JP2002122799A - マルチビーム走査装置及びそれを備えた画像形成装置 - Google Patents

マルチビーム走査装置及びそれを備えた画像形成装置

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JP2002122799A
JP2002122799A JP2000315299A JP2000315299A JP2002122799A JP 2002122799 A JP2002122799 A JP 2002122799A JP 2000315299 A JP2000315299 A JP 2000315299A JP 2000315299 A JP2000315299 A JP 2000315299A JP 2002122799 A JP2002122799 A JP 2002122799A
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Migaku Amada
天田  琢
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 温度変化に伴う複数のビームの走査開始タイ
ミングのずれを抑制する。 【解決手段】 光源部1の複数の発光点からカップリン
グレンズ2,シリンダレンズ4,ポリゴンミラー5、第
1,第2のfθレンズ6a,6bからなる走査光学系を
介して走査される感光体7の有効露光域外の走査開始側
及び走査終了側に第1,第2の同期検知センサ11,1
2を設け、一つのビームが両センサ間を走査するのに要
する時間を測定し、その測定値を設計上の基準値と比較
することにより主走査倍率の変化量を求め、その変化量
を補正することにより有効露光域の長さを設計中央値と
一致させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、デジタル複写
機,レーザプリンタ,レーザファクシミリ等の画像形成
装置に用いられるマルチビーム走査装置及びそれを備え
た画像形成装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、マルチビーム走査装置は、複数
の発光部を有するマルチビーム光源装置から出射された
複数のビームを、シリンダレンズ,ポリゴンミラー,f
θレンズ等から構成される走査光学系により、副走査方
向に所定のピッチ離れた複数のビームスポットとして被
走査面に結像させ、ポリゴンミラーを回転させることに
より、それぞれ被走査面上を主走査方向に同時に等速走
査させるようにしたものである。
【0003】このようなマルチビーム走査装置にあって
は、ポリゴンミラーで偏向した各ビームの主走査方向の
走査開始タイミングを設定するため、被走査面の走査開
始側の有効露光域外に同期検知センサを設け、この同期
検知センサに時刻をずらせて複数のビームを入射させる
ことにより、各ビームの同期検出信号を個別に発生さ
せ、それに基づいて各ビームの走査開始タイミングを高
精度に一致させるようにしている。
【0004】従来、この種の同期検知センサを設けたマ
ルチビーム走査装置としては、例えば特開平6−227
037号公報や特開平9−66630号公報に示される
ようなものがあった。前者は、波長差のある複数の半導
体レーザを有する半導体レーザアレイの各半導体レーザ
をそれぞれ独立したビデオクロック信号で変調させるこ
とにより、各半導体レーザから出射されるビームの被走
査面上での主走査方向の書込幅を等しく、主走査方向終
端側でのドット形成の位置ずれを抑制するようにしたも
のである。
【0005】同時に、同期検出信号と同期クロック信号
を発生するタイミングを可変可能な同期タイミング可変
手段を設けることにより、各半導体レーザのビデオクロ
ック周波数調整によって変化する主走査倍率誤差を、走
査開始位置を微調整することにより抑制している。
【0006】また、後者は有効露光域外の走査開始側に
設けたビーム検出手段により計測された複数ビームのタ
イミングの差を所定の値と比較し、その結果に基づいて
書込変調周波数を補正することにより、温度変化に伴う
走査光学系の主走査方向の倍率を補正し、被走査面での
複数ビームの書込位置(ドット位置)のずれ発生を抑制
している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のマルチビーム走査装置にあっては、複数のビ
ームが同期検知センサに入射するタイミングのずれが小
さく、S/N比の高い高精度の検出が困難であった。同
時に、同期検知センサを走査開始側にのみ設けているの
で、書込幅全体の情報が得られず、主走査倍率の変化に
伴う書込開始位置の変化を補正することができなかっ
た。
【0008】このように、上記の従来技術はいずれも、
複数の半導体レーザの変調周波数を変化させることによ
り、複数のビームの主走査方向の走査幅を同一にするこ
とは可能であるが、温度変化に伴う走査光学系の主走査
方向の倍率変化に起因する走査開始タイミングを補正す
ることは不可能であった。この発明は上記の点に鑑みて
なされたものであり、環境温度の変動に伴う複数のビー
ムの走査開始タイミングのずれを抑制することを目的と
する。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明は上記の目的を
達成するため、複数の発光点を有する光源部と、この光
源部から出射される複数のビームにより被走査面上を偏
向走査する走査光学系と、上記被走査面の有効露光域外
の走査開始側に設けられ特定のビームを検出する第1の
ビーム検出手段とを有するマルチビーム走査装置におい
て、上記第1のビーム検出手段からの同期検出信号に基
づき上記特定のビームの走査開始タイミングを決定する
とともに、上記特定のビーム以外のビームの走査開始タ
イミングは、各ビームにそれぞれ設定された遅延時間だ
け上記特定のビームの走査開始タイミングからずらすよ
うにしたタイミング設定手段と、上記走査光学系の主走
査方向の倍率変化に応じて、上記特定のビームの走査開
始タイミング及びその他のビームの上記遅延時間を変化
させるタイミング可変手段とを設けたマルチビーム走査
装置を提供するものである。
【0010】そして、上記のマルチビーム走査装置にお
いて、走査光学系の被走査面の有効露光域外の走査終了
側に、第2ビーム検出手段を設けるのがよく、また、上
記走査光学系の主走査方向の倍率変化を検出するための
倍率検出手段を設けるのが好ましい。さらに、上記のマ
ルチビーム走査装置において、走査光学系の倍率変化を
補正するための倍率補正手段を設けるとさらによい。同
時に、上記のマルチビーム走査装置と、このマルチビー
ム走査装置により感光体面上に画像を形成する画像形成
手段とを備えた画像形成装置も提供する。
【0011】この発明によるマルチビーム走査装置及び
それを備えた画像形成装置は上記のように構成すること
により、環境温度の変動に伴う複数ビームの走査開始タ
イミングのずれを抑制して複数ビームの走査開始位置を
一致させることができ、良好な画像形成を行うことが可
能になる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態を図面
に基づいて具体的に説明する。図1は、この発明の一実
施形態を示す構成図、図2は、その光源部を出射側から
見た各発光点の配置状態を示す説明図、図3は、その光
源部を主走査方向断面で示す光路図、図4は、感光体上
に結像した各ビームスポットの配置状態を示す説明図で
ある。
【0013】このマルチビーム走査装置は、図2及び図
3に示すように、同一のパッケージ内に2個の半導体レ
ーザからなる第1,第2の発光点1a,1bを有する半
導体レーザアレイを光源部1とし、これらの第1,第2
の発光点1a,1bは共に同一のカップリングレンズ2
を通って第1,第2のビームB1a,B1bに変換され
る。そして、これらの第1,第2の発光点1a,1b
は、カップリングレンズ2の光軸Aに関して対称の位置
に配置され、この実施形態では光軸Aに関して主走査に
±0.06mm、副走査方向に±0.002mmの位置
にある。これは、第1,第2の発光点1a,1b間の間
隔が0.12mmである光源部1をその中間点の回りに
1.9°反時計方向に傾けることによって得られる位置
に相当する。
【0014】第1,第2の発光点1a,1bからカップ
リングレンズ2を通って出射された第1,第2のビーム
B1a,B1bは、以降の走査光学系の性能に従って平
行光束又は弱い収束光束あるいは弱い発散光束に変換さ
れ、図1に示すように、アパーチャ3により整形された
後、シリンダレンズ4の作用によりポリゴンミラー5の
偏向面付近で主走査方向に長い線像として結像される。
【0015】ポリゴンミラー5で反射した各ビームは、
ポリゴンミラー5の時計方向の回転により偏向された
後、走査結像光学系6を構成する第1,第2のfθレン
ズ6a,6bにより、角速度が一定のビームスポットと
して被走査面に位置した感光体7上を矢示の主走査方向
に等速走査され、これらにより走査光学系を構成してい
る。なお、第1,第2のfθレンズ6a,6bは、低コ
スト化と軽量化のため、プラスチックレンズが用いられ
る。
【0016】また、感光体7の有効露光域外の走査開始
側及び走査終了側に、第1,第2のビーム検出手段とし
て第1,第2の同期検知センサ11,12がそれぞれ設
けられており、第1の同期検知センサ11に各ビームが
入射することにより同期検出信号が得られ、それに基づ
き所要の出力画像に対応して変調される第1,第2のビ
ームB1a,B1bが有効露光域開始端より走査され
る。
【0017】ここで、ポリゴンミラー5の配置角度(主
走査光学系6とポリゴンミラー5の偏向面の法線がなす
角度:時計回りを正とする)をαとすれば、α=30.
0°のとき、第1,第2の発光点1a,1bから出射さ
れた第1,第2のビームB1a,B1bが感光体7上に
結像して生じる第1,第2のビームスポットBS1a,
BS1bの間隔(以下「ビームピッチ」という)は、図
4に示すように、主走査方向ビームピッチ0.8897
mm、副走査方向ビームピッチ0.0212mmとな
り、書込密度1200dpiの場合のドット間隔21.
2μmを得ることができる。
【0018】図5は、第1,第2の発光点1a,1bか
ら被走査面(感光体7の表面)までの光路長に対し、各
発光点から出射してカップリングレンズ2でほぼ平行光
束に変換された第1,第2のビームB1a,B1bが、
走査光学系を構成する各光学素子上を通過する光線高さ
を模式的に示す光路図である。
【0019】
【実施例】ここで、図1に示したマルチビーム走査装置
の望ましい実施例1を具体的に説明する。なお、以下の
実施例1において、 I:面番号 R(I)m:第I面の主走査方向の曲率半径(mm) R(I)s:第I面の副走査方向の曲率半径(mm) D(I):第I面後の面間隔 N(I):第I面後の屈折率(d線) をそれぞれ表すものとする。
【0020】また、カップリングレンズ2の第1面R2
と第2面R3は共軸であり、それぞれ波面収差補正のた
め、非球面係数が付加されている。第1のfθレンズ6
aの第1面R8と第2面R9も共軸であり、それぞれ走
査結像性能補正のため、非球面係数が付加されるととも
に、それぞれポリゴンミラー5の回転騒音を防止する防
音ガラス及び外部から走査光学系を内蔵する光学ハウジ
ング内への埃の侵入を防止する防塵ガラス(いずれも図
示しない)が付加されている。
【0021】さらに、第2のfθレンズ6bの第1面R
10及び第2面R11はいずれも、主走査方向の曲率半
径R10m,R11mと副走査方向の曲率半径R10
s,R11sとが異なるトロイダル面を有し、走査結像
性能補正のため、非球面係数が付加されている。なお、
この実施例1では第1,第2の発光点1a,1bから出
射されるビームの発振波長は780nm、シリンダレン
ズ4の光軸と走査結像光学系6の光軸とのなす角度は6
0°、感光体7の有効露光域は、像高H=±150mm
の範囲とする。
【0022】ちなみに、上記の記明中、非球面係数と
は、光軸上の高さYの非球面上の点より非球面頂点の接
平面までの距離(サグ量)をX、非球面の光軸上での曲
率(1/R)をC、円錐係数をK、4次,6次,8次,
10次の高次の係数をM4,M6,M8,M10として
数1によって表されるものであるが、これは本発明の要
旨と直接関係がないのでその詳細なデータは省略する。
【0023】
【数1】
【0024】以下の表1に上記実施例1のパラメータを
示す。
【0025】
【表1】
【0026】上述した実施例1に示したようなマルチビ
ーム走査装置において、第1の同期検知センサ11の応
答速度が第1,第2のビームB1a,B1bの主走査方
向の間隔及び走査相当速度より充分に大きい場合には、
各ビームに対して正確な同期検出信号を得ることがで
き、走査開始タイミングもそれぞれ独立に設定すること
が可能である。
【0027】それに対し、応答速度が比較的遅い安価な
同期センサを用いた場合には、複数ビームの同期信号を
独立して得ることができない場合がある。そのような場
合には、特定のビームにより同期検出信号を得るように
し、他のビームの走査開始タイミングは、特定のビーム
の走査開始タイミングから所定時間ずらすようにするタ
イミング設定手段を設けるのがよい。同期検出信号を得
る特定のビームは、通常最先行するビームが採用され、
その他のビームの走査開始タイミングは、一般に「遅延
時間(ディレイ)」と称される時間だけ遅れるようにす
る。
【0028】図6(a),(b)は、感光体7上での有
効露光域を模式的に示す線図であり、(a)は設計中央
値(25℃;常温)の場合、(b)は書込ユニット内の
温度上昇(45℃:高温)に伴って走査光学系の主走査
方向の倍率が増大した場合をそれぞれ示している。ま
た、表2は設計中央値でのポリゴンミラー5の配置角度
αと、第1,第2の発光点1a,1bから出射される第
1,第2のビームB1a,B1bが到達する像高Hとの
関係を示すものである。
【0029】
【表2】
【0030】この表2に示すように、書込ユニット内の
温度が25°(常温)である設計中央値の場合には、第
1の同期検知センサ11は、第1の発光点1aからの第
1のビームB1aを受光して同期検出信号を発し、第1
ビームB1aの走査開始タイミングを設定する。そし
て、第1のビームB1aの走査開始タイミングから所定
の遅延時間を設けて第2のビームB1bの走査開始タイ
ミングを設定することにより、第1,第2のビームB1
a,B1bの走査開始時の像高Hを+150.0mmと
することができる。
【0031】ところが、この実施例1のように、走査結
像光学系6を軽量で安価なプラスチックレンズで構成し
た場合には、温度変動に伴う形状(曲率)や物性(屈折
率)の変化が大きくなるとともに、光源部1の波長も変
化して主走査倍率の変化が生じる。そのため、表2に示
すポリゴンミラー5の配置角度αを補正しない場合、図
6(b)に示すように、温度45℃になると主走査倍率
がほぼ0.205%大きくなって、有効露光域の長さが
第1,第2のビームB1a,B1bに対してそれぞれ B1a:300.0+{0.3110−(−0.3031)}
=300.6141(mm) B1b:300.0+{0.3142−(−0.3001)}
=300.6143(mm) になる。
【0032】また、上述した遅延時間を補正しない場
合、同期検知から書込開始までのポリゴンミラー5の回
転角Δαは一定であるため、書込開始位置及び書込終了
位置での像高Hは、表3に示すようになる。
【0033】
【表3】
【0034】すなわち、 書込開始位置: +0.3110−0.3142=−0.0032(mm)=−
3.2(μm) 書込終了位置: −0.3031−0.3001=−0.0030(mm)=−
3.0(μm) ずれることになり、これが画像劣化の原因となる。
【0035】温度変化に伴う主走査倍率の変化量につい
ては、設計上では計算により、あるいは実験上では実測
により事前に把握することができ、タイミング可変手段
として対応表を予め用意しておくことにより、それに従
って遅延時間を適宜設定することが可能である。上記の
実施例1においては、書込開始位置の遅延時間を、上記
の3.2μmに相当する時間だけ長くすることにより、
書込開始位置の遅延時間を、上記の3.2μmに相当す
る時間だけ長くして、書込開始位置を合致させることが
できる。
【0036】また、第1のビームB1aの書込位置は、
表3に示すように+0.3110mmだけ第1の同期検
知センサ11側へ移動するが、これは第1のビームB1
aの走査開始タイミングを時間的に後らせることによ
り、像高Hを+150.0mmの位置から書込開始が可
能となる。
【0037】要するに、感光体7の有効露光域外の走査
開始側に設けた第1の同期検知センサ11により、第1
のビームB1aの走査開始タイミング及び第2のビーム
B1bに対する遅延時間を走査光学系の主走査倍率の変
化に基づいて可変とすることによって、第1,第2のビ
ームB1a,B1bの書込位置を合致させることができ
る。
【0038】なお、さらに正確に主走査倍率の変化量を
求めるためには、例えば感光体7の有効露光域外の走査
終了側に第2の同期検知センサ12を設置し、第1,第
2のビームB1a,B1bのいずれかが第1の同期検知
センサ11と第2の同期検知センサ12の間を走査する
のに要する時間を測定する倍率検出手段により、その測
定値を走査光学系及びポリゴンミラー5の回転速度から
導出される基準値と比較して、主走査倍率の変化量を求
めるようにすればよい。
【0039】このように、主走査倍率の変化による有効
露光域の変動(この実施例1では0.205%)を補正
するようにした倍率補正手段により、有効露光域の長さ
2Hを設計中央値と正確に合致させることが可能にな
る。そのためには、例えば光源部1の第1,第2の発光
点1a,1bを構成半導体レーザの変調周波数を変化さ
せたり、ポリゴンミラー5の回転速度をプロセス側の速
度と共に変化させたりすればよい。
【0040】なお、上記の実施例1では、2本のビーム
による走査装置について説明したが、この発明はそれに
限るものではなく、3本以上のマルチビーム走査装置に
も何等支障なく実施することができる。また、第1,第
2の同期検知センサ11,12の配設位置は被走査面上
に限るものではなく、それと光学的に等価な位置でも差
し支えない。
【0041】
【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば以
下のような効果を奏する。請求項1に記載のマルチビー
ム走査装置によれば、第1のビーム検出手段からの検出
信号に基づき特定のビームの走査開始タイミングを決定
するとともに、特定のビーム以外のビームの走査開始タ
イミングは、各ビームにそれぞれ設定された遅延時間だ
け特定のビームの走査開始タイミングからずらすように
したタイミング設定手段と、走査光学系の主走査方向の
倍率変化に応じて特定のビームの走査開始タイミング及
びその他のビームの遅延時間を変化させるタイミング可
変手段とを設けたので、環境温度の変動に伴う複数ビー
ムの走査開始位置の偏差を、特定以外のビームの走査開
始タイミングを可変とすることにより抑制することが可
能になる。
【0042】請求項2に記載のマルチビーム走査装置に
よれば、有効露光域外の走査終了側に第2のビーム検出
手段を設けたので、走査開始側に設けた第1のビーム検
出手段とともに一つのビームが第1,第2のビーム検出
手段間を走査するのに要する時間を基準値と比較するこ
とにより、主走査倍率の変化量を高精度に検出すること
ができる。
【0043】請求項3に記載のマルチビーム走査装置に
よれば、走査光学系の主走査方向の倍率変化を検出する
ための倍率検出手段を設けたので、所要の遅延時間を正
確に設定することができる。
【0044】請求項4に記載のマルチビーム走査装置に
よれば、主走査方向の倍率変化を補正するための倍率補
正手段を設けたので、主走査倍率の変化による有効露光
域の長さを基準値と一致させることが可能になる。
【0045】請求項5に記載の画像形成装置によれば、
環境温度の変動に係らず安定したマルチビーム走査装置
により良好な出力画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態を示す構成図である。
【図2】同じくその光源部を出射側から見た各発光点の
配置状態を示す説明図である。
【図3】同じくその光源部の主走査方向断面に沿う光路
図である。
【図4】同じくその感光体上に結像したビームスポット
の配置状態を示す説明図である。
【図5】同じくその光路長に対する各ビームの光線高さ
を示す光路図である。
【図6】同じく温度変化に伴って変化する有効書込域を
模式的に示す説明図である。
【符号の説明】
1:光源部 1a:第1の発光点 1b:第2の発光点 2:カップリングレンズ 3:アパ−チャ 4:シリンダレンズ 5:ポリゴンミラー 6:走査結像光学系 7:感光体 11:第1の同期検知センサ 12:第2の同期検知センサ I:面番号 R(I)m:第I面の主走査方向曲率半径 R(I)s:第I面の副走査方向曲率半径 D(I):第I面後の面間隔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C362 BA69 BA70 BB30 BB32 BB34 BB38 BB42 CB07 CB13 CB35 2H045 AA52 BA23 BA32 CA89 CA98 DA26 DA41 5C072 AA03 BA12 HA02 HA06 HA13 HB08 HB11 XA01 XA05 5C074 AA10 BB03 BB26 CC22 CC26 DD11 DD15 DD19 EE02 GG03 GG04 GG09 GG12 HH02

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の発光点を有する光源部と、該光
    源部から出射される複数のビームにより被走査面上を偏
    向走査する走査光学系と、前記被走査面の有効露光域外
    の走査開始側に設けられ特定のビームを検出する第1の
    ビーム検出手段とを有するマルチビーム走査装置におい
    て、 前記第1のビーム検出手段からの同期検出信号に基づき
    前記特定のビームの走査開始タイミングを決定するとと
    もに、前記特定のビーム以外のビームの走査開始タイミ
    ングは、各ビームにそれぞれ設定された遅延時間だけ前
    記特定のビームの走査開始タイミングからずらすように
    したタイミング設定手段と、前記走査光学系の主走査方
    向の倍率変化に応じて、前記特定のビームの走査開始タ
    イミング及びその他のビームの前記遅延時間を変化させ
    るタイミング可変手段とを設けたことを特徴とするマル
    チビーム走査装置。
  2. 【請求項2】 前記走査光学系の被走査面の有効露光域
    外の走査終了側に、第2のビーム検出手段を設けたこと
    を特徴とする請求項1記載のマルチビーム走査装置。
  3. 【請求項3】 前記走査光学系の主走査方向の倍率変化
    を検出するための倍率検出手段を設けたことを特徴とす
    る請求項2記載のマルチビーム走査装置。
  4. 【請求項4】 前記走査光学系の主走査方向の倍率変化
    を補正するための倍率補正手段を設けたことを特徴とす
    る請求項2または3記載のマルチビーム走査装置。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至5のいずれか一項に記載の
    マルチビーム走査装置と、該マルチビーム走査装置によ
    り感光体面上に画像を形成する画像形成手段とを備えた
    画像形成装置。
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