JP2000097622A

JP2000097622A - 干渉計

Info

Publication number: JP2000097622A
Application number: JP10268584A
Authority: JP
Inventors: Shikyo Ryu; 志強劉
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-09-22
Filing date: 1998-09-22
Publication date: 2000-04-07

Abstract

(57)【要約】【課題】基準面を有さずに高精度な面形状や波面形状計
測が可能で、干渉縞のコントラストが高い干渉計を提供
する。【解決手段】光源と、該光源からの光束を測定光束と参
照光束とに分ける光束分割手段と、回折ピンホールと絞
りとを有し、前記測定光束が前記回折ピンホールを通過
し、前記参照光束が前記絞りを通過する第１のマスク
と、該第１のマスクからの前記測定光束と前記参照光束
とを反射又は透過する被検物と、該被検面からの前記測
定光束と前記参照光束とを通過させるための、絞りと回
折ピンホールとを有する第２のマスクと、を有し、該第
２のマスクからの前記測定光束と参照光束とにより干渉
縞を形成することを特徴とする干渉計を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、干渉測定に関す
る。特に、反射鏡やレンズ等の光学系の面形状や波面形
状を精密に測定する干渉測定に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光学系の面形状や波面形状の計測
には、フィゾー干渉計やトワイマン・グリーン干渉計が
用いられてきた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上述の従来の方法で
は、基準面を必要とし、その基準面との比較により面形
状や波面形状を計測するため、測定精度は基準面の面精
度を超えることが出来なかった。また、これらの干渉計
は、測定光束と参照光束との強度が異なるので、干渉縞
のコントラストが低く、このため、精度が落ちるという
欠点があった。

【０００４】以上の問題点に鑑み、本発明では、基準面
を有さずに高精度な面形状や波面形状計測が可能で、干
渉縞のコントラストが高い干渉計を提供することを目的
とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、光源と、該光源からの光束を測定光束
と参照光束とに分ける光束分割手段と、回折ピンホール
と絞りとを有し、前記測定光束が前記回折ピンホールを
通過し、前記参照光束が前記絞りを通過する第１のマス
クと、該第１のマスクからの前記測定光束と前記参照光
束とを反射又は透過する被検物と、該被検面からの前記
測定光束と前記参照光束とを通過させるための、絞りと
回折ピンホールとを有する第２のマスクと、を有し、該
第２のマスクからの前記測定光束と参照光束とにより干
渉縞を形成することを特徴とする干渉計を提供する。

【０００６】

【発明の実施形態】本発明では、上述のように、光束が
被検面に当たる前に、光束を二つに分割し、一方の光束
を回折ピンホールに集光し、他方の光束の光を絞りに集
光する。尚、本発明では、この回折ピンホールと絞りと
を一つの板上に形成しており、この板をマスクと称す
る。

【０００７】光源から射出され、回折ピンホールを透過
した光は、歪みの少ない球面波になり、測定光束とし
て、被検物に入射する。被検物に入射し、透過或は反射
した光は、絞りに集光し、この絞りを透過する。光源か
ら射出され、絞りを透過した光は、被検面に到達する。
被検面に到達した光束は、被検面で反射或は透過され、
回折ピンホールに光を集光するようになる。回折ピンホ
ールに到達した光束は、回折ピンホールを透過し、歪み
の少ない球面波になり、参照光束となる。この参照光束
と先程の測定光束とが干渉することによって、干渉縞を
生じ、被検面を測定することができるようになる。

【０００８】本発明では、このように、被検面とマスク
との間に光束分割手段が無いので、光束分割手段の誤差
の影響を受けない計測ができるようになっている。ま
た、マスクの回折ピンホールを透過した測定光束は、被
検面で反射した後に、絞りを透過し、マスクの絞りを透
過した参照光束は、被検面で反射して、回折ピンホール
を透過するので、参照光束と測定光束との光量低減が同
じになる。このため、干渉縞のコントラストが高い。

【０００９】更に、光束分割手段を透過した後に、測定
光束或は参照光束両方とも回折ピンホールを一回透過す
るので、位相を調整する際に伴う波面の変化が生じな
い。

【００１０】

【実施例】光源からの光は、集光手段によって、回折ピ
ンホールと絞りとに光を集光する。回折ピンホールを透
過した光は、被検面で反射して、絞りを透過し、測定光
束になる。絞りを透過した光は、被検面で反射し、回折
ピンホールを透過し参照光束になる。測定光束と参照光
束とは干渉する。

【００１１】また、光束分割手段を光源からマスクまで
の間に設けることで、分割した光の少なくとも一方の光
路長を、調整可能装置を調整することが可能になる。こ
れによって、参照光束と測定光束の位相差を調整するこ
とができる。〔実施例１〕図１は、本発明による実施例１の原理図で
ある。

【００１２】先ず、マスク１について説明する。図１中
に示したマスク１は、図２に示す如く、回折ピンホール
２及び絞り３を含む。図２に示すマスク１は、回折ピン
ホール２の中心と絞り３の中心との間隔をｒ＋Ｒより大
きく設定している。ここで、ｒは回折ピンホール２の半
径、Ｒは絞り３の半径である。回折ピンホール２と絞り
３との中心距離をｒ＋Ｒより大きく設定する理由は、参
照光束が絞りを透過し測定光束中に混入する影響を、低
減するためである。

【００１３】回折ピンホール２の直径（２ｒ）は、光を
通過させる為に、光の波長より大きいものであり、且
つ、歪みの少ない球面波を得る為に、λ／ＮＡ（λは光
の波長、ＮＡは入射光の開口数）より小さいものとなっ
ている。絞り３の直径（２Ｒ）は、測定波面に与える影
響が測定精度より小さいくなるように、十分大きく取る
ように管理されている。

【００１４】本実施例では、光源９からの光束は、集光
反射球面鏡６によって、マスク１上に集光する。更に、
この光路中に、光束分割手段としての反射型回折光子５
を設けることで、光束を二つに分割する。二つに分割さ
れた光束は、マスク１の回折ピンホール２と絞り３とに
集光する。マスク１の回折ピンホール２を透過した光束
２１の波面は、回折によって、歪みが測定精度より小さ
くなるような球面波に変換され、被検面８に入射する。
被検面８で反射した波面は、マスク４の絞り３を透過す
る。マスク４は、図２に示すマスク１と同じ構造を持っ
ている。

【００１５】一方、光源から射出され、マスク１の絞り
３を透過した光束２０は、被検面８を介して、マスク４
の回折ピンホール２に集光する。回折ピンホール２を透
過した回折光は、波面の歪みが測定精度より十分小さい
光になって、参照光束となり、前述の測定光束と干渉す
る。本実施例では、被検面８を結像反射球面鏡１０によ
ってＣＣＤ７上に結像する。

【００１６】測定光束の光量を十分に利用する為に、結
像反射球面鏡１０を取り外し、ＣＣＤ７に形成された干
渉縞より被検面８の形状を算出することは、本実施例の
変形例の１つである。本実施例では、干渉縞より干渉縞
の位相分布を算出する為に、縞走査法を用いる。参照光
束の波面と測定光束の波面との位相差を調整する為に、
回折格子５を図１中の矢印の方向にシフトする。本実施
例では、回折格子５がシフトする際に伴う回折格子の傾
きや回転等が生じても、参照光束の波面と測定光束の波
面の形状に影響を与えない。〔実施例２〕図３は、本発明による実施例２の原理図で
ある。

【００１７】図３に示すマスク１は、図２に示したもの
と同様であり、回折ピンホール２及び絞り３を含む。本
実施例でも、回折ピンホール２の中心と絞り３の中心と
の間隔は、ｒ＋Ｒより大きくしている。ここでｒは回折
ピンホール２の半径、Ｒは絞り３の半径である。回折ピ
ンホール２の中心と絞り３の中心と距離をｒ＋Ｒより大
きくする理由は、実施例１で述べた通りである。

【００１８】本実施例では、光源９からの光は、集光反
射球面鏡６によって、マスク１上に集光する。本実施例
では、光束分割手段として、小さな角度を持つ二枚の反
射ミラー１１及び１２を用い、光束を二つに分割する。
反射ミラー１１で反射された光束は、マスク１の回折ピ
ンホール２に集光し、反射ミラー１２で反射した光束
は、マスク１の絞り３に集光する。

【００１９】マスク１の回折ピンホール２を透過した波
面は、回折の影響で歪みが測定精度より小さくなるよう
な球面波に変換され、測定光束として被検面８に入射す
る。被検面８で反射した波面は、マスク４の絞りを透過
する。マスク４は、マスク１と同じ構造を持っている。
一方、マスク１の絞り３を透過した波面は、被検面８を
介して、マスク４の回折ピンホール２に集光する。回折
ピンホール２を透過した光束は、回折によって、歪みが
測定精度より十分小さい球面波に変換され、参照光束と
なる。この参照光束と前述の測定光束とが干渉する。実
施例２の中では、被検面８を結像反射球面鏡１０によっ
てＣＣＤ７に結像する。

【００２０】測定光束の光量を十分に利用する為に、結
像反射球面鏡１０を取り外し、ＣＣＤ７に形成された干
渉縞より被検面８の形状を算出することは、本実施例の
変形例の１つである。本実施例では、干渉縞より干渉縞
の位相分布を算出する為に、縞走査法を用いる。参照光
束の波面と測定光束の波面との位相差を調整する為に、
反射ミラー１１又は１２のどちらかを反射ミラーの法線
方向にシフトさせる。本実施例では、反射ミラー１２を
図３中の矢印の方向にシフトしている。本実施例では、
反射ミラー１２がシフトする際に伴う反射ミラー１２の
傾きや回転等が生じても、参照光束の波面と測定光束の
波面の形状に影響を与えない。〔実施例３〕図４は、本発明による実施例３の原理図で
ある。

【００２１】実施例３は、マスクを１枚のみ用いる干渉
計である。光源９からの光を、集光レンズ１７によって
集光し、ハーフミラー１９、反射ミラー１５及び１６に
よって構成される光束分割手段によって、マスク１の回
折ピンホール２及び絞り３に集光する。回折ピンホール
２を透過した光は、歪みが測定精度より十分小さい球面
波になり、測定光束として、被検面８に入射する。被検
面８で反射した光は、絞り３に集光し、絞り３を透過す
る。

【００２２】光源９から射出され、マスク１の絞り３を
透過した光は、被検面８によって反射され、マスク１の
回折ピンホール２に集光する。回折ピンホール２を透過
した光は、波面の歪みが測定精度より十分小さい参照光
束となり、前述の測定光束と干渉する。結像手段１８に
よって、被検面８をＣＣＤ７に投影する。

【００２３】干渉縞から干渉縞の位相分布を解析する為
に、光束分割手段の反射ミラー１５或は反射ミラー１６
の少なくとも一つを光軸方向に調整する。本実施例で
は、反射ミラー１５を光軸方向に調整するようになって
いる。反射ミラー１５の調整に伴う反射ミラー１５の傾
きが生じても、反射ミラー１５によって反射した光は、
マスク１の回折ピンホール２を透過し、回折ピンホール
２を透過した光の波面形状は変らないため、調整誤差は
測定に影響を与えない。〔実施例４〕図５は、本発明による実施例４の原理図で
ある。

【００２４】実施例４では、光源９からの光を、集光反
射球面鏡１４及び２５によって、回折格子１３に入射さ
せる。回折格子１３で反射、回折した光束は、マスク１
に集光する。反射球面鏡１４と２５とは、曲率中心がず
れるように配置されており、反射球面鏡１４で反射した
光は、マスク１の回折ピンホール２に集光し、反射球面
鏡２５で反射した光は、マスク１の絞り３に集光する。
反射球面鏡１４及び２５で反射した光源９からの光は、
回折格子１３の一次回折光のみをマスク１に集光できる
ようになっている。

【００２５】マスク１の回折ピンホール２を透過した光
は、理想的な球面波になり、被検面８に入射する。被検
面８に入射した光は、被検面８で反射され、マスク１の
絞り３を透過して、回折格子１３に入射する。回折格子
１３に回折された光のうち、回折光子１３の０次反射光
が、結像手段としての球面反射鏡１０で反射され、ＣＣ
Ｄ７上に、測定光束として到達する。

【００２６】マスク１の絞り３を透過した光源からの光
は、被検面８で反射し、マスク１の回折ピンホール２を
透過し、理想的な球面波になり、回折格子１３に到達す
る。回折格子１３に回折された光束のうち、０次反射光
が、結像手段としての球面反射鏡で反射され、ＣＣＤ７
上に、参照光として到達する。光源９からの光が被検面
８を経ないでＣＣＤ７へ行かせないように、回折格子１
３に入射する光の角度を管理している。また、回折格子
１３の使わない次数光を抑えるように回折格子１３を設
計する。

【００２７】干渉縞より干渉縞の位相分布を解析する為
に、反射球面鏡２５或は反射球面鏡１４の少なくとも一
つを光軸方向にシフトする。光の光量を高効率で利用す
る為に、集光反射球面鏡１０を使用せず、干渉縞の位相
分布より被検面８の形状を算出する工程を有する干渉計
も本実施例の干渉計に含む。〔実施例５〕図６は、本発明による実施例５の原理図で
ある。

【００２８】実施例５では、光源９から光を、反射球面
鏡６によって集光し、回折格子５によって二つの光束に
して、回折格子１３に入射させる。回折格子１３で回折
した光のうち１次回折光のみは、マスク１の回折ピンホ
ール２と絞り３とに集光できるようになっている。マス
ク１の回折ピンホール２を透過した光は、理想的な球面
波になり、被検面８に入射する。被検面８で反射した光
は、マスク１の絞り３を透過して、回折格子１３に到達
する。回折格子１３の０次反射光は、結像手段としての
球面反射鏡で反射し、ＣＣＤ７上に測定光束として到達
する。

【００２９】マスク１の絞り３を透過した光源９からの
光は、被検面８で反射し、マスク１の回折ピンホール２
を透過して、理想的な球面波になり、回折光子１３に到
達する。回折光子１３の０次反射光が、結像手段として
の球面反射鏡１０で反射し、ＣＣＤ７上に参照光として
達する。光源９からの光が被検面９を経ないでＣＣＤ７
へ行かせないように、回折格子１３に入射する光の角度
を管理している。また、回折格子１３の使わない次数光
を抑えるように回折格子を設計する。

【００３０】干渉縞から干渉縞の位相分布を解析する為
に、回折格子５を図示の方向にシフトする。光の光量を
高効率で利用する為に、集光反射球面鏡１０を使用せ
ず、干渉縞の位相分布より被検面８の形状を算出する工
程を有する干渉計も、本実施例の干渉計として含む。〔実施例６〕図７は、本発明による実施例６の原理図で
ある。

【００３１】実施例６では、光源９の光を、回折格子５
によって二つの光束に分け、球面反射回折格子１４に入
射する。球面反射回折格子１４の１次回折光のみが、マ
スク１の回折ピンホール２と絞り３とに集光できるよう
になっている。マスク１の回折ピンホール２を透過した
光は、理想的な球面波になり、被検面８に入射する。被
検面８で反射した光は、マスク１の絞り３を透過して、
球面回折光子１４に入射する。球面回折光子１４の０次
反射光が、ＣＣＤ７上で測定光束として入射する。

【００３２】マスク１の絞り３を透過した光源９からの
光は、被検面８で反射し、マスク１の回折ピンホール２
を透過して、理想的な球面波になり、球面回折光子１４
に到達する。球面回折光子１４の０次反射光は、ＣＣＤ
７上に参照光として到達する。光源９からの光を被検面
８を経ないでＣＣＤ７へ行かせないように、球面回折光
子１４に入射する光の角度を管理している。また、球面
回折光子１４の使わない次数光を抑えるように回折光子
を設計する。

【００３３】本干渉計では、球面回折光子１４は、被検
面８をＣＣＤ７に投影する。干渉縞から干渉縞の位相分
布を解析する為に、回折光子５を図示の方向にシフトす
る。〔実施例７〕図８は、本発明による実施例７の原理図で
ある。

【００３４】実施例７は、凹レンズを測定する干渉計で
ある。本実施例では、他の実施例の光束分割手段、集光
手段との組み合わせも可能である。光源９の光を、集光
レンズ１７によって集光し、ハーフミラー１９と反射ミ
ラー１５と１６とによって構成される光束分割手段によ
って、マスク１の回折ピンホール２及び絞り３に集光す
る。

【００３５】マスク１の回折ピンホール２を透過した光
は、理想的な球面波になり、測定光束として、補助レン
ズ３０及び被検レンズ２８に入射する。補助レンズ３０
及び被検レンズ２８を透過した測定光束は、マスク４の
絞り３に集光する。絞り３を透過した測定光束は、結像
手段１８によって、ＣＣＤ７上に結像される。光源９か
ら射出され、マスク１の絞り３を透過した光は、補助レ
ンズ３０及び被検レンズ２８を透過し、マスク４の回折
ピンホール２に集光する。回折ピンホール２を透過した
波面は、理想的な球面波の参照光となり、結像手段１８
によって、ＣＣＤ７に結像する。

【００３６】干渉縞から干渉縞の位相分布を解析する為
に、光束分割手段の反射ミラー１５或は反射ミラー１６
の少なくとも一つを光軸方向に調整する。本実施例で
は、図８の矢印に示すように、反射ミラー１５を光軸方
向に調整するようになっている。反射ミラー１５の調整
の際に反射ミラー１５の傾きが生じても、反射ミラー１
５によって反射した光はマスク１の回折ピンホール２を
透過するので、回折ピンホール２を透過した光の波面形
状は変らない。従って、この調整誤差は、測定に影響を
与えない。

【００３７】光源９からの光は、先に、被検レンズ２８
を透過してから補助レンズ３０を透過してもよい。補助
レンズ３０をヌルレンズとして設計すれば、収差が大き
い凸レンズや凹レンズを測定することが可能である。〔実施例８〕図９は、本発明による実施例８の原理図で
ある。

【００３８】実施例８は、凹レンズを測定する干渉計で
ある。本実施例では、他の実施例の光束分割手段、集光
手段との組み合わせも可能である。光源９からの光を、
集光レンズ１７によって集光し、ハーフミラー１９と反
射ミラー１５と１６とによって構成される光束分割手段
によって、マスク１の回折ピンホール２及び絞り３に集
光する。

【００３９】回折ピンホール２を透過した光は、歪むが
測定精度より十分小さい球面波になり、測定光束とし
て、被検レンズ２８を透過し、補助反射鏡３１で反射さ
れ、更に被検レンズ２８を透過し、絞り３に集光する。
絞り３を透過した測定光束は、結像手段１８によって、
ＣＣＤ上に結像される。光源９から射出され、絞り３を
透過した光は、被検レンズ２８を透過し、補助反射凹面
鏡３１で反射され、被検レンズ２８を再び透過して、回
折ピンホール２に集光する。回折ピンホール２を透過し
た波面は、歪むが測定精度より十分小さい参照光束とな
り、前述の測定光束と干渉する。途中、結像手段１８に
よって、被検レンズ２８の透過波面をＣＣＤ７に投影す
るようになっている。

【００４０】干渉縞から干渉縞の位相分布を解析する為
に、光束分割手段の反射ミラー１５或は反射ミラー１６
の少なくとも一つを、光軸方向に調整する。本実施例で
は、図９の矢印で示すように、反射ミラー１５を光軸方
向に調整するようになっている。反射ミラー１５の調整
に伴い、反射ミラー１５に傾きが生じても、前記反射ミ
ラー１５によって反射した光はマスク１の回折ピンホー
ル２を透過するので、回折ピンホール２を透過した光の
波面形状は変らない。従って、以上の調整誤差は、測定
に影響を与えない。〔実施例９〕図１０は、本発明による実施例９の原理図
である。

【００４１】実施例９は、凸面鏡の形状を測定する干渉
計である。本実施例では、他の実施例の光束分割手段、
集光手段との組み合わせも可能である。実施例９では、
光源９からの光を、回折格子５によって二つの光束に分
けて、球面反射回折格子１４に入射させる。球面反射回
折格子１４の１次回折光のみが、マスク１の回折ピンホ
ール２と絞り３とに集光できるようになっている。

【００４２】マスク１の回折ピンホール２を透過した光
は、波面歪みの測定に与える影響が要求される測定精度
より小さい球面波になり、補助凹面鏡３１を介して、被
検凸球面８に入射する。被検面８で反射した光は、補助
凹面鏡３１を介して、マスク１の絞り３を透過し、球面
回折格子１４に到達する。球面回折格子１４の０次反射
光は、ＣＣＤ７上で測定光束として干渉縞を形成する。

【００４３】マスク１の絞り３を透過した光源からの光
は、補助凹面鏡３１を介して、被検面８に入射する。被
検面８で反射した光は、補助凹面鏡３１を介して、マス
ク１の回折ピンホール２を透過して、波面歪みが要求さ
れる測定精度より十分小さい球面波になり、球面回折格
子１４に達する。球面回折格子１４の０次反射光が、Ｃ
ＣＤ７上で参照光束として干渉縞を形成する。

【００４４】光源９からの光を被検面８を経ないでＣＣ
Ｄ７へ行かせないように、球面回折格子１４に入射する
光の角度を管理する。また、球面回折格子１４の使わな
い次数光を抑えるように回折光子を設計する。本干渉計
では、球面回折格子１４によって、被検面８をＣＣＤ７
に投影する。干渉縞から干渉縞の位相分布を解析する為
に、回折格子５を図示の方向にシフトさせる。

【００４５】図１１に示した干渉計は、二枚のマスクを
持つ場合の変形例である。補助反射鏡３１に、ゾーンプ
レートとかの非球面波面を発生させる素子を備えさせる
ことによって、被検面８が凹面又は凸面の非球面であっ
ても、測定可能になる。図１０及び図１１に示す干渉計
では、光源９からの光は、先に補助反射鏡３１で反射し
て、被検面８に入射するようになっている。しかし、先
に被検面で反射し、補助反射面で反射させて、また被検
面で反射してマスクに戻る方式も本実施例の変形例であ
る。

【００４６】以上のように、本発明による実施例では、
測定光と参照光とがそれぞれ一回ずつ回折ピンホール２
と絞り３とを透過することによって、回折ピンホール２
と絞り３との透過率に関わらず、光量の損失が同じにな
る。従って、干渉縞のコントラストが高い。また、マス
クと被検面の間に、他の光学素子が無い或いは少ないの
で、光学素子の誤差の影響を小さくすることができる。
更に、マスクの前の干渉計で生じる波面誤差は、測定光
と参照光ともに回折ピンホールを透過したので、測定に
影響を生じない。

【００４７】縞走査法を利用する為の、参照光路と測定
光路との光路差を調整する機構が回折ピンホールの前に
有るので、光路差調整機構の調整誤差が有っても、参照
光束と測定光束との波面に与える影響は、要求される測
定精度より小さい。実施例１、２、４、５、６及び９の
干渉計では、反射光学素子しか使用していないので、屈
折光学系以外、例えば、Ｘ線光学系を透過した波面、Ｘ
線光学系の反射ミラーの形状を測定することも可能であ
る。ヌル素子を備える実施例９では、非球面測定もでき
る。

【００４８】

【発明の効果】以上ように、本発明によって、基準面を
有さずに高精度な面形状や波面形状計測が可能で、干渉
縞のコントラストが高い干渉計を提供することができる
ようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明による実施例１の原理図であ
る。

【図２】図２は、回折ピンホールと絞りをと含むマスク
の説明図である。

【図３】図３は、本発明による実施例２の原理図であ
る。

【図４】図４は、本発明による実施例３の原理図であ
る。

【図５】図５は、本発明による実施例４の原理図であ
る。

【図６】図６は、本発明による実施例５の原理図であ
る。

【図７】図７は、本発明による実施例６の原理図であ
る。

【図８】図８は、本発明による実施例７の原理図であ
る。

【図９】図９は、本発明による実施例８の原理図であ
る。

【図１０】図１０は、本発明による実施例９の原理図で
ある。

【図１１】図１１は、本発明による実施例９の原理図で
ある。

【符号の説明】

１．マスク２．回折ピンホール３．絞り４．マスク５．回折光子６．集光ミラー７．ＣＣＤ８．被検面９．光源１０．結像反射球面鏡１１．光束分割反射ミラー１２．光束分割反射ミラー１３．回折光子１４．光路分割球面反射鏡１５．反射ミラー１６．反射ミラー１７．集光レンズ１８．結像レンズ１９．ハーフミラー２０．参照光束２１．測定光束２５．光路分割球面反射鏡２８．被検レンズ３０．補助レンズ３１．補助凹面鏡

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源と、該光源からの光束を測定光束と参照光束とに分ける光束
分割手段と、回折ピンホールと絞りとを有し、前記測定光束が前記回
折ピンホールを通過し、前記参照光束が前記絞りを通過
する第１のマスクと、該第１のマスクからの前記測定光束と前記参照光束とを
反射又は透過する被検物と、該被検面からの前記測定光束と前記参照光束とを通過さ
せるための、絞りと回折ピンホールとを有する第２のマ
スクと、を有し、該第２のマスクからの前記測定光束と参照光束とにより
干渉縞を形成することを特徴とする干渉計。
【請求項２】前記第１のマスクと前記第２のマスクとは
同一であることを特徴とする請求項１記載の干渉計。
【請求項３】前記光束分割手段を調整することにより、
前記測定光束と前記参照光束との位相差を調整すること
を特徴とする請求項１又は２記載の干渉計。
【請求項４】前記光束分割手段は、法線が異なる２枚の
反射ミラーであり、少なくとも該反射ミラーの一枚の位
置を調整することによって、前記参照光束と前記測定光
束との位相差を調整することを特徴とする請求項３記載
の干渉計。
【請求項５】前記光束分割手段は、回折格子であり、該
回折格子を法線と直交する方向に平行移動することによ
って、前記参照光束と前記測定光束との位相差を調整す
ることを特徴とする請求項３記載の干渉計。
【請求項６】前記被検物は凸面反射鏡であり、前記マスクと前記被検物との間に、収束光束を形成する
補助結像光学素子を含むことを特徴とする請求項１乃至
５記載の干渉計。
【請求項７】前記被検物は凹レンズであり、前記マスクと前記被検物との間に、収束光束を形成する
補助結像光学素子を含むことを特徴とする請求項１乃至
５記載の干渉計。