JP3344328B2 - 光分析装置 - Google Patents

光分析装置

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JP3344328B2
JP3344328B2 JP28080698A JP28080698A JP3344328B2 JP 3344328 B2 JP3344328 B2 JP 3344328B2 JP 28080698 A JP28080698 A JP 28080698A JP 28080698 A JP28080698 A JP 28080698A JP 3344328 B2 JP3344328 B2 JP 3344328B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明の光分析装置は、集光
光学系・スペクトル検出系、視野検出系の相対位置を検
出する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来は、図8に示すように、被測定光源
をカセグレン型の集光光学系3にて視野スリット4に投
影し、その視野スリット4を透過する光を分波し、複数
のバンドパスフィルターと受光素子により構成されるス
ペクトル検出系5にて各々の波長の強度分布を測定する
ものである。
【0003】一方、像11と被測定エリアである視野ス
リット4の相対位置の測定は、集光望遠鏡と並列して設
置したガリレオタイプの集光レンズ16にて4分割受光
素子15に投影し、その4素子の出力差より像の位置を
測定し、像11と被測定エリアである視野スリット4の
相対位置を測定するというものである。
【0004】また、4分割素子15を1次元リニアアレ
イ素子とし、被測定光源の位置検出を行なう例もある。
【0005】なお、上記従来例では集光光学系・スペク
トル検出系と並列して視野検出系が設置してあるため、
これら2つの系が異なる温度になった場合、または機械
的振動によりこれら2つの系の相対位置がずれた場合、
この相対位置のずれ分だけ被測定光源と被測定エリアの
相対位置検出測定値に誤差が生ずるという問題があっ
た。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】一般に、光分析測定装
置での被測定エリアの検出においては、高分解能の要求
に加えて対環境性能が要求され、その振動、温度変化に
対しても測定精度が変化しないよう高い再現性が要求さ
れてる。
【0007】本発明は、このような被測定エリアの検出
において、振動、温度変化に対しても測定精度が変化し
ない高信頼性を持つことを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明は、被測定光源からの光を集光する集光光学系
と、前記集光光学系による被測定光源の結像面に設置し
且つ光線入射面を鏡面状態とした視野絞り面と、前記視
野絞り面を透過する光を分析する分析部と、前記視野絞
りから正反射し且つ前記集光光学系を再度透過し射出し
た正反射光の光束の一部を集光する第2集光光学系と、
前記第2集光光学系を透過し射出した光を再度結像する
ことにより前記視野絞り面での被測定光源と視野絞り位
置との相対位置を検出するアレイ型受光素子輝度検出素
子と、を有する光分析装置により、被測定エリアの検出
を行うものである。
【0009】本発明によれば、視野絞りに投影される被
測定光源の像を再結像投影する方式としたため、再結像
した像には被測定光源と測定エリア位置が含まれてお
り、温度変化、振動等の環境変化により集光光学系と分
光器視野絞りの相対位置が変化しても、前記の2つの集
光光学系から再結像される像の投影倍率が変化しないか
ぎりは、視野絞り面での被測定光源と被光分析エリアの
相対位置を正確に測定できる。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、測定領域を特定するための視野絞りを有し、視野絞
りを透過する光を分光及びフィルターにより分析を行な
装置であって、被測定光源からの光を集光する集光光
学系と、前記集光光学系による被測定光源の結像面に設
置し且つ光線入射面を鏡面状態とした視野絞り面と、前
記視野絞り面を透過する光を分析する分析部と、前記視
野絞りから正反射し且つ前記集光光学系を再度透過し射
出した正反射光の光束の一部を集光する第2集光光学系
と、前記第2集光光学系を透過し射出した光を再度結像
することにより前記視野絞り面での被測定光源と視野絞
り位置との相対位置を検出するアレイ型受光素子輝度検
出素子と、を有する光分析装置であり、視野絞りに投影
される被測定光源像を集光光学系及び異なる集光光学系
を用いて再結像投影する方式としたため、再結像した像
には被測定光源像に加えて分光測定を行なう被測定エリ
ア位置が含まれており、温度変化、振動等の環境変化に
より集光光学系と分光器視野絞りの相対位置が変化して
も、前記の2つの集光光学系から再結像される像の投影
倍率が変化しないかぎりは、視野絞り面での被測定光源
と被測定エリアの相対位置を正確に測定できる作用を有
する。
【0011】本発明の請求項2に記載の発明は、測定領
域を特定するための視野絞りを有し、視野絞りを透過す
る光を分光及びフィルターにより分析を行なう複数の異
なる機能を有する装置であって、被測定光源からの光を
集光する集光光学系と、前記集光光学系による被測定光
源の結像面に設置し且つ光線入射面を鏡面状態とした第
2視野絞り面と、前記第2視野絞り面を透過した光を波
長分割して分波する分波ミラーと、前記分波ミラーから
の分波光をそれぞれ結像させる各々の分波光集光光学系
と、その各々の結像面に設置した各々の視野絞りと、前
記各々の視野絞りを透過する光を分析する各々の分析部
と、前記第2視野絞りから正反射し且つ前記集光光学系
を再度透過し射出した正反射光の光束の一部を集光する
第2集光光学系と、前記第2集光光学系を透過し射出し
た光を再度結像することにより前記第2視野絞り面での
被測定光源と視野絞り位置との相対位置を検出するアレ
イ型受光素子輝度検出素子と、を有する光分析装置であ
り、視野絞りと第2視野絞りとは共役関係となることか
ら、第2視野絞りに投影される被測定光源像を集光光学
系及び異なる集光光学系を用いて再結像投影する方式と
し、再結像した像には被測定光源像に加えて光分析測定
を行なう被測定光エリアが含まれており、温度変化、振
動等の環境変化により集光光学系と第2視野絞りの相対
位置が変化しても、前記の2つの集光光学系から再結像
される像の投影倍率が変化しないかぎりは、第2視野絞
り面での被測定光源像と被測定光エリアの相対位置を正
確に測定できる作用を有する。
【0012】本発明の請求項3に記載の発明は、視野絞
から正反射し且つ集光光学系を再度透過し射出した正
反射光の光束の一部を、折り返しミラーと第2集光光学
系とを用いて、1次元または2次元のアレイ型受光素子
面上に再度結合させることを特徴とした請求項1記載の
光分析装置であり、再結像される像にて1次元、または
2次元の位置測定を行なえる作用を有する。
【0013】本発明の請求項4に記載の発明は、第2
野絞りから正反射し且つ集光光学系を再度透過し射出し
た正反射光の光束の一部を、折り返しミラーと第2集光
光学系とを用いて、1次元または2次元のアレイ型受光
素子面上に再度結合させることを特徴とした請求項2記
載の光分析装置であり、再結像される像にて1次元、ま
たは2次元の位置測定を行なえる作用を有する。
【0014】本発明の請求項5に記載の発明は、正反射
光を反射・透過の2つに分割する第1ハーフミラーと、
前記第1ハーフミラーより反射した光を反射するための
反射ミラーと、前記反射ミラーの反射光を再度前記第1
ハーフミラーを透過した透過光とを被測定光源照射視野
角以上の角度差を有して合成する第2ハーフミラーとで
構成される像回転ミラーを、折り返しミラーと第2集光
光学系の間に設け、受光素子を1次元アレイ型受光素
子とし、前記像回転ミラーから射出する視野方向が直交
した2つの光束を前記第2集光光学系にて1次元アレイ
型受光素子に投影することを特徴とした請求項3又は
求項4記載の光分析装置であり、第1、2のハーフミラ
ーと反射ミラーからなる像回転ミラーにて90°回転し
た像を形成させ、 元の像と像視野だけ角度差があるた
め、1次元アレイ素子には2つの直交した像が投影され
るため、1次元の情報で2次元の位置測定を行なえる作
用を有する。
【0015】本発明の請求項6に記載の発明は、正反射
光を反射・透過の2つに分割する第1ハーフミラーと、
反射の方向余弦が直交する複数の反射ミラーから構成さ
れ前記第1ハーフミラーより反射した光の視野を90度
回転した像回転反射ミラー群と、前記像回転反射ミラー
群からの反射光と前記第1ハーフミラーを透過した透過
光とを被測定光源照射視野角以上の角度差を有して再度
合成する第2ハーフミラーとで構成される像回転光学系
を、折り返しミラーと第2集光光学系の間に設け、受
光素子を1次元アレイ型受光素子とし、前記像回転光学
系から射出する視野方向が直交した2つの光束を前記第
集光光学系にて1次元アレイ型受光素子に投影するこ
とを特徴とした請求項3又は請求項4記載の光分析装置
であり、第1、2のハーフミラーと反射の方向余弦が直
交する複数の反射ミラーから構成され前記第1ハーフミ
ラーより反射した光の視野を90度回転した像回転反射
ミラー群により90°回転した像を形成させ、元の像と
像視野だけ角度差があるため、1次元アレイ素子には2
つの直交した像が投影されるため、1次元の情報で2次
元の位置測定を行なえる作用を有する。
【0016】本発明の請求項7に記載の発明は、視野絞
りの光線入射方向の面粗さの分散値(RMS)が、視野
絞りからの正反射光を受光素子に再結像させる光の波長
の1/10以下の鏡面状態を有することを特徴とした請
求項1記載の被測定エリア検出装置としたものであり、
視野絞りからの正反射成分を多くする作用を有する。
【0017】本発明の請求項8に記載の発明は、第2視
野絞りの光線入射方向の面粗さの分散値(RMS)が、
第2視野絞りからの正反射光を受光素子に再結像させる
光の波長の1/10以下の鏡面状態を有することを特徴
とした請求項2記載の被測定エリア検出装置としたもの
であり、視野絞りからの正反射成分を多くする作用を有
する。
【0018】以下、本発明の実施の形態について、図1
〜図7を用いて説明する。 (実施の形態1)図1は本発明の請求項1に基づく実施
の形態1及び実施例1を示し、測定光源である測定対象
物1から発した被測定光2は、集光光学系3により光分
析装置入射スリット4の表面で結像する。
【0019】4は光分析装置入射スリットで、金属もし
くは樹脂でできており、反射面は後に再投影しアレイセ
ンサ上で信号に変換するための投影波長の1/10以下
のRMSの粗さに仕上げられており、散乱光よりも正反
射光強度が高い構成となっている。
【0020】光分析装置入射スリット4を透過した光は
光分析装置5により分析されるが、このとき光分析装置
入射スリット4を反射した反射光6は集光光学系3を再
び通過し、反射光の一部を折り返し ミラー7と第2集
光光学系 8により1次元もしくは2次元のアレイセン
サ10面上に再結像させる。
【0021】このときのアレイセンサ10の信号は、1
次元13もしくは2次元アレイセンサ15の場合、再投
影された測定光源である測定対象物1の再投影像の出力
プロファイル11に光分析装置入射スリット4のスリッ
ト像14の情報が含まれる。
【0022】そのため、アレイセンサ10の信号から測
定光源である測定対象物1の再投影像の出力プロファイ
ル11と光分析装置入射スリット4のスリット像14
相対位置を検出することができる。
【0023】さらに、集光光学系3・第2集光光学系8
・折り返しミラー7・アレイセンサ10の配置関係が振
動・熱変形等の環境により変化したとしても、光分析装
置入射スリット上で結像された像を再投影していること
から、測定光源である測定対象物1の再投影像の出力プ
ロファイル11と光分析装置入射スリット4のスリット
14の相対位置は変化せず、振動・熱変形等の環境に
て生ずるアライメントずれによる測定誤差に影響を受け
ない。
【0024】(実施の形態2)図2は本発明の請求項2
に基づく実施の形態2及び実施例2を示し、測定光源で
ある測定対象物1から発した被測定光2は、集光光学系
3により視野絞り4の表面で結像する。
【0025】視野絞り4は金属もしくは樹脂でできてお
り、反射面は後に再投影しアレイセンサ上で信号に変換
するための投影波長の1/10以下のRMSの粗さに仕
上げられており、散乱光よりも正反射光強度が高い構成
となっている。
【0026】さらに、視野絞り4は色分割ミラー17に
より波長分割され、異なる機能を持つ2種の光分析測定
装置A,B:5a、5bの視野絞り1A、1B:16
a,16b入射面と共役位置にある。
【0027】視野絞り4を透過した光は光分析装置A,
B:5a,5bにより分析されるが、このとき視野絞り
4を反射した反射光6は集光光学系3を再び通過し、反
射光の一部を折り返しミラー7と第2集光光学系8によ
り1次元もしくは2次元のアレイセンサ10面上に再結
像させる。
【0028】このときのアレイセンサ10の信号は、図
1と同様に、再投影された測定光源である測定対象物1
の再投影像の出力プロファイル11に視野絞り4のスリ
ット像14の情報が含まれるため、測定光源である測定
対象物1の再投影像の出力プロファイル11と視野絞り
4のスリット像14の相対位置を検出することができ
る。
【0029】(実施の形態3)図3は本発明の請求項1
に基づく実施の形態3及び実施例3を示し、測定光源で
ある測定対象物1から発した被測定光2は、集光光学系
3と色分割ミラーA17aにより波長分割され異なる機
能を持つ2種の光分析測定装置A,B:5a、5bの視
野絞り1A、1B:16a,16bに各々結像する。
【0030】視野絞り1A、1B:16a,16bは金
属もしくは樹脂でできており、反射面は後に再投影しア
レイセンサ上で信号に変換するための投影波長の1/1
0以下のRMSの粗さに仕上げられており、散乱光より
も正反射光強度が高い構成となっている。
【0031】視野絞り1A、1B:16a,16bを透
過した光は光分析装置A,B:5a,5bにより分析さ
れるが、視野絞り1A、1B:16a,16bを反射し
た反射光は再び色分割ミラーA17aにより合成され、
集光光学系3を再び通過し、反射光の一部を折り返しミ
ラー7により分岐し、色分割ミラーA17aとほぼ同様
な特性を持つ色分割ミラーB17bにて再度波長分割
し、第2集光光学系:8により各々の波長にて1次元も
しくは2次元のアレイセンサA,B10a,10b上に
再結像させる。
【0032】このときのアレイセンサA10aの信号に
は光分析装置A:5aの視野絞り1A:16a上で結像
された像の再投影像が,アレイセンサA10bの信号に
は光分析装置B:5bの視野絞り1B:16b上で結像
された像の再投影像が記録される。
【0033】この各々の信号には,各々の光分析装置視
野絞りの情報が含まれるため、測定光源である測定対象
物1の再投影像の出力プロファイル11と視野絞り16
a、16bのスリット像14 の相対位置を各々検出す
ることができる。
【0034】(実施の形態4)図4は本発明の請求項1
に基づく実施の形態4及び実施例4を示し、前記図3で
の色分割ミラーB17bにて再度波長分割した光を、折
り返しミラー17及び色分割ミラーC17cにて被測定
光源の発散角以上の角度差をつけて再度合成し、第2集
光光学系8によりアレイセンサ10上に再結像させる。
【0035】このときのアレイセンサ10の信号には光
分析装置A:5aの視野絞り1A:16a上で結像され
た再投影像出力プロファイルA:11aと視野絞り1
B:16b上で結像された再投影像出力プロファイル
B:11bとが記録される。
【0036】この各々の信号には,各々の光分析装置視
野絞りの情報が含まれるため、測定光源である測定対象
物1の再投影像の出力プロファイル11と視野絞り16
a、16bのスリット像14 の相対位置を1つのアレ
イセンサにて各々検出することができる。
【0037】(実施の形態5)図5は本発明の請求項5
に基づく実施の形態5及び実施例5を示し、光分析測定
装置5の視野絞り4から反射した反射光6が再び集光光
学系6を通過し、折り返しミラー7により分岐する。
【0038】折り返しミラー7により反射された光は、
ハーフミラー17により分割され、1方はハーフミラー
17を透過する光と、もう1方は2つのハーフミラー1
7の反射面と反射ミラー18より構成される像回転ミラ
ー19により90度視野回転した像となり、後ろ側のハ
ーフミラー17により視野回転していない光と被測定光
源の発散角以上の角度差をつけて再度合成し、第2集光
光学系8によりアレイセンサ10上に再結像させる。
【0039】このときのアレイセンサ10の信号には光
分析装置5の視野絞り4上で結像された再投影像出力プ
ロファイル11が直交する2方向のスリット像14(A
−A、B−B断面)が記録される。
【0040】この各々の信号は,直交する2方向断面の
光分析装置視野絞りの情報が含まれるため、測定光源で
ある測定対象物1の再投影像の出力プロファイル11と
視野絞り4のスリット像14の相対位置を1つのアレイ
センサにて2方向に検出することができる。
【0041】(実施の形態6)図6は本発明の請求項
2、請求項6に基づく実施の形態6及び実施例6を示
し、実施の形態5にて用いた像回転ミラー19により9
0度視野回転した像と視野回転していない光と被測定光
源の発散角以上の角度差をつけて再度合成し、第2集光
光学系8によりアレイセンサ10上に再結像させる方式
を実施の形態2に適用した例である。
【0042】このため、視野絞り4から反射した反射光
6が再び集光光学系6を通過し、折り返しミラー7によ
り分岐し反射された光をハーフミラー17と反射ミラー
18より構成される像回転ミラー19により90度視野
回転した像と視野回転がない像を被測定光源の発散角以
上の角度差をつけて再度合成し、第2集光光学系8によ
りアレイセンサ10上に再結像させる方式としている。
【0043】(実施の形態7)図7は本発明の請求項
2、請求項6に基づく実施の形態7及び実施例7を示
し、実施の形態6での構成に加えて、入射光反射ミラー
20とハーフミラー17により測定光源である測定対象
物1からの入射光を被測定光源の発散角以上の角度差を
つけて、視野絞り4からの反射光に合成し、第2集光光
学系8によりアレイセンサ10上に再結像させる方式と
した例である。
【0044】このため、視野絞り4から反射した反射光
6が再び集光光学系6を通過し、折り返しミラー7によ
り分岐し反射された光をハーフミラー17と反射ミラー
18より構成される像回転ミラー19により90度視野
回転した像と視野回転がない像に加えて、測定対象物1
の直接投影像を第2集光光学系8によりアレイセンサ1
0上に再結像させ、スリットにて欠落した像情報も検出
する方式としている。
【0045】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、光分析測
定を行なう視野である視野絞りに投影される被測定光源
の像を再結像投影する方式としたため、再結像した像に
は被測定光源と測定エリア位置が含まれており、温度変
化、振動等の環境変化により集光光学系と光分析測定装
置視野絞りの相対位置が変化しても、前記の2つの集光
光学系から再結像される像の投影倍率が変化しないかぎ
りは、視野絞り面での被測定光源と被光分析エリアの相
対位置を正確に測定できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1による光測定エリア検出
装置の光路断面図
【図2】本発明の実施の形態2による光測定エリア検出
装置の光路断面図
【図3】本発明の実施の形態3による光測定エリア検出
装置の光路断面図
【図4】本発明の実施の形態4による光測定エリア検出
装置の光路断面図
【図5】本発明の実施の形態5による光測定エリア検出
装置の光路断面図
【図6】本発明の実施の形態6による光測定エリア検出
装置の光路断面図
【図7】本発明の実施の形態7による光測定エリア検出
装置の光路断面図
【図8】従来の光測定エリア検出装置の光路断面図
【符号の説明】 1 測定対象物 2 被測定光 3 集光光学系 4 視野絞りC 5a 光分析測定装置A 5b 光分析測定装置B 6 反射光 7 折り返しミラー 8 第2集光光学系 10 アレイセンサ 11 出力プロファイル 12 アレイ番号 13 光量 14 スリット像 15 2次元アレイセンサ 16a 視野絞り1A 16b 視野絞り1B 17 色分割ミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−306143(JP,A) 特開 平8−110263(JP,A) 特開 昭64−32130(JP,A) 特開 昭51−138448(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01J 1/00 - 3/52 G01N 21/00 - 21/74 G02B 7/00

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 測定領域を特定するための視野絞りを有
    し、視野絞りを透過する光を分光及びフィルターにより
    分析を行なう装置であって、被測定光源からの光を集光
    する集光光学系と、前記集光光学系による被測定光源の
    結像面に設置し且つ光線入射面を鏡面状態とした視野絞
    り面と、前記視野絞り面を透過する光を分析する分析部
    と、前記視野絞りから正反射し且つ前記集光光学系を再
    度透過し射出した正反射光の光束の一部を集光する第2
    集光光学系と、前記第2集光光学系を透過し射出した光
    を再度結像することにより前記視野絞り面での被測定光
    源と視野絞り位置との相対位置を検出するアレイ型受光
    素子輝度検出素子と、を有する光分析装置。
  2. 【請求項2】 測定領域を特定するための視野絞りを有
    し、視野絞りを透過する光を分光及びフィルターにより
    分析を行なう複数の異なる機能を有する装置であって、
    被測定光源からの光を集光する集光光学系と、前記集光
    光学系による被測定光源の結像面に設置し且つ光線入射
    面を鏡面状態とした第2視野絞り面と、前記第2視野絞
    り面を透過した光を波長分割して分波する分波ミラー
    と、前記分波ミラーからの分波光をそれぞれ結像させる
    各々の分波光集光光学系と、その各々の結像面に設置し
    た各々の視野絞りと、前記各々の視野絞りを透過する光
    を分析する各々の分析部と、前記第2視野絞りから正反
    射し且つ前記集光光学系を再度透過し射出した正反射光
    の光束の一部を集光する第2集光光学系と、前記第2集
    光光学系を透過し射出した光を再度結像することにより
    前記第2視野絞り面での被測定光源と視野絞り位置との
    相対位置を検出するアレイ型受光素子輝度検出素子と、
    を有する光分析装置。
  3. 【請求項3】 視野絞りから正反射し且つ集光光学系を
    再度透過し射出した正反射光の光束の一部を、折り返し
    ミラーと第2集光光学系とを用いて、1次元または2次
    元のアレイ型受光素子面上に再度結合させることを特徴
    とした請求項1記載の光分析装置。
  4. 【請求項4】 第2視野絞りから正反射し且つ集光光学
    系を再度透過し射出した正反射光の光束の一部を、折り
    返しミラーと第2集光光学系とを用いて、1次元または
    2次元のアレイ型受光素子面上に再度結合させることを
    特徴とした請求項2記載の光分析装置。
  5. 【請求項5】 正反射光を反射・透過の2つに分割する
    第1ハーフミラーと、前記第1ハーフミラーより反射し
    た光を反射するための反射ミラーと、前記反射ミラーの
    反射光を再度前記第1ハーフミラーを透過した透過光と
    を被測定光源照射視野角以上の角度差を有して合成する
    第2ハーフミラーとで構成される像回転ミラーを、折り
    返しミラーと第2集光光学系の間に設け、受光素子を
    1次元アレイ型受光素子とし、前記像回転ミラーから射
    出する視野方向が直交した2つの光束を前記第2集光光
    学系にて1次元アレイ型受光素子に投影することを特徴
    とした請求項3又は請求項4記載の光分析装置。
  6. 【請求項6】 正反射光を反射・透過の2つに分割する
    第1ハーフミラーと、反射の方向余弦が直交する複数の
    反射ミラーから構成され前記第1ハーフミラーより反射
    した光の視野を90度回転した像回転反射ミラー群と、
    前記像回転反射ミラー群からの反射光と前記第1ハーフ
    ミラーを透過した透過光とを被測定光源照射視野角以上
    の角度差を有して再度合成する第2ハーフミラーとで構
    成される像回転光学系を、折り返しミラーと第2集光光
    学系の間に設け、受光素子を1次元アレイ型受光素子
    とし、前記像回転光学系から射出する視野方向が直交し
    た2つの光束を前記第2集光光学系にて1次元アレイ型
    受光素子に投影することを特徴とした請求項3又は請求
    項4記載の光分析装置。
  7. 【請求項7】 視野絞りの光線入射方向の面粗さの分散
    値(RMS)が、視野絞りからの正反射光を受光素子に
    再結像させる光の波長の1/10以下の鏡面状態を有す
    ることを特徴とした請求項1記載の光分析装置。
  8. 【請求項8】 第2視野絞りの光線入射方向の面粗さの
    分散値(RMS)が、第2視野絞りからの正反射光を受
    光素子に再結像させる光の波長の1/10以下の鏡面状
    態を有することを特徴とした請求項2記載の光分析装
    置。
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