JP2003253120A

JP2003253120A - 疎水性シリカを含有する室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物

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Publication number: JP2003253120A
Application number: JP2003020945A
Authority: JP
Inventors: Mario Dr Scholz; ショルツマリオ; Michael Kempf; ケンプフミヒャエル; Christian Panz; パンツクリスティアン; Kenichi Kawamoto; 謙一川本
Original assignee: Degussa GmbH
Current assignee: Evonik Operations GmbH
Priority date: 2002-01-30
Filing date: 2003-01-29
Publication date: 2003-09-10
Anticipated expiration: 2023-01-29
Also published as: TW200303330A; KR20030066367A; KR100954969B1; KR20090115783A; EP1333053B1; BR0300154A; US20030195290A1; EP1333053A3; CA2417459A1; TWI280253B; ATE366285T1; EP1333053A2; DE50210412D1; JP4241065B2; DE10203500A1; US6956080B2

Abstract

(57)【要約】【課題】疎水性シリカを含有する室温加硫型一成分シ
リコーンゴム調製物を提供する。【解決手段】シリコーンゴム調製物は、次の特性：炭
素含有率＞３．１％、メタノール湿潤性＞６０％、反射
率＞９４％、ＢＥＴ／ＣＴＡＢの比＞１および＜３、Ｄ
ＢＰ吸収量＜２３０ｇ／１００ｇ、ＢＥＴ表面積５０〜
１１０ｍ^２／ｇ、ＣＴＡＢ表面積＞３０ｍ^２／ｇ、３０
℃および３０ＲＨにおける水蒸気吸収＜１．３、３０℃
および７０ＲＨにおける水蒸気吸収＜１．７を有する疎
水性シリカ０．５〜６０質量％および式Ｚ_ｎＳｉＲ_３ _-
_ｎ−Ｏ−［ＳｉＲ_２Ｏ］_ｘ−ＳｉＲ _３ _- _ｎ−Ｚ‘_ｎ［式
中、変項は特許請求の範囲に記載したものを表す］のオ
ルガノポリシロキサン４０〜９９．５質量％を含有す
る。【効果】シリコーンゴム加硫物中での高い補強作用に
おいて、著しく低い吸水率、高い白色度および正確に調
整することができ、かつ貯蔵安定性のレオロジー特性を
有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、シリコーンゴム加
硫物中で高い補強作用において、極めて低い吸水率、高
い白色度および正確に調整することができ、貯蔵安定性
であるレオロジー特性を有する、疎水性シリカを含有す
る室温加硫型および湿分架橋型一成分系シリコーンゴム
調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）に関する。

【０００２】

【従来の技術】シリコーンゴム調製物においてシリカ、
特に疎水化された沈降シリカを使用することは公知であ
り、かつたとえばＤＥ２７２９２４４およびＤＥ２６２
８９７５に記載されている。

【０００３】ＤＥ２６２８９７５およびＤＥ２７２９２
４４には、疎水性シリカの製造が記載されており、ここ
では吸水率の低い親水性沈降シリカをシリコーン油もし
くはジメチルジクロロシランと反応させている。ＤＥ２
６２８９７５に記載の方法では、乾燥した沈降シリカに
疎水化剤（シリコーン油）を添加することにより反応を
行っており、ＤＥ２７２９２４４による方法では、疎水
化剤（ジメチルジクロロシラン）を直接、沈降シリカ懸
濁液に添加している。いずれの場合でも疎水化工程の後
に、高めた温度、つまり２００〜４００℃で熱処理を行
う。

【０００４】この方法における欠点は、こうして疎水化
した沈降シリカが、必要とされる工程温度で変色するこ
とである。シリカの変色は、シリコーン調製物に添加す
る際に、つまりこの疎水性沈降シリカをシリコーンゴム
調製物またはシリコーン油ベースの消泡剤混合物に添加
する際に特に妨げとなることが認められる。

【０００５】変色の度合いとしていわゆる反射率を利用
することができる。反射率測定の際、試料の拡散反射率
を検査する。試料の拡散反射率が高いほど、該試料の反
射率ひいては白色度は高い。

【０００６】沈降シリカは通常、最大で９７％の反射率
を有する。従って、疎水性シリカを含有し、高い反射率
を有するＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物を製造す
ることが所望される。

【０００７】シリカを疎水化する際、特にシリカを著し
く疎水化する際に、つまりシリカが高いメタノール湿潤
性および高い炭素負荷率を有する場合に変色が生じる。
しかしまさにこの特性がＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム
調製物では所望されている。

【０００８】ＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物は、
その機械的特性を完全に形成するために、活性な補強充
填剤を必要とする。その際、現時点ではもっぱら高分散
性の熱分解法シリカが使用されている。補強充填剤は加
硫物中で良好な機械的特性をもたらし、かつ調整される
レオロジー特性は比較的長い貯蔵時間の後でもなお安定
したままでなくてはならない。

【０００９】ＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物は室
温で加工される。空気湿分硬化型シリコーンゴム調製物
の場合、充填剤の含水率が高すぎることは、貯蔵の間の
不所望の硬化および品質の劣った加硫物の表面につなが
る。従って吸水特性、つまり異なった相対的空気湿度に
おいて吸着される水の量は、充填剤の工程能力の尺度で
ある。

【００１０】シリカを疎水化する公知の方法の欠点は、
この場合、限定された量の疎水化剤のみをシリカに共有
結合させることができるにすぎないことである。しかし
ＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物中ではまさに高い
炭素負荷率が所望される。というのも、このことにより
シリカの加工性もしくは分散性ならびにコンパウンドの
レオロジー特性、たとえば増粘、つまり所望の降伏価お
よび粘度を調整し、かつ決定的に改善することができる
からである。

【００１１】増粘の尺度としていわゆるＤＢＰ数を利用
することができる。ＤＢＰ数はシリカのＤＢＰ吸収能を
示す。測定法が示すものは、試料１００ｇに対して何グ
ラムのジブチルフタレートの場合、ニーダー中の飛躍的
な力の上昇が観察されるかである。

【００１２】公知の疎水性沈降シリカの増粘作用はおそ
らく、３．１％を下回るその低い炭素含有率および／ま
たは不均一な疎水化に起因する。このことによりシリコ
ーンゴム調製物中の充填剤としてのシリカの最大で可能
な割合が低減する。ＤＥ２６２８９７５には、シリコー
ンゴム調製物中有の疎水性沈降シリカを試験するための
データが記載されており、この中で疎水性沈降シリカは
シリコーンゴム調製物中で増大する質量割合で使用され
ている。全ての表において、シリコーンゴム加硫物の機
械的特性は充填剤含有率の増大と共に改善されることが
認識される。

【００１３】機械的特性を改善するために疎水性シリカ
の高い割合を有するが、しかし同時になお流動性であ
り、ならびに良好な貯蔵安定性を有するＲＴＶ−１Ｋ−
シリコーンゴム調製物を製造することが所望される。

【００１４】

【特許文献１】ＤＥ２７２９２４４

【特許文献２】ＤＥ２６２８９７５

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、充填剤、たとえば疎水性シリカの高い割合、高い反
射率、高い白色度および調整可能な機械的特性およびレ
オロジー特性を貯蔵安定性と共に有するＲＴＶ−１Ｋ−
シリコーンゴム調製物を提供することである。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上記課題は本発明によ
り、低い含水率および低い吸湿性を有する疎水性シリカ
を使用することにより解決されることが判明した。

【００１７】従って本発明の対象は、次の特性： − 炭素含有率＞３．１％、 − メタノール湿潤性＞６０％、 − 反射率＞９４％、 − ＢＥＴ／ＣＴＡＢの比＞１および＜３、 − ＤＢＰ吸収量＜２３０ｇ／１００ｇ、 − ＢＥＴ表面積５０〜１１０ｍ^２／ｇ、 − ＣＴＡＢ表面積＞３０ｍ^２／ｇ、 − ３０℃および３０ＲＨにおける水蒸気吸収＜１．３、 − ３０℃および７０ＲＨにおける水蒸気吸収＜１．７を有する疎水性シリカを０．５〜６０質量％および式Ｚ_ｎＳｉＲ_３ _- _ｎ−Ｏ−［ＳｉＲ_２Ｏ］_ｘ−ＳｉＲ_３ _- _ｎ−Ｚ‘_ｎ［式中、Ｒ＝アルキル基、アセトキシ基、オキシム基、アルコキ
シ基、アミド基、アリール基、アルケニル基、これらは
１〜５０個の炭素原子を有し、非置換であるか、もしく
はＯ、Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉにより置換されており、
そのつど同じであるか、もしくは異なっている、および
／または５０〜１００００の繰り返し単位を有するポリ
スチレン基、ポリビニルアセテート基、ポリアクリレー
ト基、ポリメタクリレート基およびポリアクリルニトリ
ル基であり、Ｚ＝ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、アセトキシ基、アミノ基、アミ
ド基、アミノオキシ基、オキシム基、アルコキシ基、ア
ルケニルオキシ基、アクリルオキシ基またはホスフェー
ト基であり、その際、有機基は２０個までの炭素原子を
有していてもよく、そのつど同じか、もしくは異なって
おり、Ｚ‘＝オキシム基、アルコキシ基、アミド基、アセトキ
シ基であり、ｎ＝１〜３であり、ｘ＝１００〜１５０００、有利には１００〜１１００
０、特に有利には１００〜８０００である］のオルガノ
ポリシロキサンを４０〜９９．５質量％含有する、室温
加硫型の一成分系シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１
Ｋ）である。

【００１８】使用される疎水性シリカは熱分解法シリカ
もしくは沈降シリカであってもよい。重要なことは、使
用されるシリカが次の物理化学的データを有しているこ
とである： − 炭素含有率 ≧３．１％、有利には≧５％、特に有利には３．１〜１０％もしくは４〜７％、 − メタノール湿潤性 ≧６０％、有利には６５％以上、特に有利には７０％もしくは７５％以上、 − 反射率 ≧９４％、有利には＞９５％、特に有利には９６％以上 − ＢＥＴ／ＣＴＡＢの比＞１および＜３、 − ＤＢＰ吸収量５０〜２３０ｇ／１００ｇ、 − ＢＥＴ表面積５０〜１１０ｍ^２／ｇ、 − ＣＴＡＢ表面積３０〜１１０ｍ^２／ｇ。

【００１９】前記の有利な範囲は相互に無関係に調整す
ることができる。

【００２０】使用される疎水性シリカはさらに、そのつ
ど相互に無関係に次の特性によって特徴付けられていて
もよい： − 修正シアーズ数＜１．６、 (modifizierter Searszahl) − ｐＨ値５．０〜９．０、有利には７．０〜８．５、 − 含水率＜２％、有利には＜１．５％、 − 導電率＜５００μＳ、有利には１５０μＳ、 − 強熱減量＞３％。

【００２１】導電率は１００、６０、３０もしくは２０
μＳを下回っていてもよい。

【００２２】たとえば沈降の後、濾過により得られるフ
ィルターケーキを硫酸で酸性にすることによりｐＨ７．
０以下を有するシリカが得られる。

【００２３】有利には、次の工程により製造される疎水
性沈降シリカを使用する：ａ）オルガノポリシロキサン誘導体と沈降シリカとから
なる混合物の製造、ｂ）１０〜１５０℃で０．５〜７２時間のコンディショ
ニング、ｃ）酸化ガスを用いて３００℃を越える温度での酸化熱
処理。

【００２４】疎水化剤の良好な分散およびこうして製造
した疎水性沈降シリカの疎水化の高い度合いによりＲＴ
Ｖ−１Ｋ−シリコーン調製物中で、加硫物の良好な機械
的特性および光学特性と同時に、適切に調整可能な増粘
が得られ、これは比較的長い貯蔵によっても劣化しな
い。

【００２５】疎水性シリカは有利にはオルガノポリシロ
キサン誘導体、たとえばポリジメチルシロキサンを用い
て製造されるので、該シリカは熱処理後に有機基として
もっぱらメチル基のみを有しており、このことは極めて
高い熱負荷率（空気の供給下で＞３００℃でも変色が生
じない）を伴う。この疎水性シリカを製造するために有
利には低いシラノール基密度を有するシリカを使用す
る。シラノール基の量の尺度として修正シアーズ数、つ
まり酸塩基滴定のアルカリ消費量を利用する。シラノー
ル基密度のための尺度として、以下に定義される、修正
シアーズ数をＢＥＴ表面積と関連させて使用する。

【００２６】シリカの熱処理の際に適用される反応条件
は炭化を生じることなく、ひいては変色をほとんど生じ
ない。従って親水性のベースシリカが有機不純物を有し
ていないことが重要である。というのもさもないと、熱
処理の間に変色が生じる可能性があるからである。熱処
理により生じる、プロセス条件下で気体状の分解生成物
は、酸化雰囲気中でもある程度の変色を生じる可能性が
あるので、この分解生成物を十分なガス装入量により生
成物から除去することが重要である。

【００２７】有利に３０〜１００ｍＰａｓの液状のポリ
シロキサン、有利にはジメチルシロキサンを使用するこ
とにより、ベースシリカ上での最適な分散が可能にな
る。酸化性の反応条件下で、使用されるポリジメチルシ
ロキサンは樹脂化することができる。このことは、疎水
化剤が液状の形でシリカ上に分散し、かつ次いで固定さ
れうるという大きな利点を有する。酸化熱処理により、
結合される炭素の量を著しく高めることができる。

【００２８】有利に使用されるシリカは、急勾配のメタ
ノール湿潤性曲線を示す、つまり均質な疎水化が実施さ
れる（図１）。図２は、通常の疎水性シリカのメタノー
ル湿潤性を示している。

【００２９】高い炭素負荷および高いメタノール湿潤性
は、本発明によるシリコーンゴム調製物中のシリカの特
性を決定的に改善する。吸湿性をさらに低減することに
よりＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物中での使用が
可能となるので、本発明による調製物の十分な導電率が
得られる。著しく炭素を含有する疎水性のシリカは、本
発明によるシリコーンゴム調製物中で、実質的に改善さ
れたレオロジー特性を有する。つまりシリカの充填度に
依存してごくわずかな増粘が生じるのみである。このわ
ずかな増粘作用により、易流動性のシリコーンゴム調製
物を製造することが可能である。本発明によるＲＴＶ−
１Ｋ−調製物のレオロジー特性は、沈降シリカから製造
された疎水性シリカを使用する際に、熱分解法シリカの
添加により改善することができる。この場合、有利には
０．０１〜１２、特に有利には０．０５〜４質量％の熱
分解法シリカを使用する。

【００３０】熱分解法シリカとして親水性シリカ（たと
えばエアロジル３００、Degussa社）または疎水性シリ
カ（たとえばエアロジルＲ８１２Ｓ、Degussa社）を使
用することができる。さらに比較的高い充填度は、加硫
物の明らかに改善された機械的特性につながる。

【００３１】疎水性沈降シリカの製造は、３工程で行う
ことができる： − まず、シリカ表面上での液状のポリシロキサン誘導
体の物理的な前分散（方法工程ａ））。前分散を水性媒
体中、つまり７０％を上回る含水率を有するシリカの懸
濁液中で実施すると、一般に安定性ではない。従ってこ
れは前分散後に、迅速に濾別し、および／または短時間
乾燥させる（たとえばスピンフラッシュ乾燥機、ノズル
塔乾燥機）ことにより実施しなくてはならない。このこ
とはシリカ上でのオルガノポリシロキサン滴の分散の維
持につながり、かつ水、シリコーン油およびシリカへの
分離を防止する。

【００３２】− 引き続き適切なコンディショニング工
程である方法工程ｂ）により、疎水化剤の分散がさらに
改善され、かつシリカ表面上にポリシロキサン誘導体が
固定される。分散は水性媒体中でも安定している。方法
工程ｂ）の後、ポリシロキサン誘導体はもはやシリカか
ら分離しない。こうしてコンディショニングを行ったシ
リカを３．１以上の炭素含有率で無段階に５５％までの
メタノール湿潤性に調整することができる。ＢＥＴ／Ｃ
ＴＡＢ−比は、この方法工程の後、１未満である。シリ
カへのポリシロキサンの結合はおそらく、ポリシロキサ
ン分子のシロキサン橋とシリカ表面のシラノール基との
間で複数の水素橋かけ結合が形成されることにより行わ
れる。

【００３３】− 引き続き酸化性の雰囲気中で熱処理
（方法工程ｃ））を行い、該処理により変色現象が抑制
され、疎水化剤の共有結合が生じ、かつ、おそらく気体
状の分解生成物が発生することにより、疎水化剤の分散
がさらに向上する。熱処理したシリカは、相応する、コ
ンディショニングを行ったシリカよりも低い炭素含有率
でより高いメタノール湿潤性を有する。酸化雰囲気下で
の熱処理は、ポリシロキサンの樹脂化を促進するので、
シリカ上に明らかにより大量の疎水化剤を共有結合させ
ることができる。ＢＥＴ／ＣＴＡＢ−比は逆転し、今度
は１より大である。

【００３４】オルガノポリシロキサン誘導体として、沈
降シリカの疎水化のために通常使用される全てのオルガ
ノシランもしくはオルガノハロシランを使用することが
できる。

【００３５】疎水性シリカを製造するための方法の方法
工程ａ）は、次の変法により実施することができる： − 含水率１〜８０質量％、有利には２０〜６０質量％
を有する沈降シリカへのオルガノポリシロキサン誘導体
の添加、 − 沈降シリカの分散液へのオルガノポリシロキサン誘
導体の添加、つまりケイ酸塩の沈降を行った後に酸をた
とえばライン−ヒュッテ−ミキサー(Rhein-Huette-Misc
her)またはコトフ−ミキサー(Kothof-Mischer)またはウ
ルトラ−ツラックス(Ultra-Turrax)により添加する。こ
のことは反応後の迅速な濾過もしくは短時間の乾燥を必
要とする。

【００３６】− 含水率７０〜９９質量％を有する沈降
シリカへのオルガノポリシロキサン誘導体の添加、引き
続き水からの固体の分離。分離は濾過、ノズル塔、スピ
ンフラッシュもしくはその他の短時間の乾燥により行う
ことができる。含水率が高いほど、分離を迅速に実施す
べきである。シリカとポリシロキサンとの分離は回避し
なくてはならない。

【００３７】− スピンフラッシュ乾燥機への、沈降シ
リカもしくは含水シリカ（たとえばフィルターケーキ、
分散液もしくは懸濁液の形で）と、オルガノポリシロキ
サン誘導体との同時供給。

【００３８】− 乾燥した沈降シリカとポリシロキサン
との、たとえばゲーリッケ−ミキサー(Gericke-Mische
r)中での混合。

【００３９】あるいはまず、方法工程ａ）およびｂ）に
より得られるマスターバッチ、つまりコンディショニン
グした沈降シリカを製造し、かつ（親水性）もしくは含
水沈降シリカ（たとえばフィルターケーキ、シリカ懸濁
液もしくは分散液）と混合してもよい。

【００４０】親水性沈降シリカの含水率はすでに記載し
た範囲で変動することができる。

【００４１】ベースシリカはたとえば質量比１：１〜
１：３でシリコーン油、たとえばDOWCORNING ^（Ｒ）
２００ FLUID ５０ CS（ジメチルポリシロキサン５
０ｍＰａｓ、トリメチルシリル基を末端に有する。炭素
含有率約３３％）により被覆されていてもよい（工程
ａ）。こうして得られた粉末をたとえば１００℃を越え
る温度で半時間、コンディショニングする。この場合、
コンディショニング（工程ｂ）は、水で濡れることがで
きる（メタノール湿潤性＜２０、メタノール湿潤性の定
義に関しては測定法を参照のこと）が、しかし水中へ導
入したときにシリカとシリコーン油とがもはや相互に分
離しない材料が生じるまで実施する（工程ｂ）の後に直
接、工程ｃ）が続く場合、メタノール湿潤性は＞２０が
有利である）。このマスターバッチ（たとえばシリカ５
０質量％およびシリコーン油５０質量％）を水性シリカ
分散液もしくはシリカ懸濁液と混合することにより安定
した混合物が生じ、その際、シリコーン油はもはやシリ
カから分離しない。全混合物は一般にシリコーン油１質
量部、シリカ約４〜８質量部および水２０〜６０質量部
を含有する。このような懸濁液を製造するためにたとえ
ばマスターバッチ（たとえばシリカ５０％およびシリコ
ーン油５０％）を、約１０〜１６倍量のフィルターケー
キ（固体含有率約２０％）および約１０〜２０倍量の付
加的な水と強力に混合することができる。この方法の利
点は、水で湿潤可能なマスターバッチ（疎水性オルガノ
ポリシロキサンを７５％まで含有している！）を直接、
シリカ沈降懸濁液もしくはシリカ供給流に極めて微細か
つ安定に分散させることができ、その際、乳化剤もしく
は界面活性剤を使用する必要がない。該混合物の乾燥ま
たは濾過および引き続き乾燥の後、こうして得られたオ
ルガノポリシロキサン含有のシリカをあらためてコンデ
ィショニングすることができる（工程ｂ）。

【００４２】これらの工程は単独で、場合により先行す
る粉砕と共に実施することができる。しかし粉砕は被覆
ａ）の前に実施すべきではない。複数の、つまり同じ
か、または異なったこれらの変法を連続して実施するこ
とも可能である。次の方法の実施態様が考えられる： − 方法工程ａ）、ｂ）およびｃ）の１つを数回（２〜
５回）連続的に実施する。

【００４３】− 方法工程ａ）およびｂ）を数回（２〜
５回）連続的に実施する。

【００４４】− 全ての方法工程ａ）、ｂ）およびｃ）
を数回（２〜５回）連続的に実施する、つまりプロセス
を数回実施する。

【００４５】方法工程ｂ）は、有利には１００〜１５０
℃で０．５〜２時間の熱処理により実施する。コンディ
ショニングの後、メタノール湿潤性２０％以上を有する
部分的に疎水化されたシリカが存在していてもよい。基
本的に湿式疎水化および乾式疎水化を区別することがで
きる。

【００４６】湿式疎水化とは、ケイ酸塩エダクトが水性
のシリカ懸濁液、シリカ供給流または著しく水を含んだ
シリカのフィルターケーキであることを意味し、これら
を、たとえばＤＥ２７２９２４４にオルガノハロゲンシ
ランを含有する沈降懸濁液に関して記載されているよう
に、相応する疎水化剤で被覆する。

【００４７】乾式疎水化はケイ酸塩エダクトが１〜７５
％までの異なった含水率を有するシリカ粉末であり、こ
れを相応する疎水化剤で被覆することを意味する。この
方法はたとえばＤＥ２６２８９７５に記載されている。

【００４８】本発明によるシリカを製造するために、オ
ルガノポリシロキサン誘導体を使用する。しかし、選択
された反応条件下でオルガノポリシロキサンへと反応す
るその他のケイ素化合物を使用することもできる（たと
えば水性の環境でのジクロロジメチルシラン）。

【００４９】疎水化反応試薬として、たとえば組成Ｒ_４
_- _ｎＳｉＸ_ｎ（ｎ＝１、２、３）、［ＳｉＲ_ｘＸ_ｙＯ］
_ｚ（０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦２、３≦ｚ≦１０、ただしｘ
＋ｙ＝２）、［ＳｉＲ_ｘＸ_ｙＮ］_ｚ（０≦ｘ≦２、０≦
ｙ≦２、３≦ｚ≦１０、ただしｘ＋ｙ＝２）、ＳｉＲ_ｎ
Ｘ_ｍＯＳｉＲ_ｏＸ_ｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦３、０≦ｏ
≦３、０≦ｐ≦３、ただしｎ＋ｍ＝３、ｏ＋ｐ＝３）、
ＳｉＲ_ｎＸ_ｍＮＳｉＲ _ｏＸ_ｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦
３、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦３、ただしｎ＋ｍ＝３、ｏ＋
ｐ＝３）、ＳｉＲ_ｎＸ_ｍ［ＳｉＲ_ｘＸ_ｙＯ］_ｚＳｉＲ_ｏ
Ｘ_ｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦３、０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦
２、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦３、１≦ｚ≦１００００、た
だしｎ＋ｍ＝３、ｘ＋ｙ＝２、ｏ＋ｐ＝３）を有するオ
ルガノポリシロキサン誘導体またはこれらの前駆物質を
使用する。これらの化合物は直鎖状、環式および分枝鎖
状のシラン、シラザンおよびシロキサン化合物であって
もよい。Ｒはアルキル基および／またはアリール基であ
ってもよく、これらは官能基、たとえばヒドロキシ基、
アミノ基、ポリエーテル、たとえばエチレンオキシドお
よび／またはプロピレンオキシドおよびハロゲン化物
基、たとえばフッ化物、塩化物、臭化物もしくはヨウ化
物により置換されていてもよい。Ｒはヒドロキシ基、ア
ミノ基、ハロゲン化物基、アルコキシ基、アルケニル
基、アルキニル基およびアリール基のような基および硫
黄含有の基を有していてもよい。Ｘは反応性の基、たと
えばシラノール基、アミノ基、メルカプト基、ハロゲン
化物基、アルコキシ基、アルケニル基および水素化物基
であってもよい。

【００５０】有利には組成ＳｉＲ_ｎＸ_ｍ［ＳｉＲ_ｘＸ_ｙ
Ｏ］_ｚＳｉＲ_ｏＸ_ｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦３、０≦ｘ
≦２、０≦ｙ≦２、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦３、１≦ｚ≦
１００００、ただしｎ＋ｍ＝３、ｘ＋ｙ＝２、ｏ＋ｐ＝
３）の直鎖状ポリシロキサンを使用し、その際、Ｒは有
利にはメチルを表す。

【００５１】特に有利には組成ＳｉＲ_ｎＸ_ｍ［ＳｉＲ_ｘ
Ｘ_ｙＯ］_ｚＳｉＲ_ｏＸ_ｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦１、０
≦ｘ≦２、０≦ｙ≦０．２、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦１、
１≦ｚ≦１０００、ただしｎ＋ｍ＝３、ｘ＋ｙ＝２、ｏ
＋ｐ＝３）のポリシロキサンを使用し、その際、Ｒは有
利にはメチルを表す。

【００５２】あるいはまた上記の方法では、官能基を有
していない難揮発性のポリシロキサンを使用することも
できる。

【００５３】特定の官能基が、使用されるポリシロキサ
ン中に存在することにより、塩もしくは低分子の物質、
たとえばＮＨ_３、アミン、アルコールなどが生じること
があり、これらは妨げとなる不純物につながりうる。こ
の場合、重要な例外はシラノール官能化されたポリシロ
キサンであり、というのも、この場合、不純物として水
が生じるのみであり、水は選択される方法条件下で除去
することができるからである。

【００５４】有利には疎水化剤はメチル末端のポリジメ
チルシロキサン、特に粘度３０〜１００ｍＰａｓ、有利
には４０〜６０ｍＰａｓを有するポリジメチルシロキサ
ンである。適切なポリシロキサン油はたとえばDOW COR
NING ^（Ｒ）２００ FLUID ５０ CSである。

【００５５】前記の疎水化剤は難揮発性化合物であるの
で、疎水化剤をシリカ表面に前分散させるために、毛管
力および液−固の界面における拡散プロセスは重要な役
割を果たす。

【００５６】熱処理の過程で有利に使用される疎水化剤
が特定の揮発性を有している場合でも、液−固の分散は
重要である。この理由からここでは物理的な前分散、コ
ンディショニングおよび熱処理を区別する。

【００５７】熱処理、つまり方法工程ｃ）は少なくとも
３００℃、有利には３５０℃を越える温度で、殊に有利
には３６０〜３７０℃で酸化ガスを用いて実施する。酸
化ガスは空気、Ｃｌ_２、ＮＯ_ｘ（ＮＯ_２、Ｎ_２Ｏ_５、Ｎ
Ｏ、Ｎ_２Ｏ）、Ｏ_３、Ｏ_２、Ｂｒ_２、Ｆ_２またはこれら
のガスと、別の不活性ガス、たとえばＣＯ_２、Ｎ_２また
は燃焼排ガスの、そのつど有利には１体積％以上との混
合物であってもよい。

【００５８】酸化ガスは場合によりさらに８０体積％ま
で、有利には５０体積％まで、特に有利には２０〜４０
体積％の水を含有していてもよい。

【００５９】いずれの場合でもガスの良好な装入量に注
意すべきである；ガスはできる限り、それぞれのシリカ
粒子に到達しなくてはならない。このためにたとえば金
網反応器(Metallgitterofen)、流動チャンバまたはバン
ド型反応器が適切である。方法工程ｃ）における酸化熱
処理は流体条件下でも実施することができる。この条件
は流動床、移動床、乱流床および／または噴流床で調整
することができる。

【００６０】場合により疎水化されたシリカをコンディ
ショニング工程もしくは熱処理の後に粉砕する。しかし
被覆工程ａ）の前の粉砕は適切ではなく、かつ不均一な
疎水化を伴う品質の劣った生成物につながる。

【００６１】任意の粉砕の後に、８〜２５μｍ、有利に
は８〜１５μｍのｄ_４．３を有するシリカが得られる。

【００６２】本発明によるＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴ
ム混合物にとって、シリカ上に酸素の影響下で変色する
可能性のある有機成分が存在しないことが重要である。
メチル、フェニル、フッ化炭素またはフッ化炭化水素の
みを有機基として有する有機ケイ素化合物は、雰囲気酸
素の存在下でも極めて温度安定性である。しかしシロキ
サン化合物の安定したシロキサン橋を効果的に分離し、
かつシリカと共有結合するために、３００℃を越える温
度を必要とする。この高い温度の場合、シロキサン化合
物は、特にシラノール基密度の低い沈降シリカの場合、
通常、シリカ上での変色現象につながる。本発明による
シリコーンゴム調製物中で必要とされる疎水性シリカを
製造するための前記の方法により、この変色を抑制する
ことが可能になる。この変色現象は拡散反射に基づいた
光学的な測定方法による反射率の測定により測定され
る。シリカの反射率が＞９４％の場合、シリカで充填し
たシリコーンゴムコンパウンドは純白に見える。シリカ
およびシリコーンゴムの屈折率はほぼ同じなので、シリ
コーンゴム中のシリカ充填剤のごくわずかな不純物およ
び変色でさえ明らかに見て取れる。９３％の反射率は、
混入されていないシリカ粉末が観察者には純白に見える
としても、すでに明らかに、裸眼で見ることができるシ
リコーンゴム中の変色につながる。

【００６３】本発明による調製物はＲＴＶ−１Ｋ−シリ
コーンシーラントとして、特に自己均展性シーラントと
して、目地剤として、窓シーラント、自動車におけるシ
ーリング剤、耐熱性シーリング剤、油浸出性(oelaussch
witzende)シーリング剤、耐薬品性シーリング剤および
耐湿性シーリング剤として使用することができる。

【００６４】オルガノポリシロキサンとして、従来、室
温で架橋して（ＲＴＶ）オルガノポリシロキサンエラス
トマーを生じる組成物のためのベースとして使用されて
いた、もしくは使用することができた全てのポリシロキ
サンを使用することができる。これらはたとえば一般式Ｚ_ｎＳｉＲ_３ _- _ｎ−Ｏ−［ＳｉＲ_２Ｏ］_ｘ−ＳｉＲ_３ _- _ｎ
−Ｚ‘_ｎにより記載することができ、その際、ｘ、Ｒ、Ｚ‘およ
びＺはすでに記載したものを表す。

【００６５】上記の式中でシリコーン鎖中もしくは該鎖
に沿って、多くの場合は不純物としてのみ存在するその
他のシロキサン単位、たとえば式ＲＳｉＯ_３／２、ＲＳ
ｉＯ _１／２およびＳｉＯ_４／２（式中、Ｒはそのつど、
このために上に記載したものを表す）もまたジオルガノ
シロキサン単位として存在していてもよい。これらのそ
の他のシロキサン単位の量は１０モル％を越えるべきで
はない。

【００６６】アルキル基を表すＲの例は、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基およびオク
チル基である。アルケニル基としてビニル基、アリル
基、エチルアリル基およびブタジエニル基およびアリー
ル基としてフェニル基およびトリル基を使用することが
できる。

【００６７】置換された炭化水素基Ｒのための例は特に
ハロゲン化した炭化水素基、たとえば３，３，３−トリ
フルオロプロピル基、クロロフェニル基およびブロモト
リル基、およびシアンアルキル基、たとえばβ−シアン
エチル基である。

【００６８】基Ｒとしてのポリマーの例は、炭素を介し
てケイ素に結合したポリスチレン基、ポリビニルアセテ
ート基、ポリアクリレート基、ポリメタクリレート基お
よびポリアクリルニトリル基である。

【００６９】有利には基Ｒの主要な部は容易な入手性に
基づいてメチル基からなる。残りの基Ｒは、特にビニル
基および／またはフェニル基である。

【００７０】特に水の遮断下で貯蔵可能であり、水が作
用した際に室温でエラストマーへと硬化する調製物が存
在する場合、ＺおよびＺ‘は加水分解可能な基である。
このような基の例はアセトキシ基、アミノ基、アミノオ
キシ基、アルケニルオキシ基（たとえばＨ_２Ｃ＝（ＣＨ
_３ＣＯ−）、アシルオキシ基およびホスフェート基であ
る。特に容易な入手性に基づいて、Ｚとしてアシルオキ
シ基、特にアセトキシ基が有利である。しかしたとえば
オキシム基、たとえば式−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ_３）（Ｃ_２Ｈ
_５）の基をＺとして用いても優れた結果が得られる。

【００７１】加水分解可能な原子Ｚのための例はハロゲ
ン原子および水素原子であり、アルケニル基Ｚのための
例は特にビニル基である。

【００７２】本発明の範囲で使用されるオルガノポリシ
ロキサンの粘度は２５℃で５０００００ｃＰを、有利に
は２５℃で１５００００ｃＰを越えるべきではない。相
応して値ｘは有利には４００００を越えるべきではな
い。

【００７３】使用可能なオルガノポリシロキサンのため
の例は、たとえばＧＥ Bayer silicones社のシリコー
ンポリマーＥ５０（α，ω−ヒドロキシジメチルシロキ
シポリジメチルシロキサン）またはＭ５０（α，ω−ヒ
ドロキシジメチルシロキシポリジメチルシロキサン）で
ある。

【００７４】種々のオルガノポリシロキサンからなる混
合物を使用することもできる。

【００７５】これらのオルガノポリシロキサンと疎水性
シリカおよび場合により本発明による調製物の別の成分
との混合は、任意で公知の方法により、たとえば機械的
な混合装置中で行うことができる。これは混合成分の添
加を実施する順序と関係なく迅速かつ容易に実施する。

【００７６】有利には本発明による使用されるシリカ
を、エラストマーへと硬化可能な組成物の全質量に対し
て０．５〜６０質量％、有利には３〜３０質量％の量で
使用する。

【００７７】反応性の末端の単位を有するジオルガノポ
リシロキサン中で唯一の反応性末端単位としてＳｉ結合
ヒドロキシ基を有する単位が存在する場合、これらのジ
オルガノポリシロキサンを架橋しなくてはならない。こ
のことは自体公知の方法で、空気中に含有されている水
により、場合によりさらに水を添加して架橋剤を用いて
行うことができる。この場合、たとえばＧＥ Bayer S
ilicones社のSilopren-架橋剤３０３４、エチルトリア
セトキシシランを場合により縮合触媒の存在下に公知の
方法で使用することができる。全ての本発明による調製
物のために適切な触媒はたとえばSilopren触媒ＤＢＴＡ
または同じ製造元の１６２タイプ（ジブチルスズジアセ
テート）である。

【００７８】本発明によるシリコーン調製物の特別な変
法では、さらに式Ｒ‘_４ _- _ｔＳｉＺ‘_４［式中、Ｒ‘＝アルキル基、アルコキシ基、アセトキシ基、オキ
シム基、アミド基、アリール基、アルケニル基、これら
は１〜５０個の炭素原子を有し、非置換であるか、また
はＯ、Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉにより置換されており、
そのつど同じか、もしくは異なり、および／または５〜
５０００の繰り返し単位を有するポリスチレン基、ポリ
ビニルアセテート基、ポリアクリレート基、ポリメタク
リレート基およびポリアクリルニトリル基であり、Ｚ‘＝ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、アセトキシ基、オキシム基、
アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、アルケニルオキ
シ基、アリールオキシ基またはホスフェート基であり、
その際、有機基は２０個までの炭素原子を有していても
よく、そのつど同じか、もしくは異なり、ｔ＝３または４である］の架橋剤０．５〜２０質量％、
有利には２〜１０質量％が含有されていてもよい。全て
の質量の記載はシリコーン調製物の全量に対する。

【００７９】上記の式のシランの例は、エチルトリアセ
トキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、イソプロ
ピルトリアセトキシシラン、イソプロポキシトリアセト
キシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリ
スジエチルアミノオキシシラン、メチルトリス（−シク
ロヘキシルアミノ）−シラン、メチルトリス−（ジエチ
ルホスファト）−シランおよびメチルトリス（−メチル
エチルケトキシム）−シランである。

【００８０】疎水性沈降シリカの物理化学的な物質デー
タの前記の組合せは、優れた補強充填剤につながる。公
知の沈降シリカに対して明らかに低下した平衡含水率
は、加工の際に、たとえば分散の際に利点をもたらす。
最適に調整されるｐＨ値および低いＤＢＰ数は、著しく
短縮された配合時間につながる。低い電解質含量は低い
含水率と組み合わせて、最終的に加硫物の良好な電気的
特性につながる。室温硬化型シリコーンゴムシーラント
中で、使用される疎水性沈降シリカは、そのわずかな含
水率に基づいて、硬化していない組成物の貯蔵性に関す
る利点を示す。よりわずかな含水率は、加硫物のより良
好な化学的貯蔵安定性にもつながる。

【００８１】本発明による調製物はオルガノポリシロキ
サン、疎水性シリカ、架橋剤および架橋触媒以外に、場
合により従来、多くの場合、もしくはしばしば、エラス
トマーへと硬化可能な組成物中で使用される充填剤を含
有していてもよいことは自明である。このような物質の
例は、５０ｍ^２／ｇ未満の表面積を有する充填剤、たと
えば石英粉末、カオリン、層状ケイ酸塩、粘土鉱物、ケ
イ藻土、さらにケイ酸ジルコニウムおよび炭酸カルシウ
ム、さらに未処理の熱分解法により製造される二酸化ケ
イ素、有機樹脂、たとえばポリビニルクロリド粉末、オ
ルガノポリシロキサン樹脂、繊維状の充填剤、たとえば
アスベスト、ガラス繊維および有機顔料、可溶性の染
料、香料、腐食防止剤、硬化を遅延させる薬剤、たとえ
ばベンゾトリアゾールおよび可塑剤、たとえばトリメチ
ルシロキシ基により末端ブロックされたジメチルポリシ
ロキサンである。

【００８２】場合により本発明によるＲＴＶ−１Ｋ−シ
リコーンゴム調製物は、水を結合する物質を（調製物の
全量に対して）０．１〜２０質量％、有利には０．１〜
１５質量％、特に有利には０．１〜１０質量％含有して
いてもよい。このために適切な物質は、たとえばカルボ
ン酸無水物、たとえば無水酢酸もしくは無水マレイン
酸、および／または炭酸エステル、たとえばジエチルカ
ーボネート、エチレンカーボネートおよび／またはアル
ケニルオキシ化合物および／またはケタール、たとえば
ジメチルジオキソランである。１種もしくは複数のこれ
らの物質を使用することが可能である。

【００８３】さらにシリコーン調製物は官能化されてい
ないポリシロキサンを０．０１〜９９．５質量％含有し
ていてもよい。この場合、官能化されていない限り、す
でに記載したポリシロキサンを使用することができる。
適切な、官能化されていないポリシロキサンは、たとえ
ばＧＥ−Bayer Silicones社のBaysilineオイルＭ１０
００（ポリジメチルシロキサン）である。

【００８４】さらにシリコーンゴム調製物は、触媒とし
て金属Ｐｔ、Ｓｎ、Ｔｉおよび／またはＺｎの有機もし
くは無機化合物を０．０１〜６質量％および／または防
止剤０．０１〜６質量％および／または安定化剤（たと
えばGE Bayer Silicones社のＴＰ３５５６）０．０１
〜６質量％および／または殺カビ剤および／または殺菌
剤０．０１〜６質量％および／または接着性付与剤（た
とえばＧＥ−Bayer Silicones社のSilopren-接着性付
与剤３００１、次の組成を有する：ジ−ｔ−ブトキシ−
ジアセトキシシラン）０．０１〜６質量％を含有しても
いてもよい。

【００８５】触媒として特にGE Bayer Silicones社の
ＤＢＴＡタイプまたは１６２タイプ（ジブチルスズジア
セテート）またはジオクチルジスズラウレートまたはジ
−ｎ−ブチルビス（アセチルアセトン）が適切である。

【００８６】次の実施例は本発明を詳細に説明するが、
しかしその範囲を制限するものではない。

【００８７】

【実施例】ケイ酸塩エダクトとして有利には、極めて低
いシラノール基密度を有する、つまり、アルカリ消費量
／ＢＥＴ表面積の低い比率、ほぼ同じＢＥＴ表面積で比
較的高いＣＴＡＢ表面積および高い白色度および純度を
有する沈降シリカを使用する。

【００８８】製造−ベースシリカ反応容器中に水５０．０ｍ^３を装入する。徐々に水ガラ
ス溶液９．２ｍ^３およびＨ_２ＳＯ_４０．９ｍ^３を撹拌
下で受け器に添加し、その際、混合物中で添加の間、ア
ルカリ性のｐＨ値を維持する。水ガラスおよびＨ_２ＳＯ
_４の添加の終了後に、得られる懸濁液のｐＨ値はアルカ
リ性の範囲である。懸濁液を酸性にし、濾別し、かつ脱
イオン水で洗浄した。疎水性のベースシリカの乾燥は、
有利に短時間乾燥により行うことができる。次のデータ
はこうして得られた、乾燥沈降シリカに関する。

【００８９】ＢＥＴ表面積［ｍ^２／ｇ］１５０〜１７０、ＣＴＡＢ表面積［ｍ^２／ｇ］１５０〜１７０、２ｈ／１０５℃で乾燥した物質の強熱減量３±０．５、（ＤＩＮ５５９２１）［％］ｐＨ値５％（メタノール水溶液）６〜７、（ＤＩＮ５３２００）導電率（５％の水性分散液）［μＳ］＜１００、タップ密度＞２５０ｇ／Ｌ、シアーズ数＜１３。

【００９０】ベースシリカとポリシロキサンとの混合は
特定の炭素含有率が得られるまで実施した。つまり混合
比は要求される炭素含有率の調整に対する計算上の比率
から生じる。

【００９１】１．測定法１．１メタノール湿潤性その表面が加水分解することができない有機基により変
性されているシリカは多くの場合、水により濡れない。

【００９２】しかしこれらの疎水性シリカはメタノール
／水の混合物により濡らすことができる。この混合物に
おけるメタノールの割合は質量％で表され、変性された
シリカの疎水性のための尺度である。メタノール割合が
高いほど、物質はより良好に疎水化されている。

【００９３】測定の実施：容量１５ｍｌの６つの遠心管
中にそのつど疎水性シリカもしくはケイ酸塩２００ｍｇ
を秤量し、かつ遠心管のそれぞれにメタノールと水との
混合物８ｍｌをメタノール濃度を上昇させながら添加し
た。混合物のメタノール濃度は予測されるメタノール湿
潤性に合わせた。遠心管を密閉し、かつ次いで強力に振
とうした（１０回の上下運動）。湿潤したシリカ−ケイ
酸塩割合を分離するために、次いで遠心管を２５００ｒ
ｐｍで５分、遠心分離した。湿潤した割合は沈殿物を形
成し、その体積は遠心管の目盛により読みとる。沈殿物
の体積をメタノール−水−混合物の濃度に対してグラフ
で記載した。この個々の測定点から曲線が得られ、その
位置および勾配から試験した試料の疎水化度を特徴付け
た。

【００９４】装置：精密はかり遠心分離機遠心管、目盛付き、ディスペンサー(Dispensett)。

【００９５】１．２ＤＢＰ吸収量沈降シリカの吸収性の尺度であるＤＢＰ吸収量（ＤＢＰ
数）を次のとおりに測定した：ジブチルフタレート数の
測定はブラベンダーのプラストグラフにより行った。Ｄ
ＢＰ数は粉末状の生成物の液体の吸収能もしくは吸収力
のための尺度である。吸収力は試験される材料の湿分、
粒度および秤量に依存する。

【００９６】装置および試薬 Metrohm Dibutylphthalat社の記録装置Multi-Dosimat
Ｅ４１５（５０１）を有するブラベンダーのプラス
トグラフ。

【００９７】実施シリカ１２．５ｋｇをブラベンダー・プラストグラフの
混練機に添加した。絶えず混合しながら（混練機の羽根
の回転速度１２５ｒｐｍ）ジブチルフタレートを４ｍｌ
／分の速度で混合物に流入させた。混合のためにはわず
かな力を必要とするのみであった。測定の終了時に、該
混合物は劣った流動性を示した。この事実は、目盛に示
される力の必要量の上昇において明らかである。３００
の目盛でＤＢＰ供給は自動的に停止された。

【００９８】評価ＤＢＰの密度は１．０４７ｇ／ｍｌであった。ＤＢＰ吸
収量は無水の乾燥した物質に対する。高い含水率を有す
る沈降シリカを使用する場合、沈降シリカをＤＢＰ数の
測定の前に乾燥させないときには補正表により値を補正
すべきである。

【００９９】

【表１】

【０１００】含水率に対する補正値は実験的に測定され
たＤＢＰ値に加算し、たとえば含水率５．８％はＤＢＰ
吸収量に関して３３ｇ／１００ｇの加算を意味する。

【０１０１】１．３粒径粒径は「Malvern Mastersizer」により、エタノール
中、５分間の超音波処理後に測定した。測定は自動的に
行い、かつ体積分布から平均粒径ｄ_４．３が得られた。

【０１０２】１．４ＤＩＮ５０３３による標準明度(N
ormfarbwert)Ｒ_ｙの測定適用分光光度計Datacolor ３８９０を用いてシリカ、ケイ
酸塩およびゼオライト（粉末の懸濁液）の標準明度Ｒ_ｙ
を測定した。

【０１０３】測定の実施：測定すべきシリカをまず平均
粒径約８〜１５μｍに粉砕し、かつ引き続き粉末プレス
で圧縮してタブレットが得られた。必要量は粉末の粉末
度に依存する。プレスの栓のネジ山の最後のラインまで
粉末を充填した。さらに試料を測定装置の下に置き、か
つ制御カウンタで白色度測定Ｒ_ｙおよびＲ_４６０のメニ
ューポイントを選択した。試料の名称を入力後、スペー
スキーを押して測定を開始した。メモリーコードを入力
後、測定値をプリントアウトした。値の算出は式：

【０１０４】

【数１】

【０１０５】［式中で、Ｙ（λ）は基準スペクトル関数
を表し、Ｓ（λ）は照射源の相対分光放射分布を表し、
かつＲ（λ）は試料のスペクトル反射率を表す］により
自動的に行った。

【０１０６】１．５シリカ、ケイ酸塩および疎水性シ
リカのシアーズ数の測定１．適用：ｐＨ６〜ｐＨ９の範囲で０．１ＮのＫＯＨを
用いた滴定により遊離ＯＨ基を捉えた。

【０１０７】２．装置２．１感量０．０１ｇの精密はかり、２．２ Mettler社の滴定装置Memotitrator ＤＬ７
０、１０ｍｌおよび２０ｍｌのビュレット、ｐＨ電極１
つおよびポンプ（たとえばNOUVAGポンプ、ＳＰ４０／６
タイプ）１つを有する、２．３プリンター、２．４ Mettler社の滴定容器２５０ｍｌ、２．５ウルトラ−ツラックス、８０００〜２４００
０ｒｐｍ、２．６恒温水浴、２．７メタノールもしくは脱イオン水を供給するた
めの２つのディスペンサー１０〜１００ｍｌ、２．８脱塩水を供給するための１つのディスペンサ
ー１０〜５０ｍｌ、２．９メスシリンダー１つ、１００ｍｌ、２．１０ＩＫＡユニバーサルミルＭ２０。

【０１０８】３．試薬３．１メタノールｐ．Ａ．、３．２塩化ナトリウム溶液（ＮａＣｌｐ．Ａ．２５
０ｇ、脱イオン水１０００ｍｌ中）、３．３０．１Ｎ塩酸、３．４０．１Ｎカセイカリ溶液、３．５脱イオン水、３．６緩衝液、ｐＨ７およびｐＨ９。

【０１０９】４．実施４．１試料の準備試料約１０ｇをＩＫＡユニバーサルミルＭ２０中で６０
秒粉砕した。

【０１１０】重要：極めて微細に粉砕した試料のみが再
現可能な結果につながるので、これらの条件は正確に守
らなくてはならない。

【０１１１】４．２分析の実施４．２．１ポイント４．１により準備した試料２．５
０ｇを２５０ｍｌの滴定容器に秤量した４．２．２メタノールｐ．Ａ．６０ｍｌを計量供給し
た４．２．３試料を完全に濡らした後、脱塩水４０ｍｌ
を添加した４．２．４ウルトラ・ツラックスを用いて約１８００
０ｒｐｍの回転数で３０秒間、分散させた４．２．５脱イオン水１００ｍｌで容器の縁および撹
拌機に付着している試料粒子を懸濁液中に流した４．２．６恒温水浴中の試料を２５℃に温度調整した
（少なくとも２０分）４．２．７ｐＨ電極を緩衝液でｐＨ７およびｐＨ９に
検定した４．２．８試料を方法Ｓ９１１により滴定装置Memoti
trator ＤＬ７０中で滴定した。滴定の経過が一義的
でない場合、後から二重反復測定を実施した。

【０１１２】結果として次のものがプリントアウトされ
る：ｐＨ、Ｖ_１ｍｌ／５ｇにより記載、Ｖ_２ｍｌ／５ｇにより記載。

【０１１３】５．計算：

【０１１４】

【数２】

【０１１５】Ｖ_１＝ｐＨ６までのＫＯＨのｍｌもしくは
ＨＣｌのｍｌ／物質５ｇ、Ｖ_２＝ｐＨ９までのＫＯＨ消費量のｍｌ／物質５ｇ、Ｅ＝秤量。

【０１１６】原理：まず懸濁液の出発ｐＨ値を測定し、
その後、結果に応じてＫＯＨもしくはＨＣｌによりｐＨ
値を６に調整する。その後、ＮａＣｌ溶液２０ｍｌを計
量供給する。次いで０．１ＮのＫＯＨによりｐＨ値９ま
で滴定を続ける。

【０１１７】シアーズ数Ｓｉ−ＯＨ＋ＮａＣｌ→Ｓｉ−ＯＮａ＋ＨＣｌＨＣｌ＋ＫＯＨ→ＫＣｌ＋Ｈ_２Ｏ１．６ＤＩＮ／ＩＳＯ７８７／１１に準拠したタップ
密度の測定測定の実施：試験すべき試料１０ｇを精密はかりで０．
０１ｇまで正確に秤量し、かつタッピング体積の目盛の
ついた２５０ｍｌのガラスシリンダに充填する。１２５
０回のタッピングの後、タッピングした材料の体積を読
みとった。

【０１１８】計算：

【０１１９】

【数３】

【０１２０】タッピング体積は読みとった値に相応す
る。

【０１２１】Ｅ＝秤量、ｇで記載、Ｉ＝内容量、ｍｌで記載。

【０１２２】装置：精密はかり、タッピング体積計、Lu
dwigshafen在、Engelsmann社、目盛付き２５０ｍｌガラ
スシリンダ、Ludwigshafen在、Engelsmann社。

【０１２３】注釈：特別なケースでは材料を秤量前に５
００μｍのふるいで分級するか、もしくは秤量を増大さ
せた。このことは試験報告に記載しなくてはならない。

【０１２４】１．７ＣＴＡＢ表面積の測定１．適用この方法は、「ゴム効果表面(Kautschukwirksame Oberf
laeche)」ともよばれる「外側」表面におけるＣＴＡＢ
（Ｎ−セチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムブ
ロミド）の吸着に基づく。

【０１２５】ＣＴＡＢの吸着は水溶液中で攪拌および超
音波処理下で行う。過剰の吸着されなかったＣＴＡＢは
ＮＤＳＳ（ジオクチルナトリウムスルホスクシネート溶
液）を用いた逆滴定により滴定装置(Titroprozessor)中
で確認し、その際、最終点は溶液の濁りの最大により与
えられ、かつフォト電極(Phototrode)により測定され
る。計算のためにＣＴＡＢ分子あたり０．３５ｎｍ^２の
要求空間を想定する。

【０１２６】測定はＡＳＴＭ３７６５に準拠して行う。
それぞれの測定列においてシリカＶＮ３タイプの標準試
料を試験する。

【０１２７】２．反応平衡：（逆滴定）

【０１２８】

【化１】

【０１２９】３．装置：３．１ミル、たとえばＩＫＡ型：Ｍ２０、３．２分析はかり、３．３マグネット式撹拌装置、３．４マグネチックスターラー、３．５滴定装置、たとえばMETTLER、ＤＬ５５また
はＤＬ７０タイプ、ｐＨ電極、たとえばMettler型、Ｄ
Ｇ１１１タイプ、フォト電極、たとえばMettler型、Ｄ
Ｐ５５０タイプおよびピストン式ビュレット(Kolbenbue
rette)、ＮＤＳＳ溶液用、容量２０ｍｌ、フラスコビュ
レット、ＫＯＨ、０．１Ｎ用、容量１０ｍｌを有する、３．６ポリプロピレン製の滴定皿１００ｍｌ、３．７滴定ガラス容器、容量１５０ｍｌ、スナップ
オン・キャップで密閉可能、３．８エルレンマイヤーフラスコ、容量１００ｍ
ｌ、ネジ蓋もしくはＮＳストッパで密閉可能、３．９超音波浴、３．１０圧力濾過容器、３．１１硝酸セルロース製の薄膜フィルタ、孔径０．
１μｍ、直径４７ｍｍ、たとえばSartorius、１１３
５８タイプ、３．１２ピペット、５ｍｌ、１００ｍｌ。

【０１３０】４．試薬：４．１カセイカリ溶液、０．１Ｎ４．２ＣＴＡＢ溶液、０．０１５１モル／ｌＣＴＡＢ５．５０ｇを撹拌（マグネチックスターラー）
下にガラスビーカー中で、温かい（約３０〜４０℃の）
脱塩水約８００ｍｌ中に溶解し、１ｌのメスシリンダー
に移し、２３〜２５℃に冷却後、脱塩水で目印まで充た
し、かつ貯蔵ビンに移し替えた。

【０１３１】注意：溶液の保存および測定の実施は≧２
３℃で実施しなくてはならない、というのも、ＣＴＡＢ
はこの温度より低いと晶出するからである。溶液は使用
の１０〜１４日前に製造すべきである。

【０１３２】４．３ＮＤＳＳ溶液０．００４２６モル
／ｌＮＤＳＳ（ジオクチルナトリウムスルホスクシネート）
１．８９５ｇにガラスビーカー中で脱塩水約８００ｍｌ
を添加し、かつ全てが溶解するまでマグネチックスター
ラーで攪拌した。引き続き溶液を１ｌのメスシリンダー
に移し、目印まで脱塩水で充たし、かつ貯蔵ビンに移し
替えた。

【０１３３】ＮＤＳＳ溶液は容易に生物学的に分解す
る。従って製造された溶液はよく密閉し、かつ３ヶ月以
上保存すべきではない。

【０１３４】ＣＴＡＢ溶液の濃度は正確に秤量した：
０．０１５１０モル／ｌＮＤＳＳ溶液の濃度を「盲検滴定(Blindtitration)」に
より毎日測定する。

【０１３５】５．実施５．１盲検滴定（ＮＤＳＳ溶液の濃度の測定）５．１．１ＣＴＡＢ溶液５ｍｌに対するＮＤＳＳ溶液
の消費をそれぞれの測定列の前に１日１回試験する（盲
検値(Blindwert)）５．１．２ＣＴＡＢ溶液を正確に５ｍｌ、滴定皿にピ
ペットで移す５．１．３脱塩水約５０ｍｌを添加する５．１．４滴定装置により滴定終了まで滴定する。そ
れぞれの盲検滴定を二重測定として実施し、値が一致し
ない場合には結果の再現性が得られるまでさらなる滴定
を実施すべきである。

【０１３６】５．２吸着５．２．１造粒され、かつクロップ粒状の試料をミル
で粉砕した（ミルのビーター・ブレードは被覆されてい
なくてはならない）５．２．２粉砕した試料を正確に５００ｇ、０．１ｍ
ｇの感量で分析はかりに秤量した５．２．３秤量した試料を電磁攪拌棒で定量的に１５
０ｍｌの滴定容器に移し替えた５．２．４ＣＴＡＢ溶液を正確に１００ｍｌ、計量供
給し、滴定容器を蓋で密閉し、かつ電磁撹拌機で１５分
間攪拌した５．２．５滴定容器を滴定装置にネジ止めし、かつ懸
濁液のｐＨ値をＫＯＨ、０．１モル／ｌで±０．０５の
値に調整した５．２．６懸濁液を超音波浴中で４分間処理した５．２．７薄膜フィルターを備えた圧力濾過器による
濾過。吸着の間、温度が必ず２３℃〜２５℃の範囲に維
持されるように注意すべきである。

【０１３７】５．３滴定５．３．１濾液（５．２．７を参照のこと）５ｍｌを
１００ｍｌ滴定皿にピペットで移し、かつ脱塩水で約５
０ｍｌまで充たした５．３．２滴定皿を滴定装置にネジ止めした５．３．３規定の測定法により濁りが最大になるまで
ＮＤＳＳ溶液で滴定した。それぞれの濁りは二重測定と
して実施し、値が一致しない場合には、結果の再現性が
得られるまでさらに滴定を実施した。

【０１３８】６．計算

【０１３９】

【数４】

【０１４０】Ｖ_１＝盲検試料（ＣＴＡＢ５ｍｌを適用す
る際のＮＤＳＳのｍｌ）、Ｖ_２＝消費（濾液５ｍｌを適用する際のＮＤＳＳのｍ
ｌ）、Ｅ＝秤量ＣＴＡＢのｇ／ｌ（５．５ｇ）、５７８．４３５＝ＣＴＡＢ１ｇが必要とする空間、
ｍ^２。

【０１４１】測定値は通常、無水の物質に対して補正し
て記載する：

【０１４２】

【数５】

【０１４３】標準試料の測定値が目標値から３±ｍ^２／
ｇ逸脱する場合、全ての測定列を繰り返すべきである。

【０１４４】７．注釈１．について：文献中ではＮＤＳＳ（ジオクチルナトリ
ウムスルホスクシネート）はエーロゾルＯＴともよばれ
ている。ｐＨ値＞９を有する試料、たとえばExtrusilに
おいてｐＨ値を測定したが、しかし補正しなかった。と
いうのも酸は表面を変化しうるからである。フォト電極
は滴定の開始前に１００％の透明度に相応して１０００
ｍＶに調整した。

【０１４５】３．について：規定された、異なったＣＴ
ＡＢ溶液の体積を測定するために、規則的に検定される
かぎりで、ディスペンサーもしくはピペットを使用し
た。

【０１４６】４．に関して：ポイント４．１および４．
３で記載した溶液は使用可能な溶液として引き合いに出
される。製造元は目下、Duisburg在、Kraft社である。
電話番号：０２０３−５８−３０２５。

【０１４７】−注文番号６０５６．４ＣＴＡＢ溶液
０．０１５１ｍｌ／ｌ −注文番号６０５７．４ＮＤＳＳ溶液０．００４２３
モル／ｌ（２．５リットルのガラスビン）。

【０１４８】５．２．４について：攪拌後に濡れていな
い疎水性の試料はｐＨ値を調整する前に、該試料を濡ら
すためにウルトラツラックスで慎重に分散させる。

【０１４９】５．２．５について：ｐＨ値の調整のため
に滴定装置の使用が推奨される。滴定は終点測定法によ
り実施する。

【０１５０】５．２．７について：濾過のために圧縮ガ
スボンベからの窒素を使用する。これは４〜６バールの
前圧力に調整される。

【０１５１】６．について：場合により必要とされる測
定列の繰り返しの際に、特に、ｐＨ値の調整のために使
用されるｐＨメータも再度あらためて検定することに注
意しなくてはならない。

【０１５２】１．８水蒸気吸収量（水蒸気等温線）の
測定水蒸気吸収量を測定するために、試料を一定の温度（３
０℃）で異なった相対湿度にさらす。一定の質量が調整
されるまで待機する。完全に乾燥した（つまり空気湿度
がほぼゼロである）空気を用いて開始する。平衡が達成
された後、この質量を基準点として選択する、つまり完
全に乾燥した空気（平衡が調整された後）中の試料の質
量と、湿った空気（平衡が調整された後）中の試料の質
量との間の差よりも高い空気湿度に換算する。空気湿度
は１０％の幅で変化する。ヒステリシス効果を排除する
ために、水の吸着も水蒸気の吸着も測定した。

【０１５３】例１ベースシリカの乾燥およびシリコーン油（DOW CORNING
^（Ｒ）２００ FLUID ５０ＣＳ、炭素含有率約
３３％、粘度５０ｍＰａｓ）による被覆は、スピンフラ
ッシュ乾燥機中で行った。次いで少なくとも２０％のメ
タノール湿潤性を有するまで、シリカを室温で少なくと
も４８時間コンディショニングした。コンディショニン
グしたシリカの分析データは第１．１表に記載されてい
る。

【０１５４】

【表２】

【０１５５】次いで異なった酸素含有率で流動床内で熱
処理を行った。試験パラメータは第１．２表に記載され
ている。

【０１５６】

【表３】

【０１５７】試験は酸素含有率と変色との関連性を示し
ている。試験２および３においてのみ、＞９４％の反射
率が得られている。これらのシリカは、試験１からのシ
リカに対して、シリコーンゴム中で目に見える変色を示
さない。酸化熱処理した沈降シリカの分析データは第
１．３表に記載されている。

【０１５８】

【表４】

【０１５９】例２ベースシリカをゲーリッケミキサー中、質量比１：１で
シリコーン油（ジメチルポリシロキサン、５０ｍＰａ
ｓ、たとえばDOW CORNING ^（Ｒ）２００ FLUID
５０ＣＳ、炭素含有率約３３％）により被覆した。こ
うして得られた粉末を温度１０５℃で１時間コンディシ
ョニングした。その際、たしかに水で濡らすことができ
るが、しかし水中でシリカとシリコーン油とがもはや相
互に分離しない材料が生じた。このマスターバッチとベ
ースシリカのフィルターケーキとを混合することにより
安定した調製物が得られ、この場合、シリコーン油はも
はや疎水性のフィルターケーキからは分離しない。こう
して製造した疎水性のマスターバッチとフィルターケー
キとを一緒にスピンフラッシュ乾燥機に搬送し、ここで
混合し、かつ乾燥させた。ジメチルシロキサンで処理し
たシリカを、メタノール湿潤性が少なくとも２０％に達
するまで、室温で３日間のエージング処理によりコンデ
ィショニングした。コンディショニングしたシリカの分
析データは第２．１表に記載されている。

【０１６０】

【表５】

【０１６１】コンディショニングした沈降シリカの熱処
理は酸化条件下にマッフル炉中、約１〜２ｃｍの堆積高
さで、３３０〜３６０℃を越える温度で１時間行う。酸
化熱処理した沈降シリカの分析データは第２．３表に記
載されている。

【０１６２】

【表６】

【０１６３】例３シリカ（フィルターケーキの形）上でのシリコーン油
（粘度５０ｍＰａｓ、メチル末端、たとえばDOW CORNI
NG ^（Ｒ）２００ FLUID ５０ CS、炭素含有率約
３３％）の前分散は、同時に乾燥させながらスピンフラ
ッシュ乾燥機中で行った。ジメチルシロキサン処理した
シリカは、少なくとも２０％のメタノール湿潤性が得ら
れるまで室温で少なくとも４８時間、コンディショニン
グした。コンディショニングしたシリカの分析データは
第３．１表に記載されている。

【０１６４】

【表７】

【０１６５】材料の熱処理は酸化条件下にマッフル炉中
で、約１〜２ｃｍの堆積高さで、３３０〜３６０℃を越
える温度で１時間行った。酸化熱処理した沈降シリカの
分析データは第３．２表に記載されている。

【０１６６】

【表８】

【０１６７】例４ベースシリカをゲーリッケミキサーに質量比１：１：で
シリコーン油（ジメチルポリシロキサン５０ｍＰａｓ、
たとえばDOW CORNING ^（Ｒ）２００ FLUID ５０
CS 炭素含有率約３３％）と共に装入した。こうして
得られた粉末を少なくとも１時間、温度１０５℃でコン
ディショニングした。その際、水により濡れるが、しか
し水中でシリカとシリコーン油がもはや相互に分離しな
い材料が生じる。このマスターバッチを水と混合するこ
とにより安定した懸濁液が生じ、この場合、シリコーン
油はもはやシリカから分離しない。該懸濁液の分析デー
タは第４．１表に記載されている。

【０１６８】

【表９】

【０１６９】懸濁液の乾燥は噴霧乾燥機により行った。
ジメチルシロキサン処理したシリカを、少なくとも２０
％のメタノール湿潤性が達成されるまで室温で少なくと
も４８時間エージングさせることによりコンディショニ
ングした。コンディショニングしたシリカの分析データ
は第４．２表に記載されている。

【０１７０】

【表１０】

【０１７１】コンディショニングした沈降シリカの熱処
理は酸化条件下にマッフル炉中、約１〜２ｃｍの堆積高
さで、３３０〜３６０℃を超える温度で１時間行った。
酸化熱処理した沈降シリカの分析データは第４．３表に
記載されている。

【０１７２】

【表１１】

【０１７３】例５ベースシリカのシリカ懸濁液（固体含有率１２．８％）
中に、強力に剪断する混合装置を用いてシリコーン油
（ポリジメチルシロキサン、５０ｍＰａｓ、たとえばDO
W CORNING ^（Ｒ）２００ FLUID ５０ CS、炭素
含有率約３３％）を懸濁させた。シリカ懸濁液中のシリ
コーン油の分散を、即座に噴霧乾燥することにより維持
した。ジメチルシロキサン処理したシリカを、少なくと
も２０％のメタノール湿潤性が達成されるまで、室温で
少なくとも４８時間エージングさせることにより、コン
ディショニングした。コンディショニングしたシリカの
分析データは第５．１に記載されている。

【０１７４】

【表１２】

【０１７５】材料の熱処理は酸化条件下でマッフル炉
中、約１〜２ｃｍの堆積高さで、３３０〜３６０℃を超
える温度で１時間行った。酸化熱処理した沈降シリカの
分析データは第５．２に記載されている。

【０１７６】

【表１３】

【０１７７】例６疎水性ベースシリカを乾燥したままシリコーン油（ポリ
ジメチルシロキサン、粘度５０ｍＰａｓ、たとえばDOW
CORNING ^（Ｒ）２００ FLUID ５０ CS、炭素含
有率約３３％）と共に装入し、かつ少なくとも２０％の
メタノール湿潤性が達成されるまで、室温で少なくとも
４８時間エージングさせることによりコンディショニン
グした。材料の熱処理は酸化条件下に、３３０〜３６０
℃を越える温度で１時間行った。得られた材料の分析デ
ータは第６．１表に記載されている。

【０１７８】

【表１４】

【０１７９】例７第１表に記載の特性を有する疎水性の沈降シリカを製造
し、かつ第２表に記載のＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム
コンパウンド中に配合した。第３表は、シリカの異なっ
た充填度を有するＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンシーラント
のレオロジー挙動を示す。標準シリカとしてAEROSIL
１５０タイプの熱分解法シリカ（親水性）およびAEROSI
L Ｒ９７４ならびにAEROSIL Ｒ９７２（疎水性）
を使用した。表は疎水性沈降シリカの充填度の増大と共
に粘度が明らかに上昇することを示しており、AEROSIL
１５０を含有する標準調製物のレオロジーレベルは約
１７質量％の充填度から達成される。

【０１８０】

【表１５】

【０１８１】

【表１６】

【０１８２】

【表１７】

【０１８３】第４表はＲＴＶ−１Ｋ−加硫物の相応する
機械的特性を示している。本発明による調製物の機械的
特性は同じ粘度の場合、従来技術のものよりも著しく良
好である。

【０１８４】

【表１８】

【０１８５】第５表および第６表は、本発明による調製
物が３０日後でもなお貯蔵性であることを示している。

【０１８６】

【表１９】

【０１８７】

【表２０】

【０１８８】６０℃の温度上昇と共に、約６ヶ月の貯蔵
期間をシミュレートした。この場合でもレオロジー挙動
の著しい変化は確認されなかった。

【０１８９】例８疎水性沈降シリカおよび場合により熱分解法シリカを含
有するＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物の降伏価を
試験した。流動性を確認するために相応する混合物を製
造し、かつ０．７ｇの量をガラスプレート上に塗布し
た。引き続き該ガラスプレートを垂直にし、かつ２４時
間後に流れの長さを測定することにより流動性を測定し
た。疎水性沈降シリカを含有する混合物の流動性は、少
量の熱分解法シリカの添加により著しく改善できること
が明らかである（図３）。第７表は相応する混合物のチ
キソトロピー挙動もしくは安定性を示している。

【０１９０】従って熱分解法シリカを添加することによ
り、疎水性シリカの充填度とは無関係に、本発明による
シリコーンゴム調製物の流動性を広い範囲で調整できる
ことが確認される。

【０１９１】

【表２１】

【０１９２】Ｌ１：試験前の材料の長さ、Ｌ２：試験後の材料の長さ。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による疎水性シリカのメタノール湿潤性
曲線を示すグラフの図。

【図２】通常の疎水性シリカのメタノール湿潤性を示す
グラフの図。

【図３】ＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物の流動性
を示す図。

フロントページの続き (72)発明者クリスティアンパンツドイツ連邦共和国ヴェッセリングヴェーザーシュトラーセ 39 (72)発明者川本謙一ドイツ連邦共和国ハーナウシェーンフェルダーシュトラーセ 29 Ｆターム(参考） 4H017 AA03 AA23 AA24 AA27 AA31 AB15 AC01 AC04 AC14 AC16 AC17 AC19 AC20 AD05 AE03 AE05 4J002 CP051 CP061 CP081 CP091 DJ016 EX037 FD016 FD147 GJ02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】次の特性： − 炭素含有率＞３．１％、 − メタノール湿潤性＞６０％、 − 反射率＞９４％、 − ＢＥＴ／ＣＴＡＢの比＞１および＜３、 − ＤＢＰ吸収量＜２３０ｇ／１００ｇ、 − ＢＥＴ表面積５０〜１１０ｍ^２／ｇ、 − ＣＴＡＢ表面積＞３０ｍ^２／ｇ、 − ３０℃および３０ＲＨにおける水蒸気吸収＜１．３、 − ３０℃および７０ＲＨにおける水蒸気吸収＜１．７を有する疎水性シリカ０．５〜６０質量％および式Ｚ_ｎＳｉＲ_３ _- _ｎ−Ｏ−［ＳｉＲ_２Ｏ］_ｘ−ＳｉＲ_３ _- _ｎ−Ｚ‘_ｎ［式中、Ｒ＝アルキル基、アセトキシ基、オキシム基、アルコキ
シ基、アミド基、アリール基、アルケニル基、これらは
１〜５０個の炭素原子を有し、非置換であるか、もしく
はＯ、Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉにより置換されており、
そのつど同じであるか、もしくは異なっている、および
／または５０〜１００００の繰り返し単位を有するポリ
スチレン基、ポリビニルアセテート基、ポリアクリレー
ト基、ポリメタクリレート基およびポリアクリルニトリ
ル基であり、Ｚ＝ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、アセトキシ基、アミノ基、アミ
ド基、アミノオキシ基、オキシム基、アルコキシ基、ア
ルケニルオキシ基、アクリルオキシ基またはホスフェー
ト基であり、その際、有機基は２０個までの炭素原子を
有していてもよく、そのつど同じか、もしくは異なって
おり、Ｚ‘＝オキシム基、アルコキシ基、アミド基、アセトキ
シ基であり、ｎ＝１〜３であり、ｘ＝１００〜１５０００である］のオルガノポリシロキ
サン４０〜９９．５質量％を含有する室温加硫型一成分
シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項２】シリコーンゴム調製物が付加的に式Ｒ‘_４ _- _ｔＳｉＺ‘_４［式中、Ｒ‘＝アルキル基、アルコキシ基、アセトキシ基、アミ
ド基、オキシム基、アリール基、アルケニル基、これら
は１〜５０個の炭素原子を有し、非置換であるか、もし
くはＯ、Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉにより置換されてお
り、そのつど同じであるか、もしくは異なっている、お
よび／または５〜５０００の繰り返し単位を有するポリ
スチレン基、ポリビニルアセテート基、ポリアクリレー
ト基、ポリメタクリレート基およびポリアクリルニトリ
ル基であり、Ｚ‘＝ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、アセトキシ基、オキシム基、
アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、アルケニルオキ
シ基、アリールオキシ基またはホスフェート基であり、
その際、有機基は２０個までの炭素原子を有していても
よく、そのつど同じか、もしくは異なっており、ｔ＝３または４である］の架橋剤０．５〜２０質量％を
含有する、請求項１記載の室温加硫型一成分シリコーン
ゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項３】疎水性シリカが沈降シリカから製造され
ており、かつシリコーンゴム調製物が付加的に熱分解法
シリカを０．０１〜１２質量％含有する、請求項１また
は２記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（Ｒ
ＴＶ−１Ｋ）。
【請求項４】シリコーンゴム調製物がさらに、官能化
されていないポリシロキサンを０．０１〜９９．５質量
％含有する、請求項１から３までのいずれか１項記載の
室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１
Ｋ）。
【請求項５】シリコーンゴム調製物が付加的に１種も
しくは複数の水結合剤を０．１〜２０質量％含有する、
請求項１から４までのいずれか１項記載の室温加硫型一
成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項６】オルガノポリシロキサンが最大で５００
０００ｃＰの粘度を有する、請求項１から５までのいず
れか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物
（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項７】疎水性シリカが１．６未満の修正シアー
ズ数を有する、請求項１から６までのいずれか１項記載
の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１
Ｋ）。
【請求項８】疎水性シリカが５．０〜９．０のｐＨ値
を有する、請求項１から７までのいずれか１項記載の室
温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１
Ｋ）。
【請求項９】疎水性シリカが２％未満の含水率を有す
る、請求項１から８までのいずれか１項記載の室温加硫
型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項１０】疎水性シリカが５００μＳ未満の導電
率を有する、請求項１から９までのいずれか１項記載の
室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１
Ｋ）。
【請求項１１】疎水性シリカが３％より大の強熱減量
を有する、請求項１から１０までのいずれか１項記載の
室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１
Ｋ）。
【請求項１２】疎水性シリカが疎水性の沈降シリカで
ある、請求項１から１１までのいずれか１項記載の室温
加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項１３】シリコーンゴム調製物が付加的に、触
媒として金属Ｐｔ、Ｓｎ、Ｔｉおよび／またはＺｎの有
機もしくは無機化合物を０．０１〜６質量％および／ま
たは防止剤０．０１〜６質量％および／または接着性付
与剤を０．０１〜６質量％および／または殺カビ剤およ
び／または殺菌剤を０．０１〜６質量％含有する、請求
項１から４までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分
シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項１４】ＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンシーラント
としての請求項１から１２までのいずれか１項記載の室
温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）
の使用。
【請求項１５】シリコーンシーラントが自己均展性Ｒ
ＴＶ−１Ｋ−シリコーンシーラントである、請求項１３
記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ
−１Ｋ）の使用。
【請求項１６】目地剤、窓シーラント、自動車におけ
るシーリング剤、耐熱性シーリング剤、油浸出性シーリ
ング剤および耐薬品性シーリング剤、耐湿性シーリング
剤としての請求項１から１２までのいずれか１項記載の
室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１
Ｋ）の使用。