかしながら、これらの方法では、粗ガンマ
ブチロラクトンに含まれているアルデヒド類やヘミアセ
タール類、特にガンマブチロラクトンと沸点が近いテト
ラヒドロフラノ−２−オキシブタナールを除去すること
が困難である。
れているように、粗ガンマブチロラクトンの精製方法と
しては、２基の蒸留塔を用い、第一塔においてガンマブ
チロラクトンよりも低沸点物を留去し、次いで第二塔に
おいて減圧蒸留により精製ガンマブチロラクトンを留出
させて取得する方法、又は１基の蒸留塔を用い、低沸点
物及び高沸点物をそれぞれ塔頂及び塔底から排出し精製
ガンマブチロラクトンを側流として取得する方法等が行
われている。このような方法で９９％以上、更には９
９．５％以上の純度のガンマブチロラクトンを得ること
ができる。しかしながら、これらの方法では、粗ガンマ
ブチロラクトンに含まれているアルデヒド類やヘミアセ
タール類、特にガンマブチロラクトンと沸点が近いテト
ラヒドロフラノ−２−オキシブタナールを除去すること
が困難である。
【０００４】この不純物を除去する方法としては、特開
平１１−２８６４８２号公報には、粗ガンマブチロラク
トンに酸性物質を添加して１００℃以上、好ましくは１
２０℃以上で処理してテトラヒドロフラノ−２−オキシ
ブタナールを高沸点化合物に転換させた後、蒸留すると
いう精製方法が記載されている。しかしながら、この方
法には、生成した高沸点化合物が蒸留塔塔底で加熱され
て低沸点化合物に分解し、これが留出してガンマブチロ
ラクトンの純度を低下させるという問題がある。
平１１−２８６４８２号公報には、粗ガンマブチロラク
トンに酸性物質を添加して１００℃以上、好ましくは１
２０℃以上で処理してテトラヒドロフラノ−２−オキシ
ブタナールを高沸点化合物に転換させた後、蒸留すると
いう精製方法が記載されている。しかしながら、この方
法には、生成した高沸点化合物が蒸留塔塔底で加熱され
て低沸点化合物に分解し、これが留出してガンマブチロ
ラクトンの純度を低下させるという問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ガンマブチ
ロラクトンを高度に精製するための方法を提供すること
を課題とする。
ロラクトンを高度に精製するための方法を提供すること
を課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
を行った結果、意外にも粗ガンマブチロラクトンを比較
的低温、好ましくは４０℃以上１００℃未満で酸性イオ
ン交換樹脂と接触させるとテトラヒドロフラノ−２−オ
キシブタナールが高沸点化合物ではなく低沸点化合物に
転換すること、及びこの低沸点化合物は蒸留により容易
にガンマブチロラクトンから分離できることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。
を行った結果、意外にも粗ガンマブチロラクトンを比較
的低温、好ましくは４０℃以上１００℃未満で酸性イオ
ン交換樹脂と接触させるとテトラヒドロフラノ−２−オ
キシブタナールが高沸点化合物ではなく低沸点化合物に
転換すること、及びこの低沸点化合物は蒸留により容易
にガンマブチロラクトンから分離できることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち、本発明の要旨は、粗ガンマブチ
ロラクトンを比較的低温、好ましくは４０℃以上１００
℃未満で酸性イオン交換樹脂と接触させた後、蒸留塔に
供給し蒸留することを特徴とするガンマブチロラクトン
の精製方法、に存する。
ロラクトンを比較的低温、好ましくは４０℃以上１００
℃未満で酸性イオン交換樹脂と接触させた後、蒸留塔に
供給し蒸留することを特徴とするガンマブチロラクトン
の精製方法、に存する。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に係る精製方法では、無水マレイン酸若しくは無
水コハク酸の水素化反応、又は１，４−ブタンジオール
の脱水素反応などの方法で製造されたいずれの粗ガンマ
ブチロラクトンをも対象とすることができる。好ましい
のは、１，４−ブタンジオールの脱水素反応で製造され
たガンマブチロラクトンである。
本発明に係る精製方法では、無水マレイン酸若しくは無
水コハク酸の水素化反応、又は１，４−ブタンジオール
の脱水素反応などの方法で製造されたいずれの粗ガンマ
ブチロラクトンをも対象とすることができる。好ましい
のは、１，４−ブタンジオールの脱水素反応で製造され
たガンマブチロラクトンである。
【０００９】この反応は公知であり、触媒としては、各
種の助触媒で改良されたニッケル触媒、コバルト触媒、
パラジウム触媒、銅触媒、銅−クロム触媒などの固体触
媒や、ルテニウム錯体触媒等の均一系錯体触媒が知られ
ている。本発明の対象として特に好ましいのは、均一系
錯体触媒存在下に１，４−ブタンジオールを脱水素して
得られた粗ガンマブチロラクトンである。
種の助触媒で改良されたニッケル触媒、コバルト触媒、
パラジウム触媒、銅触媒、銅−クロム触媒などの固体触
媒や、ルテニウム錯体触媒等の均一系錯体触媒が知られ
ている。本発明の対象として特に好ましいのは、均一系
錯体触媒存在下に１，４−ブタンジオールを脱水素して
得られた粗ガンマブチロラクトンである。
【００１０】均一系錯体触媒の存在下で１，４−ブタン
ジオールを脱水素させてガンマブチロラクトンを製造す
るには、通常は、触媒、未反応の１，４−ブタンジオー
ル及び反応により生成したガンマブチロラクトン、４−
ヒドロキシブタナール等のアルデヒド類、２−ヒドロキ
シテトラヒドロフラン等のヘミアセタール類などを含む
反応生成液を蒸留塔で蒸留し、触媒や未反応の１，４−
ブタンジオール等と粗ガンマブチロラクトンとを分離す
る。蒸留塔内でも脱水素反応は進行し、ガンマブチロラ
クトンと共に上記のアルデヒド類やヘミアセタール類な
どが生成する。これらのアルデヒド類やヘミアセタール
類等は、触媒存在下では速やかに脱水素されてガンマブ
チロラクトンとなるが、触媒が存在しない条件ではこの
脱水素反応は進行せず、ガンマブチロラクトンに沸点が
近いテトラヒドロフラノ−２−オキシブタナール等に変
化する。また、生成したテトラヒドロフラノ−２−オキ
シブタノールが、再びアルデヒド類やヘミアセタール類
に分解する反応も起こる。本発明者らの検討によれば、
これらの反応は１００℃以上の温度で起こりやすい。
ジオールを脱水素させてガンマブチロラクトンを製造す
るには、通常は、触媒、未反応の１，４−ブタンジオー
ル及び反応により生成したガンマブチロラクトン、４−
ヒドロキシブタナール等のアルデヒド類、２−ヒドロキ
シテトラヒドロフラン等のヘミアセタール類などを含む
反応生成液を蒸留塔で蒸留し、触媒や未反応の１，４−
ブタンジオール等と粗ガンマブチロラクトンとを分離す
る。蒸留塔内でも脱水素反応は進行し、ガンマブチロラ
クトンと共に上記のアルデヒド類やヘミアセタール類な
どが生成する。これらのアルデヒド類やヘミアセタール
類等は、触媒存在下では速やかに脱水素されてガンマブ
チロラクトンとなるが、触媒が存在しない条件ではこの
脱水素反応は進行せず、ガンマブチロラクトンに沸点が
近いテトラヒドロフラノ−２−オキシブタナール等に変
化する。また、生成したテトラヒドロフラノ−２−オキ
シブタノールが、再びアルデヒド類やヘミアセタール類
に分解する反応も起こる。本発明者らの検討によれば、
これらの反応は１００℃以上の温度で起こりやすい。
【００１１】したがって、アルデヒド類やヘミアセター
ル類を含む粗ガンマブチロラクトンを常法により蒸留し
たのでは、蒸留塔内でこれらの反応が起きてしまい、高
純度のガンマブチロラクトンを得ることは困難である。
本発明に係る精製方法では、先ず粗ガンマブチロラクト
ンを酸性イオン交換樹脂と接触させて、粗ガンマブチロ
ラクトン中に含まれているテトラヒドロフラノ−２−オ
キシブタナールをテトラヒドロフラン、２，３−ジヒド
ロフラン、２，５−ジヒドロフラン等のガンマブチロラ
クトンよりも低沸点の環状エーテル類へ転化させる。
ル類を含む粗ガンマブチロラクトンを常法により蒸留し
たのでは、蒸留塔内でこれらの反応が起きてしまい、高
純度のガンマブチロラクトンを得ることは困難である。
本発明に係る精製方法では、先ず粗ガンマブチロラクト
ンを酸性イオン交換樹脂と接触させて、粗ガンマブチロ
ラクトン中に含まれているテトラヒドロフラノ−２−オ
キシブタナールをテトラヒドロフラン、２，３−ジヒド
ロフラン、２，５−ジヒドロフラン等のガンマブチロラ
クトンよりも低沸点の環状エーテル類へ転化させる。
【００１２】酸性イオン交換樹脂としては、強酸性イオ
ン交換樹脂、弱酸性イオン交換樹脂のいずれも使用する
ことができる。強酸性イオン交換樹脂、特にスルホン酸
基を有する強酸性イオン交換樹脂が好ましい。粗ガンマ
ブチロラクトンを酸性イオン交換樹脂と接触させる方法
としては、酸性イオン交換樹脂を充填した固定床反応器
に粗ガンマブチロラクトンを流通させる方法が好ましい
が、酸性イオン交換樹脂が懸濁状態で存在している反応
槽に粗ガンマブチロラクトンを連続的に供給し、かつ酸
性イオン交換樹脂は反応槽内に残留させつつ粗ガンマブ
チロラクトンだけを連続的に抜き出す方法等を用いるこ
ともできる。
ン交換樹脂、弱酸性イオン交換樹脂のいずれも使用する
ことができる。強酸性イオン交換樹脂、特にスルホン酸
基を有する強酸性イオン交換樹脂が好ましい。粗ガンマ
ブチロラクトンを酸性イオン交換樹脂と接触させる方法
としては、酸性イオン交換樹脂を充填した固定床反応器
に粗ガンマブチロラクトンを流通させる方法が好ましい
が、酸性イオン交換樹脂が懸濁状態で存在している反応
槽に粗ガンマブチロラクトンを連続的に供給し、かつ酸
性イオン交換樹脂は反応槽内に残留させつつ粗ガンマブ
チロラクトンだけを連続的に抜き出す方法等を用いるこ
ともできる。
【００１３】固定床反応器を用いる場合には、通常は、
粗ガンマブチロラクトンの空間速度：ＳＶ（１／Ｈｒ）
は０．１〜２０である。ＳＶが０．２〜２、線速：ＬＶ
（ｍ／ｈｒ）が０．１〜１０、特に１〜５で行うのが好
ましい。イオン交換樹脂の固定層内における空隙率は、
体積比で１０％〜５０％、特に２０％〜４０％であるの
が好ましい。
粗ガンマブチロラクトンの空間速度：ＳＶ（１／Ｈｒ）
は０．１〜２０である。ＳＶが０．２〜２、線速：ＬＶ
（ｍ／ｈｒ）が０．１〜１０、特に１〜５で行うのが好
ましい。イオン交換樹脂の固定層内における空隙率は、
体積比で１０％〜５０％、特に２０％〜４０％であるの
が好ましい。
【００１４】連続槽型反応器を用いる場合には、酸性イ
オン交換樹脂が粗ガンマブチロラクトンに対して１０重
量％以上、特に５０％重量以上であるのが好ましい。粗
ガンマブチロラクトンを酸性イオン交換樹脂と接触させ
るのは、４０℃以上１００℃未満、特に６０℃以上９０
℃以下で行うのが好ましい。１００℃以上では、イオン
交換樹脂から不純物が溶出してガンマブチロラクトンを
汚染したり、テトラヒドロフラノ−２−オキシブタノー
ルの高沸点化合物への転換が促進されてしまう。また、
４０℃未満では、テトラヒドロフラノ−２−オキシブタ
ノールの環状エーテル類への転換速度が遅い。したがっ
て、いずれの場合も高純度ガンマブチロラクトンを得る
のが困難である。
オン交換樹脂が粗ガンマブチロラクトンに対して１０重
量％以上、特に５０％重量以上であるのが好ましい。粗
ガンマブチロラクトンを酸性イオン交換樹脂と接触させ
るのは、４０℃以上１００℃未満、特に６０℃以上９０
℃以下で行うのが好ましい。１００℃以上では、イオン
交換樹脂から不純物が溶出してガンマブチロラクトンを
汚染したり、テトラヒドロフラノ−２−オキシブタノー
ルの高沸点化合物への転換が促進されてしまう。また、
４０℃未満では、テトラヒドロフラノ−２−オキシブタ
ノールの環状エーテル類への転換速度が遅い。したがっ
て、いずれの場合も高純度ガンマブチロラクトンを得る
のが困難である。
【００１５】粗ガンマブチロラクトン中のテトラヒドロ
フラノ−２−オキシブタノールを低沸点の環状エーテル
類に変換した後、常法により蒸留して精製ガンマブチロ
ラクトンを得ることができる。一般に前述の水素化反応
や脱水素反応で得られた粗ガンマブチロラクトン中に
は、４−ヒドロキシブタナールや２−ヒドロキシテトラ
ヒドロフラン等以外にも、テトラヒドロフラン、ジヒド
ロフラン、水、ブタノール、酢酸、酪酸、コハク酸ジメ
チル等のガンマブチロラクトンよりも低沸点の成分が含
まれている。また、ガンマブチロラクトンよりも高沸点
の成分も含まれていることが多い。本発明方法では、予
備蒸留により、これらの低沸点成分及び高沸点成分の濃
度をあらかじめ低減させて、４−ヒドロキシブタナー
ル、２−ヒドロキシテトラヒドロフラン及びテトラヒド
ロフラノ−２−オキシブタナールの合計濃度を２重量％
以下とした粗ガンマブチロラクトンを用いるのが好まし
い。1重量％以下、特に０．５重量%以下の粗ガンマブチ
ロラクトンを用いるのが更に好ましい。
フラノ−２−オキシブタノールを低沸点の環状エーテル
類に変換した後、常法により蒸留して精製ガンマブチロ
ラクトンを得ることができる。一般に前述の水素化反応
や脱水素反応で得られた粗ガンマブチロラクトン中に
は、４−ヒドロキシブタナールや２−ヒドロキシテトラ
ヒドロフラン等以外にも、テトラヒドロフラン、ジヒド
ロフラン、水、ブタノール、酢酸、酪酸、コハク酸ジメ
チル等のガンマブチロラクトンよりも低沸点の成分が含
まれている。また、ガンマブチロラクトンよりも高沸点
の成分も含まれていることが多い。本発明方法では、予
備蒸留により、これらの低沸点成分及び高沸点成分の濃
度をあらかじめ低減させて、４−ヒドロキシブタナー
ル、２−ヒドロキシテトラヒドロフラン及びテトラヒド
ロフラノ−２−オキシブタナールの合計濃度を２重量％
以下とした粗ガンマブチロラクトンを用いるのが好まし
い。1重量％以下、特に０．５重量%以下の粗ガンマブチ
ロラクトンを用いるのが更に好ましい。
【００１６】粗ガンマブチロラクトンは、蒸留塔の塔頂
から塔底のいずれの部位からでも導入することができる
が、アルデヒド類やヘミアセタール類の反応を抑制する
ため、蒸留塔の塔頂又は蒸留帯域の上部１割未満の位置
にある導入口から導入するのが好ましい。なお、蒸留帯
域の上部１割未満の位置とは、蒸留塔のうちリボイラー
部やコンデンサー部などを除いた蒸留作用、すなわち気
液接触の行われる部分、例えば充填塔であれば充填物の
存在する帯域を意味する。
から塔底のいずれの部位からでも導入することができる
が、アルデヒド類やヘミアセタール類の反応を抑制する
ため、蒸留塔の塔頂又は蒸留帯域の上部１割未満の位置
にある導入口から導入するのが好ましい。なお、蒸留帯
域の上部１割未満の位置とは、蒸留塔のうちリボイラー
部やコンデンサー部などを除いた蒸留作用、すなわち気
液接触の行われる部分、例えば充填塔であれば充填物の
存在する帯域を意味する。
【００１７】また、粗ガンマブチロラクトンは、酸性イ
オン交換樹脂との接触させたときの温度で導入するのが
好ましく、導入口は蒸留塔内の液温が１００℃未満であ
る部位に設けるのが好ましい。精製ガンマブチロラクト
ンは、蒸留塔の側流抜き出し口又は塔底から抜き出す。
塔底部では高沸点の不純物が混入するおそれがあるの
で、側流抜き出し口から精製ガンマブチロラクトンを抜
き出すのが好ましい。高沸点物の混入を避け、かつ４−
ヒドロキシブタナール、及び２−ヒドロキシテトラヒド
ロフランの混入を避けるためには、側流抜き出し口は蒸
留部の下から１〜５割、特に２〜４割の範囲内の位置に
設けるのが好ましい。
オン交換樹脂との接触させたときの温度で導入するのが
好ましく、導入口は蒸留塔内の液温が１００℃未満であ
る部位に設けるのが好ましい。精製ガンマブチロラクト
ンは、蒸留塔の側流抜き出し口又は塔底から抜き出す。
塔底部では高沸点の不純物が混入するおそれがあるの
で、側流抜き出し口から精製ガンマブチロラクトンを抜
き出すのが好ましい。高沸点物の混入を避け、かつ４−
ヒドロキシブタナール、及び２−ヒドロキシテトラヒド
ロフランの混入を避けるためには、側流抜き出し口は蒸
留部の下から１〜５割、特に２〜４割の範囲内の位置に
設けるのが好ましい。
【００１８】塔頂温度は、１２０℃以下であれば任意の
温度に設定することができる。蒸留時の圧力は、塔頂温
度に応じて設定すればよい。還流比は、蒸留塔内でのア
ルデヒド類とヘミアセタール類との反応を抑えるため、
及びエネルギーコスト低減化のため、低い方がよい。還
流比は、１００〜０．１が好ましい。１０〜０．１、特
に２〜０．１が、更に好ましい。
温度に設定することができる。蒸留時の圧力は、塔頂温
度に応じて設定すればよい。還流比は、蒸留塔内でのア
ルデヒド類とヘミアセタール類との反応を抑えるため、
及びエネルギーコスト低減化のため、低い方がよい。還
流比は、１００〜０．１が好ましい。１０〜０．１、特
に２〜０．１が、更に好ましい。
【００１９】蒸留塔は、単位時間当たりの粗ガンマブチ
ロラクトンの導入量を１００重量部とした場合に、塔頂
留出量を１〜３０、好ましくは５〜２０重量部とし、精
製ガンマブチロラクトンの抜き出し量を９０〜６０重量
部とするのが好ましい。塔底からの高沸点成分の抜き出
し量は１〜３０、好ましくは５〜２０重量部である。高
い生産性を確保するため、精製ガンマブチロラクトンの
抜き出し量が、できるだけ多くなるように操作するのが
好ましい。
ロラクトンの導入量を１００重量部とした場合に、塔頂
留出量を１〜３０、好ましくは５〜２０重量部とし、精
製ガンマブチロラクトンの抜き出し量を９０〜６０重量
部とするのが好ましい。塔底からの高沸点成分の抜き出
し量は１〜３０、好ましくは５〜２０重量部である。高
い生産性を確保するため、精製ガンマブチロラクトンの
抜き出し量が、できるだけ多くなるように操作するのが
好ましい。
【００２０】蒸留塔としては、充填塔、棚段塔など常用
のいずれのものも使用できるが、理論段数５段以上、特
に１０〜５０段のものを用いるのが好ましい。５０段を
超える蒸留塔は、蒸留塔建設のための経済性、運転、及
び安全管理のためには好ましくない。
のいずれのものも使用できるが、理論段数５段以上、特
に１０〜５０段のものを用いるのが好ましい。５０段を
超える蒸留塔は、蒸留塔建設のための経済性、運転、及
び安全管理のためには好ましくない。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。 製造例１ 酸性イオン交換樹脂（ダイヤイオンＰＫ２１６Ｈ、三菱
化学社製、ダイヤイオンは三菱化学社の登録商標）６１
ｃｃを充填したステンレス製カラムに、４−ヒドロキシ
ブタナール、２−ヒドロキシテトラヒドロフラン、及び
テトラヒドロフラノ−２−オキシブタナールを総量で１
６２４重量ｐｐｍ、並びにテトラヒドロフランを４重量
ｐｐｍ含む粗ガンマブチロラクトンを４８．３ｃｃ／ｈ
ｒで導入した。その際、温度を８０℃、ＳＶ０．７９３
（１／Ｈｒ）、ＬＶ１．７１（ｍ／Ｈｒ）とした。
するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。 製造例１ 酸性イオン交換樹脂（ダイヤイオンＰＫ２１６Ｈ、三菱
化学社製、ダイヤイオンは三菱化学社の登録商標）６１
ｃｃを充填したステンレス製カラムに、４−ヒドロキシ
ブタナール、２−ヒドロキシテトラヒドロフラン、及び
テトラヒドロフラノ−２−オキシブタナールを総量で１
６２４重量ｐｐｍ、並びにテトラヒドロフランを４重量
ｐｐｍ含む粗ガンマブチロラクトンを４８．３ｃｃ／ｈ
ｒで導入した。その際、温度を８０℃、ＳＶ０．７９３
（１／Ｈｒ）、ＬＶ１．７１（ｍ／Ｈｒ）とした。
【００２２】カラムから流出したガンマブチロラクトン
をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、テト
ラヒドロフラン１２４３重量ｐｐｍを含む純度９９．８
重量％のものであった。なお、４−ヒドロキシブタナー
ル、２−ヒドロキシテトラヒドロフラン、及びそれら由
来の化合物は、いずれも分析下限値（３重量ｐｐｍ）以
下であった。
をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、テト
ラヒドロフラン１２４３重量ｐｐｍを含む純度９９．８
重量％のものであった。なお、４−ヒドロキシブタナー
ル、２−ヒドロキシテトラヒドロフラン、及びそれら由
来の化合物は、いずれも分析下限値（３重量ｐｐｍ）以
下であった。
【００２３】製造例２
製造例１において、４−ヒドロキシブタナール、２−ヒ
ドロキシテトラヒドロフラン、及びテトラヒドロフラノ
−２−オキシブタナールを総量で３６４重量ｐｐｍ、並
びにテトラヒドロフランを４２ｐｐｍ含む粗ガンマブチ
ロラクトンを用いた以外は、製造例１と同様にして、テ
トラヒドロフラン７９５重量ｐｐｍを含む純度９９．９
重量％のガンマブチロラクトンを得た。なお、４−ヒド
ロキシブタナール、２−ヒドロキシテトラヒドロフラ
ン、及びそれら由来の化合物は、いずれも分析下限値
（３重量ｐｐｍ）以下であった。
ドロキシテトラヒドロフラン、及びテトラヒドロフラノ
−２−オキシブタナールを総量で３６４重量ｐｐｍ、並
びにテトラヒドロフランを４２ｐｐｍ含む粗ガンマブチ
ロラクトンを用いた以外は、製造例１と同様にして、テ
トラヒドロフラン７９５重量ｐｐｍを含む純度９９．９
重量％のガンマブチロラクトンを得た。なお、４−ヒド
ロキシブタナール、２−ヒドロキシテトラヒドロフラ
ン、及びそれら由来の化合物は、いずれも分析下限値
（３重量ｐｐｍ）以下であった。
【００２４】実施例１
１５段のガラス製オルダーショウ蒸留塔に、製造例１で
得たガンマブチロラクトンを３０℃、１００ｇ／ｈｒで
塔頂から導入し、塔頂から低沸点成分を１０ｇ／ｈｒ
で、塔頂から１０段目から精製ガンマブチロラクトンを
７０ｇ／ｈｒで、塔底から高沸点成分を２０ｇ／ｈｒで
それぞれ抜き出した。
得たガンマブチロラクトンを３０℃、１００ｇ／ｈｒで
塔頂から導入し、塔頂から低沸点成分を１０ｇ／ｈｒ
で、塔頂から１０段目から精製ガンマブチロラクトンを
７０ｇ／ｈｒで、塔底から高沸点成分を２０ｇ／ｈｒで
それぞれ抜き出した。
【００２５】塔頂圧力を３０ｍｍＨｇ、還流比を１と
し、連続運転を行った。その際、塔頂温度は１００℃、
精製ガンマブチロラクトンを抜き出した塔頂から１０段
目の温度は１０８℃、塔底温度は１１２℃であった。精
製ガンマブチロラクトンをガスクロマトグラフィーによ
り分析したところ、純度９９．９９重量％であった。な
お、テトラヒドロフラン、４−ヒドロキシブタナール、
２−ヒドロキシテトラヒドロフラン、及びそれら由来の
化合物は、いずれも分析下限値（３重量ｐｐｍ）以下で
あった。
し、連続運転を行った。その際、塔頂温度は１００℃、
精製ガンマブチロラクトンを抜き出した塔頂から１０段
目の温度は１０８℃、塔底温度は１１２℃であった。精
製ガンマブチロラクトンをガスクロマトグラフィーによ
り分析したところ、純度９９．９９重量％であった。な
お、テトラヒドロフラン、４−ヒドロキシブタナール、
２−ヒドロキシテトラヒドロフラン、及びそれら由来の
化合物は、いずれも分析下限値（３重量ｐｐｍ）以下で
あった。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 高橋 和成
岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化学
株式会社内
Ｆターム(参考） 4C037 EA03 EA04
Claims (9)
- 【請求項１】 粗ガンマブチロラクトンを４０℃以上１
００℃未満で酸性イオン交換樹脂と接触させた後、蒸留
塔に供給し蒸留することを特徴とするガンマブチロラク
トンの精製方法。 - 【請求項２】 粗ガンマブチロラクトンが、１，４−ブ
タンジオールの脱水素反応により製造されたものである
ことを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 １，４−ブタンジオールの脱水素反応
が、均一系錯体触媒の存在下に行われたものであること
を特徴とする請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 粗ガンマブチロラクトンが、４−ヒドロ
キシブタナール、２−ヒドロキシテトラヒドロフラン、
及びテトラヒドロフラノ−２−オキシブタナールを含む
ものであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか
に記載の方法。 - 【請求項５】 粗ガンマブチロラクトンを、酸性イオン
交換樹脂を充填した反応器に流通して酸性イオン交換樹
脂と接触させることを特徴とする請求項１乃至４に記載
の方法。 - 【請求項６】 酸性イオン交換樹脂が、強酸性イオン交
換樹脂であることを特徴とする請求項１乃至５に記載の
方法。 - 【請求項７】 蒸留を、粗ガンマブチロラクトンを塔頂
温度が１２０℃以下の蒸留塔に導入し、減圧下にガンマ
ブチロラクトンよりも低沸点の成分を塔頂から留出さ
せ、精製ガンマブチロラクトンを蒸留塔の側流抜き出し
口又は塔底から抜き出す方法により行うことを特徴とす
る請求項１乃至６のいずれかに記載の方法。 - 【請求項８】 蒸留塔への粗ガンマブチロラクトンの導
入口が、蒸留塔の塔頂又は蒸留部の上部１割未満の位置
にあることを特徴とする請求項７記載の方法。 - 【請求項９】 精製ガンマブチロラクトンを、蒸留塔の
側流抜き出し口から抜き出すことを特徴とする請求項７
又は８記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002091442A JP4483156B2 (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | ガンマブチロラクトンの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002091442A JP4483156B2 (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | ガンマブチロラクトンの精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003286277A true JP2003286277A (ja) | 2003-10-10 |
| JP4483156B2 JP4483156B2 (ja) | 2010-06-16 |
Family
ID=29236523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002091442A Expired - Lifetime JP4483156B2 (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | ガンマブチロラクトンの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4483156B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016008904A1 (en) * | 2014-07-16 | 2016-01-21 | Basf Se | METHOD FOR PURIFYING RAW γ-BUTYROLACTONE |
| CN116178682A (zh) * | 2023-02-01 | 2023-05-30 | 珠海金发生物材料有限公司 | 一种聚对苯二甲酸酯-共-癸二酸酯树脂及其制备方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55141421A (en) * | 1979-04-11 | 1980-11-05 | Davy Mckee Oil & Chem | Manufacture of butanee1*44diol |
| JPS55141480A (en) * | 1979-04-11 | 1980-11-05 | Davy Mckee Oil & Chem | Manufacture of butyrolactone |
| JPS6452729A (en) * | 1987-01-27 | 1989-02-28 | Agency Ind Science Techn | Dehydrogenation of compound having carbon-hydrogen bond and production of hydrogen |
| JPH0366680A (ja) * | 1989-08-03 | 1991-03-22 | Mitsubishi Kasei Corp | ラクトン類の精製方法 |
| JPH06507898A (ja) * | 1991-05-20 | 1994-09-08 | イーストマン ケミカル カンパニー | ２−ヒドロキシテトラヒドロフランと４−ヒドロキシブタナールとの混合物の製造方法 |
| JPH09505067A (ja) * | 1993-11-18 | 1997-05-20 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | γ−ブチロラクトンの製法 |
| JPH11286482A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-19 | Tonen Corp | γ−ブチロラクトンの精製方法 |
-
2002
- 2002-03-28 JP JP2002091442A patent/JP4483156B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55141421A (en) * | 1979-04-11 | 1980-11-05 | Davy Mckee Oil & Chem | Manufacture of butanee1*44diol |
| JPS55141480A (en) * | 1979-04-11 | 1980-11-05 | Davy Mckee Oil & Chem | Manufacture of butyrolactone |
| JPS6452729A (en) * | 1987-01-27 | 1989-02-28 | Agency Ind Science Techn | Dehydrogenation of compound having carbon-hydrogen bond and production of hydrogen |
| JPH0366680A (ja) * | 1989-08-03 | 1991-03-22 | Mitsubishi Kasei Corp | ラクトン類の精製方法 |
| JPH06507898A (ja) * | 1991-05-20 | 1994-09-08 | イーストマン ケミカル カンパニー | ２−ヒドロキシテトラヒドロフランと４−ヒドロキシブタナールとの混合物の製造方法 |
| JPH09505067A (ja) * | 1993-11-18 | 1997-05-20 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | γ−ブチロラクトンの製法 |
| JPH11286482A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-19 | Tonen Corp | γ−ブチロラクトンの精製方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016008904A1 (en) * | 2014-07-16 | 2016-01-21 | Basf Se | METHOD FOR PURIFYING RAW γ-BUTYROLACTONE |
| CN116178682A (zh) * | 2023-02-01 | 2023-05-30 | 珠海金发生物材料有限公司 | 一种聚对苯二甲酸酯-共-癸二酸酯树脂及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4483156B2 (ja) | 2010-06-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20160105370A (ko) | 메틸 메타크릴레이트의 제조 방법 | |
| CN1131139A (zh) | 提纯乙酸的方法 | |
| JPH0635404B2 (ja) | 粗１，４−ブタンジオ−ルの精製方法 | |
| WO2004050591A1 (ja) | アルコールの製造方法 | |
| JP2003521544A (ja) | オレフィンのエポキシ化のための方法 | |
| US8410307B2 (en) | Method for producing vinyl acetate | |
| WO2006121081A1 (ja) | 高純度アセトニトリル及びその製造方法 | |
| JPS6310928B2 (ja) | ||
| JPH0629280B2 (ja) | 粗テトラヒドロフランの精製方法 | |
| JP4483156B2 (ja) | ガンマブチロラクトンの精製方法 | |
| JPS61130247A (ja) | １，２‐ペンタンジオールの連続的製法 | |
| CN211645084U (zh) | 一种异戊醇和乙酸异戊酯的分离及乙酸异戊酯纯化装置 | |
| JP4348890B2 (ja) | ガンマブチロラクトンの精製方法 | |
| JP2000143652A (ja) | 粗テトラヒドロフランの精製方法 | |
| JP4960546B2 (ja) | 粗製ピロリジンの精製法 | |
| US4465853A (en) | Method for isomerizing diacetoxybutenes | |
| JP2005281255A (ja) | 精製アルコールの製造方法 | |
| JP4154897B2 (ja) | ガンマブチロラクトンの精製方法 | |
| MXPA04007730A (es) | Procedimiento para la obtencion de ciclohexanol a partir de benceno. | |
| JP2737297B2 (ja) | メチルイソブチルケトンの製造法 | |
| JP3463326B2 (ja) | １，４−ブタンジオール及びテトラヒドロフランの製造方法 | |
| US4105679A (en) | Process for producing a cylic ether from an acetic ester of a 1,4-glycol | |
| JPH10237057A (ja) | 粗テトラヒドロフランの精製方法 | |
| JPH03181440A (ja) | アクリル酸の蒸留精製方法 | |
| JPH10120618A (ja) | アクリル酸からの酢酸の分離方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041008 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080610 |
|
| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20090605 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090630 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090828 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100302 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100315 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4483156 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130402 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140402 Year of fee payment: 4 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |