JP2003227914A5 - - Google Patents
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被検物体１５上の膜ＭＬに入射した光は入射角度によって異なる位相とびを伴って反射が行われる。反射光は膜ＭＬの位相のとび量（位相分布）が一定であれば入射した光の波面は歪まないことになるが、位相分布を持っておれば入射角にしたがって位相が進んだり遅れたりして入射波面とは異なる位相分布を持った光（検出光）となって、回転放物面鏡１４に戻り、そこで反射してビームスプリッタ１３に入射する。
一方、引き回し光学系１２からの光のうちビームスプリッタ１３で反射した光ＬＲは、ＥＵＶ光が反射する膜を施した参照板１７の参照平面１７ａで反射し、参照光として元の光路を戻り、ビームスプリッタ１３に入射する。
回転放物面鏡１４からの検出光はビームスプリッタ１３で反射し、参照平面１７ａからの参照光はビームスプリッタ１３を通過し、双方の光はビームスプリッタ１３を介して重なり合い、干渉光ＬＩとなり、干渉信号を形成する。このときの干渉信号は被検物体１５への入射角度に依存した膜の位相特性を含んだものとなっている。即ち、干渉情報のうち中心軸ＬＣの光は、入射角０の膜の位相特性となり、中心軸ＬＣから離れた端部位置Ｌａの干渉情報は、入射角θにおける膜の位相特性となる。
ここでフラウンホーファー領域とは、例えば測定用の光の波長をλ、ビームスプリッタ１３のグレーティングのピッチをｄ、ビームスプリッタ１３から回転放物面鏡１４又は参照板１７までの距離をＤとしたとき、
Ｄ＞＞π（ｄ／２）2／λ
を満足することをいう。
Ｄ＞＞π（ｄ／２）2／λ
を満足することをいう。
ビームスプリッタ１３からの干渉光ＬＩは、結像手段としての回転放物面鏡１８で集光され、集光位置に設けた絞り１９で高次回折光が遮光され、干渉情報を含む信号光が検出手段２０で検出される。
実施形態２では、被検物体１５の膜ＭＬ上の測定点１５ａで反射し、回転放物面鏡１４で反射した光をビームスプリッタ（回折格子）１３によって反射させてフーリエ像を形成している。ビームスプリッタ１３は光束との傾き角α＝４５度となるように配置している。
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