JP2003279873A - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精度なドット位置補正が可能な光走査装置
を得る。 【解決手段】 半導体レーザ２０１からのレーザ光は、
コリメータレンズ２０２、シリンダーレンズ２０３を通
り、ポリゴンミラー２０４によりスキャンされ、ｆθレ
ンズ２０５を通り、透明部材２０６を介し、感光体２０
８に入射することにより、感光体２０８上に画像を形成
する。この走査レーザ光の、有効書込開始位置及び終了
位置を検出手段１０１、１０２により検出してドット位
置ずれ検出・制御部１１０に入力する。ドット位置ずれ
検出・制御部１１０では、検出手段間をレーザ光が走査
される時間を測定し、理想的な走査が行われた場合にお
ける走査時間と比較するなどして走査時間のずれ量を求
め画素クロック生成部１２０へ出力する。なお検出手段
１０１の出力信号は、ライン同期信号として画像処理部
１３０にも与える。検出手段間を光束が横切る走査時間
の変動量に基づいて、位相データを補正する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置及び画
像形成装置に関し、たとえば、レーザプリンタ、デジタ
ル複写機等の光走査装置または画像形成装置において画
素クロックの生成及び位相制御に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光走査装置及び画像形成装置は、
たとえば、レーザプリンタとして適用される。図３９に
示す画像形成装置の従来技術について説明する。本図３
９において、半導体レーザユニット２１から発光された
レーザは、ポリゴンミラー２２が回転することによりポ
リゴンミラー１００２により一方向に走査され、走査レ
ンズ１００３を介して被走査媒体（感光体）１００４上
に光スポットを形成し、静電潜像画像を形成する。この
とき半導体レーザユニット１００１は、画像処理ユニッ
ト１００６より生成された画像データと位相同期回路に
より位相が設定された画像クロックに従い、半導体レー
ザの発光時間をコントロールすることにより、被走査媒
体上１００４上の静電潜像を制御するものである。

【０００３】図３９に示す画像形成装置の従来技術につ
いて説明する。図３９において、半導体レーザユニット
１００１から発光されたレーザは、ポリゴンミラー１０
０２が回転することによりポリゴンミラー１００２によ
り一方向に走査され、走査レンズ１００３を介して被走
査媒体（感光体）１００４上に光スポットを形成し、静
電潜像画像を形成する。このとき走査光は被走査媒体の
延長上にある検出手段１００５，１０１０により検出さ
れ、その両検出信号の検出タイミングは、時間カウンタ
１０１１、ルックアップテーブル１０１２を介して位相
同期回路１００９に入力される。このとき半導体レーザ
ユニット１００１は、画像処理ユニット１００６より生
成された画像データとクロック生成回路１００８及び位
相同期回路１００９によりクロックの位相が設定された
画像クロックに従い、半導体レーザの発光時間をコント
ロールすることにより、被走査媒体上１００４上の静電
潜像を走査方向に高精度に制御するものである。

【０００４】本発明と技術分野の類似する先願発明例１
として、カラーレーザプリンタ等の各色の画像形成位置
の書き出し位置を1 クロック誤差以内で補正する手段を
有する例として、特開２０００−２３８３１９号があ
る。また、画像形成装置において主走査方向の画像形成
位置のずれを主走査方向の書き出し位置と書き終わり位
置とを調整する例として、特開２０００−２８９２５１
号がある。さらに、多点同期方式を用いた光走査装置に
おいて、ドット位置ずれを補正する例としての特開平６
−５９５５２号がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来来技術では、下記の問題を伴う。一般的な光走査装置
は、図３９の従来技術に示すように、少なくとも下記構
成からなる。光源と、光源からの光束を偏向する偏向手
段と、偏向された光束を非走査面に導く走査光学系を有
し、非走査面上で書込みを開始するに先立ち、光束を検
知する同期検知手段を有する。

【０００６】このとき、有効書込み幅に向かう光束と、
同期検知手段に向かう光束を分離することが必要で、そ
のためにポリゴンミラー等の偏向器、走査光学素子が大
きくなってしまう。また、有効書込みに向かう光束と同
期検知用の光束が離れるので、同期検知精度が劣化す
る。また多色画像形成装置に対応する複数の走査光学系
において、相対的な走査線傾き、走査線曲がり、全幅の
倍率誤差、部分倍率誤差を低減することは、非常に重要
な課題である。ここで初期特性としては組み付け前に獲
得性を計測することにより調整可能であるが、温度変動
等の経時の変化に付いては機内で計測する必要がある。

【０００７】このとき、走査線傾きや全幅倍率誤差につ
いては有効書込み幅外の両側で計測可能であるが、走査
線曲がり、部分倍率誤差については有効書込み幅内での
計測が必要である。ところが、このとき有効書込み幅に
導く光束と検出するための光束を分離するのが非常に困
難である。また、複数の走査光学系を主走査方向に配列
して非走査面上を走査する方式が広く知られているが、
走査光学系が主走査方向に並列して配備されているの
で、レイアウト上同期検知用の光束を分離するのが困難
である。また、上記のような光走査光学系において、特
に以下の理由により被走査面上（感光体上）の走査速度
ムラを発生し、結果として主走査ドット位置ずれを発生
する。

【０００８】上記走査速度ムラは画像の揺らぎとなり縦
筋画像の発生などによる画像品質の劣化を招き、主走査
ドット位置ずれは特にカラー画像においては色ずれとし
てあらわれ、色再現性の劣化、解像度の劣化を招く。 １．走査レンズのｆθ特性が十分補正されていない場
合。 ２．光走査光学系の光学部品精度、ハウジング上への取
付精度の劣化。 ３．機内の温度、湿度などの環境変動による光学部品へ
の変形、屈折率変動により焦点距離が変化し、ｆθ特性
が劣化。 ４．ポリゴンスキャナ等の偏向器の偏向反射面の回転軸
からの距離のばらつきによる、被走査面上を走査する光
スポット（走査ビーム）の走査速度ムラ発生。 特に上記３の環境変動による主走査ドット位置ずれは、
出荷時に光学調整または電気的な補正を実施したとして
も避けることはできない。近年の高画質化の要求にこた
えるためには、この課題を解決する必要がある。

【０００９】また高品位の画質を要求する場合は走査速
度ムラの補正を行う必要がある。特にマルチビーム光学
系の場合、各発光源の発振波長に差がある場合に、走査
レンズの色収差が補正されていない光学系の場合には露
光ずれが発生し、各発光源に対応する光スポットが被走
査媒体上を走査するときの走査幅は、各光源毎に差が生
じてしまい、画像品質の劣化の要因になってしまうた
め、走査幅の補正を行う必要がある。但し上記補正を行
う場合、光学系による走査ムラの発生には、光学系の特
性により走査線上で異なる。また走査ムラを補正するた
めに全画像データの補正を行うことは、補正データ容量
が膨大となり制御系へのコスト、回路規模等の負担が大
きくなる。

【００１０】カラーレーザプリンタ等の各色の画像形成
装置の書き出し位置を１クロック誤差以内で補正する手
段を有する例として特開２０００−２３８３１９号があ
り、主走査方向の書き出し位置と書き終わり位置を調査
する例として特開２０００−２８９２５１号があるが、
両者ともに光学系や偏向器により生じる主走査ドット位
置ずれの影響は補正できない。

【００１１】一般的な光走査装置は図３９の従来技術に
示すように、少なくとも下記構成からなる。光源と、光
源からの光束を偏向する偏向手段と、偏向された光束を
被走査面に導く走査光学系を有し、被走査面上で書込み
を開始するに先立ち、光束を検知する同期検知手段であ
る検出手段を有する。また多色画像形成装置に対応する
複数の走査光学系において、相対的な走査線傾き、走査
線曲がり、全幅の倍率誤差、部分倍率誤差を低減するこ
とは、非常に重要な課題である。ここで初期特性として
は組み付け前に獲得性を計測することにより調整可能で
あるが、温度変動等の経時の変化に付いては機内で計測
する必要がある。

【００１２】このとき、走査線傾きや全幅倍率誤差につ
いては有効書込み幅外の両側で計測可能であるが、走査
線曲がり、部分倍率誤差については有効書込み幅内での
計測が必要である。ところが、このとき有効書込み幅に
導く光束と検出するための光束を分離する必要が生じる
が、分離は非常に困難であり、ポリゴンミラー等の偏向
器、走査光学素子が大きくなってしまう。また、有効書
込みに向かう光束と同期検知用の光束が離れるので、同
期検知精度が劣化する。

【００１３】現在、複数の走査光学系を主走査方向に配
列して被走査面上を走査する方式が広く知られている
が、走査光学系が主走査方向に並列して配備されている
ので、レイアウト上同期検知用の光束を分離するのが困
難である。また、上記のような光走査光学系において、
特に以下の理由により被走査面上（感光体上）の走査速
度ムラを発生し、結果として主走査ドット位置ずれを発
生する。上記走査速度ムラは画像の揺らぎとなり縦筋画
像の発生などによる画像品質の劣化を招き、主走査ドッ
ト位置ずれは特にカラー画像においては色ずれとしてあ
らわれ、色再現性の劣化、解像度の劣化を招く。

【００１４】１．走査レンズのｆθ特性が十分補正され
ていない場合がある。 ２．光走査光学系の光学部品精度、ハウジング上への取
付精度の劣化が生じる。 ３．機内の温度、湿度などの環境変動による光学部品へ
の変形、屈折率変動により焦点距離が変化し、ｆθ特性
が劣化が生じる。 ４．ポリゴンスキャナ等の偏向器の偏向反射面の回転軸
からの距離のばらつきによる、被走査面上を走査する光
スポット（走査ビーム）の走査速度ムラ発生が生じる。

【００１５】特に上記３の環境変動による主走査ドット
位置ずれは、出荷時に光学調整または電気的な補正を実
施したとしても避けることはできない。近年の高画質化
の要求にこたえるためには、この課題を解決する必要が
ある。また高品位の画質を要求する場合は走査速度ムラ
の補正を行う必要がある。特にマルチビーム光学系の場
合、各発光源の発振波長に差がある場合に、走査レンズ
の色収差が補正されていない光学系の場合には露光ずれ
が発生し、各発光源に対応する光スポットが被走査媒体
上を走査するときの走査幅は、各光源毎に差が生じてし
まい、画像品質の劣化の要因になってしまうため、走査
幅の補正を行う必要がある。但し上記補正を行う場合、
光学系による走査ムラの発生には、光学系の特性により
走査線上で異なる。また走査ムラを補正するために全画
像データの補正を行うことは、補正データ容量が膨大と
なり制御系へのコスト、回路規模等の負担が大きくな
る。

【００１６】カラーレーザプリンタ等の各色の画像形成
装置の書き出し位置を１クロック誤差以内で補正する手
段を有する例として特開２０００−２３８３１９号があ
り、主走査方向の書き出し位置と書き終わり位置を調査
する例として特開２０００−２８９２５１があるが、両
者ともに光学系や偏向器により生じる主走査ドット位置
ずれの影響は補正できない。また、従来の多点同期方式
を用いた光走査装置において、レーザビーム走査用の偏
向器の回転ムラ、加工精度のムラ等により、走査速度な
いしはタイミングが各走査毎に一定とならず、ドット位
置精度即ち画質の劣化を引き起こす場合、画質の劣化を
低減する例として特開平６−５９５５２号がある。しか
し本手法ではドット位置補正のためにＰＬＬの周波数を
変更する手法であるため、ＰＬＬのロックアップタイム
中の周波数変動などの影響により、クロック信号が変動
し、高精度にクロックを補正することができない。

【００１７】本発明の第１の目的は、低コスト、省スペ
ースで、なおかつ、簡単な構成で経時的なドット位置補
正を可能にするための計測ができるようにし、なおかつ
計測された情報に基づき、高精度なドット位置補正が可
能な光走査装置及び画像形成装置を提供することであ
る。

【００１８】本発明の第２の目的は、低コスト、省スペ
ースで、なおかつ、簡単な構成で経時的なドット位置補
正を可能にするための計測ができるようにし、なおかつ
複数の検出手段により計測された情報に基づき、高精度
なドット位置補正が可能な光走査装置及び画像形成装置
を提供することである。

【００１９】

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
め、本発明の光走査装置は、光源と、該光源から出射さ
れた光束を偏向する偏向手段と、偏向手段によって偏向
された光束を被走査面に導き、有効書込開始位置及び終
了位置と略同位置に走査した際に信号検出する検出手段
と、高周波クロック生成手段からのクロック信号のタイ
ミングにより画像形成を行う画素クロックの各信号の位
相を、位相データに基づいてシフトする機能を有する画
素クロック生成装置とで構成され、検出手段間を光束が
横切る走査時間の変動量に基づいて、位相データを補正
することを特徴とする。

【００２０】また、上記光走査装置の走査光学系におい
て、走査結像素子と透明部材を構成し、前記検出手段に
導かれる光束は前記透明部材の第１面で反射され、透明
部材の第１面の反射率が第２面の反射率よりも大きくな
るようにコート条件を設定し、走査結像素子と前記透明
部材とを有し、該透明部材の第１面における被走査面に
向かう光束と、前記検出手段に向かう光束とが重複する
領域を有し、なおかつ、前記透明部材は平行平板であ
り、透明部材は防塵機能を有し、主走査方向に長い軸を
中心として有効書込み幅の中央に向かう光束に垂直な面
から傾けるとよい。

【００２１】請求項７記載の発明の光走査装置は、光源
と、該光源から出射された光束を偏向する偏向手段と、
偏向器によって偏向された光束を被走査面に導き書込開
始側及び終了側で光束を検出する検出手段と、高周波ク
ロック生成手段からのクロック信号のタイミングによ
り、画像形成を行う画素クロックの各信号の位相を、位
相データに基づいてシフトする機能を有する画素クロッ
ク生成装置で構成され、検出手段間を光束が横切る走査
時間の変動量に基づいて、位相データを補正する機能
と、画素クロック１周期を１単位として複数の単位で構
成されるデータ領域毎に位相データを与えることを特徴
とする。

【００２２】また、上記画素クロック１周期を１単位と
して、一定数の単位で構成されるデータ領域において、
データ領域毎に位相データを与える画素クロック生成装
置で構成され、画素クロック１周期を１単位として、複
数の単位で構成されるデータ領域において、データ領域
内のクロック数を一定数にしない画素クロック生成装置
で構成され、主走査ドット位置ずれ量の変化量が大きい
像高ではデータ領域を狭く、変化量の小さい像高ではデ
ータ領域を広くする画素クロック生成装置で構成され、
光源から出力される光束を偏向器により走査方向に沿っ
て被走査媒体上を走査させるとき、書込開始側、及び書
込終了側で光束を検出する検出手段と、各検出手段から
有効書込領域までの領域を夫々有効書込開始位置補正領
域、有効書込終了位置補正領域としたとき、各領域は単
一のデータ領域であり、画素クロックの周波数を変更す
ることにより、主走査ドット位置ずれ量全体をシフトす
る画素クロック生成装置を有し、光走査装置の光源は、
複数の半導体レーザを光学的に合成、またはモノシリッ
クな半導体レーザアレイで構成されたマルチビーム光源
であり、光走査装置を複数の感光体を有するタンデムカ
ラー機に対応するとよい。

【００２３】請求項１５記載の発明の光走査装置は、光
源と、該光源から出射された光束を偏向する偏向手段
と、偏向手段によって偏向された光束を被走査面及び前
記被走査面とは異なる被検出面にそれぞれ導く導光手段
と、走査面と略同一位置に走査した光束を、複数の検出
部により検出する検出手段と、高周波クロックを生成す
る高周波クロック生成手段と、高周波クロック生成手段
から出力される高周波クロックと画素クロックの遷移タ
イミングを指示する位相データに基づいて画素クロック
を生成する画素クロック生成手段と、前記複数の検出部
を光束が横切る走査時間に基づいて、前記位相データを
補正することを特徴とする。

【００２４】また、上記の導光手段は、偏向器によって
偏向された光束を分割することにより、被走査面及び前
記被走査面とは異なる被検出面にそれぞれ導く光束分割
手段により構成され、被走査面とは異なる被検出面に、
光束分割手段として構成する透明部材の第２面で反射さ
れた光束を導き、被走査面とは異なる被検出面に、光束
分割手段として構成する透明部材の第１面で反射された
光束を導き、透明部材の第１面の反射率が、第２面の反
射率よりも大きくなり、透明部材の第１面において、被
走査面に向かう光束と前記被走査面とは異なる被検出面
に向かう光束が重複する領域を有し、なおかつ透明部材
は平行平板であり、導光手段は、２種類の光源より出射
される走査光と参照光とからなり、同じ偏向手段により
偏向された光束を、走査光は被走査面へ、参照光は前記
被走査面とは異なる被検出面にそれぞれ導く導光手段
と、走査面と略同一位置に走査した光束を、複数の検出
部により検出する検出手段と、高周波クロック生成手段
から生成される高周波クロックに基づき、画像形成を行
う画素クロックの各ドットにおける信号の位相を、位相
データに基づいてシフトする機能を有する画素クロック
生成手段と、前記複数の検出部を光束が横切る走査時間
に基づいて、前記位相データを補正するとよい。

【００２５】さらに、上記の参照光は、前記走査光と略
同一光路長を有し、走査光を出射する走査光源と、前記
参照光を出射する参照光源に略同一波長の光源を構成
し、走査光を出射する走査光源と、前記参照光を出射す
る参照光源として同一ロットの光源を構成し、走査光を
出射する走査光源と、前記参照光を出射する参照光源と
して構成する略同一波長の光源を、同一ロットの近接配
置にあるものにより構成し、走査光を出射する走査光源
と、前記参照光を出射する参照光源として略同一波長の
光源を有する半導体レーザアレイを構成し、被走査面と
略同一位置に走査した光束を、前記複数の検出部により
検出する検出手段において、前記検出手段の走査方向の
最端部にある前記検出手段同士の間隔を、前記被走査面
の有効書込開始位置及び終了位置に走査した際の信号検
出間隔と略同一に構成し、画素クロック１周期を１単位
として、複数の単位で構成されるデータ領域毎に位相デ
ータを与え、データ領域は、前記複数の検出部による検
出タイミングに連動して設定するとよい。

【００２６】請求項３０記載の発明の光走査装置は、光
源と、光源から出射された光束を偏向する偏向手段と、
偏向手段によって偏向された光束を被走査面及び前記被
走査面とは異なる被検出面にそれぞれ導く導光手段と、
走査面と略同一位置に走査した光束を、複数の検出部に
より検出する検出手段と、高周波クロックを生成する高
周波クロック生成手段と、高周波クロック生成手段から
出力される高周波クロックと画素クロックの遷移タイミ
ングを指示する位相データに基づいて画素クロックの周
期を変化させる画素クロック生成手段と、複数の検出部
を光束が横切る走査時間に基づいて、位相データを補正
することを特徴とする。

【００２７】また、上記の画素クロックの遷移タイミン
グは前記高周波クロックの遷移に同期し、画素クロック
の周期は前記高周波クロックの１クロックステップで変
化し、画素クロックの周期は前記高周波クロックの１／
２クロックステップで変化するとよい。

【００２８】請求項３４記載の発明の光走査装置は、光
源と、光源から出射された光束を偏向する偏向手段と、
偏向手段によって偏向された光束を被走査面及び前記被
走査面とは異なる被検出面にそれぞれ導く導光手段と、
走査面と略同一位置に走査した光束を、複数の検出部に
より検出する検出手段と、高周波クロックを生成する高
周波クロック生成手段と、高周波クロック生成手段から
出力される高周波クロックをカウントする計数手段と、
計数手段の計数値と画素クロックの遷移タイミングを指
示する位相データを比較する比較手段と、比較手段の結
果に基づいて画素クロックの遷移を行う画素クロック制
御手段と、複数の検出部を光束が横切る走査時間に基づ
いて、位相データを補正することを特徴とする。

【００２９】また、請求項１５乃至は請求項３４記載の
発明では、光源と、前記光源から出射された光束を偏向
する偏向手段と、偏向手段によって偏向された光束を被
走査媒体に導く導光手段と、前記被走査媒体上を走査し
て前記被走査媒体上に画像を形成する画像形成装置にお
いて光走査装置を構成し、複数の光源と、前記複数の光
源から出射された光束を偏向する偏向手段と、偏向手段
によって偏向された光束を被走査媒体に導く導光手段
と、前記被走査媒体上を走査して前記被走査媒体上に画
像を形成する画像形成装置において、光走査装置を構成
し、光源と、光源から出射された光束を偏向する偏向手
段と、偏向手段によって偏向された光束を被走査媒体に
導く導光手段と、前記被走査媒体上を走査して前記被走
査媒体上に画像を形成する画像形成装置において、光走
査装置もしくは画像形成装置を構成し、複数の被走査媒
体を有するタンデムカラー機に対応するとよい。

【００３０】

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
による光走査装置及び画像形成装置の実施の形態を詳細
に説明する。図１から図３７を参照すると、本発明の光
走査装置及び画像形成装置の第１及び第２の実施形態が
示されている。

【００３１】（第１の実施形態）次に本発明の第１の実
施形態について説明する。まず、位相シフトを行うクロ
ック生成回路の第１の構成例を図２０に示す。図２０に
おいて高周波クロック生成回路1 は画素クロックＰＣＬ
Ｋの基準となる高周波クロックＶＣＬＫを生成する。カ
ウンタ１２はＶＣＫＬのクロックの立上がりで動作する
カウンタである。比較回路１３はカウンタの値とあらか
じめ設定された値及び比較値生成回路９が出力する比較
値１と比較し結果にもとづき制御信号１を出力する。

【００３２】クロック１生成回路４は制御信号１にも基
づきクロック１を生成する。カウンタ２５はＶＣＫＬの
クロックの立下がりで動作するカウンタである。比較回
路２６はカウンタの値とあらかじめ設定された値及び比
較値生成回路９が出力する比較値２と比較し結果にもと
づき制御信号２を出力する。クロック２生成回路７は制
御信号２に基づきクロック２を生成する。マルチプレク
サ８はセレクト信号に基づきクロック１、クロック２を
選択肢PCLKとして出力する。比較値生成回路９は外部か
ら入力された位相データとステータス信号生成回路１０
が出力するステータス信号に基づき比較値１、比較値２
を出力する。ステータス信号生成回路１０は位相データ
のｂｉｔ０が１のときにＰＣＬＫの立上がりのタイミン
グで信号をトグルさせてステータス信号として出力す
る。セレクト信号生成回路１１は位相データのｂｉｔ０
が１のときにＰＣＬＫの立下がりのタイミングで信号を
トグルさせてセレクト信号として出力する。

【００３３】図２０の動作について図３８の表１０１を
用いて説明する。ここではＶＣＬＫの４分周に相当する
画素クロックＰＣＬＫを生成し、位相シフトとして＋１
／８ＰＣＬＫ、−１／８ＰＣＬＫシフトさせる場合につ
いて説明する。表１に位相シフト量と外部から与える位
相データの対応を示す。図６には位相シフト量とクロッ
ク１とクロック２の切替の様子について示す。始めにマ
ルチプレクサ８でクロック１が選択された状態からスタ
ートする。ＰＣＬＫに同期して位相データ００を与える
（）。位相データｂｉｔ０が０なのでセレクト信号は
０のままでクロック１を選択したままＰＣＬＫとして出
力する（）。これによりＰＣＬＫは位相シフト量０の
クロックとなる。次ぎに位相データとして０１を与える
（) 。

【００３４】この場合は位相データｂｉｔ０が１なので
ＰＣＬＫの立下りでセレクト信号をトグルさせ１として
クロック２を選択するようにしてＰＣＬＫとして出力さ
せる（）。この時のクロック２は図に示すように１Ｖ
ＣＬＫ分周期が長くなったクロックとなっている。これ
により＋１／８ＰＣＬＫだけ位相シフトしたＰＣＬＫが
得られる。次ぎに再び位相データとして０１を与えると
（）、位相データｂｉｔ０が１なのでＰＣＬＫの立下
りでセレクト信号をトグルさせ０としてクロック１を選
択するようにしてＰＣＬＫとして出力させる（）。こ
の時のクロック１は図に示すように１ＶＣＬＫ分周期が
長くなったクロックとなっている。

【００３５】これにより＋１／８ＰＣＬＫだけ位相シフ
トしたＰＣＬＫが得られる。次ぎに位相データとして１
１を与える（）。位相データｂｉｔ０が１なのでＰＣ
ＬＫの立下りでセレクト信号をトグルさせ１としてクロ
ック２を選択するようにしてＰＣＬＫとして出力させる
（）。この時、クロック１は図に示すように１ＶＣＬ
Ｋ分周期が短くなったクロックとなっている。これによ
り−１／８ＰＣＬＫだけ位相シフトしたＰＣＬＫが得ら
れる。以上のようにして位相データに応じてクロック
１、クロック２の周期を変えてやり、クロック１、クロ
ック２を切り替えてＰＣＬＫとして出力させて行くこと
により、１／８ＰＣＬＫステップで位相シフトされた画
素クロックＰＣＬＫを得ることができる。

【００３６】また、図２０記載の画素クロック生成装置
において、位相データ入力部に複数の位相データを記憶
するための位相データ記憶回路を付加する構成におい
て、位相データ記憶回路には外部からのデータ設定を行
い、画素クロックＰＣＬＫに同期して順次位相データを
出力していく構成により、例えば走査レンズの特性によ
り生じる走査ムラを補正するための位相データのような
毎ライン同じ位相データが必要となるデータの場合にお
いて、あらかじめ位相データ記憶回路に位相データを記
憶しておき、ラインを走査するたびに位相データ記憶回
路の最初の位相データから順次出力していけば、外部か
らライン毎に同じデータを出力する必要がない。また位
相データ記憶回路に加えて外部から与えられる外部位相
データと位相データ記憶回路から出力される内部記憶デ
ータを合成して合成位相データを出力することにより、
走査レンズ特性などの静特性による位相データに加え
て、ポリゴンミラーの回転ムラや光学系の温度特性、経
時変化などの動特性による位相データの補正にも対応で
きる。

【００３７】次に図１７に図２９記載の画素クロック生
成装置による位相シフト補正方法を示す。図２０記載の
画素クロック生成装置において、画素クロックＰＣＬＫ
に同期して位相データを与えることにより、画素クロッ
クＰＣＬＫの位相を＋１／８ＰＣＬＫ、−１／８ＰＣＬ
Ｋシフトさせることが可能である。このとき従来技術に
おける画像形成装置において、半導体レーザユニットは
画像処理ユニットより生成された画像データと位相同期
回路により位相が設定された画像クロックに従い、半導
体レーザの発光時間をコントロールすることにより被走
査媒体上の静電潜像を制御するものであり、画像データ
の基準クロックとなる画像クロックの位相をシフトする
ことにより、ポリゴンスキャナ等の偏向器により発生す
る走査速度ムラや、マルチビーム光学系における発光源
同士の発信波長差により生じる露光ずれなどによる主走
査方向のドット位置ずれを、位相シフト（例えば１／８
ＰＣＬＫ）の精度で補正することが可能となる。

【００３８】図１７の理想状態は上記のような走査速度
ムラや露光ずれが全く発生しない理想状態でのドット位
置を示しており、１２００ｄｐｉ（ドット径約２１．２
μｍ）のとき連続した６ドットを走査した結果である。
図１７の補正前は最初の1 ドット目のドット位置精度は
一致しているが、上記走査速度ムラや露光ずれによるド
ット位置ずれが生じた状態であり、６ドット目には理想
状態に対して１２００ｄｐｉの１／２ドット相当である
１０．６μｍのドット位置ずれが生じている。本状態に
おいて1 ドット書込みに要する時間は１画素クロック相
当＝１ＰＣＬＫであるので、位相シフトの分解能が１／
８ＰＣＬＫの場合は、すなわちドット位置を１／８ドッ
ト精度で補正できるのと同義である。

【００３９】図２の補正後は位相シフトの分解能が１／
８ドットすなわち１／８ＰＣＬＫのとき、理想状態から
１／２ドット位置ずれを生じた補正前の状態から−１／
８ＰＣＬＫの位相シフトをデータ領域内で４回行う事に
より、理論上は６ドット目のドット位置を−１／８ＰＣ
ＬＫ×４＝−１／２ＰＣＬＫシフトすることができ、理
想状態に対して１／８ＰＣＬＫの精度でドット位置を補
正することができる。

【００４０】図１に本発明に係る光走査装置の一実施例
の全体構成図を示す。半導体レーザ２０１からのレーザ
光は、コリメータレンズ２０２、シリンダーレンズ２０
３を通り、ポリゴンミラー２０４によりスキャン（走
査）され、ｆθレンズ２０５を通り、透明部材２０６を
介し、感光体２０８に入射することにより、感光体２０
８上に画像（静電潜像）を形成する。この走査レーザ光
の、有効書込開始位置及び終了位置を検出手段１０１、
１０２により検出してドット位置ずれ検出・制御部１１
０に入力する。ドット位置ずれ検出・制御部１１０で
は、検出手段１０１，１０２間をレーザ光が走査される
時間を測定し、理想的な走査が行われた場合における走
査時間と比較するなどして走査時間のずれ量を求め、そ
のずれ量を補正する位相データを生成して画素クロック
生成部１２０へ出力する。なお検出手段１０１の出力信
号は、ライン同期信号として画像処理部１３０にも与え
る。

【００４１】ここで、画素クロック生成部１２０が位相
データ記憶回路を具備していない場合には、ドット位置
ずれ検出・制御部１１０ではライン毎に位相データを画
素クロック生成部へ出力するが、位相データ記憶回路を
具備している場合には、前もって位相データを求めるな
どして、あらかじめ画素クロック生成部１２０へ与えて
おくようにする。また、ドット位置ずれ検出・制御部１
１０では走査レンズの特性により生ずる走査ムラを補正
するようなライン毎に常に同じ補正をするための位相デ
ータ（第1 位相データ）だけでなく、ポリゴンミラーの
回転ムラのようなライン毎に変化する補正にも対応する
ための位相データ（第２位相データ）も生成し、画素ク
ロック生成部１２０が位相データ合成回路を具備してい
る場合には、その位相データも画素クロック生成部１２
０へ出力するようにする。また、後述のマルチビーム走
査装置を使用する場合には、検出手段１０１，１０２の
組を複数設けることにより、複数ライン分の位相データ
を同時に生成することが可能である。

【００４２】画素クロック生成部１２０では、ドット位
置ずれ検出・制御部１１０からの位相データに基づいて
画素クロックを生成し、画像処理部１３０とレーザ駆動
データ生成部１４０に与える。画像処理部１３０は、画
素クロックを基準に画像データを生成し、レーザ駆動デ
ータ生成部１４０は、この画像データを入力して、同様
に画素クロックを基準にレーザ駆動データ（変調デー
タ）を生成し、レーザ駆動部１５０を介して半導体レー
ザ２０１を駆動する。これにより、感光体２０８には、
位置ずれのない画像を形成することができる。

【００４３】ここで光走査光学系のドット位置ずれにつ
いて説明する。理想的な主走査ドット位置に対し、実際
の主操作ドット位置はずれてしまう。その原因としては
次の要因が考えられる。 １．走査レンズのｆθ特性が十分に補正されていない。 ２．光走査光学系の光学部品精度、ハウジング上への取
付精度の劣化による。 ３．機内の温度、湿度などの環境変動による光学部品の
変形、屈折率変動により焦点距離が変化し、ｆθ特性が
劣化する。 特に環境変動による主走査ドット位置ずれは、出荷時に
光学調整または電気的補正を実施したとしても避けるこ
とはできず、例えばファーストプリント時の特性が
（ａ）であったとしても、連続してプリント出力した場
合に機内の温度が上昇し、（ｂ）の特性値に変化してし
まうことが起こりうる。これにより、１枚目のプリント
の色合いと、複数枚プリントした後の色合いが変わって
しまう場合がある。

【００４４】そこで、本発明は使用される光走査光学系
の理想像高に対する実像高の関係の特性値を、本発明は
予備実験またはシミュレーションなどで予め把握してお
き、その特性値からルックアップテーブルなどを作成す
る。実際にプリント駆動させたときの光走査時間を逐次
計測し、その計測走査時間に基づき、上記ルックアップ
テーブルからドット位置補正量を求め、ドット位置が理
想位置になるように位相シフト量を決定することを特徴
としている。本発明により、機内の環境変動によって生
じる主走査方向のドット位置ずれを効果的に補正するこ
とが可能となる。

【００４５】請求項１の発明におけるドット位置を任意
の位置に補正する方法を、図５、図１７に示す。図５、
図１７において書込み開始のタイミングを設定する位相
同期信号の立下りからある一定期間後に画素クロックを
生成する機能を有する画素クロック生成装置において、
実画像領域となる有効走査期間内において画素クロック
信号に基づき半導体レーザを変調させ、前記半導体レー
ザの出射光が光学系を経て感光体上に静電潜像を形成す
るとき、感光体上での画素クロックは偏向器や光学系に
よる主走査方向のドット位置ずれが生じる。このとき主
走査方向を示す有効走査期間は光学系により長さが異な
るが、本例では像高中央を０とした場合、像高の最大、
最小値をそれぞれ像高比１，−１と定義している。

【００４６】図１（Ａ）〜（Ｄ）、図４（Ａ）〜（Ｄ)
に示す主走査位置ずれ量の図は縦軸に主走査位置ずれ
量、横軸に像高比を示している。図１（Ａ）、図４
（Ａ）の光学系特性は像高の高い場所で変化量が大き
く、像高が０近傍では変化量が小さい特性がある。また
画素クロックの位相を各クロック毎にクロックの数分の
１ドット刻みでシフト可能な位相シフト機能を有する画
素クロック生成回路により、各画素の主走査位置を±数
分の一ドット単位でシフトできるため、原理的には±１
／８ドットシフトの場合には、リニアリティの補正量は
０％から１２．５％まで調整可能となる。また１２００
ｄｐｉ書込の場合、有効書込幅内の主走査位置ズレは、
２．６μｍ（２１．２μｍ／８）にまで低減できる。

【００４７】請求項１の発明の第１の実施例を図１、２
に、第２の実施例を図３に示す。第１の実施例として平
板ガラスを用いた実施例を示しており、本実施例では平
板ガラスの第一面における反射光を検出手段で検出する
ものである。図１から図３において共通に言えること
は、半導体レーザユニットから発光されたレーザは、ポ
リゴンミラーが回転することにより偏向走査され、走査
レンズを介して被走査媒体（感光体上）に光ビームスポ
ットを形成し、静電潜像画像を形成する。

【００４８】ここで、有効書込領域の書込開始位置と終
了位置の２ヶ所に光検出手段を設け、偏向器にて偏向走
査されるビームが光検出手段を横切る走査時間を計測
し、この計測された走査時間の変動量に基づき、予め記
録されたルックアップテーブル等から主走査のドット位
置の補正量を設定する。さらに補正量データに基づき位
相同期回路により位相シフトされた画像クロックを生成
し、画像処理ユニットより生成された画像データに従い
半導体レーザユニットの発光時間をコントロールするこ
とにより、被走査媒体上のドット位置を任意位置に制御
することができる。

【００４９】図１は、請求項１記載の発明において、検
出手段に導かれる光束が反射される透明部材として平板
を用いた実施例であり、有効書込領域の開始、終端にビ
ームが走査されたときに、ビームの反射光が検出できる
ように構成したものである。図２は、請求項１記載の発
明において、検出手段に導かれる光束が反射される透明
部材として図に示すビームスプリッタを用いた実施例で
あり、非走査媒体上を走査する光束と検出器で検出され
る光束をビームスプリッタで光束分離することで、同時
にかつ異なる方向で光束が検出可能となる。また上記二
つの実施例ともに、有効書込領域の開始及び終端のタイ
ミングでリアルタイムに光束を検出可能な構成であるの
で、位相同期制御をもまたリアルタイムに行う事が可能
となる。

【００５０】第２の実施例としてビームスプリッタを用
いた実施例を図３に示す。本実施例は、ビームスプリッ
タにより非走査面に向かう光束と、検出手段に向かう光
束を異なる方向の光束に分離して検出するものである。
ビームスプリッタは一対の直角三角形のプリズムを２個
接合したものであり、その接合面はハーフミラー面とさ
れている。ビームスプリッタに入射した光は、ハーフミ
ラー面においてその一部が透過し、透過光はそのまま直
進して被走査媒体上を走査する。一方、ハーフミラー面
で反射された光は、図３下図に示すように下方へ屈曲し
て反射光を形成する。本構成により、ポリゴンミラーの
回転によるレーザ光の被走査媒体上での第１の走査と共
に、ハーフミラー面での反射光により、被走査媒体面と
は異なる方向、位置において第２の走査が行われるの
で、その第２の走査ライン上に検出手段１、２を構成す
ることにより位相同期信号を得ることができる。

【００５１】請求項２記載の発明の実施例を図１、２に
示す。本実施例において、同期検出手段に向かう光束は
透明部材の第1 面で反射される。このため、以下の効果
が得られる。 １．透過する面が少なくなり、検出用の光束の波面の劣
化が少なくなり、正確なビーム位置の検出が可能とな
る。 ２．検出用のビームが材料による吸収による影響を受け
ない、透過する面が少なくなるので光量損失が少なくな
り、正確なビーム検出が可能となる。 請求項３記載の発明の実施例を図１に示す。また検出手
段に向かう光束を第１面からの反射光とする場合により
高精度な検出を行うために第２面での反射によるゴース
ト光のパワーを低減する必要がある。

【００５２】（コート条件１）光源波長７８０ｎｍ、防
塵ガラスの屈折率１．５１１の場合において、第１面：
コート無またはＭｇＦ２（屈折率１．３８）、膜厚λ／
２、第２面：ＭｇＦ２膜厚λ／４（λ＝７８０ｎｍ）の
単層コートとすると、第１面での反射率４．１４％に対
し、第2 面での反射率は低減される。

【００５３】（コート条件２）光源波長７８０ｎｍ、防
塵ガラスの屈折率１．５１１の条件において、 第１面：コート無またはＭｇＦ２（屈折率１．３８）膜
厚λ／２、 第２面：ＭｇＦ２膜厚λ／４＋ＡＬ２Ｏ３（屈折率１．
６３）膜厚λ／４の２層コート、とすると、第１面での
反射率４．１４％に対し、第２面の反射率は０．１６％
となり、２層コート第２面での反射率はさらに大幅に低
減される。

【００５４】（コート条件３）光源波長７８０ｎｍ、防
塵ガラスの屈折率１．５１１の条件において、第２面の
コート条件はコート条件２と同じにし、第１面のコート
にＡＬ２Ｏ３（屈折率１．６３）を用い、以下のように
膜厚を設定すると第１面の反射率は以下のようになる。 λ／５ ：７．２４％ λ／４ ：７．６８％ ２ λ／５：５．３６％ このようにコートの屈折率を透明材料より大きくし、膜
厚ｄを０＜ｄ＜λ／２（λは光源の波長）とすることに
より、第1 面の反射率を更にアップすることができる。

【００５５】請求項４記載の発明の実施例を図１、２に
示す。防塵ガラスは平行平板であるので、フロート加工
での加工ができ、また、平行平板であるが故に非走査面
に向かう光束と、検出手段に向かう光束の光学特性上の
差異が発生しにくい。

【００５６】請求項５記載の発明の実施例を図１、２、
４に示す。半導体レーザから出射した発散光束は、カッ
プリングレンズによりカップリングされ、副走査方向の
みパワーを有するシリンドリカルレンズによりポリゴン
ミラーの反射点の近傍に主走査方向に長い線像を形成す
る。ポリゴンミラーで偏向された光束は、走査レンズ
と、光走査装置の外部から内部に埃等が侵入するのを防
ぐ防塵機能を有する防塵ガラスを透過し、非走査面に光
束が導かれる。

【００５７】本発明の一つの大きな特徴は、防塵ガラス
が防塵機能と検出用の光束を分離する２つの機能を有し
ていることである。また、ある比率で防塵ガラスの第１
面で光束が反射されるが、防塵ガラスで反射された光束
を図示するように２ヶ所で検出する。全ての検出手段
は、図４下図に示すように三角形状のＰＤまたは、ＰＤ
の直前に配備された三角形状のスリットと図４上図に示
す四角状のＰＤなどの組み合わせにより構成される。こ
のとき、ＰＤがビームを検知する時間（図中のｔ１，ｔ
２）を検知することにより、副走査方向の位置を計測で
き、ビームがＰＤにはいることによる立ち上がりを検出
することにより、各検知手段によるビームの検出の時間
差を計測できる。計測された時間差（ｔ３，ｔ４）によ
り倍率誤差の測定が可能になる。

【００５８】また１０の検出手段は書込みを開始するた
めの機能、所謂、同期検知としての機能も有している。
このとき、図示するように、１０に向かう光束と書き込
み開始位置での光束が防塵ガラス第1 面において重複す
る領域を有しているので、書き込み開始位置に非常に近
い位置で同期検知が可能になり、同期検知精度が向上す
る。また、偏向器、走査レンズ、防塵ガラスを小型化で
きる。当然１１の検出手段に向かう光束も前記の重複領
域を有しており、有効書込み幅内でのビームの計測がで
きるので、走査線曲がりや部分倍率誤差の計測ができ
る。

【００５９】請求項６記載の発明の実施例を図１、２に
示す。透明部材を垂直な方向から傾ける場合、図２の下
図は上手のポリゴンミラーから非走査面までの副走査方
向の断面図を示した図である。図に示すように、防塵ガ
ラスを主走査方向に長い軸を中心として、有効書き込み
幅の中央に向かう光束に垂直な面から傾けることによ
り、光束分離が容易になり検出手段のレイアウトの自由
度が増大する。また、防塵ガラスを傾けることにより、
防塵ガラスで反射された光束が再度ポリゴンミラーや走
査レンズに戻ることがなく、ゴースト光を除去できる。

【００６０】また、防塵ガラスに対し偏向器側に配備さ
れ、なおかつ、防塵ガラスに最も近い走査結像素子の副
走査方向の幅をＨ、該走査結像素子と防塵ガラスの距離
をＬ、防塵ガラスの傾け角をθ、防塵ガラスから検出手
段までの距離をｌとすると、走査結像素子と検出用の光
束が干渉せずに、検出手段を配備できる条件は、下記と
なる。 Ｈ／２＜Ｌ×ｔａｎθ 又は ｌ＜ Ｌ

【００６１】また、図１、図４に示す構成（ｌ＝６０ｍ
ｍ）において、防音ガラスの面精度が加工が可能なレベ
ルの４００ｍＲとする場合、θ＝７１ｄｅｇとすると同
期検出する面において５０μｍ以上の走査線曲がりが発
生し、高精度な検出ができない。走査線曲がりを高精度
に検出するためには、ここで発生する走査線曲がりを５
０μｍ以下にする必要があり、そのためにはθ＜７０ｄ
ｅｇとする必要がある。

【００６２】請求項７記載の発明の実施例を図８、９、
１０、１１に示す。本発明は、図に示すレーザ走査光学
系において、有効書込領域外の書込開始位置と終了位置
の２か所に光検出手段を有し、偏向器にて偏向走査され
るビームが光検出手段を横切る走査タイミングを計測
し、開始位置と終了位置の検出時間差に基いて有効書込
領域での画像データの各ドット位置の補正値を決定する
ことを特徴とする実施例である。

【００６３】図１８にデータ領域へのデータ設定方法の
一例を示す。本例は画素クロック３０ＰＣＬＫ分を一デ
ータ領域と定義した実施例であり、本データ領域内で−
３／８ＰＣＬＫの位相シフトを行う場合の実施例を示し
ている。画素クロックの位相シフト分解能が±１／８Ｐ
ＣＬＫの場合、データ領域内の３つの画素クロックにつ
いて−１／８ＰＣＬＫの位相シフトを行う事により、デ
ータを与えない初期状態のデータ領域に対して、−３／
８ＰＣＬＫの主走査ドット位置補正が可能となる。図１
８の補正１の実施例ではデータ領域の最初のドットから
１０ＰＣＬＫ毎に−１／８ＰＣＬＫの位相シフトを行う
タイミングを計る位相シフトデータにより−１／８ＰＣ
ＬＫのドット位置補正を行っている。

【００６４】補正２の実施例では、データ領域の最初の
ドットから数えて５ドット目から補正後１と同じく１０
ＰＣＬＫ毎に−１／８ＰＣＬＫの位相シフトを行うタイ
ミングを計る位相シフトデータにより−１／８ＰＣＬＫ
のドット位置補正を行っている。位相シフトデータの生
成方法としては、外部信号からシリアルデータとして直
接直接入力する方法や、カウンタを設けて一定間隔で位
相シフトを行う方法がある。前者はデータ領域の所望の
位置に位相シフトを発生させることが可能であり、位相
シフトのパターンが画像に影響を及ぼさないように設定
変更することが容易である。後者の場合、図１８の補正
１、補正２に示すようにカウンタの初期値をずらすこと
で、連続したラインを書き込む場合に位相シフトした部
分が縦筋画像となって現れることを防ぐことが可能とな
る。

【００６５】また、例えば主走査ドット位置ずれを全画
像データに対して補正を行う事は、メモリ容量が膨大と
なり、制御系へのコスト、回路規模等の負担が大きくな
る。また、補正処理に費やす時間も無視できない。そこ
で本発明は、有効書込領域を複数の画像データ領域に分
割し、各々のデータ領域単位で位相データの補正値を設
定することにより、上記課題を解決している。本発明の
実施例を図１１に示す。図１１（ａ）〜（ｄ）に示す主
走査位置ずれ量の図は縦軸に主走査位置ずれ量、横軸に
像高比を示している。例えばプリント動作中に計測され
た２点間の走査時間を基にルックアップテーブル上の主
走査ドット位置ずれが図１１（ａ）で表されるような場
合、図１１（ｂ）〜（ｃ）で示すように、全画像データ
を複数の領域に分割し、各々のデータ領域の主走査ドッ
ト位置ずれ量の代表値（平均値など）を補正値とするこ
とにより、メモリ容量を増やすことなくドット位置ずれ
を良好に補正することが可能である。

【００６６】ここで、例えば画素クロックの位相を±１
／８ドットシフト単位でシフトした場合は、リニアリテ
ィの補正量は０％から１２．５％まで調整可能となり、
１２００ｄｐｉ書込みの場合、有効書込み幅内の主走査
位置ずれは２．６μｍ（２１．２μｍ／８）にまで低減
できる。図１１においては、分割数が多いほど良好な補
正が可能であるが、メモリ容量と補正処理時間の制約か
ら、最適分割数を決定することが望ましい。

【００６７】図１１（Ｂ）に有効走査期間を１５のデー
タ領域に分割した場合の、位相シフト後の主走査ドット
位置ずれ量を示す。図１１のグラフでは、各データ領域
の中央の像高における主走査ドット位置ずれ量が０にな
るように、各データ領域に位相データを与えた実施例を
示している。図１１において、位相シフト後の主走査ド
ット位置ずれの振幅値を主走査位置ずれ量Ｘ、データ領
域間のずれ量をデータ領域間ずれ量Ｙとしたとき、Ｘは
走査ライン上での位相補正後のドット位置ずれの絶対値
を示しており、値が小さいほど良好な補正がかけられた
といえる。Ｙはデータ領域間のドット位置ずれ量を示し
ており、この値が大きい場合データ領域間でのドット位
置が疎または密のいずれかの状態となるため、できうる
限りＹは小さい値を取るほうが良好な補正であるといえ
る。

【００６８】また、本発明はデータ領域毎に位相データ
を設定する構成とすることにより、例えば、画素クロッ
ク毎に位相データを位相シフトを行う場合に比べてデー
タ量を低減することができる。本例について、図１とは
異なる光学系による主走査ドット位置ずれデータを示す
図４の実施例で説明する。図４（Ｂ）は有効走査期間を
１０のデータ領域に分割し、分割したデータ領域の中央
値におけるリニアリティが０になるように位相データを
設定している。位相シフト量が±１／８ＰＣＬＫでシフ
ト可能であり、各画素クロック毎に位相シフトデータを
与える場合、位相シフト量の３パターン（−１／８クロ
ック、０、＋１／８クロック）設定するためには２ビッ
トのデータが必要となる。今１２００ｄｐｉ書込み時に
で有効走査期間を３００ｍｍとした場合、1 ドットは約
２１．２μｍ相当となり有効走査期間内のドット数は３
００／０．０２１２＝１４１５０ドットとなり、各デー
タ領域におけるドット数は１４１５０／１０＝１４１５
ドットとなる。

【００６９】走査レンズの特性による走査ムラのような
静特性の補正を行う場合、各画素クロック毎に位相デー
タを設定すると２ビット×１４１５０ドット＝２８３５
０ビットのデータを与える必要がある。一方１４１５ド
ットからなるデータ領域毎に位相データを設定した場
合、１４１５ドットのうち何ドットを位相シフトすれば
よいか分かればよいので、１２ビットあれば位相シフト
を行うドット数を定義できる。このとき位相シフト量の
３パターン設定するのに２ビット必要なので、１２ビッ
ト×２ビット＝２４ビットあればデータ領域の位相デー
タを設定できる。またデータ領域は１０あるので２４ビ
ット×１０＝２４０ビットあれば１ライン分の位相シフ
トデータを設定できるため、画素クロック毎に位相デー
タを設定する場合に比べて約８％のメモリ量でドット位
置ずれの補正が可能となる。よって本発明における画素
クロック生成装置をＩＣ化、ＩＰ化する際には、位相デ
ータ用メモリの大幅な削減につながり、チップサイズの
小型化、しいてはコストダウンにつながる。

【００７０】請求項８記載の発明の実施例を図８〜１１
に示す。本発明は請求項７記載の画素クロック生成装置
において、位相データを与える画素クロックを一定数の
連続したデータ領域として定義し、位相データを与える
ものである。データ領域を構成する画素クロックを一定
数とすることにより、各データ領域における位相シフト
量の最大、最小値が等しくなる。図１１（Ｂ）は図１１
（Ａ）の主走査ドット位置ずれ特性を有する光学系にお
いて、データ領域を有効走査期間で１５等分割したもの
である。像高を±１５０ｍｍ、１２００ｄｐｉ書込みと
仮定したとき、データ領域は３００ｍｍ／１５＝２０ｍ
ｍとなり1 ドットあたり２１．２μｍより各データ領域
は２０／０．０２１２＝９４３ドット程度となり、位相
シフトの分解能を±１／８ＰＣＬＫとしたとき、各デー
タ領域では全画素クロックに位相シフトを行った場合±
２．５ｍｍ程度の位相シフトが可能となる。また位相デ
ータは各データ領域の画素クロック数を等しく定義する
ため、各データ領域ともに設定データの大きさが等しく
なるため、容易な構成で位相データを生成することがで
きる。

【００７１】請求項９記載の発明の実施例を図８〜１１
に示す。本発明は請求項９記載の画素クロック生成回路
において、連続した複数の画素クロックで構成されるデ
ータ領域において、データ領域内のクロック数を一定数
にしないことを特徴とする画素クロック生成装置であ
る。図１１（ｄ）に分割数Ｎ＝１８のときの本発明の実
施例を示している。本実施例を図１１（ｃ）のデータ領
域内の画素クロック数を一定数に定義した実施例と比較
した場合、本発明では分割数が同じか少ないにもかかわ
らず、主走査位置ずれ量が小さい値となっている。分割
数を少なくすることで位相データ量が低減し、位相デー
タ記憶回路のサイズ減少や回路の小型化につながり、主
走査位置ずれ量の低減により、より高品質なドット位置
補正が可能となる。

【００７２】請求項１０記載の発明の実施例を図８〜１
１に示す。本発明は請求項９記載の発明において、主走
査ドット位置ずれ量の変化量が大きい像高ではデータ領
域を狭く、変化量の小さい像高ではデータ領域を広くす
るものである。図１１（ｄ）に本発明の実施例を示す。
本発明ではあらかじめ画像形成装置における被走査媒体
上にセンサ等を設けて主走査ドット位置ずれ量を測定し
ておき、測定データである図１１（ａ）において主走査
ドット位置ずれ量の変化量が大きい像高である図１１に
像高比±１近傍でのデータ領域の画素クロック数を少な
く、変化量が小さい像高である図１１に像高比０近傍で
のデータ領域の画素クロック数を多く設定することによ
り、データ領域の分割数が等分割の場合に比べて同等か
より少ない数でデータ領域間ずれ量が小さくなるように
設定できる。

【００７３】請求項１１記載の発明の実施例を図１２に
示す。図１２（ａ）は２種類の光学系における主走査ド
ット位置ずれ特性を示している。図１２（ｂ）は各光学
系において画素クロックの周波数をより低又は高周波数
に変更することにより、主走査ドット位置ずれ量全体を
プラス又はマイナス側にシフトした例を示す。図１２
（ｃ）は全像高比におけるドット位置ずれ量の平均値を
求め、像高全体に位相シフトをかけることにより位相シ
フト後のドット位置ずれ量の平均値が０となるように位
相データを設定した例を示す。

【００７４】請求項１１の発明は、画像形成を行う画素
クロックの周波数自体を微調することにより、主走査ド
ット位置ずれ特性を変更するものである。画素クロック
をより低周波数に設定した場合、図１２（ｂ）左図のよ
うにドット位置ずれ量が正の方向に全体がシフトし、本
実施例では像高±１におけるずれを０とすることにより
書込開始位置を高精度に設定することが出来る。逆に画
素クロックをより高周波数に設定した場合には図１２
（ｂ）右図のようにドット位置ずれ量が負の方向にシフ
トし、本実施例では主走査ドット位置ずれ量が負の値を
持つようにすることで中間像高付近の主走査ドット位置
ずれを高精度に設定できる。

【００７５】請求項１２記載の発明の実施例を図１０に
示す。本発明は光源から出力される光束を、偏向器によ
り走査方向に沿って被走査媒体上を走査させるとき、被
走査媒体上の有効なデータ書込み期間である有効書込領
域と、有効書込領域を決める書込開始位置、書込終了位
置を決定する領域を、書込開始側の検出手段１から書込
開始位置までの領域を書込開始位置補正領域、書込終了
側の検出手段２から書込終了位置までの領域を書込終了
位置補正領域と定義したときに各３種類の領域毎に位相
シフトデータを与える領域を更に分割するものである。

【００７６】図１０において光源から出力される光束
が、水平方向の矢印向きに走査光として繰り返し走査す
る場合を考える。走査光は周期的に走査しているが、走
査開始後は第一に図中、被走査媒体左にある検出手段１
を通過し、走査光通過時に検出手段１よりＰＤ検出信号
が得られる。その後走査光は被走査媒体上を走査し、検
出手段２を通過し、同様にＰＤ検出信号が得られる。通
常画像形成装置においては上記ＰＤ検出信号は信号反転
して検出手段の信号入力直後に信号が立ち下がる位相同
期検知信号として用いられる。

【００７７】このとき位相同期検知信号の検出手段１か
ら検出手段２までの立下り期間にＨＩとなる信号をＷＥ
１、被走査媒体上の画像を形成する領域を有効書込領域
として検出手段１側を書込開始位置、検出手段２側を書
込終了位置としたとき、両位置間でＨＩとなる信号をＷ
Ｅ２とする。このとき書込開始位置を精度良く決定する
ため、例えばＷＥ１信号の立ち上がりから２０００ドッ
ト分を書込開始位置補正領域として設定し、位相データ
を与えることにより、光学系や偏向器によるドット位置
ずれを補正して高精度な書込開始位置設定が可能とな
る。

【００７８】同様にして書込終了位置を精度良く決定す
るため、同様にＷＥ１信号の立下りから２０００ドット
前までを書込終了位置補正領域として設定し、位相デー
タを与えることにより、書込開始位置同様に高精度な書
込終了位置設定が可能となる。また書込開始位置−書込
終了位置間となる有効書込領域では上記２領域とは別に
データ領域を設定して位相データを与えることにより、
装置全体としては書込開始位置補正領域、書込終了位置
補正領域ではデータ領域数を少なく、有効書込領域では
データ領域数を少なくする構成によりデータ量やメモリ
を削減した構成が可能となる。

【００７９】請求項１３記載の発明の実施例を図１３、
１４、１５に示す。請求項における光走査装置の光源は
複数の半導体レーザを光学的に合成、またはモノシリッ
クな半導体レーザアレイで構成されたマルチビーム光源
であることを特徴とする。

【００８０】図１３に第１の実施例におけるマルチビー
ム走査装置の構成図を示す。第１の実施例では半導体レ
ーザ２０１をｎ＝２個用いコリメートレンズ２０２の光
軸Ｃを対称として副走査方向に配置される。半導体レー
ザ３０１、３０２はコリメートレンズ３０３ 、３０４と
の光軸を一致させ主走査方向に対称に射出角度を持た
せ、ポリゴンミラー３０７の反射点で射出軸が交差する
ようレイアウトされている。各半導体レーザより射出し
た複数のビームはシリンダレンズ３０８を介してポリゴ
ンミラー３０７で一括して走査され、ｆθレンズ３１
０、トロイダルレンズ３１１により感光体上に結像され
る。

【００８１】バッファメモリには各発光源ごとに1 ライ
ン分の印字データが蓄えられ、ポリゴンミラー1 面毎に
読み出されて、２ラインずつ同時に記録がおこなわれ
る。図１５はその光源ユニットの構成図を示す。半導体
レーザ４０３、４０４は各々主走査方向に所定角度、実
施例では約１．５°微小に傾斜したベース部材４０５の
裏側に形成した図示しない、かん合穴４０５−１、４０
５−２に個別に円筒状ヒートシンク部４０３−１、４０
４−１をかん合し、押え部材４０６、４０７の突起４０
６−１、４０７−１をヒートシンク部の切り欠き部に合
わせて発光源の配列方向を合わせ、背面側からネジ４１
２で固定される。

【００８２】また、コリメートレンズ４０８、４０９は
各々その外周をベース部材４０５の半円状の取付ガイド
面４０５−４、４０５−５に沿わせて光軸方向の調整を
行い、発光点から射出した発散ビームが平行光束となる
よう位置決めされ接着される。尚、実施例では上記した
ように各々の半導体レーザからの光線が主走査面内で交
差するように設定するため、光線に沿ってかん合穴４０
５−１、４０５−２および半円状の取付ガイド面４０５
−４、４０５−５を傾けて形成している。ベース部材４
０５はホルダ部材４１０に円筒状係合部４０５−３を係
合し、ネジ４１３を貫通穴４１０−２を介してネジ穴４
０５−６、４０５−７に螺合して固定され光源ユニット
を構成する。

【００８３】上記した光源ユニットは、光学ハウジング
の取付壁４１１に設けた基準穴４１１−１にホルダ部材
の円筒部４１０−１をかん合し、表側よりスプリング６
１１を挿入してストッパ部材６１２を筒部突起４１０−
３に係合することでホルダ部材４１０は取付壁４１１の
裏側に密着して保持される。この時、スプリングの一端
を突起４１１−２に引っかけることで円筒部中心を回転
軸とした回転力を発生し、回転力を係止するように設け
た調節ネジ６１３により、光軸の周りθにユニット全体
を回転しピッチを調節する。アパーチャ４１５は各半導
体レーザ毎にスリットが設けられ、光学ハウジングに取
り付けられて光ビームの射出径を規定する。

【００８４】図１４は第２の実施例を示し、４個の発光
源を持つ半導体レーザアレイからの光ビームをビーム合
成手段を用いて合成した例を示す。基本的な構成要素は
実施例１と同様であり、ここでは説明を省略する。

【００８５】請求項１４記載の発明の実施例を図１６に
示す。本発明は、請求項１〜１３記載の発明における光
走査装置を、複数の感光体を有するタンデムカラー機に
適用することを特徴とする。タンデムカラー機はシア
ン、マゼンダ、イエロー、ブラックの各色に対応した別
々の感光体が必要であり、光走査光学系はそれぞれの感
光体に対応して、別の光路を経て潜像を形成する。した
がって、各感光体上で発生する主走査ドット位置ずれは
異なる特性を有する場合が多い。

【００８６】そこで、請求項１〜１３記載の発明におけ
る光走査装置を、タンデムカラー機に展開することによ
り、主走査ドット位置ずれが良好に補正された高画質な
画像を得ることができる。特に画質の面では各ステーシ
ョン間の色ずれを効果的に低減した、色再現性の良い画
像が得られる。例えばタンデムカラー機において、ステ
ーション間の色ズレが数１０μｍ程度発生している場
合、主走査位置ずれ量が１／８ドットを越えた画素クロ
ックにおいて位相シフトをかけ主走査位置ずれの補正を
行うことで、１２００ｄｐｉであれば１／８ドット相当
である約２．６μｍ（２１．２μｍ／８）までドット位
置ずれ量を低減できる。本発明は各ドット毎にずらし量
を画素データに与えると、画素データのビット数が増
え、データ転送上重くなるため位相シフトによりドット
をずらすパターンを、データ領域毎に位相データを与え
る形式によって複雑なデータの与え方をせずとも高精度
なドット位置補正が可能となる。

【００８７】（第２の実施形態）次に、本発明の第２の
実施形態について説明する。まず、位相シフトを行うク
ロック生成手段及びクロック生成手段を有するクロック
生成回路の第１の構成例を図３７に示す。図３７におい
て高周波クロック生成回路1 は画素クロックＰＣＬＫの
基準となる高周波クロックＶＣＬＫを生成する。カウン
タ１２はＶＣＫＬのクロックの立上がりで動作するカウ
ンタである。比較回路１３はカウンタの値とあらかじめ
設定された値及び比較値生成回路９が出力する比較値１
と比較し結果にもとづき制御信号１を出力する。クロッ
ク１生成回路４は制御信号１に基づきクロック１を生成
する。カウンタ２５はＶＣＫＬのクロックの立下がりで
動作するカウンタである。比較回路２６はカウンタの値
とあらかじめ設定された値及び比較値生成回路９が出力
する比較値２と比較し結果にもとづき制御信号２を出力
する。クロック２生成回路７は制御信号２にもとづきク
ロック２を生成する。マルチプレクサ８はセレクト信号
に基づきクロック１、クロック２を選択肢ＰＣＬＫとし
て出力する。

【００８８】比較値生成回路９は外部から入力された位
相データとステータス信号生成回路１０が出力するステ
ータス信号に基づき比較値１、比較値2 を出力する。ス
テータス信号生成回路１０は位相データのｂｉｔ０が１
のときにＰＣＬＫの立上がりのタイミングで信号をトグ
ルさせてステータス信号として出力する。セレクト信号
生成回路１１は位相データのｂｉｔ０が１のときにＰＣ
ＬＫの立下がりのタイミングで信号をトグルさせてセレ
クト信号として出力する。

【００８９】図３７の動作について図３６、図３８の表
を用いて説明する。ここではＶＣＬＫの４分周に相当す
る画素クロックＰＣＬＫを生成し、位相シフトとして＋
１／８ＰＣＬＫ、−１／８ＰＣＬＫシフトさせる場合に
ついて説明する。表１に位相シフト量と外部から与える
位相データの対応を示す。図２６には位相シフト量とク
ロック１とクロック２の切替の様子について示す。始め
にマルチプレクサ８でクロック１が選択された状態から
スタートする。ＰＣＬＫに同期して位相データ００を与
える（）。位相データｂｉｔ０が０なのでセレクト信
号は０のままでクロック１を選択したままＰＣＬＫとし
て出力する（）。これによりＰＣＬＫは位相シフト量
０のクロックとなる。次ぎに位相データとして０１を与
える（) 。

【００９０】この場合は位相データｂｉｔ０が１なので
ＰＣＬＫの立下りでセレクト信号をトグルさせ１として
クロック２を選択するようにしてＰＣＬＫとして出力さ
せる（）。この時のクロック２は図に示すように１Ｖ
ＣＬＫ分周期が長くなったクロックとなっている。これ
により＋１／８ＰＣＬＫだけ位相シフトしたＰＣＬＫが
得られる。次ぎに再び位相データとして０１を与えると
（）、位相データｂｉｔ０が1 なのでＰＣＬＫの立下
りでセレクト信号をトグルさせ０としてクロック１を選
択するようにしてＰＣＬＫとして出力させる（) 。こ
の時のクロック１は図に示すように１ＶＣＬＫ分周期が
長くなったクロックとなっている。

【００９１】これにより＋１／８ＰＣＬＫだけ位相シフ
トしたＰＣＬＫが得られる。次ぎに位相データとして１
１を与える（）。位相データｂｉｔ０が１なのでＰＣ
ＬＫの立下りでセレクト信号をトグルさせ１としてクロ
ック２を選択するようにしてＰＣＬＫとして出力させる
（）。この時はクロック１は図に示すように１ＶＣＬ
Ｋ分周期が短くなったクロックとなっている。これによ
り−１／８ＰＣＬＫだけ位相シフトしたＰＣＬＫが得ら
れる。以上のようにして位相データに応じてクロック
１、クロック２の周期を変えてやり、クロック１、クロ
ック２を切り替えてＰＣＬＫとして出力させていくこと
により、１／８ＰＣＬＫステップで位相シフトされた画
素クロックＰＣＬＫを得ることができる。

【００９２】また、図３７記載の画素クロック生成装置
において、位相データ入力部に複数の位相データを記憶
するための位相データ記憶回路を付加する構成におい
て、位相データ記憶回路には外部からのデータ設定を行
い、画素クロックＰＣＬＫに同期して順次位相データを
出力していく構成により、例えば走査レンズの特性によ
り生じる走査ムラを補正するための位相データのような
毎ライン同じ位相データが必要となるデータの場合にお
いて、あらかじめ位相データ記憶回路に位相データを記
憶しておき、ラインを走査するたびに位相データ記憶回
路の最初の位相データから順次出力していけば、外部か
らライン毎に同じデータを出力する必要がない。また、
位相データ記憶回路に加えて外部から与えられる外部位
相データと位相データ記憶回路から出力される内部記憶
データを合成して合成位相データを出力することによ
り、走査レンズ特性などの静特性による位相データに加
えて、ポリゴンミラーの回転ムラや光学系の温度特性、
経時変化などの動特性による位相データの補正にも対応
できる。

【００９３】次に、図３４に図３７記載の画素クロック
生成装置による位相シフト補正方法を示す。図３７記載
の画素クロック生成装置において、画素クロックＰＣＬ
Ｋに同期して位相データを与えることにより、画素クロ
ックＰＣＬＫの位相を＋１／８ＰＣＬＫ、−１／８ＰＣ
ＬＫシフトさせることが可能である。このとき、従来技
術における画像形成装置において、半導体レーザユニッ
トは画像処理ユニットより生成された画像データと位相
同期回路により位相が設定された画像クロックに従い、
半導体レーザの発光時間をコントロールすることにより
被走査媒体上の静電潜像を制御するものであり、画像デ
ータの基準クロックとなる画像クロックの位相をシフト
することにより、ポリゴンスキャナ等の偏向器により発
生する走査速度ムラや、マルチビーム光学系における発
光源同士の発信波長差により生じる露光ずれなどによる
主走査方向のドット位置ずれを、位相シフト（例えば１
／８ＰＣＬＫ）の精度で補正することが可能となる。

【００９４】図３４の理想状態は上記のような走査速度
ムラや露光ずれが全く発生しない理想状態でのドット位
置を示しており、１２００ｄｐｉ（ドット径約２１．２
μｍ）のとき連続した６ドットを走査した結果である。
図３４の補正前は最初の1 ドット目のドット位置精度は
一致しているが、上記走査速度ムラや露光ずれによるド
ット位置ずれが生じた状態であり、６ドット目には理想
状態に対して１２００ｄｐｉの１／２ドット相当である
１０．６μｍのドット位置ずれが生じている。本状態に
おいて1 ドット書込みに要する時間は１画素クロック相
当＝１ＰＣＬＫであるので、位相シフトの分解能が１／
８ＰＣＬＫの場合は、すなわちドット位置を１／８ドッ
ト精度で補正できるのと同義である。

【００９５】図２２の補正後は位相シフトの分解能が１
／８ドットすなわち１／８ＰＣＬＫのとき、理想状態か
ら１／２ドット位置ずれを生じた補正前の状態から−１
／８ＰＣＬＫの位相シフトをデータ領域内で４回行う事
により、理論上は６ドット目のドット位置を−１／８Ｐ
ＣＬＫ×４＝−１／２ＰＣＬＫシフトすることができ、
理想状態に対して１／８ＰＣＬＫの精度でドット位置を
補正することができる。図２１に本発明に係る光走査装
置の一実施例の全体構成図を示す。半導体レーザ２０１
からのレーザ光は、コリメータレンズ２０２、シリンダ
ーレンズ２０３を通り、ポリゴンミラー２０４によりス
キャン（走査）され、ｆθレンズ２０５を通り、透明部
材２０６を介し、感光体２０８に入射することにより、
感光体２０８上に画像（静電潜像）を形成する。

【００９６】この走査レーザ光の、書込開始位置及び終
了位置を検出手段１０１、１０２により検出して、書込
中央位置を検出手段１０３より検出し、ドット位置ずれ
検出・制御部１１０に入力する。ドット位置ずれ検出・
制御部１１０では、検出手段１０１、１０３間と、１０
３、１０２間をレーザ光が走査される時間を測定し、理
想的な走査が行われた場合における走査時間と比較する
などして走査時間のずれ量を求め、そのずれ量を補正す
る位相データを生成して画素クロック生成部１２０へ出
力する。なお検出手段１０１の出力信号は、ライン同期
信号として画像処理部１３０にも与える。

【００９７】ここで、画素クロック生成部１２０が位相
データ記憶回路を具備していない場合には、ドット位置
ずれ検出・制御部１１０ではライン毎に位相データを画
素クロック生成部へ出力するが、位相データ記憶回路を
具備している場合には、前もって位相データを求めるな
どして、あらかじめ画素クロック生成部１２０へ与えて
おくようにする。また、ドット位置ずれ検出・制御部１
１０では走査レンズの特性により生ずる走査ムラを補正
するようなライン毎に常に同じ補正をするための位相デ
ータ（第1 位相データ）だけでなく、ポリゴンミラーの
回転ムラのようなライン毎に変化する補正にも対応する
ための位相データ（第２位相データ）も生成し、画素ク
ロック生成部１２０が位相データ合成回路を具備してい
る場合には、その位相データも画素クロック生成部１２
０へ出力するようにする。

【００９８】画素クロック生成部１２０では、ドット位
置ずれ検出・制御部１１０からの位相データに基づいて
画素クロックを生成し、画像処理部１３０とレーザ駆動
データ生成部１４０に与える。画像処理部１３０は、画
素クロックを基準に画像データを生成し、レーザ駆動デ
ータ生成部１４０は、この画像データを入力して、同様
に画素クロックを基準にレーザ駆動データ（変調デー
タ）を生成し、レーザ駆動部１５０を介して半導体レー
ザ２０１を駆動する。これにより、感光体２０８には、
位置ずれのない画像を形成することができる。ここで光
走査光学系のドット位置ずれについて説明する。理想的
な主走査ドット位置に対し、実際の主操作ドット位置は
ずれてしまう。その原因としては次の要因が考えられ
る。

【００９９】１．走査レンズのｆθ特性が十分に補正さ
れていない。 ２．光走査光学系の光学部品精度、ハウジング上への取
付精度の劣化が生じる。 ３．機内の温度、湿度などの環境変動による光学部品の
変形、屈折率変動により焦点距離が変化し、ｆθ特性が
劣化が生じる。 特に、環境変動による主走査ドット位置ずれは、出荷時
に光学調整または電気的補正を実施したとしても避ける
ことはできず、例えばファーストプリント時の特性が
（ａ）であったとしても、連続してプリント出力した場
合に機内の温度が上昇し、（ｂ）の特性値に変化してし
まうことが起こりうる。これにより、１枚目のプリント
の色合いと、複数枚プリントした後の色合いが変わって
しまう場合がある。

【０１００】そこで、本発明は使用される光走査光学系
の理想像高に対する実像高の関係の特性値を、本発明は
予備実験またはシミュレーションなどで予め把握してお
き、その特性値からルックアップテーブルなどを作成す
る。実際にプリント駆動させたときの光走査時間を逐次
計測し、その計測走査時間に基づき、上記ルックアップ
テーブルからドット位置補正量を求め、ドット位置が理
想位置になるように位相シフト量を決定することを特徴
としている。本発明により、機内の環境変動によって生
じる主走査方向のドット位置ずれを効果的に補正するこ
とが可能となる。

【０１０１】請求項１８記載の光走査装置におけるドッ
ト位置を任意の位置に補正する方法の実施例を図２２、
図３４に示す。図２２、図３４において書込み開始のタ
イミングを設定する位相同期信号の立下りからある一定
期間後に画素クロックを生成する機能を有する画素クロ
ック生成装置において、実画像領域となる有効走査期間
内において画素クロック信号に基づき半導体レーザを変
調させ、前記半導体レーザの出射光が光学系を経て感光
体上に静電潜像を形成するとき、感光体上での画素クロ
ックは偏向器や光学系による主走査方向のドット位置ず
れが生じる。このとき主走査方向を示す有効走査期間は
光学系により長さが異なるが、本例では像高中央を０と
した場合、像高の最大、最小値をそれぞれ像高比１，−
１と定義している。

【０１０２】また、図２３（Ａ）〜（Ｄ）に、縦軸に主
走査位置ずれ量、横軸に像高比を示した主走査位置ずれ
量の図を示す。図２３（Ａ）の光学系特性は像高の高い
場所で変化量が大きく、像高が０近傍では変化量が小さ
い特性がある。また画素クロックの位相を各クロック毎
にクロックの数分の１ドット刻みでシフト可能な位相シ
フト機能を有する画素クロック生成回路により、各画素
の主走査位置を±数分の一ドット単位でシフトできるた
め、原理的には±１／８ドットシフトの場合には、リニ
アリティの補正量は０％から１２．５％まで調整可能と
なる。また１２００ｄｐｉ書込の場合、有効書込幅内の
主走査位置ズレは、２．６μｍ（２１．２μｍ／８）に
まで低減できる。

【０１０３】請求項１８記載の光走査装置における実施
例を図２１、２２に示す。平板ガラス２０６の第一面に
おける反射光を被検出面に配置された検出手段２０９，
２１０，２１１で検出するものである。図２１、２２に
おいて、半導体レーザユニットから発光されたレーザ
は、ポリゴンミラーが回転することにより偏向走査さ
れ、走査レンズを介して被走査媒体（感光体上）に光ビ
ームスポットを形成し、静電潜像画像を形成する。本例
では検出手段として、書込開始位置側と終了位置側の２
ヶ所と、書込領域内の１ヶ所に光検出手段を設け、偏向
器にて偏向走査されるビームが光検出手段を横切る走査
時間を計測し、この計測された走査時間の変動量に基づ
き、予め記録されたルックアップテーブル等から主走査
のドット位置の補正量を設定する。

【０１０４】さらに、補正量データに基づき位相同期回
路により位相シフトされた画像クロックを生成し、画像
処理ユニットより生成された画像データに従い半導体レ
ーザユニットの発光時間をコントロールすることによ
り、被走査媒体上のドット位置を任意位置に制御するこ
とができる。また本発明の全ての実施例における検出手
段は、図２４下図に示すように三角形状のＰＤまたは、
ＰＤの直前に配備された三角形状のスリットと図２４上
図に示す四角状のＰＤなどの組み合わせにより構成され
る。このとき、ＰＤがビームを検知する時間（図中のｔ
１，ｔ２）を検知することにより、副走査方向の位置を
計測でき、ビームがＰＤにはいることによる立ち上がり
を検出することにより、各検知手段によるビームの検出
の時間差を計測できる。計測された時間差（ｔ３，ｔ
４）により倍率誤差の測定が可能になる。

【０１０５】本実施例において、同期検出手段に向かう
光束は透明部材の第１面で反射される。このため、以下
の効果が得られる。 １．透過する面が少なくなり、検出用の光束の波面の劣
化が少なくなり、正確なビーム位置の検出が可能とな
る。 ２．検出用のビームが材料による吸収による影響を受け
ない、透過する面が少なくなるので光量損失が少なくな
り、正確なビーム検出が可能となる。 ３．検出用のビームが材料による吸収による影響を受け
にくいように、透明部材の反射率が大きい透材料を用い
ることにより、反射光のレベル 低減が少なくなるので
光量損失が少なくなり、正確なビーム検出が可能とな
る。

【０１０６】請求項１７記載の光走査装置における実施
例を図２５に示す。本実施例は、ビームスプリッタによ
り被走査面に向かう光束と、検出手段に向かう光束を異
なる方向の光束に分離して検出するものである。ビーム
スプリッタは一対の直角三角形のプリズムを２個接合し
たものであり、その接合面はハーフミラー面とされてい
る。ビームスプリッタに入射した光は、ハーフミラー面
においてその一部が透過し、透過光はそのまま直進して
被走査媒体上を走査する。一方、ハーフミラー面で反射
された光は、図２３下図に示すように下方へ屈曲して反
射光を形成する。被走査媒体上を走査する光束と検出器
で検出される光束をビームスプリッタで光束分離するこ
とで、同時にかつ異なる方向の光束が検出可能となる。
本構成により、ポリゴンミラーの回転によるレーザ光の
被走査媒体上での第１の走査と共に、ハーフミラー面で
の反射光により、被走査媒体面とは異なる方向、位置に
おいて第２の走査が行われるので、その第２の走査ライ
ン上に検出手段１、２、３を構成することによりポリゴ
ンモータの回転速度に伴い、位相同期信号を得ることが
できる。

【０１０７】請求項１６記載の光走査装置における実施
例について次に説明する。請求項１７では光束分割手段
として透明部材の第２面での反射された光束を導く実施
例により、また請求項１８では、光束分割手段として透
明部材の第１面での反射された光束を導く実施例によ
り、偏向器によって偏向された光束を、被走査面及び被
走査面とは異なる被検出面にそれぞれ導く光束分割手段
の構成例が示されており、両実施例を請求項１６の実施
例と見なすことができる。請求項１９記載の光走査装置
における実施例を図２１に示す。本実施例の特徴とし
て、図中の検出手段に向かう光束を第1 面からの反射光
とする場合により高精度な検出を行うために、第2 面で
の反射によるゴースト光のパワーを低減する必要があ
る。

【０１０８】（コート条件１）光源波長７８０ｎｍ、防
塵ガラスの屈折率１．５１１の場合において、第１面：
コート無またはＭｇＦ２（屈折率１．３８）、膜厚λ／
２、第２面：ＭｇＦ２膜厚λ／４（λ＝７８０ｎｍ）
の単層コートとすると、第１面での反射率４．１４％に
対し、第２面での反射率は低減される。

【０１０９】（コート条件２）光源波長７８０ｎｍ、防
塵ガラスの屈折率１．５１１の条件において、第１面：
コート無またはＭｇＦ２（屈折率１．３８）膜厚λ／
２、第２面：ＭｇＦ２膜厚λ／４＋ＡＬ２Ｏ３（屈折率
１．６３）膜厚λ／４の２層コート、とすると、第１面
での反射率４．１４％に対し、第２面の反射率は０．１
６％となり、２層コート第２面での反射率はさらに大幅
に低減される。

【０１１０】（コート条件３）光源波長７８０ｎｍ、防
塵ガラスの屈折率１．５１１の条件において、第２面の
コート条件はコート条件２と同じにし、第1 面のコート
にＡＬ２Ｏ３（屈折率１．６３）を用い、以下のように
膜厚を設定すると第1 面の反射率は以下のようになる。 λ／５：７．２４％ λ／４：７．６８％ ２ λ／５：５．３６％ このようにコートの屈折率を透明材料より大きくし、膜
厚ｄを０＜ｄ＜ λ／２（λは光源の波長）とすること
により、第1 面の反射率を更にアップすることができ
る。

【０１１１】請求項２０記載の光走査装置における実施
例を図２１に示す。本実施例は平板ガラスを用いた例を
図示しており、 図２１において防塵ガラス２０２に向
かう光束と書込位置での光束が、防塵ガラス第１面にお
いて重複する領域を有しているので、書込位置に非常に
近い位置で同期検知が可能となり、同期検知精度が向上
する。また、偏向器、走査レンズ、防塵ガラスを小型化
できる。また防塵ガラスは平行平板であるので、フロー
ト加工での加工ができ、また、平行平板であるが故に被
走査面に向かう光束と、検出手段に向かう光束の光学特
性上の差異が発生しにくい。

【０１１２】請求項２１記載の光走査装置における実施
例を図２６に示す。本実施例では、書込用の光源となる
走査光源用半導体レーザ３０２ から出射された光束
は、コリメータレンズ、シリンダーレンズを介してポリ
ゴンミラー３０７で偏向され、ｆθレンズ３０８を通っ
た後、透明部材３０９を介して、感光体３１０に入射さ
れる。ここで書込用光源３０２とは別個に、走査信号の
位相同期検知を行う参照用光源用レーザ３０１用光源が
設けられている。

【０１１３】この参照光源用ＬＤ３０１は、走査光源用
ＬＤと走査方向には同一方向に向けて光束を出射させる
ものであり、ポリゴンミラー３０７の同一反射面におい
て上下方向（副走査方向）にある間隔において入社する
ように配置されている。よって参照光源用ＬＤ３０２か
らの光束もポリゴンミラー３０７により偏向走査され、
ｆθレンズ３０８を通った後、透明部材３０９を介し感
光体３１０と等価位置である被検出面上に配置された検
出手段３１１，３１２，３１３を走査する。検出手段３
１１，３１２，３１３を走査した光束によりPD検出信号
及び位相同期検知信号が得られる。

【０１１４】書込用光源３０１からの出射光における光
源から検出手段１，２，３までの光路長Ｌ１’，Ｌ２’
Ｌ３’したとき参照用光源３０２からの出射光における
光源から検出手段１，２，３に相当する感光体上の位置
に走査するときの光源から感光体までの光路長Ｌ１，Ｌ
２，Ｌ３としたとき、両者の光路長をそれぞれ略同一光
路長とすることにより、光路差による走査時間誤差など
の変動を受けることなく、参照光源及び検出手段より得
られる位相同期信号に基づいて、高精度なドット位置補
正が可能となる（請求項２２）。また、走査光を出射す
る走査光源と、参照光を出射する参照光源に略同一波長
の光源を構成することにより光源の波長差により生じる
走査位置の誤差及び変動成分を低減し、高精度なドット
位置補正が可能となる（請求項２３）。

【０１１５】走査光を出射する走査光源と、参照光を出
射する参照光源として、例えば光源に半導体レーザを用
いた場合等に同一ロットのもので光源を構成することに
より、光源の波長差により生じる走査位置の誤差及び変
動成分を低減し、高精度なドット位置補正が可能となる
（請求項２４）。また、上記構成において同一ロット中
の近接配置にあるもの同士を構成することにより、より
波長差の小さい光源を構成することが可能となり、光源
の波長差により生じる走査位置の誤差及び変動成分を低
減し、高精度なドット位置補正が可能となる（請求項２
５）。走査光を出射する走査光源と、参照光を出射する
参照光源として略同一波長の光源を有する半導体レーザ
アレイを構成する場合の実施例を図３３に示す。本実施
例では走査光源をＬＤ１，ＬＤ２，ＬＤ３，ＬＤ４ 、
参照光源をＬＤ５としたとき、走査光源の各ＬＤ同士の
間隔に対して参照光源との間隔を大きくすることによ
り、参照光源の光束分離を容易にする構成をなすもので
ある。本構成により、光源の波長差により生じる走査位
置の誤差及び変動成分を低減し、高精度なドット位置補
正が可能となる（請求項２６）。

【０１１６】請求項１５記載の光走査装置における実施
例について次に説明する。請求項１６記載の光走査装置
の実施例では、透明部材の反射を用いることにより被走
査面と被走査面とは異なる被検出面に光束を分割する光
束分割手段を構成する例を示しており、請求項２１記載
の光走査装置における実施例では、走査光と参照光の２
種類の光源により被走査面と被走査面とは異なる被検出
面に光束を導く導光手段を構成する実施例を示してお
り、両実施例を含めて、請求項１５記載の被走査面と被
走査面とは異なる被検出面に光束を導く導光手段を構成
する請求項１５が成り立つ。請求項２７記載の光走査装
置における実施例を図２７，２８に示す。本実施例は、
被走査面と略同一位置に走査した光束を、複数の検出部
により検出する検出手段において、前記検出手段の走査
方向の最端部にある前記検出手段同士の間隔を、前記被
走査面の有効書込開始位置及び終了位置に走査した際の
信号検出間隔と略同一に構成することを特徴とする。本
発明によれば、有効書込領域の開始及び終端のタイミン
グで、リアルタイムに光束を検出可能な構成であるの
で、位相同期制御やドット書込位置補正をリアルタイム
に高精度に行う事が可能となる。

【０１１７】請求項２８記載の光走査装置における実施
例を図２３に示す。図２３において書込み開始のタイミ
ングを設定する位相同期信号の立下りからある一定期間
後に画素クロックを生成する機能を有する画素クロック
生成装置において、実画像領域となる有効走査期間内に
おいて画素クロック信号に基づき半導体レーザを変調さ
せ、前記半導体レーザの出射光が光学系を経て感光体上
に静電潜像を形成するとき、感光体上の静電潜像には偏
向器や光学系による主走査方向のドット位置ずれが生じ
る。このとき主走査方向を示す有効走査期間は光学系に
より長さが異なるが、本例では像高中央を０とした場
合、像高の最大、最小値をそれぞれ像高比１，−１と定
義している。

【０１１８】図２３（Ａ）〜（Ｃ）に示す主走査位置ず
れ量の図は縦軸に主走査位置ずれ量、横軸に像高比を示
している。図２３（Ａ）の光学系特性は像高の高い場所
で変化量が大きく、像高が０近傍では変化量が小さい特
性がある。また、画素クロックの位相を各クロック毎に
クロックの数分の１ドット刻みでシフト可能な位相シフ
ト機能を有する画素クロック生成回路により、各画素の
主走査位置を±数分の一ドット単位でシフトできるた
め、原理的には±１／８ドットシフトの場合には、リニ
アリティの補正量は０％から１２．５％まで調整可能と
なる。また１２００ｄｐｉ書込の場合、有効書込幅内の
主走査位置ズレは、２．６μｍ（２１．２μｍ／８）に
まで低減できる。このとき、位相シフトを行う位相シフ
トデータを与えるために、連続した複数の画素クロック
をデータ領域として、有効走査期間内のデータを複数の
領域に分割し、各領域毎に位相シフトデータを設定する
ことにより、各画素毎に位相シフトデータを与えて主走
査位置ずれを補正する場合に比べ、データ量を減らすこ
とが可能となる。

【０１１９】図３５に、本発明におけるデータ領域への
データ設定方法の一実施例を示す。本実施例は画素クロ
ック３０ＰＣＬＫ分を一データ領域と定義した実施例で
あり、本データ領域内で−３／８ＰＣＬＫの位相シフト
を行う場合の実施例を示している。画素クロックの位相
シフト分解能が±１／８ＰＣＬＫの場合、データ領域内
の３つの画素クロックについて−１／８ＰＣＬＫの位相
シフトを行う事により、データを与えない初期状態のデ
ータ領域に対して、−３／８ＰＣＬＫの主走査ドット位
置補正が可能となる。図３５の補正１の実施例ではデー
タ領域の最初のドットから１０ＰＣＬＫ毎に−１／８Ｐ
ＣＬＫの位相シフトを行うタイミングを計る位相シフト
データにより−１／８ＰＣＬＫのドット位置補正を行っ
ている。補正２の実施例では、データ領域の最初のドッ
トから数えて5 ドット目から補正後１と同じく１０ＰＣ
ＬＫ毎に−１／８ＰＣＬＫの位相シフトを行うタイミン
グを計る位相シフトデータにより−１／８ＰＣＬＫのド
ット位置補正を行っている。

【０１２０】位相シフトデータの生成方法としては、外
部信号からシリアルデータとして直接直接入力する方法
や、カウンタを設けて一定間隔で位相シフトを行う方法
がある。前者はデータ領域の所望の位置に位相シフトを
発生させることが可能であり、位相シフトのパターンが
画像に影響を及ぼさないように設定変更することが容易
である。後者の場合、図３５の補正１、補正２に示すよ
うにカウンタの初期値をずらすことで、連続したライン
を書き込む場合に位相シフトした部分が縦筋画像となっ
て現れることを防ぐことが可能となる。また例えば主走
査ドット位置ずれを全画像データに対して補正を行う事
は、メモリ容量が膨大となり、制御系へのコスト、回路
規模等の負担が大きくなる。また、補正処理に費やす時
間も無視できない。そこで本発明では、検知手段間を複
数のデータ領域に分割し、各々のデータ領域単位で位相
データの補正値を設定することにより、上記課題を解決
している。本発明の実施例を図３１に示す。

【０１２１】図２３（Ａ）〜（Ｃ）に示す主走査位置ず
れ量の図は縦軸に主走査位置ずれ量、横軸に像高比を示
している。例えばプリント動作中に計測された２点間の
走査時間を基にルックアップテーブル上の主走査ドット
位置ずれが図２３（Ａ）で表されるような場合、図２３
（Ｂ）〜（Ｃ）で示すように、全画像データを複数の領
域に分割し、各々のデータ領域の主走査ドット位置ずれ
量の代表値（平均値など）を補正値とすることにより、
メモリ容量を増やすことなくドット位置ずれを良好に補
正することが可能である。ここで例えば画素クロックの
位相を±1／８ ドットシフト単位でシフトした場合は、
リニアリティの補正量は０％から１２．５％まで調整可
能となり、１２００ｄｐｉ書込みの場合、有効書込み幅
内の主走査位置ずれは２．６μｍ（２１．２μｍ／８）
にまで低減できる。図２３においては、分割数が多いほ
ど良好な補正が可能であるが、メモリ容量と補正処理時
間の制約から、最適分割数を決定することが望ましい。
また本発明はデータ領域毎に位相データを設定する構成
とすることにより、例えば画素クロック毎に位相データ
を位相シフトを行う場合に比べてデータ量を低減するこ
とができる。本例について、図２１とは異なる光学系に
よる主走査ドット位置ずれデータを示す図２４の実施例
で説明する。

【０１２２】図２４（Ｂ）は有効走査期間を１０のデー
タ領域に分割し、分割したデータ領域の中央値における
リニアリティが０になるように位相データを設定してい
る。位相シフト量が±１／８ＰＣＬＫでシフト可能であ
り、各画素クロック毎に位相シフトデータを与える場
合、位相シフト量の３パターン（−１／８クロック、
０、＋１／８クロック）設定するためには２ビットのデ
ータが必要となる。今１２００ｄｐｉ書込み時にで有効
走査期間を３００ｍｍとした場合、1 ドットは約２１．
２μｍ相当となり有効走査期間内のドット数は３００／
０．０２１２＝１４１５０ドットとなり、各データ領域
におけるドット数は１４１５０／１０＝１４１５ドット
となる。

【０１２３】走査レンズの特性による走査ムラのような
静特性の補正を行う場合、各画素クロック毎に位相デー
タを設定すると２ビット×１４１５０ドット＝２８３５
０ビットのデータを与える必要がある。一方１４１５ド
ットからなるデータ領域毎に位相データを設定した場
合、１４１５ドットのうち何ドットを位相シフトすれば
よいか分かればよいので、１２ビットあれば位相シフト
を行うドット数を定義できる。このとき位相シフト量の
３パターン設定するのに２ビット必要なので、１２ビッ
ト×２ビット＝２４ビットあればデータ領域の位相デー
タを設定できる。またデータ領域は１０あるので２４ビ
ット×１０＝２４０ビットあれば１ライン分の位相シフ
トデータを設定できるため、画素クロック毎に位相デー
タを設定する場合に比べて約８％のメモリ量でドット位
置ずれの補正が可能となる。よって本発明における画素
クロック生成装置をＩＣ化、ＩＰ化する際には、位相デ
ータ用メモリの大幅な削減につながり、チップサイズの
小型化、しいてはコストダウンにつながる。

【０１２４】請求項１５記載の光走査装置における実施
例を図２２、２３、２９に示す。本発明は、請求項１４
記載の発明において、前記データ領域は、前記複数の検
出部による検出タイミングに連動して設定することを特
徴とする。図２２は図２１記載の光走査装置において、
走査光を検出手段１，２，３で検出し、検出信号を位相
同期信号へ変換した場合の位相同期信号と、位相シフト
データを与える位相シフトデータ設定領域を図示したも
のである。

【０１２５】本実施例は、図の検出手段１，３間を書込
開始位置補正領域、検出手段３，２間を書込終了位置補
正領域としたとき、各々の領域は８０００ドットで構成
されている場合を考える。このとき各領域の走査開始位
置のドット位置は検出手段により高精度に同期が取れて
いるが、検出手段間では光学系や偏向器等のバラツキに
よりクロックに変動が生じる。そこで各領域毎に位相シ
フトデータを与えることにより、本実施例では例えば８
０００ドットのうち任意の１０ドットについて−１／１
６ドットずつ位相シフトを行う位相シフトデータを与え
て位相シフトを行うことにより、検出手段間の領域毎に
高精度なドット位置補正が可能となる。本実施例は検出
手段が３つの場合であるが、検出手段の数を増やすにつ
れてその検出手段位置におけるドットを高精度に書込む
ことが可能となる。

【０１２６】図２３及び図２９は上記の検出手段間の各
領域を更に分割した実施例である。例えば図２３におい
て、図２３（Ｂ）は検出手段１，３間及び３，２間をそ
れぞれ１５分割した例、図２３（Ｃ）は検出手段１，３
間及び３，２間をそれぞれ９分割した例であり、図２３
（Ｂ）のようにデータ領域の分割数を大きくすることに
より、データ領域間のずれ量が小さくなり、高精度なド
ット位置ずれ補正が可能となる。また図２３（Ｃ）のよ
うにデータ領域の分割幅を変えて領域数を少なくした場
合にも同様に高精度なドット位置ずれ補正が可能とな
る。

【０１２７】請求項２１記載の画像形成装置における実
施例を図２１に示す。本発明は光源と、前記光源から出
射された光束を偏向する偏向手段と、偏向手段によって
偏向された光束を被走査媒体に導く導光手段と、前記被
走査媒体上を走査して前記被走査媒体上に画像を形成す
る画像形成装置において、請求項１乃至は請求項２０記
載の光走査装置を構成することを特徴とする画像形成装
置である。

【０１２８】請求項２２記載の画像形成装置における実
施例を図３０に示す。本発明は、請求項１乃至は請求項
２０記載の光走査装置の光源として、複数の半導体レー
ザを光学的に合成、またはモノシリックな半導体レーザ
アレイで構成されたマルチビーム光源であることを特徴
とする。

【０１２９】図３０に第１の実施例におけるマルチビー
ム走査装置の構成図を示す。第１の実施例では半導体レ
ーザ２０１をｎ＝２個用いコリメートレンズ２０２の光
軸Ｃを対称として副走査方向に配置される。半導体レー
ザ３０１、３０２はコリメートレンズ３０３、３０４と
の光軸を一致させ主走査方向に対称に射出角度を持た
せ、ポリゴンミラー３０７の反射点で射出軸が交差する
ようレイアウトされている。各半導体レーザより射出し
た複数のビームはシリンダレンズ３０８ を介してポリ
ゴンミラー３０７で一括して走査され、ｆθレンズ３１
０、トロイダルレンズ３１１により感光体上に結像され
る。

【０１３０】バッファメモリには各発光源ごとに1 ライ
ン分の印字データが蓄えられ、ポリゴンミラー1 面毎に
読み出されて、２ラインずつ同時に記録がおこなわれ
る。図２３はその光源ユニットの構成図を示す。半導体
レーザ４０３、４０４は各々主走査方向に所定角度、実
施例では約１．５°微小に傾斜したベース部材４０５の
裏側に形成した図示しない、かん合穴４０５−１、４０
５−２に個別に円筒状ヒートシンク部４０３−１、４０
４−１をかん合し、押え部材４０６、４０７の突起４０
６−１、４０７−１をヒートシンク部の切り欠き部に合
わせて発光源の配列方向を合わせ、背面側からネジ４１
２で固定される。

【０１３１】また、コリメートレンズ４０８、４０９は
各々その外周をベース部材４０５の半円状の取付ガイド
面４０５−４、４０５−５に沿わせて光軸方向の調整を
行い、発光点から射出した発散ビームが平行光束となる
よう位置決めされ接着される。尚、実施例では上記した
ように各々の半導体レーザからの光線が主走査面内で交
差するように設定するため、光線に沿ってかん合穴４０
５−１、４０５−２および半円状の取付ガイド面４０５
−４、４０５−５を傾けて形成している。ベース部材４
０５はホルダ部材４１０に円筒状係合部４０５−３を係
合し、ネジ４１３を貫通穴４１０−２を介してネジ穴４
０５−６、４０５−７に螺合して固定され光源ユニット
を構成する。

【０１３２】上記した光源ユニットは、光学ハウジング
の取付壁４１１に設けた基準穴４１１−１にホルダ部材
の円筒部４１０−１をかん合し、表側よりスプリング６
１１を挿入してストッパ部材６１２を円筒部突起４１０
−３に係合することでホルダ部材４１０は取付壁４１１
の裏側に密着して保持される。この時、スプリングの一
端を突起４１１−２に引っかけることで円筒部中心を回
転軸とした回転力を発生し、回転力を係止するように設
けた調節ネジ６１３により、光軸の周りθにユニット全
体を回転しピッチを調節する。アパーチャ４１５は各半
導体レーザ毎にスリットが設けられ、光学ハウジングに
取り付けられて光ビームの射出径を規定する。

【０１３３】図は第２の実施例を示し、４個の発光源を
持つ半導体レーザアレイからの光ビームをビーム合成手
段を用いて合成した例を示す。基本的な構成要素は実施
例１と同様であり、ここでは説明を省略する。

【０１３４】請求項２３記載の発明の実施例において、
本発明は、請求項１乃至は請求項２３記載の光走査装置
及び画像形成装置を、複数の感光体を有するタンデムカ
ラー機に適用することを特徴とする。タンデムカラー機
はシアン、マゼンダ、イエロー、ブラックの各色に対応
した別々の感光体が必要であり、光走査光学系はそれぞ
れの感光体に対応して、別の光路を経て潜像を形成す
る。したがって、各感光体上で発生する主走査ドット位
置ずれは異なる特性を有する場合が多い。

【０１３５】そこで、請求項１〜１３記載の発明におけ
る光走査装置を、タンデムカラー機に展開することによ
り、主走査ドット位置ずれが良好に補正された高画質な
画像を得ることができる。特に画質の面では各ステーシ
ョン間の色ずれを効果的に低減した、色再現性の良い画
像が得られる。例えばタンデムカラー機において、ステ
ーション間の色ズレが数１０μｍ程度発生している場
合、主走査位置ずれ量が１／８ドットを越えた画素クロ
ックにおいて位相シフトをかけ主走査位置ずれの補正を
行うことで、１２００ｄｐｉであれば１／８ドット相当
である約２．６μｍ（２１．２μｍ／８）までドット位
置ずれ量を低減できる。

【０１３６】本発明は、各ドット毎にずらし量を画素デ
ータに与えると、画素データのビット数が増え、データ
転送上重くなるため位相シフトによりドットをずらすパ
ターンを、データ領域毎に位相データを与える形式によ
って複雑なデータの与え方をせずとも高精度なドット位
置補正が可能となる。

【０１３７】

【発明の効果】以上の説明より明らかなように、請求項
１記載の発明の光走査装置及び画像形成装置は、偏向器
によって偏向された光束を被走査面に導き、走査結像素
子と透明部材により構成される走査光学系と、少なくと
も1 枚の走査結像素子を通過した光束を検出する検出手
段とを有し、検出手段に導かれる光束を透明部材で反射
させることにより、以下の効果が実現できる。

【０１３８】偏向器、走査結像素子のコンパクト化、検
出用のビームの光学特性の劣化の低減、例えば走査線曲
がり、傾き、倍率誤差、ビームスポット径が劣化しな
い。さらに、同期検知精度の向上、低コスト化、主走査
ドット位置ずれ量誤差の低減、主走査ドット位置ずれ補
正データ量削減、メモリ削減によるコストダウン等が得
られる。また、偏向器を小型化できるので、偏向器の駆
動に関して消費電力、騒音、振動が低減でき、高耐久が
実現できる。 また、二点同期で検出する同期信号検出
タイミングは非走査媒体上を偏向器により偏向されたビ
ームが画像領域内を走査する時間内外で自由に設定可能
であり、かつリアルタイム補正が可能である。

【０１３９】本発明によれば、画素クロックの位相制御
を行う位相データを、複数の画素クロックにまとめたデ
ータ領域単位で位相データを与えることにより、メモリ
にあらかじめ位相データを保存して出力する場合におい
て、各画素クロック毎に位相データを与える場合に比べ
てデータ量の大幅な低減や、位相データ記憶回路のサイ
ズ減少、チップサイズ低減によるコストダウン、ＡＳＩ
Ｃの小型化などの効果が得られる。

【０１４０】また、画束ロックが１００ＭＨｚ程度の高
速動作時において、データ領域毎に画素クロックの位相
データを与えることにより、温度、経時など各種条件変
化による位相シフト量の変動分を補正する場合などにお
いて、各画素クロック毎に位相データを与える場合に比
べてデータ転送速度の遅延などの影響が少ない安定した
制御が可能となる。

【０１４１】光走査光学系に残存する初期の主走査ドッ
ト位置ずれだけでなく、経時変化などによる主走査ドッ
ト位置ずれを効果的に補正することが可能となり、ファ
ーストプリントと複数枚プリント後との間で色再現性の
良く解像度の高い高画質画像を得ることができる。

【０１４２】請求項２記載の発明における効果は、下記
となる。偏向器によって偏向された光束を被走査面に導
き、走査結像素子と透明部材により構成される走査光学
系と、少なくとも１枚の走査結像素子を通過した光束を
検出する検出手段とを有し、検出手段に導かれる光束を
透明部材の第１面で反射させることにより、以下の効果
が実現できる。

【０１４３】主要な効果は、偏向器、走査結像素子のコ
ンパクト化、検出用のビームの光学特性の劣化の低減
（走査線曲がり、傾き、倍率誤差、ビームスポット径が
劣化しない）、同期検知精度の向上、低コスト化であ
り、また、偏向器を小型化できるので、偏向器の駆動に
関して消費電力、騒音、振動が低減でき、高耐久が実現
できる。

【０１４４】請求項３記載の発明における効果は、請求
項１において、透明部材の第１面の反射率が第２面の反
射率よりも大きくなるようにコート条件を設定すること
により、検出用の光量を十分に獲得でき、第２面でのゴ
ースト光を除去できる。

【０１４５】請求項４記載の発明における効果は、偏向
器によって偏向された光束を被走査面に導き、走査結像
素子と透明部材により構成される走査光学系と、少なく
とも1 枚の走査結像素子を通過した光束を検出する検出
手段とを有し、検出手段に導かれる光束は透明部材で反
射され、透明部材の第1 面において、被走査面上に有効
書込み幅に向かう光束と、検出手段に向かう光束が重複
する領域を有し、なおかつ、透明部材が平行平板である
ことにより得られる主要な効果は、偏向器、走査光学素
子のコンパクト化、同期検知精度の向上、平行平板化に
よる低コスト化である。

【０１４６】請求項５記載の発明における効果は、透明
部材において防塵機能と光束分離機能とを共用すること
により、防塵を効果的に行う事ができ、コンパクト、低
コストに請求光１、２の効果を実現できる。

【０１４７】請求項６記載の発明における効果は、透明
部材を主走査方向に長い軸を中心として、有効書込み幅
の中央に向かう光束に垂直な面から傾かせることによ
り、ゴースト光を除去でき、なおかつ、レイアウトの自
由度を増大することができる。また二点同期で検出する
同期信号検出タイミングは非走査媒体上を偏向器により
偏向されたビームが画像領域内を走査する時間内外で自
由に設定可能であり、かつリアルタイム補正が可能であ
る

【０１４８】請求項７記載の発明における効果は、画素
クロックの位相制御を行う位相データを、複数の画素ク
ロックをまとめたデータ領域単位で位相データを与える
ことにより、メモリにあらかじめ位相データを保存して
順次出力する場合において、各画素クロック毎に位相デ
ータを与える場合に比べてデータ量の大幅な低減や、位
相データ記憶回路サイズ減少、チップサイズ低減による
コストダウン、ＡＳＩＣの小型化などの効果が得られ
る。また、画素クロックが１００ＭＨｚ程度の高速動作
時において、データ領域毎に画素クロックの位相データ
を与えることにより、温度、経時など各種条件変化によ
る位相シフト量の変動分を補正する場合などにおいて、
各画素クロック毎に位相データを与える場合に比べてデ
ータ転送速度の遅延などの影響が少ない制御が可能とな
る。

【０１４９】請求項８記載の発明における効果は、一定
数の連続した画素クロックをデータ領域と定義し、デー
タ領域に対して位相データを与える構成を有することに
より、位相データの設定時に各制御ブロックの画素クロ
ック数が等しいため、データ設定がしやすい構成とな
る。

【０１５０】請求項９記載の発明によれば、連続した複
数の画素クロックで構成されるデータ領域において、デ
ータ領域内のクロック数を一定数にしないことにより、
クロック数を一定数とした場合に比べて少ない分割数で
高品質な主走査位置ずれ量の低減が可能となる。

【０１５１】請求項１０記載の発明によれば、主走査ド
ット位置ずれ量の変化量が大きい像高ではデータ領域を
狭く、変化量の小さい像高ではデータ領域を広くするこ
とにより、データ領域の分割数が等分割の場合に比べて
より少ない数でデータ領域間ずれ量が小さくなるように
設定できる。よって位相データ量が少なくてすみ、位相
データ記憶回路のサイズ低減、チップサイズ小型化など
と同時に、主走査方向のドット位置ずれ量の小さい高品
質な画像を得ることができる。

【０１５２】請求項１１記載の発明によれば、光源から
出力される光束を、偏向器により走査方向に沿って被走
査媒体上を走査させるとき、被走査媒体上の有効なデー
タ書込み期間である有効走査領域と、有効走査範囲開始
位置、終了位置を決定する有効走査開始決定領域、有効
走査終了決定領域にの３種類に位相データを与える領域
を分割することにより書込開始位置及び終了位置を光学
系や偏向器によるドット位置ずれ補正により高精度に設
定可能となる。

【０１５３】請求項１２記載の発明によれば画素クロッ
クの周波数を偏向して主走査ドット位置ずれ量全体をシ
フトすることにより、初期状態に比べて位相データによ
る主走査ドット位置の補正回数がより少ない、主走査ド
ット位置ずれ特性を得ることができる。移動シフトの補
正回数が減少することによって、主走査方向においてよ
り高画質な画像を得ることができる。

【０１５４】請求項１３記載の発明によれば、請求項に
おける発明をマルチビーム光学系に展開することによ
り、高速機においても主走査ドット位置ずれの少ない走
査装置を実現することができる。更に各発光源同士の発
振波長誤差により生じる露光ずれなどによる主走査方向
のドット位置ずれを、同期回路、位相シフト回路を複雑
化することなく、更にメモリ容量も削減した制御回路で
実現することができる。

【０１５５】請求項１４記載の発明によれば、請求項１
〜１３における発明をタンデムカラー機に展開すること
により、シアン、マセンダ、イエロー、ブラックの各色
に対応した主走査ドット位置ずれ補正やまたは良好に補
正された高画質画像を得ることができる。また色ずれを
効果的に低減することができる。

【０１５６】請求項１５記載の発明における効果は下記
となる。偏向器によって偏向された光束を被走査面に導
き、走査結像素子と透明部材により構成される走査光学
系と、少なくとも１枚の走査結像素子を通過した光束を
検出する検出手段とを有し、検出手段に導かれる光束を
透明部材で反射させることにより、以下の効果が実現で
きる。偏向器、走査結像素子のコンパクト化、検出用の
ビームの光学特性の劣化の低減、例えば走査線曲がり、
傾き、倍率誤差、ビームスポット径が劣化しない等であ
る。さらに、同期検知精度の向上、低コスト化、主走査
ドット位置ずれ量誤差の低減、主走査ドット位置ずれ補
正データ量削減、メモリ削減によるコストダウンであ
る。また、偏向器を小型化できるので、偏向器の駆動に
関して消費電力、騒音、振動が低減でき、高耐久が実現
でき、多点同期で検出する同期信号検出タイミングは被
走査媒体上を偏向器により偏向されたビームが画像領域
内を走査する時間内外で自由に設定可能であり、かつリ
アルタイム補正が可能であるまた画像書込開始側と書込
終了側、更に書込領域内外に複数の検出器を構成するこ
とにより、各検出器間の位相同期検出信号に基づいて有
効書込領域内のドット書込位置をデジタルデータに基づ
いて、高精度に補正することが可能となる。

【０１５７】本発明によれば、画素クロックの位相制御
を行う位相データを、複数の画素クロックにまとめたデ
ータ領域単位で位相データを与えることにより、メモリ
にあらかじめ位相データを保存して出力する場合におい
て、各画素クロック毎に位相データを与える場合に比べ
てデータ量の大幅な低減や、位相データ記憶回路のサイ
ズ減少、チップサイズ低減によるコストダウン、ＡＳＩ
Ｃの小型化などの効果が得られる。また、画束ロックが
１００ＭＨｚ程度の高速動作時において、データ領域毎
に画素クロックの位相データを与えることにより、温
度、経時など各種条件変化による位相シフト量の変動分
を補正する場合などにおいて、各画素クロック毎に位相
データを与える場合に比べてデータ転送速度の遅延など
の影響が少ない安定した制御が可能となる。光走査光学
系に残存する初期の主走査ドット位置ずれだけでなく、
経時変化などによる主走査ドット位置ずれを効果的に補
正することが可能となり、ファーストプリントと複数枚
プリント後との間で色再現性の良く解像度の高い高画質
画像を得ることができる。

【０１５８】請求項１６記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、同一光源からの光束を分割し
て被走査面と被検出面に導く構成により、光源の波長誤
差や変動による光束の走査方向の誤差を最小限にとどめ
ることが可能となり、高精度なドット書込位置の補正が
可能となる。

【０１５９】請求項１７記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、光束分割手段として透明部材
の第２面で反射された光束を被検出面に導く構成によ
り、走査光学系の大型化を招くことなく高精度な位相同
期検知及びドット書込位置補正を行う事が可能となる。

【０１６０】請求項１８記載の発明における効果は下記
となる。偏向器によって偏向された光束を被走査面に導
き、走査結像素子と透明部材により構成される走査光学
系と、少なくとも１枚の走査結像素子を通過した光束を
検出する検出手段とを有し、検出手段に導かれる光束を
透明部材の第1 面で反射させることにより、以下の効果
が実現できる。偏向器、走査結像素子のコンパクト化、
検出用のビームの光学特性の劣化の低減、走査線曲が
り、傾き、倍率誤差、ビームスポット径が劣化しない、
同期検知精度の向上、低コスト化、また、偏向器を小型
化できるので、偏向器の駆動に関して消費電力、騒音、
振動が低減でき、高耐久が実現できる。

【０１６１】請求項１９記載の発明における効果は下記
となる。請求項１８において透明部材の第１面の反射率
が第２面の反射率よりも大きくなるようにコート条件を
設定することにより、検出用の光量を十分に獲得でき、
第２面でのゴースト光を除去できる。

【０１６２】請求項２０記載の発明における効果は下記
となる。偏向器によって偏向された光束を被走査面に導
き、走査結像素子と透明部材により構成される走査光学
系と、少なくとも1 枚の走査結像素子を通過した光束を
検出する検出手段とを有し、検出手段に導かれる光束は
透明部材で反射され、透明部材の第1 面において、被走
査面上に有効書込み幅に向かう光束と、検出手段に向か
う光束が重複する領域を有し、なおかつ、透明部材が平
行平板であることにより、以下の効果が実現できる。偏
向器、走査光学素子のコンパクト化、同期検知精度の向
上、平行平板化による低コスト化、等である。

【０１６３】請求項２１記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、走査用光源のほかに位相同期
検知を行う参照用光源を設けることにより、書込時にお
ける参照光を検知して書込ドット位置を補正すること
で、主走査方向のドット位置ずれを高精度に補正するこ
とが可能となる。

【０１６４】請求項２２記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、参照光と走査光とを同一光路
長とすることで、光路長の差による走査面と参照面での
光束の走査位置の差を低減した、高精度なドット位置補
正が可能となる。

【０１６５】請求項２３記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、走査光を出射する走査光源
と、参照光を出射する参照光源に略同一波長の光源を構
成することにより、両光源からの光束の波長差による走
査位置の誤差を低減することが可能となり、高精度なド
ット位置補正が可能となる。

【０１６６】請求項２４記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、走査光を出射する走査光源
と、参照光を出射する参照光源に同一ロットの光源を構
成することにより、両光源からの光束の波長差による走
査位置の誤差を低減することが可能となり、高精度なド
ット位置補正が可能となる。

【０１６７】請求項２５記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、走査光を出射する走査光源
と、参照光を出射する参照光源として構成する略同一波
長の光源を、同一ロットの近接配置にあるものにより構
成することにより、両光源からの光束の波長差による走
査位置の誤差を低減することが可能となり、高精度なド
ット位置補正が可能となる。

【０１６８】請求項２６記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、走査光を出射する走査光源
と、参照光を出射する参照光源として略同一波長の光源
を有する半導体レーザアレイを構成することにより、各
光源からの光束の波長差による走査位置の誤差を低減す
ることが可能となり、高精度なドット位置補正が可能と
なる。

【０１６９】請求項２７記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、有効書込領域の開始及び終端
のタイミングで、リアルタイムに光束を検出可能な構成
であるので、位相同期制御やドット書込位置補正をリア
ルタイムに高精度に行う事が可能となる。

【０１７０】請求項２８記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、画素クロックの位相制御を行
う位相データを、複数の画素クロックをまとめたデータ
領域単位で位相データを与えることにより、メモリにあ
らかじめ位相データを保存して順次出力する場合におい
て、各画素クロック毎に位相データを与える場合に比べ
てデータ量の大幅な低減や、位相データ記憶回路サイズ
減少、チップサイズ低減によるコストダウン、ＡＳＩＣ
の小型化などの効果が得られる。また画素クロックが１
００ＭＨｚ程度の高速動作時において、データ領域毎に
画素クロックの位相データを与えることにより、温度、
経時など各種条件変化による位相シフト量の変動分を補
正する場合などにおいて、各画素クロック毎に位相デー
タを与える場合に比べてデータ転送速度の遅延などの影
響が少ない制御が可能となる。

【０１７１】請求項２９記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、多点同期に画素クロックの位
相制御を行う位相データを、複数の画素クロックをまと
めたデータ領域単位で位相データを与える方式に適用す
ることにより、多点同期によるドット位置の高精度な補
正が可能となると同時に、メモリにあらかじめ位相デー
タを保存して順次出力する場合において、各画素クロッ
ク毎に位相データを与える場合に比べてデータ量の大幅
な低減や、位相データ記憶回路サイズ減少、チップサイ
ズ低減によるコストダウン、ＡＳＩＣの小型化などの効
果が得られる。また画素クロックが１００ＭＨｚ程度の
高速動作時において、データ領域毎に画素クロックの位
相データを与えることにより、温度、経時など各種条件
変化による位相シフト量の変動分を補正する場合などに
おいて、各画素クロック毎に位相データを与える場合に
比べてデータ転送速度の遅延などの影響が少ない制御が
可能となる。

【０１７２】請求項３０から３４記載の発明における効
果は下記となる。本発明に係る画素クロック生成手段及
びそれを適用した光走査装置もしくは画像形成装置によ
れば、次のような効果が得られる。 １．比較的簡単な構成で画素クロックの位相、ないしは
ドット位置ずれを制御することが可能となる。 ２．高い高周波クロックが必要なくより細かいステップ
での画素クロックの位相を制御することが可能となり、
細かいステップでドット位置補正が可能となる。 ３．位相シフト量データを実際に制御を行う位相シフト
量に対応したビット幅で与えることにより、少ないビッ
ト幅で位相シフト量データを与えることができる。 ４．画素クロックの位相制御を各画素ごとに自由に行う
ことができ、より高精度なドット位置補正が可能とな
る。

【０１７３】請求項３５記載の発明における効果は下記
となる。本発明によれば、請求項１５乃至は請求項３４
記載の光走査装置を画像形成装置に適用することによ
り、主走査ドット位置ずれの少ない画像形成装置を実現
することができる。

【０１７４】請求項３６記載の発明における効果は下記
となる。請求項１５乃至は請求項３４における発明をマ
ルチビーム光学系に展開することにより、高速機におい
ても主走査ドット位置ずれの少ない走査装置もしくは画
像形成装置を実現することができる。更に各発光源同士
の発振波長誤差により生じる露光ずれなどによる主走査
方向のドット位置ずれを、同期回路、位相シフト回路を
複雑化することなく、更にメモリ容量も削減した制御回
路で実現することができる。

【０１７５】請求項３７記載の発明における効果は下記
となる。請求項１５乃至は請求項３６における光走査装
置もしくは画像形成装置をタンデムカラー機に展開する
ことにより、シアン、マセンダ、イエロー、ブラックの
各色に対応した主走査ドット位置ずれ補正やまたは良好
に補正された高画質画像を得ることができる。また色ず
れを効果的に低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光走査装置の一実施例の全体構成図を
示す。

【図２】理想状態に対して１／８ＰＣＬＫの精度でドッ
ト位置を補正を説明するための図である。

【図３】第２の実施例を示す。

【図４】縦軸に主走査位置ずれ量、横軸に像高比を示し
ている。

【図５】ドット位置を任意の位置に補正する方法を示
す。

【図６】位相シフト量とクロック１とクロック２の切替
の様子について示す。

【図７】発明の実施例を示す。

【図８】発明の実施例を示す。

【図９】発明の実施例を示す。

【図１０】発明の実施例を示す。

【図１１】発明の実施例を示す。

【図１２】ドット位置ずれ量の平均値が０となるように
位相データを設定した例を示す。

【図１３】発明の実施例を示す。

【図１４】発明の実施例を示す。

【図１５】光源ユニットの構成図を示す。

【図１６】発明の実施例を示す。

【図１７】図２９記載の画素クロック生成装置による位
相シフト補正方法を示す。

【図１８】データ領域へのデータ設定方法の一例を示
す。

【図１９】クロック生成の動作例を示す。

【図２０】位相シフトを行うクロック生成回路の第１の
構成例を示す図である。

【図２１】光走査装置の一実施例の全体構成図を示す。

【図２２】ドット位置を任意の位置に補正する方法の実
施例を示す。

【図２３】縦軸に主走査位置ずれ量、横軸に像高比を示
した主走査位置ずれ量を示す。

【図２４】光学系による主走査ドット位置ずれデータを
示す。

【図２５】光走査装置の一実施例の全体構成図を示す。

【図２６】光走査装置の一実施例の全体構成図を示す。

【図２７】光走査装置の一実施例の全体構成図を示す。

【図２８】光走査装置の一実施例の全体構成図を示す。

【図２９】光走査装置における実施例を図２２、２３、
２９に示す。

【図３０】画像形成装置における実施例を図３０に示
す。

【図３１】データ領域単位で位相データの補正値を設定
する実施例を示す。

【図３２】走査光を出射する走査光源と参照光を出射す
る参照光源の構成例を示す。

【図３３】半導体レーザアレイを構成する場合の実施例
を図３３に示す。

【図３４】画素クロック生成装置による位相シフト補正
方法を示す。

【図３５】データ領域へのデータ設定方法の一実施例を
示す。

【図３６】クロック生成の動作例を示す。

【図３７】クロック生成回路の第１の構成例を示す。

【図３８】クロック生成の動作表を示す。

【図３９】従来技術例を示す図である。

【図４０】従来技術例を示す図である。

【符号の説明】

１ 制御信号 ４ クロック１生成回路 ８ マルチプレクサ ９ 比較値生成回路 １０ ステータス信号生成回路 １１ セレクト信号生成回路 １２ カウンタ ２５ カウンタ ２６ 比較回路 ２０１ 半導体レーザ ２０２ コリメータレンズ ２０３ シリンダーレンズ ２０４ ポリゴンミラー ２０５ ｆθレンズ ２０６ 透明部材 ２０８ 感光体 １０１、１０２ 検出手段 １１０ ドット位置ずれ検出・制御部 １２０ 画素クロック生成部 １３０ 画像処理部 １４０ レーザ駆動データ生成部 １５０ レーザ駆動部 ２０１ 半導体レーザ ２０８ 感光体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ (72)発明者 二瓶 靖厚 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 Ｆターム(参考） 2C362 AA07 AA13 BA69 BA70 BA85 BA89 BA90 BB30 BB32 2H045 BA22 BA23 BA34 CA83 CA88 CA89 CA98 CA99 DA02 5C051 AA02 CA07 DB08 DB22 DB24 DB30 DE02 5C072 AA03 DA02 DA04 DA16 HA02 HA09 HA13 HB08 QA14 UA14 XA05

Claims (37)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源と、該光源から出射された光束を偏
   向する偏向手段と、 前記偏向手段によって偏向された光束を被走査面に導
   き、有効書込開始位置及び終了位置と略同位置に走査し
   た際に信号検出する検出手段と、 高周波クロック生成手段からのクロック信号のタイミン
   グにより画像形成を行う画素クロックの各信号の位相
   を、位相データに基づいてシフトする機能を有する画素
   クロック生成装置とで構成され、 前記検出手段間を光束が横切る走査時間の変動量に基づ
   いて、位相データを補正することを特徴とする光走査装
   置。
2. 【請求項２】 前記光走査装置の走査光学系において、
   走査結像素子と透明部材を構成し、前記検出手段に導か
   れる光束は前記透明部材の第１面で反射されることを特
   徴とする請求項１記載の光走査装置。
3. 【請求項３】 前記透明部材の第１面の反射率が第２面
   の反射率よりも大きくなるようにコート条件を設定した
   ことを特徴とする請求項２記載の光走査装置。
4. 【請求項４】 前記走査結像素子と前記透明部材とを有
   し、該透明部材の第１面における被走査面に向かう光束
   と、前記検出手段に向かう光束とが重複する領域を有
   し、なおかつ、前記透明部材は平行平板であることを特
   徴とする請求項１記載の光走査装置。
5. 【請求項５】 前記透明部材は防塵機能を有することを
   特徴とする請求項２または請求項４に記載の光走査装
   置。
6. 【請求項６】 前記透明部材を、主走査方向に長い軸を
   中心として有効書込み幅の中央に向かう光束に垂直な面
   から傾けることを特徴とする請求項２または請求項４に
   記載の光走査装置。
7. 【請求項７】 光源と、該光源から出射された光束を偏
   向する偏向手段と、 偏向器によって偏向された光束を被走査面に導き書込開
   始側及び終了側で光束を検出する検出手段と、 高周波クロック生成手段からのクロック信号のタイミン
   グにより、画像形成を行う画素クロックの各信号の位相
   を、位相データに基づいてシフトする機能を有する画素
   クロック生成装置で構成され、 前記検出手段間を光束が横切る走査時間の変動量に基づ
   いて、位相データを補正する機能と、画素クロック１周
   期を１単位として、複数の単位で構成されるデータ領域
   毎に位相データを与えることを特徴とする光走査装置。
8. 【請求項８】 前記画素クロック１周期を１単位とし
   て、一定数の単位で構成されるデータ領域において、デ
   ータ領域毎に位相データを与える画素クロック生成装置
   で構成されることを特徴とする請求項７記載の光走査装
   置。
9. 【請求項９】 前記画素クロック１周期を１単位とし
   て、複数の単位で構成されるデータ領域において、デー
   タ領域内のクロック数を一定数にしない画素クロック生
   成装置で構成されることを特徴とする請求項７記載の光
   走査装置。
10. 【請求項１０】 主走査ドット位置ずれ量の変化量が大
    きい像高ではデータ領域を狭く、変化量の小さい像高で
    はデータ領域を広くする画素クロック生成装置で構成さ
    れることを特徴とする請求項９記載の光走査装置。
11. 【請求項１１】 光源から出力される光束を、偏向器に
    より走査方向に沿って被走査媒体上を走査させるとき、
    書込開始側、及び書込終了側で光束を検出する検出手段
    と、各検出手段から有効書込領域までの領域を夫々有効
    書込開始位置補正領域、有効書込終了位置補正領域とし
    たとき、各領域は単一のデータ領域であることを特徴と
    する請求項７記載の光走査装置。
12. 【請求項１２】 画素クロックの周波数を変更すること
    により、主走査ドット位置ずれ量全体をシフトする画素
    クロック生成装置を有することを特徴とする請求項７に
    記載の光走査装置。
13. 【請求項１３】 前記光走査装置の光源は、複数の半導
    体レーザを光学的に合成、またはモノシリックな半導体
    レーザアレイで構成されたマルチビーム光源であること
    を特徴とする請求項１から１２の何れかに記載の光走査
    装置。
14. 【請求項１４】 前記光走査装置を複数の感光体を有す
    るタンデムカラー機に対応することを特徴とする請求項
    １から１３の何れかに記載の画像形成装置。
15. 【請求項１５】 光源と、該光源から出射された光束を
    偏向する偏向手段と、 偏向手段によって偏向された光束を被走査面及び前記被
    走査面とは異なる被検出面にそれぞれ導く導光手段と、 走査面と略同一位置に走査した光束を、複数の検出部に
    より検出する検出手段と、 高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、 高周波クロック生成手段から出力される高周波クロック
    と画素クロックの遷移タイミングを指示する位相データ
    に基づいて画素クロックを生成する画素クロック生成手
    段と、 前記複数の検出部を光束が横切る走査時間に基づいて、
    前記位相データを補正することを特徴とする光走査装
    置。
16. 【請求項１６】 請求項１５記載の光走査装置におい
    て、前記導光手段は、偏向器によって偏向された光束を
    分割することにより、被走査面及び前記被走査面とは異
    なる被検出面にそれぞれ導く光束分割手段により構成さ
    れていることを特徴とする光走査装置。
17. 【請求項１７】 請求項１６記載の光走査装置におい
    て、前記被走査面とは異なる被検出面に、光束分割手段
    として構成する透明部材の第２面で反射された光束を導
    くことを特徴とする光走査装置。
18. 【請求項１８】 請求項１６記載の光走査装置におい
    て、前記被走査面とは異なる被検出面に、光束分割手段
    として構成する透明部材の第１面で反射された光束を導
    くことを特徴とする光走査装置。
19. 【請求項１９】 請求項１８記載の光走査装置におい
    て、透明部材の第１面の反射率が、第２面の反射率より
    も大きくなることを特徴とする光走査装置。
20. 【請求項２０】 請求項１８記載の光走査装置におい
    て、透明部材の第１面において、被走査面に向かう光束
    と前記被走査面とは異なる被検出面に向かう光束が重複
    する領域を有し、なおかつ透明部材は平行平板であるこ
    とを特徴とする光走査装置。
21. 【請求項２１】 請求項１５記載の光走査装置におい
    て、前記導光手段は、２種類の光源より出射される走査
    光と参照光とからなり、同じ偏向手段により偏向された
    光束を、走査光は被走査面へ、参照光は前記被走査面と
    は異なる被検出面にそれぞれ導く導光手段と、走査面と
    略同一位置に走査した光束を、複数の検出部により検出
    する検出手段と、高周波クロック生成手段から生成され
    る高周波クロックに基づき、画像形成を行う画素クロッ
    クの各ドットにおける信号の位相を、位相データに基づ
    いてシフトする機能を有する画素クロック生成手段と、
    前記複数の検出部を光束が横切る走査時間に基づいて、
    前記位相データを補正することを特徴とする光走査装
    置。
22. 【請求項２２】 請求項２１記載の光走査装置におい
    て、前記参照光は、前記走査光と略同一光路長を有する
    ことを特徴とする光走査装置。
23. 【請求項２３】 請求項２１記載の光走査装置におい
    て、前記走査光を出射する走査光源と、前記参照光を出
    射する参照光源に略同一波長の光源を構成することを特
    徴とする光走査装置。
24. 【請求項２４】 請求項２３記載の光走査装置におい
    て、前記走査光を出射する走査光源と、前記参照光を出
    射する参照光源として同一ロットの光源を構成すること
    を特徴とする光走査装置。
25. 【請求項２５】 請求項２４記載の光走査装置におい
    て、前記走査光を出射する走査光源と、前記参照光を出
    射する参照光源として構成する略同一波長の光源を、同
    一ロットの近接配置にあるものにより構成することを特
    徴とする光走査装置。
26. 【請求項２６】 請求項２３記載の光走査装置におい
    て、前記走査光を出射する走査光源と、前記参照光を出
    射する参照光源として略同一波長の光源を有する半導体
    レーザアレイを構成することを特徴とする光走査装置。
27. 【請求項２７】 請求項１５乃至は請求項２６記載の光
    走査装置において、前記被走査面と略同一位置に走査し
    た光束を、前記複数の検出部により検出する検出手段に
    おいて、前記検出手段の走査方向の最端部にある前記検
    出手段同士の間隔を、前記被走査面の有効書込開始位置
    及び終了位置に走査した際の信号検出間隔と略同一に構
    成することを特徴とする光走査装置。
28. 【請求項２８】 請求項１５乃至は請求項２６記載の光
    走査装置において、前記画素クロック１周期を１単位と
    して、複数の単位で構成されるデータ領域毎に位相デー
    タを与えることを特徴とする光走査装置。
29. 【請求項２９】 請求項２８記載の光走査装置におい
    て、前記データ領域は、前記複数の検出部による検出タ
    イミングに連動して設定することを特徴とする光走査装
    置。
30. 【請求項３０】 光源と、光源から出射された光束を偏
    向する偏向手段と、 偏向手段によって偏向された光束を被走査面及び前記被
    走査面とは異なる被検出面にそれぞれ導く導光手段と、 走査面と略同一位置に走査した光束を、複数の検出部に
    より検出する検出手段と、 高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、 前記高周波クロック生成手段から出力される高周波クロ
    ックと画素クロックの遷移タイミングを指示する位相デ
    ータに基づいて画素クロックの周期を変化させる画素ク
    ロック生成手段と、 前記複数の検出部を光束が横切る走査時間に基づいて、 前記位相データを補正することを特徴とする光走査装
    置。
31. 【請求項３１】 請求項３０記載の画素クロック生成手
    段において、前記画素クロックの遷移タイミングは前記
    高周波クロックの遷移に同期していることを特徴とする
    光走査装置。
32. 【請求項３２】 請求項３０記載の画素クロック生成手
    段において、前記画素クロックの周期は前記高周波クロ
    ックの１クロックステップで変化することを特徴とする
    光走査装置。
33. 【請求項３３】 請求項３０記載の画素クロック生成手
    段において、前記画素クロックの周期は前記高周波クロ
    ックの１／２クロックステップで変化することを特徴と
    する光走査装置。
34. 【請求項３４】 光源と、光源から出射された光束を偏
    向する偏向手段と、 偏向手段によって偏向された光束を被走査面及び前記被
    走査面とは異なる被検出面にそれぞれ導く導光手段と、 走査面と略同一位置に走査した光束を、複数の検出部に
    より検出する検出手段と、 高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、 前記高周波クロック生成手段から出力される高周波クロ
    ックをカウントする計数手段と、 前記計数手段の計数値と画素クロックの遷移タイミング
    を指示する位相データを比較する比較手段と、 前記比較手段の結果に基づいて画素クロックの遷移を行
    う画素クロック制御手段と、 前記複数の検出部を光束が横切る走査時間に基づいて、 前記位相データを補正することを特徴とする光走査装
    置。
35. 【請求項３５】 光源と、前記光源から出射された光束
    を偏向する偏向手段と、偏向手段によって偏向された光
    束を被走査媒体に導く導光手段と、前記被走査媒体上を
    走査して前記被走査媒体上に画像を形成する画像形成装
    置において、 請求項１５乃至は請求項３４記載の光走査装置を構成す
    ることを特徴とする画像形成装置。
36. 【請求項３６】 複数の光源と、前記複数の光源から出
    射された光束を偏向する偏向手段と、偏向手段によって
    偏向された光束を被走査媒体に導く導光手段と、前記被
    走査媒体上を走査して前記被走査媒体上に画像を形成す
    る画像形成装置において、 請求項１５乃至は請求項３４記載の光走査装置を構成す
    ることを特徴とする光走査装置もしくは画像形成装置。
37. 【請求項３７】 光源と、光源から出射された光束を偏
    向する偏向手段と、偏向手段によって偏向された光束を
    被走査媒体に導く導光手段と、前記被走査媒体上を走査
    して前記被走査媒体上に画像を形成する画像形成装置に
    おいて、 請求項１５乃至は請求項３４記載の光走査装置もしくは
    画像形成装置を構成し、複数の被走査媒体を有するタン
    デムカラー機に対応することを特徴とする画像形成装
    置。