JP2003246825A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2003246825A5 JP2003246825A5 JP2002340817A JP2002340817A JP2003246825A5 JP 2003246825 A5 JP2003246825 A5 JP 2003246825A5 JP 2002340817 A JP2002340817 A JP 2002340817A JP 2002340817 A JP2002340817 A JP 2002340817A JP 2003246825 A5 JP2003246825 A5 JP 2003246825A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monomer
- polymerization
- copolymer
- resist
- polymerization vessel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims 17
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000686 lactone group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002340817A JP4000295B2 (ja) | 2001-12-21 | 2002-11-25 | レジスト用共重合体およびその製造方法、ならびにレジスト組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001-389720 | 2001-12-21 | ||
| JP2001389720 | 2001-12-21 | ||
| JP2002340817A JP4000295B2 (ja) | 2001-12-21 | 2002-11-25 | レジスト用共重合体およびその製造方法、ならびにレジスト組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003246825A JP2003246825A (ja) | 2003-09-05 |
| JP2003246825A5 true JP2003246825A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 2005-06-30 |
| JP4000295B2 JP4000295B2 (ja) | 2007-10-31 |
Family
ID=28677003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002340817A Expired - Lifetime JP4000295B2 (ja) | 2001-12-21 | 2002-11-25 | レジスト用共重合体およびその製造方法、ならびにレジスト組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4000295B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4327003B2 (ja) * | 2003-07-01 | 2009-09-09 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 |
| JP5062943B2 (ja) * | 2003-08-21 | 2012-10-31 | 三菱レイヨン株式会社 | レジスト用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物、ならびにパターン形成方法 |
| JP4632345B2 (ja) * | 2004-05-12 | 2011-02-16 | 三菱レイヨン株式会社 | レジスト用共重合体の共重合組成分布の分析方法 |
| JP4881566B2 (ja) * | 2005-03-10 | 2012-02-22 | 丸善石油化学株式会社 | ポジ型感光性樹脂、その製造方法及びポジ型感光性樹脂を含むレジスト組成物 |
| JP4743426B2 (ja) * | 2006-05-12 | 2011-08-10 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料用重合体及びその製造方法、レジスト材料、パターン形成方法 |
| JP5588095B2 (ja) | 2006-12-06 | 2014-09-10 | 丸善石油化学株式会社 | 半導体リソグラフィー用共重合体とその製造方法 |
| JP4882788B2 (ja) * | 2007-02-21 | 2012-02-22 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、スペーサーとその製法および液晶表示素子 |
| JP2008239889A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 樹脂およびその製造方法、それを用いたポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 |
| WO2009104717A1 (ja) * | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 株式会社クラレ | 高分子化合物 |
| JP5270187B2 (ja) * | 2008-02-22 | 2013-08-21 | 株式会社クラレ | 新規な(メタ)アクリル酸エステル誘導体、ハロエステル誘導体および高分子化合物 |
| JP5270189B2 (ja) | 2008-02-22 | 2013-08-21 | 株式会社クラレ | 新規なアルコールおよびその誘導体 |
| JP5270188B2 (ja) | 2008-02-22 | 2013-08-21 | 株式会社クラレ | 新規なアクリル酸エステル誘導体、高分子化合物 |
| JP5568963B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2014-08-13 | Jsr株式会社 | 重合体および感放射線性樹脂組成物 |
| JP5631550B2 (ja) | 2009-02-27 | 2014-11-26 | 丸善石油化学株式会社 | フォトレジスト用共重合体の製造方法 |
| JP5394119B2 (ja) * | 2009-04-24 | 2014-01-22 | 三菱レイヨン株式会社 | 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 |
| JP4955732B2 (ja) | 2009-05-29 | 2012-06-20 | 信越化学工業株式会社 | ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
| JP4950252B2 (ja) | 2009-07-01 | 2012-06-13 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 |
| CN102472982B (zh) * | 2009-07-07 | 2014-07-02 | 三菱丽阳株式会社 | 光刻用共聚物及其评价方法 |
| JP5793867B2 (ja) | 2009-07-07 | 2015-10-14 | 三菱レイヨン株式会社 | 重合体の製造方法 |
| JP5707699B2 (ja) * | 2009-12-28 | 2015-04-30 | 三菱レイヨン株式会社 | 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 |
| JP5771942B2 (ja) * | 2010-10-18 | 2015-09-02 | 三菱レイヨン株式会社 | リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、ならびに基板の製造方法 |
| JP5811848B2 (ja) * | 2010-10-18 | 2015-11-11 | 三菱レイヨン株式会社 | リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、パターンが形成された基板の製造方法 |
| JP2012145868A (ja) | 2011-01-14 | 2012-08-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP2012207218A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-25 | Sumitomo Chemical Co Ltd | レジスト組成物用樹脂の製造方法 |
| JP6439270B2 (ja) * | 2013-05-17 | 2018-12-19 | 三菱ケミカル株式会社 | リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法 |
| JP6349407B2 (ja) * | 2014-09-29 | 2018-06-27 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
| JP7501174B2 (ja) * | 2020-07-09 | 2024-06-18 | 三菱ケミカル株式会社 | (メタ)アクリル酸エステルの保存方法、混合液、及び重合体の製造方法 |
-
2002
- 2002-11-25 JP JP2002340817A patent/JP4000295B2/ja not_active Expired - Lifetime