JP2003246825A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4327003B2 (ja) * 2003-07-01 2009-09-09 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
JP5062943B2 (ja) * 2003-08-21 2012-10-31 三菱レイヨン株式会社 レジスト用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物、ならびにパターン形成方法
JP4632345B2 (ja) * 2004-05-12 2011-02-16 三菱レイヨン株式会社 レジスト用共重合体の共重合組成分布の分析方法
JP4881566B2 (ja) * 2005-03-10 2012-02-22 丸善石油化学株式会社 ポジ型感光性樹脂、その製造方法及びポジ型感光性樹脂を含むレジスト組成物
JP4743426B2 (ja) * 2006-05-12 2011-08-10 信越化学工業株式会社 レジスト材料用重合体及びその製造方法、レジスト材料、パターン形成方法
JP5588095B2 (ja) 2006-12-06 2014-09-10 丸善石油化学株式会社 半導体リソグラフィー用共重合体とその製造方法
JP4882788B2 (ja) * 2007-02-21 2012-02-22 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、スペーサーとその製法および液晶表示素子
JP2008239889A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Fujifilm Corp 樹脂およびその製造方法、それを用いたポジ型感光性組成物及びパターン形成方法
JP5270187B2 (ja) 2008-02-22 2013-08-21 株式会社クラレ 新規な（メタ）アクリル酸エステル誘導体、ハロエステル誘導体および高分子化合物
JP5270188B2 (ja) 2008-02-22 2013-08-21 株式会社クラレ 新規なアクリル酸エステル誘導体、高分子化合物
JP5466511B2 (ja) * 2008-02-22 2014-04-09 株式会社クラレ 高分子化合物
JP5270189B2 (ja) * 2008-02-22 2013-08-21 株式会社クラレ 新規なアルコールおよびその誘導体
JP5568963B2 (ja) * 2008-11-28 2014-08-13 Ｊｓｒ株式会社 重合体および感放射線性樹脂組成物
JP5631550B2 (ja) 2009-02-27 2014-11-26 丸善石油化学株式会社 フォトレジスト用共重合体の製造方法
JP5394119B2 (ja) * 2009-04-24 2014-01-22 三菱レイヨン株式会社 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法
JP4955732B2 (ja) 2009-05-29 2012-06-20 信越化学工業株式会社 ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
JP4950252B2 (ja) 2009-07-01 2012-06-13 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法
KR101690391B1 (ko) * 2009-07-07 2016-12-27 미츠비시 레이온 가부시키가이샤 리소그라피용 공중합체 및 그의 평가 방법
TWI455948B (zh) 2009-07-07 2014-10-11 Mitsubishi Rayon Co 聚合體的製造方法、微影用聚合體、光阻組成物及基板的製造方法
JP5707699B2 (ja) * 2009-12-28 2015-04-30 三菱レイヨン株式会社 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法
JP5771942B2 (ja) * 2010-10-18 2015-09-02 三菱レイヨン株式会社 リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、ならびに基板の製造方法
JP5811848B2 (ja) * 2010-10-18 2015-11-11 三菱レイヨン株式会社 リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、パターンが形成された基板の製造方法
JP2012145868A (ja) 2011-01-14 2012-08-02 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP2012207218A (ja) * 2011-03-16 2012-10-25 Sumitomo Chemical Co Ltd レジスト組成物用樹脂の製造方法
JP6439270B2 (ja) * 2013-05-17 2018-12-19 三菱ケミカル株式会社 リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法
WO2016051985A1 (ja) * 2014-09-29 2016-04-07 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
JP7501174B2 (ja) * 2020-07-09 2024-06-18 三菱ケミカル株式会社 （メタ）アクリル酸エステルの保存方法、混合液、及び重合体の製造方法

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