JP2003242679A - 光ディスク基板 - Google Patents
光ディスク基板Info
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- JP2003242679A JP2003242679A JP2002036841A JP2002036841A JP2003242679A JP 2003242679 A JP2003242679 A JP 2003242679A JP 2002036841 A JP2002036841 A JP 2002036841A JP 2002036841 A JP2002036841 A JP 2002036841A JP 2003242679 A JP2003242679 A JP 2003242679A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 強度、成形性、離型性、転写性及び複屈折に
優れ、しかも安価な光ディスク基板を提供すること。 【解決手段】 スチレン系単量体(S)、（メタ）アクリ
ル酸エステル系単量体(M)、及びこれらの単量体と共重
合可能なビニル系単量体(v)からなるスチレン−（メ
タ）アクリル酸エステル系共重合体と、ジエン系ゴム状
弾性体の存在下に(S)、(M)、及びこれらの単量体と共重
合可能な(v)を共重合してなるグラフト共重合体とを主
成分とするゴム変性スチレン系樹脂組成物（GS系樹脂組
成物）であって、該GS系樹脂組成物のTHF可溶分の重量
平均分子量(Mw)が、50,000〜100,000であり、該GS系樹
脂組成物のジエン系ゴム量が5〜15 %、(S)単位が5〜35
%、(M)単位が50〜90%、これらの単量体と共重合可能な
(V)単位が0〜10%であり、該GS系樹脂組成物のゴム粒径
が、0.1〜0.5μmであるGS系樹脂組成物からなる光ディ
スク基板を構成とする。
優れ、しかも安価な光ディスク基板を提供すること。 【解決手段】 スチレン系単量体(S)、（メタ）アクリ
ル酸エステル系単量体(M)、及びこれらの単量体と共重
合可能なビニル系単量体(v)からなるスチレン−（メ
タ）アクリル酸エステル系共重合体と、ジエン系ゴム状
弾性体の存在下に(S)、(M)、及びこれらの単量体と共重
合可能な(v)を共重合してなるグラフト共重合体とを主
成分とするゴム変性スチレン系樹脂組成物（GS系樹脂組
成物）であって、該GS系樹脂組成物のTHF可溶分の重量
平均分子量(Mw)が、50,000〜100,000であり、該GS系樹
脂組成物のジエン系ゴム量が5〜15 %、(S)単位が5〜35
%、(M)単位が50〜90%、これらの単量体と共重合可能な
(V)単位が0〜10%であり、該GS系樹脂組成物のゴム粒径
が、0.1〜0.5μmであるGS系樹脂組成物からなる光ディ
スク基板を構成とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複屈折の絶対値が
小さく、離型性と成形後のソリ変形に優れた光ディスク
基板に関するものである。
小さく、離型性と成形後のソリ変形に優れた光ディスク
基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】情報化社会の進展に伴い、情報記録媒体
として、これまでの磁気テープ、磁気ディスクから、よ
り集積度の高い光ディスクへと市場は転換してきた。汎
用化には、価格低減が必要であり、より低価格な材料及
び生産性の向上が図られてきた。
として、これまでの磁気テープ、磁気ディスクから、よ
り集積度の高い光ディスクへと市場は転換してきた。汎
用化には、価格低減が必要であり、より低価格な材料及
び生産性の向上が図られてきた。
【０００３】ここで言う光ディスクとしては、音声、映
像等のデジタル化された信号をプラスチック基板面にピ
ットの有無に変換して記録したものを、レーザー光によ
り読み取るものであり、ＬＤ（レーザーディスク（登録
商標））、ＶＣＤ（ビデオＣＤ）、音楽ＣＤ、ＣＤ−Ｒ
ＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、Ｄ
ＶＤ−Ｒ等である。
像等のデジタル化された信号をプラスチック基板面にピ
ットの有無に変換して記録したものを、レーザー光によ
り読み取るものであり、ＬＤ（レーザーディスク（登録
商標））、ＶＣＤ（ビデオＣＤ）、音楽ＣＤ、ＣＤ−Ｒ
ＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、Ｄ
ＶＤ−Ｒ等である。
【０００４】ピットの形成方式として、スタンパーによ
る機械的方式や予め盤面に存在させた有機色素を光によ
り反応させる方式があるが特に限定するものではない。
る機械的方式や予め盤面に存在させた有機色素を光によ
り反応させる方式があるが特に限定するものではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような光ディスク
基板用材料として、ポリスチレンが検討されたが、衝撃
強度が小さく成形工程において離型時に成形品が割れや
すいという課題や、耐熱性が小さいため成形工程におい
て反りを生じない成形品を得るために冷却時間を延ばす
必要があり成形サイクルが長くなり生産性に劣り、更に
は複屈折が大きく、また転写性が劣るという課題があっ
た。
基板用材料として、ポリスチレンが検討されたが、衝撃
強度が小さく成形工程において離型時に成形品が割れや
すいという課題や、耐熱性が小さいため成形工程におい
て反りを生じない成形品を得るために冷却時間を延ばす
必要があり成形サイクルが長くなり生産性に劣り、更に
は複屈折が大きく、また転写性が劣るという課題があっ
た。
【０００６】本発明者は、前記課題を解消すべく種々検
討した結果、スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エ
ステル系単量体、及びこれらの単量体と共重合可能なビ
ニル系単量体からなるスチレン−（メタ）アクリル酸エ
ステル系共重合体と、ジエン系ゴム状弾性体の存在下に
スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量
体、及びこれらの単量体と共重合可能なビニル系単量体
を共重合してなるグラフト共重合体とを主成分とするゴ
ム変性スチレン系樹脂組成物であって、該ゴム変性スチ
レン系樹脂組成物のＴＨＦ可溶分の重量平均分子量（Ｍ
ｗ）が、特定範囲であり、該ゴム変性スチレン系樹脂組
成物の特定量のジエン系ゴム量、スチレン系単量体単
位、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位、これら
の単量体と共重合可能なビニル系単量体単位が各々特定
範囲であり、該ゴム変性スチレン系樹脂組成物のゴム粒
径が特定範囲であるゴム変性スチレン系樹脂組成物が、
強度と転写性を向上させ、更に複屈折を低減させる知見
を得て本発明を完成するに至った。
討した結果、スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エ
ステル系単量体、及びこれらの単量体と共重合可能なビ
ニル系単量体からなるスチレン−（メタ）アクリル酸エ
ステル系共重合体と、ジエン系ゴム状弾性体の存在下に
スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量
体、及びこれらの単量体と共重合可能なビニル系単量体
を共重合してなるグラフト共重合体とを主成分とするゴ
ム変性スチレン系樹脂組成物であって、該ゴム変性スチ
レン系樹脂組成物のＴＨＦ可溶分の重量平均分子量（Ｍ
ｗ）が、特定範囲であり、該ゴム変性スチレン系樹脂組
成物の特定量のジエン系ゴム量、スチレン系単量体単
位、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位、これら
の単量体と共重合可能なビニル系単量体単位が各々特定
範囲であり、該ゴム変性スチレン系樹脂組成物のゴム粒
径が特定範囲であるゴム変性スチレン系樹脂組成物が、
強度と転写性を向上させ、更に複屈折を低減させる知見
を得て本発明を完成するに至った。
【０００７】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、（１）
スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量
体、及びこれらの単量体と共重合可能なビニル系単量体
からなるスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重
合体と、ジエン系ゴム状弾性体の存在下にスチレン系単
量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量体、及びこれ
らの単量体と共重合可能なビニル系単量体を共重合して
なるグラフト共重合体とを主成分とするゴム変性スチレ
ン系樹脂組成物であって、該ゴム変性スチレン系樹脂組
成物のＴＨＦ（テトラヒドロフラン）可溶分の重量平均
分子量（Ｍｗ）が、５０，０００〜１００，０００であ
り、該ゴム変性スチレン系樹脂組成物のゴム量が２〜２
０％で、スチレン系単量体単位が５〜３５％、（メタ）
アクリル酸エステル系単量体単位が５０〜９０％、これ
らの単量体と共重合可能なビニル系単量体単位が０〜１
０％であり、該ゴム変性スチレン系樹脂組成物のゴム粒
径が、０．１〜０．５μｍであるゴム変性スチレン系樹
脂組成物からなる光ディスク基板、（２）２００℃、５
ｋｇ荷重でのＭＦＲ（メルトフローレート）≧２．０ｇ
／１０分であり、５ｋｇ荷重でのＶＳＰ（ビカット軟化
点）≧９０℃であることを特徴とする（１）記載の光デ
ィスク基板、（３）共重合可能なビニル系単量体が、ア
クリロニトリルである（１）又は（２）記載の光ディス
ク基板、（４）更に、該ゴム変性スチレン系樹脂組成物
１００質量部に対して、潤滑剤１０〜２００ｐｐｍ配合
してなる請求項（３）記載の光ディスク基板、（５）潤
滑剤が、脂肪酸、脂肪酸金属塩及び脂肪酸アマイドから
選択される少なくとも１種以上である（４）記載の光デ
ィスク基板である。
スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量
体、及びこれらの単量体と共重合可能なビニル系単量体
からなるスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重
合体と、ジエン系ゴム状弾性体の存在下にスチレン系単
量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量体、及びこれ
らの単量体と共重合可能なビニル系単量体を共重合して
なるグラフト共重合体とを主成分とするゴム変性スチレ
ン系樹脂組成物であって、該ゴム変性スチレン系樹脂組
成物のＴＨＦ（テトラヒドロフラン）可溶分の重量平均
分子量（Ｍｗ）が、５０，０００〜１００，０００であ
り、該ゴム変性スチレン系樹脂組成物のゴム量が２〜２
０％で、スチレン系単量体単位が５〜３５％、（メタ）
アクリル酸エステル系単量体単位が５０〜９０％、これ
らの単量体と共重合可能なビニル系単量体単位が０〜１
０％であり、該ゴム変性スチレン系樹脂組成物のゴム粒
径が、０．１〜０．５μｍであるゴム変性スチレン系樹
脂組成物からなる光ディスク基板、（２）２００℃、５
ｋｇ荷重でのＭＦＲ（メルトフローレート）≧２．０ｇ
／１０分であり、５ｋｇ荷重でのＶＳＰ（ビカット軟化
点）≧９０℃であることを特徴とする（１）記載の光デ
ィスク基板、（３）共重合可能なビニル系単量体が、ア
クリロニトリルである（１）又は（２）記載の光ディス
ク基板、（４）更に、該ゴム変性スチレン系樹脂組成物
１００質量部に対して、潤滑剤１０〜２００ｐｐｍ配合
してなる請求項（３）記載の光ディスク基板、（５）潤
滑剤が、脂肪酸、脂肪酸金属塩及び脂肪酸アマイドから
選択される少なくとも１種以上である（４）記載の光デ
ィスク基板である。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のゴム変性スチレン系樹脂組成物の主成分の一つ
であるスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合
体とは、スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステ
ル系単量体、およびこれらの単量体と共重合可能なビニ
ル系単量体からなる共重合体である。
本発明のゴム変性スチレン系樹脂組成物の主成分の一つ
であるスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合
体とは、スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステ
ル系単量体、およびこれらの単量体と共重合可能なビニ
ル系単量体からなる共重合体である。
【０００９】本発明のゴム変性スチレン系樹脂組成物の
主成分の一つであるグラフト共重合体とは、ジエン系ゴ
ム状弾性体に、スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸
エステル系単量体、およびこれらの単量体と共重合可能
なビニル系単量体からなるスチレン−（メタ）アクリル
酸エステル系共重合体がグラフトしてなる共重合体であ
る。
主成分の一つであるグラフト共重合体とは、ジエン系ゴ
ム状弾性体に、スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸
エステル系単量体、およびこれらの単量体と共重合可能
なビニル系単量体からなるスチレン−（メタ）アクリル
酸エステル系共重合体がグラフトしてなる共重合体であ
る。
【００１０】本発明で用いられるスチレン系単量体とし
ては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチ
レン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、エチ
ルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等を挙げることが
できるが、好ましくはスチレンである。これらのスチレ
ン系単量体は、単独でもよいが二種以上を併用してもよ
い。
ては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチ
レン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、エチ
ルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等を挙げることが
できるが、好ましくはスチレンである。これらのスチレ
ン系単量体は、単独でもよいが二種以上を併用してもよ
い。
【００１１】本発明で用いられる（メタ）アクリル酸エ
ステル系単量体としては、メチル（メタ）アクリレー
ト、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アク
リレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの
メタクリル酸エステル、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−メチルヘキ
シルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、
デシルアクリレート等のアクリル酸エステルが挙げられ
るが、好ましくはメチル（メタ）アクリレート、または
ｎ−ブチルアクリレート、特に好ましくはメチル（メ
タ）アクリレートである。これらの（メタ）アクリル酸
エステル系単量体は単独で用いてもよいが二種以上を併
用してもよい。
ステル系単量体としては、メチル（メタ）アクリレー
ト、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アク
リレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの
メタクリル酸エステル、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−メチルヘキ
シルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、
デシルアクリレート等のアクリル酸エステルが挙げられ
るが、好ましくはメチル（メタ）アクリレート、または
ｎ−ブチルアクリレート、特に好ましくはメチル（メ
タ）アクリレートである。これらの（メタ）アクリル酸
エステル系単量体は単独で用いてもよいが二種以上を併
用してもよい。
【００１２】さらに、必要に応じてこれらの単量体と共
重合可能なビニル系単量体としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミ
ド等が挙げられる。
重合可能なビニル系単量体としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミ
ド等が挙げられる。
【００１３】本発明で用いられるジエン系ゴム状弾性体
としては、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエンブロ
ック共重合体、およびスチレン−ブタジエンランダム共
重合体等が挙げられる。
としては、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエンブロ
ック共重合体、およびスチレン−ブタジエンランダム共
重合体等が挙げられる。
【００１４】また、本発明のゴム変性スチレン系樹脂組
成物は、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重
合体とグラフト共重合体との屈折率の差が近似している
ことが良好な透明性を得るために好ましい。
成物は、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重
合体とグラフト共重合体との屈折率の差が近似している
ことが良好な透明性を得るために好ましい。
【００１５】なお、本発明のゴム変性スチレン系樹脂組
成物を構成する各単量体単位の割合は、ジエン系ゴム５
〜１５質量％、スチレン系単量体単位５〜３５質量％、
（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位５０〜９０質
量％、および必要に応じて用いられるこれらの単量体と
共重合可能なビニル系単量体単位０〜１０質量％であ
る。ジエン系ゴムの割合が５％未満では、衝撃強度が劣
り、１５％を超えると成形サイクルが長くなり、更に転
写性が悪くなるので好ましくない。また、スチレン系単
量体単位が５％未満では、透明性が劣り、３５％を超え
ると、複屈折が大きくなるので好ましくない。（メタ）
アクリル酸エステル系単量体単位が５０％未満では複屈
折が大きくなり、９０％を超えると、複屈折が大きくな
るので好ましくない。共重合可能なビニル系単量単位が
１０％を超えると、透明性が劣るので好ましくない。
成物を構成する各単量体単位の割合は、ジエン系ゴム５
〜１５質量％、スチレン系単量体単位５〜３５質量％、
（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位５０〜９０質
量％、および必要に応じて用いられるこれらの単量体と
共重合可能なビニル系単量体単位０〜１０質量％であ
る。ジエン系ゴムの割合が５％未満では、衝撃強度が劣
り、１５％を超えると成形サイクルが長くなり、更に転
写性が悪くなるので好ましくない。また、スチレン系単
量体単位が５％未満では、透明性が劣り、３５％を超え
ると、複屈折が大きくなるので好ましくない。（メタ）
アクリル酸エステル系単量体単位が５０％未満では複屈
折が大きくなり、９０％を超えると、複屈折が大きくな
るので好ましくない。共重合可能なビニル系単量単位が
１０％を超えると、透明性が劣るので好ましくない。
【００１６】本発明のゴム変性スチレン系樹脂組成物
は、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、塊状−懸濁
重合法、乳化重合法等の公知技術により製造することが
できる。また、回分式重合法、連続式重合法のいずれの
方法も用いることができる。
は、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、塊状−懸濁
重合法、乳化重合法等の公知技術により製造することが
できる。また、回分式重合法、連続式重合法のいずれの
方法も用いることができる。
【００１７】好ましくは、グラフト共重合体含有樹脂を
乳化重合法により製造し、かつスチレン−（メタ）アク
リル酸エステル系樹脂を塊状重合法、溶液重合法、懸濁
重合法、および塊状−懸濁重合法のいずれかの重合法に
より製造し、該グラフト共重合体含有樹脂と該スチレン
−（メタ）アクリル酸エステル系樹脂とを溶融混合させ
ることにより製造することであり、耐衝撃性および透明
性が特に優れたゴム変性スチレン系樹脂組成物を得るこ
とが出来る。
乳化重合法により製造し、かつスチレン−（メタ）アク
リル酸エステル系樹脂を塊状重合法、溶液重合法、懸濁
重合法、および塊状−懸濁重合法のいずれかの重合法に
より製造し、該グラフト共重合体含有樹脂と該スチレン
−（メタ）アクリル酸エステル系樹脂とを溶融混合させ
ることにより製造することであり、耐衝撃性および透明
性が特に優れたゴム変性スチレン系樹脂組成物を得るこ
とが出来る。
【００１８】本発明でいうＴＨＦ（テトラヒドロフラ
ン）可溶分とは、スチレン−（メタ）アクリル酸エステ
ル系共重合体が主成分となるが、それ以外のＴＨＦに可
溶な成分は全て含まれる。
ン）可溶分とは、スチレン−（メタ）アクリル酸エステ
ル系共重合体が主成分となるが、それ以外のＴＨＦに可
溶な成分は全て含まれる。
【００１９】また、ＴＨＦ不溶分とは、グラフト共重合
体が主成分となるが、それ以外のＴＨＦに不溶な成分は
全て含まれる。
体が主成分となるが、それ以外のＴＨＦに不溶な成分は
全て含まれる。
【００２０】本発明で用いられる該ゴム変性スチレン系
樹脂組成物のＴＨＦ（テトラヒドロフラン）可溶分の重
量平均分子量（Ｍｗ）は、５０，０００〜１００，００
０であることが好ましい。５０，０００未満では、衝撃
強度が劣り、１００，０００を超えると成形サイクルが
長くなる。ここでいう重量平均分子量とは、該ゴム変性
スチレン系樹脂組成物のＴＨＦ可溶分をゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法で測定したポリ
スチレン換算の重量平均分子量のことである。また、該
ゴム変性スチレン系樹脂組成物のゴム粒径は、０．１〜
０．５μｍであることが好ましい。０．１μｍ未満では
衝撃強度が劣り、０．５μｍを超えると転写性が劣るの
で好ましくない。
樹脂組成物のＴＨＦ（テトラヒドロフラン）可溶分の重
量平均分子量（Ｍｗ）は、５０，０００〜１００，００
０であることが好ましい。５０，０００未満では、衝撃
強度が劣り、１００，０００を超えると成形サイクルが
長くなる。ここでいう重量平均分子量とは、該ゴム変性
スチレン系樹脂組成物のＴＨＦ可溶分をゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法で測定したポリ
スチレン換算の重量平均分子量のことである。また、該
ゴム変性スチレン系樹脂組成物のゴム粒径は、０．１〜
０．５μｍであることが好ましい。０．１μｍ未満では
衝撃強度が劣り、０．５μｍを超えると転写性が劣るの
で好ましくない。
【００２１】本発明で用いられる該ゴム変性スチレン系
樹脂組成物の特性は、２００℃、５ｋｇ荷重でのＭＦＲ
がＭＦＲ≧２．０ｇ／１０分であり、５ｋｇ荷重でのＶ
ＳＰがＶＳＰ≧９０℃であることが好ましい。
樹脂組成物の特性は、２００℃、５ｋｇ荷重でのＭＦＲ
がＭＦＲ≧２．０ｇ／１０分であり、５ｋｇ荷重でのＶ
ＳＰがＶＳＰ≧９０℃であることが好ましい。
【００２２】本発明で用いられる潤滑剤の量は、該ゴム
変性スチレン系樹脂組成物１００質量部に対して、１０
〜２００ｐｐｍ配合することが好ましい。１０ｐｐｍ未
満では、離型時に割れやすく、２００ｐｐｍを越えると
透明性が低下するので好ましくない。
変性スチレン系樹脂組成物１００質量部に対して、１０
〜２００ｐｐｍ配合することが好ましい。１０ｐｐｍ未
満では、離型時に割れやすく、２００ｐｐｍを越えると
透明性が低下するので好ましくない。
【００２３】本発明で用いられる潤滑剤の種類は、脂肪
酸、脂肪酸金属塩、及び脂肪酸アマイド等が挙げられ
る。脂肪酸としては、ステアリン酸、ベヘニン酸、エル
カ酸等が挙げられる。脂肪酸アマイドとしては、エチレ
ンビスステアリルアマイドが挙げられる。脂肪酸金属塩
としては、ステアリン酸亜鉛（St- Zn）、ステアリン酸
マグネシウム（St- Mg）、ステアリン酸カルシウム（St
- Ca）等が挙げられる。特に好ましくは、ステアリン酸
亜鉛である。
酸、脂肪酸金属塩、及び脂肪酸アマイド等が挙げられ
る。脂肪酸としては、ステアリン酸、ベヘニン酸、エル
カ酸等が挙げられる。脂肪酸アマイドとしては、エチレ
ンビスステアリルアマイドが挙げられる。脂肪酸金属塩
としては、ステアリン酸亜鉛（St- Zn）、ステアリン酸
マグネシウム（St- Mg）、ステアリン酸カルシウム（St
- Ca）等が挙げられる。特に好ましくは、ステアリン酸
亜鉛である。
【００２４】本発明のゴム変性スチレン系樹脂組成物に
は、公知の耐候剤、滑剤、可塑剤、着色剤、帯電防止
剤、鉱油等の添加剤を、本発明のゴム変性スチレン系樹
脂組成物の性能を損なわない範囲で配合してもよい。
は、公知の耐候剤、滑剤、可塑剤、着色剤、帯電防止
剤、鉱油等の添加剤を、本発明のゴム変性スチレン系樹
脂組成物の性能を損なわない範囲で配合してもよい。
【００２５】本発明のゴム変性スチレン系樹脂組成物
は、配合・溶融押出しについては特に制限はなく、公知
の方法を採用することができる。例えば、各原料をあら
かじめタンブラーやヘンシェルミキサー等で均一に混合
して、単軸押出機または二軸押出機等に供給して溶融混
練した後、ペレットとして調整する方法がある。このよ
うにして得られた本発明の熱可塑性樹脂組成物は、例え
ば、射出成形、圧縮成形及び押出成形等の方法により各
種成形体に加工され実用に供することができる
は、配合・溶融押出しについては特に制限はなく、公知
の方法を採用することができる。例えば、各原料をあら
かじめタンブラーやヘンシェルミキサー等で均一に混合
して、単軸押出機または二軸押出機等に供給して溶融混
練した後、ペレットとして調整する方法がある。このよ
うにして得られた本発明の熱可塑性樹脂組成物は、例え
ば、射出成形、圧縮成形及び押出成形等の方法により各
種成形体に加工され実用に供することができる
【００２６】
【実施例】以下、詳細な内容について実施例を用いて説
明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。尚、実施例で用いた部及び％はすべて質量基準で
示した。
明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。尚、実施例で用いた部及び％はすべて質量基準で
示した。
【００２７】評価方法
ＭＦＲ ＪＩＳ Ｋ−６８７４に準じて２００
℃、５ｋｇ荷重にて測定した。 ＶＳＰ ＪＩＳ Ｋ−７２０６に準じて５ｋｇ荷
重にて測定した。 落錘強度 落錘試験は、保安帽の試験の時に用いる
鋼製ストライカ（ＪＩＳ Ｍ７６０８）を用いて測定し
た。 成形性 成形サイクルが６秒以下であることが、
生産性に優れる材料とした。 離型性 離型不良により成形品に割れが生じる迄
のショット数が、１００ショット以上であることが、離
型性に優れた材料とした。 転写性 ピット溝１６０ｎｍ用スタンパーを用い
て成形した時の、ピット溝深さが１００ｎｍ以上であれ
ば、転写性に優れる材料とした。 複屈折 光ディスク基板の内周側から外周側の複
屈折をＤｒ．Ｓｃｈｅｎｋ社製、ＭＴ−１３６にて測定
し、その測定値の絶対値の最大値が６０ｎｍ未満であれ
ば、複屈折に優れる材料とした。 ゴム変性スチレン系樹脂組成物中のゴム量、スチレン
含有量、メチルメタクリレート含有量、アクリロニトリ
ル含有量 熱分解ガスクロマトグラフ法により測定した。 ゴム状弾性体ラテックスおよびゴム変性スチレン系樹
脂組成物中のゴム粒子径 ゴム状弾性体ラテックスまたはゴム変性スチレン系樹脂
組成物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中に
溶解させ、光散乱式粒度分布測定装置（ＣＯＵＬＴＥＲ
社製ＬＳ２３０型）で測定し、体積基準のメジアン径で
示した。
℃、５ｋｇ荷重にて測定した。 ＶＳＰ ＪＩＳ Ｋ−７２０６に準じて５ｋｇ荷
重にて測定した。 落錘強度 落錘試験は、保安帽の試験の時に用いる
鋼製ストライカ（ＪＩＳ Ｍ７６０８）を用いて測定し
た。 成形性 成形サイクルが６秒以下であることが、
生産性に優れる材料とした。 離型性 離型不良により成形品に割れが生じる迄
のショット数が、１００ショット以上であることが、離
型性に優れた材料とした。 転写性 ピット溝１６０ｎｍ用スタンパーを用い
て成形した時の、ピット溝深さが１００ｎｍ以上であれ
ば、転写性に優れる材料とした。 複屈折 光ディスク基板の内周側から外周側の複
屈折をＤｒ．Ｓｃｈｅｎｋ社製、ＭＴ−１３６にて測定
し、その測定値の絶対値の最大値が６０ｎｍ未満であれ
ば、複屈折に優れる材料とした。 ゴム変性スチレン系樹脂組成物中のゴム量、スチレン
含有量、メチルメタクリレート含有量、アクリロニトリ
ル含有量 熱分解ガスクロマトグラフ法により測定した。 ゴム状弾性体ラテックスおよびゴム変性スチレン系樹
脂組成物中のゴム粒子径 ゴム状弾性体ラテックスまたはゴム変性スチレン系樹脂
組成物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中に
溶解させ、光散乱式粒度分布測定装置（ＣＯＵＬＴＥＲ
社製ＬＳ２３０型）で測定し、体積基準のメジアン径で
示した。
【００２８】まず、原料樹脂の製造から示す。
（イ）スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹脂の
製造 参考例１：スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−１） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２４ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７６ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン８００ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−１）を得た。
製造 参考例１：スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−１） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２４ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７６ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン８００ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−１）を得た。
【００２９】参考例２：スチレン−（メタ）アクリル酸
エステル系樹脂（Ａ−２） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２４ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７６ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン６００ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−２）を得た。
エステル系樹脂（Ａ−２） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２４ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７６ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン６００ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−２）を得た。
【００３０】参考例３：スチレン−（メタ）アクリル酸
エステル系樹脂（Ａ−３） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２４ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７６ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン７００ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−３）を得た。
エステル系樹脂（Ａ−３） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２４ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７６ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン７００ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−３）を得た。
【００３１】参考例４：スチレン−（メタ）アクリル酸
エステル系樹脂（Ａ−４） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２４ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７６ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン９５０ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−４）を得た。
エステル系樹脂（Ａ−４） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２４ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７６ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン９５０ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−４）を得た。
【００３２】参考例５：スチレン−（メタ）アクリル酸
エステル系樹脂（Ａ−５） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２４ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７６ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン４５０ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−５）を得た。
エステル系樹脂（Ａ−５） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２４ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７６ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン４５０ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−５）を得た。
【００３３】参考例６：スチレン−（メタ）アクリル酸
エステル系樹脂（Ａ−６） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２３ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７３ｋｇ、アクリロニトリル
４ｋｇを入れ、重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ
イソブチレートを１００ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン
７００ｇを添加し、回転数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合
液を分散させた。そしてこの混合液を温度９０℃で８時
間、１３０℃で２．５時間加熱重合させた。反応終了
後、洗浄、脱水後乾燥し、ビーズ状のスチレン−（メ
タ）アクリル酸エステル系樹脂（Ａ−６）を得た。
エステル系樹脂（Ａ−６） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン２３ｋ
ｇ、メチルメタクリレート７３ｋｇ、アクリロニトリル
４ｋｇを入れ、重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ
イソブチレートを１００ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン
７００ｇを添加し、回転数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合
液を分散させた。そしてこの混合液を温度９０℃で８時
間、１３０℃で２．５時間加熱重合させた。反応終了
後、洗浄、脱水後乾燥し、ビーズ状のスチレン−（メ
タ）アクリル酸エステル系樹脂（Ａ−６）を得た。
【００３４】参考例7：スチレン−（メタ）アクリル酸
エステル系樹脂（Ａ−7） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン４２ｋ
ｇ、メチルメタクリレート５８ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン７００ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−７）を得た。
エステル系樹脂（Ａ−7） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン４２ｋ
ｇ、メチルメタクリレート５８ｋｇを入れ、重合開始剤
としてｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン７００ｇを添加し、回転
数１５０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そして
この混合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時
間加熱重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、
ビーズ状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹
脂（Ａ−７）を得た。
【００３５】参考例８：スチレン−（メタ）アクリル酸
エステル系樹脂（Ａ−８） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン４ｋｇ、
メチルメタクリレート９６ｋｇを入れ、重合開始剤とし
てｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００ｇ、ｔ
−ドデシルメルカプタン７００ｇを添加し、回転数１５
０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そしてこの混
合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時間加熱
重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、ビーズ
状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹脂（Ａ
−８）を得た。
エステル系樹脂（Ａ−８） 容量２５０リットルのオートクレーブに、純水１００ｋ
ｇにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを０．５
ｇ、第三リン酸カルシウム２５０ｇ、スチレン４ｋｇ、
メチルメタクリレート９６ｋｇを入れ、重合開始剤とし
てｔ−ブチルパーオキシイソブチレートを１００ｇ、ｔ
−ドデシルメルカプタン７００ｇを添加し、回転数１５
０ｒｐｍの撹拌下に混合液を分散させた。そしてこの混
合液を温度９０℃で８時間、１３０℃で２．５時間加熱
重合させた。反応終了後、洗浄、脱水後乾燥し、ビーズ
状のスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系樹脂（Ａ
−８）を得た。
【００３６】（ロ）ゴム状弾性体ラテックスの製造
参考例９：ゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−１）
容積２００リットルのオートクレーブに純水６０ｋｇ、
オレイン酸カリウム４００ｇ、ロジン酸カリウム１２０
０ｇ、炭酸ナトリウム１．２ｋｇ、過硫酸カリウム４０
０ｇを加えて撹拌下で均一に溶解した。次いでブタジエ
ン８０ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン４００ｇを加
え、撹拌しながら６０℃で３０時間重合し、更に７０℃
に昇温して２０時間放置して重合を完結し、平均粒径
０．３μｍのゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−１）を得
た。
オレイン酸カリウム４００ｇ、ロジン酸カリウム１２０
０ｇ、炭酸ナトリウム１．２ｋｇ、過硫酸カリウム４０
０ｇを加えて撹拌下で均一に溶解した。次いでブタジエ
ン８０ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン４００ｇを加
え、撹拌しながら６０℃で３０時間重合し、更に７０℃
に昇温して２０時間放置して重合を完結し、平均粒径
０．３μｍのゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−１）を得
た。
【００３７】参考例１０：ゴム状弾性体ラテックス（Ｇ
−２） 容積２００リットルのオートクレーブに純水１１５ｋ
ｇ、オレイン酸カリウム５００ｇ、ピロリン酸ナトリウ
ム７５ｇ、硫酸第一鉄１．５ｇ、エチレンジアミンテト
ラ酢酸ナトリウム２．２ｇ、ロンガリット２２ｇを加え
て撹拌下で均一に溶解した。次いでブタジエン５０ｋ
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン１４８ｇ、ジビニルベン
ゼン３０ｇ、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキ
サイド９６ｇを加え、撹拌しながら５０℃で１６時間反
応を行って重合を完結し、ゴム状ラテックスを得た。得
られたゴム状重合体ラテックスにナトリウムスルホサク
シネート４５ｇを添加して充分安定化した後、０．２％
塩酸水溶液と２％苛性ソーダ水溶液を別々のノズルか
ら、ラテックスのｐＨが８〜９を保つように添加し、ラ
テックスを凝集肥大化させ、平均粒径０．４μｍのゴム
状弾性体ラテックス（Ｇ−２）を得た。
−２） 容積２００リットルのオートクレーブに純水１１５ｋ
ｇ、オレイン酸カリウム５００ｇ、ピロリン酸ナトリウ
ム７５ｇ、硫酸第一鉄１．５ｇ、エチレンジアミンテト
ラ酢酸ナトリウム２．２ｇ、ロンガリット２２ｇを加え
て撹拌下で均一に溶解した。次いでブタジエン５０ｋ
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン１４８ｇ、ジビニルベン
ゼン３０ｇ、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキ
サイド９６ｇを加え、撹拌しながら５０℃で１６時間反
応を行って重合を完結し、ゴム状ラテックスを得た。得
られたゴム状重合体ラテックスにナトリウムスルホサク
シネート４５ｇを添加して充分安定化した後、０．２％
塩酸水溶液と２％苛性ソーダ水溶液を別々のノズルか
ら、ラテックスのｐＨが８〜９を保つように添加し、ラ
テックスを凝集肥大化させ、平均粒径０．４μｍのゴム
状弾性体ラテックス（Ｇ−２）を得た。
【００３８】参考例１１：ゴム状弾性体（Ｇ−３）
参考例９において、凝集肥大化の条件を変えて平均粒径
０．６μｍにした以外はゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−
２）と同様に製造し、ゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−
３）を得た。
０．６μｍにした以外はゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−
２）と同様に製造し、ゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−
３）を得た。
【００３９】参考例１２：ゴム状弾性体ラテックス（Ｇ
−４） 容積２００リットルのオートクレーブに純水８５ｋｇ、
オレイン酸カリウム１２００ｇ、水酸化カリウム２００
ｇ、過硫酸カリウム５０ｇを加えて撹拌下で均一に溶解
した。次いでブタジエン５０ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカ
プタン１００ｇを加え、ジビニルベンゼン３０ｇを加
え、撹拌しながら５０℃で１６時間反応を行って重合を
完結し、平均粒径０．０８μｍのゴム状弾性体ラテック
ス（Ｇ−４）を得た。
−４） 容積２００リットルのオートクレーブに純水８５ｋｇ、
オレイン酸カリウム１２００ｇ、水酸化カリウム２００
ｇ、過硫酸カリウム５０ｇを加えて撹拌下で均一に溶解
した。次いでブタジエン５０ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカ
プタン１００ｇを加え、ジビニルベンゼン３０ｇを加
え、撹拌しながら５０℃で１６時間反応を行って重合を
完結し、平均粒径０．０８μｍのゴム状弾性体ラテック
ス（Ｇ−４）を得た。
【００４０】参考例１３：ゴム状弾性体ラテックス（Ｇ
−５） 容積２００リットルのオートクレーブに純水１１５ｋ
ｇ、オレイン酸カリウム５００ｇ、ピロリン酸ナトリウ
ム７５ｇ、硫酸第一鉄１．５ｇ、エチレンジアミンテト
ラ酢酸ナトリウム２．２ｇ、ロンガリット２２ｇを加え
て撹拌下で均一に溶解した。次いで タジエン３７．５
ｋｇ、スチレン１２．５ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカプタ
ン１４８ｇ、ジビニルベンゼン３０ｇ、ジイソプロピル
ベンゼンハイドロパーオキサイド９６ｇを加え、撹拌し
ながら５０℃で１６時間反応を行って重合を完結し、ゴ
ム状ラテックスを得た。得られたゴム状重合体ラテック
スにナトリウムスルホサクシネート４５ｇを添加して充
分安定化した後、０．２％塩酸水溶液と２％苛性ソーダ
水溶液を別々のノズルから、ラテックスのｐＨが８〜９
を保つように添加し、ラテックスを凝集肥大化させ、平
均粒径０．４μｍのゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−５）
を得た。
−５） 容積２００リットルのオートクレーブに純水１１５ｋ
ｇ、オレイン酸カリウム５００ｇ、ピロリン酸ナトリウ
ム７５ｇ、硫酸第一鉄１．５ｇ、エチレンジアミンテト
ラ酢酸ナトリウム２．２ｇ、ロンガリット２２ｇを加え
て撹拌下で均一に溶解した。次いで タジエン３７．５
ｋｇ、スチレン１２．５ｋｇ、ｔ−ドデシルメルカプタ
ン１４８ｇ、ジビニルベンゼン３０ｇ、ジイソプロピル
ベンゼンハイドロパーオキサイド９６ｇを加え、撹拌し
ながら５０℃で１６時間反応を行って重合を完結し、ゴ
ム状ラテックスを得た。得られたゴム状重合体ラテック
スにナトリウムスルホサクシネート４５ｇを添加して充
分安定化した後、０．２％塩酸水溶液と２％苛性ソーダ
水溶液を別々のノズルから、ラテックスのｐＨが８〜９
を保つように添加し、ラテックスを凝集肥大化させ、平
均粒径０．４μｍのゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−５）
を得た。
【００４１】グラフト共重合体含有樹脂の製造
参考例１４：グラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）
参考例９のゴム弾性体ラテックス（Ｇ−１）を固形分換
算で３０ｋｇ計量して容積２００リットルのオートクレ
ーブに移し、純水８０ｋｇを加え、攪拌しながら窒素気
流下で５０℃に昇温した。ここに硫酸第一鉄１．２５
ｇ、エチレンジアミンテトラ酢酸ナトリウム２．５ｇ、
ロンガリット１００ｇを溶解した純水２ｋｇを加え、ス
チレン７．２ｋｇ、メチルメタクリレート２２．８ｋ
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン６０ｇからなる混合物
と、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド１
２０ｇをオレイン酸カリウム４５０ｇを含む純水８ｋｇ
に分散した溶液とを、別々に６時間かけて連続添加し
た。添加終了後、温度を７０℃に昇温して、更にジイソ
プロピルベンゼンハイドロパーオキサイド３０ｇ添加し
た後２時間放置して重合を終了した。得られた乳化液に
酸化防止剤を加え、純水で固形分を１５％に希釈した後
に６０℃に昇温し、激しく撹拌しながら希硫酸および硫
酸マグネシウムを加えて塩析を行い、その後温度を９０
℃に昇温して凝固させ、次に脱水、水洗、乾燥して粉末
状のグラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）を得た。
算で３０ｋｇ計量して容積２００リットルのオートクレ
ーブに移し、純水８０ｋｇを加え、攪拌しながら窒素気
流下で５０℃に昇温した。ここに硫酸第一鉄１．２５
ｇ、エチレンジアミンテトラ酢酸ナトリウム２．５ｇ、
ロンガリット１００ｇを溶解した純水２ｋｇを加え、ス
チレン７．２ｋｇ、メチルメタクリレート２２．８ｋ
ｇ、ｔ−ドデシルメルカプタン６０ｇからなる混合物
と、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド１
２０ｇをオレイン酸カリウム４５０ｇを含む純水８ｋｇ
に分散した溶液とを、別々に６時間かけて連続添加し
た。添加終了後、温度を７０℃に昇温して、更にジイソ
プロピルベンゼンハイドロパーオキサイド３０ｇ添加し
た後２時間放置して重合を終了した。得られた乳化液に
酸化防止剤を加え、純水で固形分を１５％に希釈した後
に６０℃に昇温し、激しく撹拌しながら希硫酸および硫
酸マグネシウムを加えて塩析を行い、その後温度を９０
℃に昇温して凝固させ、次に脱水、水洗、乾燥して粉末
状のグラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）を得た。
【００４２】参考例１５：グラフト共重合体含有樹脂
（Ｂ−２） 参考例１４において、ゴム状弾性体ラテックスが参考例
１０のゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−２）に変更された
以外は、グラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）と同様に
製造し、粉末状のグラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−２）
を得た。
（Ｂ−２） 参考例１４において、ゴム状弾性体ラテックスが参考例
１０のゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−２）に変更された
以外は、グラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）と同様に
製造し、粉末状のグラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−２）
を得た。
【００４３】参考例１６：グラフト共重合体含有樹脂
（Ｂ−３） 参考例１４において、ゴム状弾性体ラテックスが参考例
１１のゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−３）に変更された
以外は、グラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）と同様に
製造し、粉末状のグラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−３）
を得た。
（Ｂ−３） 参考例１４において、ゴム状弾性体ラテックスが参考例
１１のゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−３）に変更された
以外は、グラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）と同様に
製造し、粉末状のグラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−３）
を得た。
【００４４】参考例１７：グラフト共重合体含有樹脂
（Ｂ−４） 参考例１４において、ゴム状弾性体ラテックスが参考例
１２のゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−４）に変更された
以外は、グラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）と同様に
製造し、粉末状のグラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−４）
を得た。
（Ｂ−４） 参考例１４において、ゴム状弾性体ラテックスが参考例
１２のゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−４）に変更された
以外は、グラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）と同様に
製造し、粉末状のグラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−４）
を得た。
【００４５】参考例１８：グラフト共重合体含有樹脂
（Ｂ−５） 参考例１４において、ゴム状弾性体ラテックスが参考例
１３のゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−５）に変更された
以外は、グラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）と同様に
製造し、粉末状のグラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−５）
を得た。
（Ｂ−５） 参考例１４において、ゴム状弾性体ラテックスが参考例
１３のゴム状弾性体ラテックス（Ｇ−５）に変更された
以外は、グラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）と同様に
製造し、粉末状のグラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−５）
を得た。
【００４６】実施例１
参考例１で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−１）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(1)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、名機社製射出成形機ＭＤＭ−Iにて成形
温度２５０℃で射出成形することにより、射出成形する
ことにより、光ディスク基板を得た。次に得られた光デ
ィスク基板の特性評価を行った。その結果を表１に示
す。
テル系樹脂（Ａ−１）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(1)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、名機社製射出成形機ＭＤＭ−Iにて成形
温度２５０℃で射出成形することにより、射出成形する
ことにより、光ディスク基板を得た。次に得られた光デ
ィスク基板の特性評価を行った。その結果を表１に示
す。
【００４７】実施例２
参考例２で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−２）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(2)とし
た。このゴム変性樹脂組成物(2)に滑剤として、St- Zn
５０ppm添加して、射出成形することにより、光ディス
ク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価
を行った。その結果を表１に示す。
テル系樹脂（Ａ−２）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(2)とし
た。このゴム変性樹脂組成物(2)に滑剤として、St- Zn
５０ppm添加して、射出成形することにより、光ディス
ク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価
を行った。その結果を表１に示す。
【００４８】実施例３
参考例３で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−３）８６部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）１４部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(3)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表１に示す。
テル系樹脂（Ａ−３）８６部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）１４部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(3)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表１に示す。
【００４９】実施例４
参考例３で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−３）７４部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２６部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(4)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表１に示す。
テル系樹脂（Ａ−３）７４部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２６部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(4)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表１に示す。
【００５０】実施例５
参考例３で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−３）８０部、参考例１５で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−２）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(5)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表１に示す。
テル系樹脂（Ａ−３）８０部、参考例１５で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−２）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(5)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表１に示す。
【００５１】実施例６
参考例３で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−３）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(6)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表１に示す。
テル系樹脂（Ａ−３）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(6)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表１に示す。
【００５２】実施例７
参考例６で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−６）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(7)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表１に示す。
テル系樹脂（Ａ−６）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(7)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表１に示す。
【００５３】実施例８
実施例６で得たゴム変性樹脂組成物(6)に滑剤として、
ステアリン酸２５０ppm添加して、射出成形することに
より、光ディスク基板を得た。次に得られた光ディスク
基板の特性評価を行った。その結果を表１に示す。
ステアリン酸２５０ppm添加して、射出成形することに
より、光ディスク基板を得た。次に得られた光ディスク
基板の特性評価を行った。その結果を表１に示す。
【００５４】実施例９
実施例６で得たゴム変性樹脂組成物(6)に滑剤としてEBP
５０ppm添加して、射出成形することにより、光ディス
ク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価
を行った。その結果を表１に示す。
５０ppm添加して、射出成形することにより、光ディス
ク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価
を行った。その結果を表１に示す。
【００５５】実施例１０
実施例６で得たゴム変性樹脂組成物(6)に滑剤として、
ステアリン酸５０ppm添加して、射出成形することによ
り、光ディスク基板を得た。次に得られた光ディスク基
板の特性評価を行った。その結果を表１に示す。
ステアリン酸５０ppm添加して、射出成形することによ
り、光ディスク基板を得た。次に得られた光ディスク基
板の特性評価を行った。その結果を表１に示す。
【００５６】実施例１１
実施例６で得たゴム変性樹脂組成物(6)に滑剤として、S
t- Mg５０ppm添加して、射出成形することにより、光デ
ィスク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性
評価を行った。その結果を表２に示す。
t- Mg５０ppm添加して、射出成形することにより、光デ
ィスク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性
評価を行った。その結果を表２に示す。
【００５７】実施例１２
実施例６で得たゴム変性樹脂組成物(6)に滑剤として、S
t- Ca５０ppm添加して、射出成形することにより、光デ
ィスク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性
評価を行った。その結果を表２に示す。
t- Ca５０ppm添加して、射出成形することにより、光デ
ィスク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性
評価を行った。その結果を表２に示す。
【００５８】実施例１３
実施例６で得たゴム変性樹脂組成物(6)に滑剤無添加で
射出成形することにより、光ディスク基板を得た。次に
得られた光ディスク基板の特性評価を行った。その結果
を表２に示す。
射出成形することにより、光ディスク基板を得た。次に
得られた光ディスク基板の特性評価を行った。その結果
を表２に示す。
【００５９】比較例１
参考例４で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−４）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(8)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
テル系樹脂（Ａ−４）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(8)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
【００６０】比較例２
参考例５で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−５）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(9)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
テル系樹脂（Ａ−５）８０部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(9)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
【００６１】比較例３
参考例３で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−３）９４部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）６部を配合した樹脂
組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(10)とした。
このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５０ppm
添加して、射出成形することにより、光ディスク基板を
得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を行っ
た。その結果を表２に示す。
テル系樹脂（Ａ−３）９４部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）６部を配合した樹脂
組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(10)とした。
このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５０ppm
添加して、射出成形することにより、光ディスク基板を
得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を行っ
た。その結果を表２に示す。
【００６２】比較例４
参考例３で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−３）６６部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）３４部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(11)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
テル系樹脂（Ａ−３）６６部、参考例１４で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−１）３４部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(11)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
【００６３】比較例５
参考例３で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−３）８０部、参考例１６で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−３）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(12)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
テル系樹脂（Ａ−３）８０部、参考例１６で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−３）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(12)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
【００６４】比較例６
参考例３で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−３）８０部、参考例１７で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−４）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(13)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
テル系樹脂（Ａ−３）８０部、参考例１７で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−４）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(13)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
【００６５】比較例７
参考例７で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−７）８０部、参考例１８で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−５）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(14)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
テル系樹脂（Ａ−７）８０部、参考例１８で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−５）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(14)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
【００６６】比較例８
参考例８で製造したスチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂（Ａ−８）８０部、参考例１５で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−２）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(15)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
テル系樹脂（Ａ−８）８０部、参考例１５で製造したグ
ラフト共重合体含有樹脂（Ｂ−２）２０部を配合した樹
脂組成物を得た。これをゴム変性樹脂組成物(15)とし
た。このゴム変性樹脂組成物に滑剤として、St- Zn ５
０ppm添加して、射出成形することにより、光ディスク
基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を
行った。その結果を表２に示す。
【００６７】比較例９
撹拌機を備えた反応缶中にスチレン１００部、第三リン
酸カルシウム２．５部、 ｔ−ドデシルメルカブタン
０．５部、ベンゾイルパーオキサイド０．２部および水
２５０部を仕込み、１００℃に昇温し重合を開始させ
た。重合開始から７時間後に温度を１２０℃に昇温して
３時間保ち重合を完結させた。重合率は９７％に達し
た。得られた反応液を塩酸にて中和し、脱水、乾燥後白
色ビーズ状の共重合体を得た。これを共重合体PS(1)と
した。この共重合体に滑剤として、St- Zn ５０ppm添加
して、射出成形することにより、光ディスク基板を得
た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を行った。
その結果を表２に示す。
酸カルシウム２．５部、 ｔ−ドデシルメルカブタン
０．５部、ベンゾイルパーオキサイド０．２部および水
２５０部を仕込み、１００℃に昇温し重合を開始させ
た。重合開始から７時間後に温度を１２０℃に昇温して
３時間保ち重合を完結させた。重合率は９７％に達し
た。得られた反応液を塩酸にて中和し、脱水、乾燥後白
色ビーズ状の共重合体を得た。これを共重合体PS(1)と
した。この共重合体に滑剤として、St- Zn ５０ppm添加
して、射出成形することにより、光ディスク基板を得
た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を行った。
その結果を表２に示す。
【００６８】
【表１】
【００６９】
【表２】
【００７０】表１、表２より、実施例１〜１３は、強
度、成形性、離型性、転写性、及び複屈折等について光
ディスク基板としての優れた特性を有しているが、比較
例１〜９は、光ディスク基板としての特性は劣っている
ことがわかる。更に、実施例１〜１３は、ＣＤ−ＲＯ
Ｍ、ＤＶＤ−ＲＯＭに求められる複屈折の規格−６０ｎ
ｍ以上、６０ｎｍ以下を満足するゴム変性スチレン系樹
脂組成物からなる光ディスク基板を得ることができるこ
とがわかる。
度、成形性、離型性、転写性、及び複屈折等について光
ディスク基板としての優れた特性を有しているが、比較
例１〜９は、光ディスク基板としての特性は劣っている
ことがわかる。更に、実施例１〜１３は、ＣＤ−ＲＯ
Ｍ、ＤＶＤ−ＲＯＭに求められる複屈折の規格−６０ｎ
ｍ以上、６０ｎｍ以下を満足するゴム変性スチレン系樹
脂組成物からなる光ディスク基板を得ることができるこ
とがわかる。
【００７１】
【発明の効果】本発明により、強度、成形性、離型性、
転写性及び複屈折に優れ、しかも低い製造コストで光デ
ィスク基板を容易に得ることができるので、工業上極め
て有用である。特に、本発明によればＣＤ−ＲＯＭ、Ｄ
ＶＤ−ＲＯＭに求められる複屈折の規格−６０ｎｍ以
上、６０ｎｍ以下を満足するゴム変性スチレン系樹脂組
成物からなる光ディスク基板を得ることができる。
転写性及び複屈折に優れ、しかも低い製造コストで光デ
ィスク基板を容易に得ることができるので、工業上極め
て有用である。特に、本発明によればＣＤ−ＲＯＭ、Ｄ
ＶＤ−ＲＯＭに求められる複屈折の規格−６０ｎｍ以
上、６０ｎｍ以下を満足するゴム変性スチレン系樹脂組
成物からなる光ディスク基板を得ることができる。
フロントページの続き
(72)発明者 江部 和義
千葉県市原市五井南海岸６番地 電気化学
工業株式会社千葉工場内
Ｆターム(参考） 4J002 BC07W BG04W BG05W BN14X
BN16X EF056 EG016 EP016
GS02
5D029 KA13 KA17 KC09
Claims (5)
- 【請求項１】 スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸
エステル系単量体、及びこれらの単量体と共重合可能な
ビニル系単量体からなるスチレン−（メタ）アクリル酸
エステル系共重合体と、ジエン系ゴム状弾性体の存在下
にスチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単
量体、及びこれらの単量体と共重合可能なビニル系単量
体を共重合してなるグラフト共重合体とを主成分とする
ゴム変性スチレン系樹脂組成物であって、該ゴム変性ス
チレン系樹脂組成物のＴＨＦ（テトラヒドロフラン）可
溶分の重量平均分子量（Ｍｗ）が、５０，０００〜１０
０，０００であり、該ゴム変性スチレン系樹脂組成物の
ジエン系ゴム量が５〜１５％、スチレン系単量体単位が
５〜３５％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位
が５０〜９０％、これらの単量体と共重合可能なビニル
系単量体単位が０〜１０％であり、該ゴム変性スチレン
系樹脂組成物のゴム粒径が、０．１〜０．５μｍである
ゴム変性スチレン系樹脂組成物からなる光ディスク基
板。 - 【請求項２】 ２００℃、５ｋｇ荷重でのＭＦＲ（メル
トフローレート）≧２．０ｇ／１０分であり、５ｋｇ荷
重でのＶＳＰ（ビカット軟化点）≧９０℃であることを
特徴とする請求項１記載の光ディスク基板。 - 【請求項３】 共重合可能なビニル系単量体が、アクリ
ロニトリルである請求項１又は２記載の光ディスク基
板。 - 【請求項４】 更に、該ゴム変性スチレン系樹脂組成物
１００質量部に対して、潤滑剤１０〜２００ｐｐｍ配合
してなる請求項３記載の光ディスク基板。 - 【請求項５】 潤滑剤が、脂肪酸、脂肪酸金属塩及び脂
肪酸アマイドから選択される少なくとも１種以上である
請求項４記載の光ディスク基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002036841A JP2003242679A (ja) | 2002-02-14 | 2002-02-14 | 光ディスク基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002036841A JP2003242679A (ja) | 2002-02-14 | 2002-02-14 | 光ディスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003242679A true JP2003242679A (ja) | 2003-08-29 |
Family
ID=27778606
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002036841A Withdrawn JP2003242679A (ja) | 2002-02-14 | 2002-02-14 | 光ディスク基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003242679A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2005429A1 (en) * | 2006-03-21 | 2008-12-24 | Cheil Industries Inc. | Optical disc using methylmethacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin |
| JP2013166895A (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-29 | Techno Polymer Co Ltd | 微粒子及び熱可塑性樹脂組成物 |
| WO2018220961A1 (ja) * | 2017-06-01 | 2018-12-06 | 東レ株式会社 | 熱可塑性樹脂組成物、熱可塑性樹脂組成物の製造方法、成形品及び成形品の製造方法 |
| JPWO2020188978A1 (ja) * | 2019-03-15 | 2021-10-21 | 東レ株式会社 | スチレン系熱可塑性樹脂組成物、スチレン系熱可塑性樹脂組成物の製造方法、成形品及び成形品の製造方法 |
-
2002
- 2002-02-14 JP JP2002036841A patent/JP2003242679A/ja not_active Withdrawn
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| JPWO2020188978A1 (ja) * | 2019-03-15 | 2021-10-21 | 東レ株式会社 | スチレン系熱可塑性樹脂組成物、スチレン系熱可塑性樹脂組成物の製造方法、成形品及び成形品の製造方法 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
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|
| A761 | Written withdrawal of application |
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