JP2003221222A - シリカゾルの製造方法 - Google Patents

シリカゾルの製造方法

Info

Publication number
JP2003221222A
JP2003221222A JP2002021879A JP2002021879A JP2003221222A JP 2003221222 A JP2003221222 A JP 2003221222A JP 2002021879 A JP2002021879 A JP 2002021879A JP 2002021879 A JP2002021879 A JP 2002021879A JP 2003221222 A JP2003221222 A JP 2003221222A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silica sol
sodium silicate
mineral acid
raw material
silicate solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002021879A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4014882B2 (ja
Inventor
Yoshiaki Koga
義明 古賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokuyama Corp
Original Assignee
Tokuyama Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokuyama Corp filed Critical Tokuyama Corp
Priority to JP2002021879A priority Critical patent/JP4014882B2/ja
Publication of JP2003221222A publication Critical patent/JP2003221222A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4014882B2 publication Critical patent/JP4014882B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 Y字型の反応装置に鉱酸と珪酸ソーダ溶液を
供給し、接触させてシリカゾルを得る方法において、実
質的にゲル化物を含まず、均質であって、かつ短時間で
ゲル化しないシリカゾルを効率よく製造する方法を提供
する。 【解決手段】 2つの原料供給管が合流し、該合流部に
て1つの排出管と連結してなるY字型の反応装置を使用
し、該反応装置の原料供給管から鉱酸と珪酸ソーダ溶液
を各々供給し、上記合流部にて、両成分を接触させて得
られた反応生成物を流速1.0m/秒以上で排出管から
流出させるシリカゾルの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、Y字型の反応装置
を使用したシリカゾルの新規な製造方法に関する。詳し
くは、Y字型の反応装置に鉱酸と珪酸ソーダ溶液とを供
給し、接触させてシリカゾルを得る方法において、反応
生成物時に微細なゲル化物の発生を防止し、均質なシリ
カゾルを効率よく製造することができるシリカゾルの製
造方法を提供するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、工業的に製造されるシリカゾル
は、攪拌中の鉱酸に珪酸ソーダ溶液を添加する方法、イ
オン交換樹脂を用いて珪酸ソーダ水溶液から製造する方
法、アルキルシリケートを酸あるいはアルカリにより加
水分解する方法等により製造されてきた。
【0003】その中で、我々は、シリカゾルを簡易的に
製造するため、2つの原料供給管が合流し、該合流部に
て排出管と連結してなるY字型の反応装置を使用して、
高濃度の鉱酸と珪酸ソーダ溶液とを10m/秒以上の流
速で接触させることにより、高濃度のシリカゾルを効率
よく製造する方法を見出し提案した(特開昭61−22
7915号)。上記方法の目的は、このようにして得ら
れた高濃度のシリカゾルより均質なシリカゲルを得るこ
とである。
【0004】近年、シリカゾルの用途として、シリカゲ
ルの原料に使用される濃度よりも希薄な溶液を原料とす
る、水処理剤、製紙用等がある。これらの用途において
は、ゲル化物を実質的に含まない均質なシリカゾルであ
って、数分間でゲル化することも無く、そのゾルの粘度
が6〜30mPa.s程度にコントロールされたシリカ
ゾルが望まれる。そのため、これらの用途に適用したシ
リカゾルを得るためには、特開昭61−227915号
の実施形態よりも、鉱酸の濃度が低く、珪酸ソーダ溶液
のSiO含量を低い原料が使用される。
【0005】そこで、我々は、上記用途に適用したシリ
カゾルを得る目的で、前記Y字型の反応装置を使用し
て、鉱酸の濃度、珪酸ソーダ溶液のSiO含量の低い
原料を用いてシリカゾルの製造を試みた。しかしなが
ら、得られたシリカゾルは一部微細なゲル化物を含むた
め、上記用途の原料としてはそのまま使用することが出
来ず、ゲル化物を実質的に含まない均質なシリカゾルの
製造方法の開発が望まれていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、Y字型の反応装置を使用して、微細なゲル化物を実
質的に含まない均質なシリカゾルを、効率よく製造でき
る方法を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を続けてきた。その結果、Y
字型の反応装置において、鉱酸と珪酸ソーダ溶液とが衝
突混合後、反応液は排出管内を満たし液流として流出す
るが、その際の流速が遅い場合は、混合が十分に行われ
ず、微細なゲル化物が生成し易い状態になるとの知見を
得た。そして、かかる知見に基づき、更に研究を重ねた
結果、鉱酸と珪酸ソーダ溶液を接触させて得られる反応
生成物を特定の流速以上で流出させることにより、鉱酸
と珪酸ソーダ溶液が十分に混合されゲル化物の発生もな
く、均質なシリカゾルを製造できることを見出し、本発
明を提案するに至った。即ち本発明は、2つの原料供給
管が合流し、該合流部にて1つの排出管と連結してなる
Y字型の反応装置を使用し、該反応装置の原料供給管か
ら鉱酸と珪酸ソーダ溶液を各々供給し、上記合流部に
て、両成分を接触させて得られた反応生成物を流速1.
0m/秒以上で排出管から流出させることを特徴とする
シリカゾルの製造方法である。
【0008】
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。
【0009】本発明に用いるY字型の反応装置として
は、基本的には2つの原料供給管が合流し、該合流部に
て1つの排出管と連結した構造を有する。図1に本発明
に使用するY字型の反応装置の例を示す。図1に示すよ
うに、このY字型の反応装置は、鉱酸または珪酸ソーダ
溶液が供給される原料供給管1、1’が合流し、合流部
3にて排出管2が連結してなる。また、このY字型の反
応装置は、原料供給管1、1’において、原料の流速を
調整するための絞り部4、4’を設けたものを使用する
ことができる。
【0010】本発明に用いる鉱酸としては、例えば硫
酸、塩酸、硝酸等が挙げられ、特に硫酸が好適に用いら
れる。また、均質であって短時間でゲル化しないシリカ
ゾルを得るためには、鉱酸の濃度は2〜7N、特に3〜
6Nが好ましい。
【0011】本発明に用いる珪酸ソーダ溶液は、一般式
SiO/NaOで示される水溶性の珪酸ソーダで該
溶液のSiOとNaOのモル比(SiO/Na
O)が2.5〜4.0のものが使用される。また、均質
であって短時間でゲル化しないシリカゾルを得るために
は、SiO成分の含有量は100〜300g/L、特
に200〜290g/Lが好ましい。
【0012】上記濃度の鉱酸及び珪酸ソーダ溶液を原料
として、特開昭61−227915号の実施例に記載さ
れている条件でシリカゾルを製造したところ、得られた
シリカゾル中に微細なゲル化物が生成し、水処理剤、製
紙用等の原料として使用する場合、有効なシリカ量の減
少を招くばかりでなく、該ゲル化物を除去するための工
程を別途必要とした。そのため、Y字型の反応装置を用
いて、ゲル化物の出来ない均質なシリカゾルを得るため
に様々な検討を行ったところ、本発明にあっては、鉱酸
と珪酸ソーダ溶液を接触させて得られた反応生成物を流
速1.0m/秒以上で排出管から流出させ、合流部にて
十分混合させることにより、微細なゲル化物が生じる問
題を解決した。
【0013】即ち、本発明の最大の特徴は、図1に示す
ようなY字型の反応装置を使用して、鉱酸と珪酸ソーダ
溶液を接触させて得られた反応生成物を流速1.0m/
秒以上、好ましくは1.3m/秒以上で排出管から流出
させることにある。該反応生成物の流速が1.0m/秒
未満の場合は、供給する原料の流速を上げて衝突による
混合を強く行っても微細なゲル化物の発生を抑えること
ができない。一方、該反応生成物を流出させる流速の上
限については制限されないが、一般には20m/秒で、
それ以上速くすることはポンプの多大エネルギーを必要
とし、また効果も同様となり、それ以上の効果を得るこ
とはできない。
【0014】本発明において、均質なシリカゾルが得ら
れる効果は、Y字型の反応装置を使用して、鉱酸と珪酸
ソーダ溶液を衝突させることによる混合と、得られる反
応生成物の流速を早くすることによる反応系の混合との
相乗効果によって得られる。
【0015】本発明において、該反応生成物を流速1.
0m/秒以上で流出させる態様は特に制限されることは
ないが、具体的には、絞り部4,4'から供給される液
量の合計より、排出管内の流速が1.0m/秒以上にな
るように、原料の供給量、排出口径等を決定してやれば
よい。
【0016】本発明において、原料供給管に各々供給さ
れる鉱酸と珪酸ソーダ溶液の流速は特に制限されるもの
ではないが、絞り部の流速が鉱酸、珪酸ソーダ溶液とも
に5m/秒以上、好ましくは7m/秒以上、更に好まし
くは10m/秒以上であることが、合流部3にて、均一
な反応を行うことができるため好ましい。なお、この方
法においては、鉱酸と珪酸ソーダ溶液の両成分が上記の
流速であることが均質なシリカゾルを得るためには好ま
しい。
【0017】本発明において、Y字型の反応装置の絞り
部4、4’の流出口から合流部3までの距離Rは、絞り
部径d1、d1’の1〜9倍(R/d1またはd1’=
1〜9)であることが、均質なシリカゾルを得るために
好ましい(ただし、絞り部4の流出口から合流部3まで
の距離と、絞り部4’の流出口から合流部3までの距離
は等しい)。
【0018】本発明に用いるY字型の反応装置の材質
は、鉱酸、珪酸ソーダ溶液等の耐薬品性に優れたもので
あれば例えばガラス、金属、プラスチック、ゴム等の公
知のものが特に制限なく使用できる。
【0019】本発明において、Y字型の反応装置を組み
入れた工程を具体的に示せば、図2に示すように鉱酸と
珪酸ソーダ溶液を原料供給管1、1’に供給するための
原料貯槽5、5’及びポンプ6、6’等の原料移送手段
が、一方シリカゾル排出管2の後には、得られたシリカ
ゾルを貯蔵しておくためのシリカゾル貯槽7が接続した
ものが一般的である。
【0020】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではな
い。
【0021】実施例1 大きさ80×80mmのY字型の反応装置を使用し、
4.16Nの硫酸を絞り部径4mmに9.2L/mi
n.及びSiO成分の含有量が271.4g/Lの珪
酸ソーダ水溶液を絞り部径(d1)4.2mmに11.
34L/min.で各々供給し、絞り部の流出口から合
流部までの距離(R)と絞り部径(d1)の比を2.
5、排出口径15mm,排出時の流速1.9m/秒にし
て、10分反応させ、205Lのゲル化物のない均質な
シリカゾルを得た。
【0022】そのシリカゾル中のSiO2濃度は14.
9g/100mlで、pHは1.39であった。その結
果を表1に示す。
【0023】実施例2 実施例1と同じ濃度の硫酸、珪酸ソーダ水溶液を使用し
て、硫酸を9.5L/min.、珪酸ソーダ溶液を1
0.8L/min.で各々供給し、排出口径14mm、
排出時の流速2.2m/秒にした以外は実施例1と同様
の操作を行った。その結果を表1に示す。
【0024】実施例3 大きさ40×40mmのY字型の反応装置を使用して、
4.07Nの硫酸を絞り部径2.4mmに3.09L/
min.及びSiO成分の含有量が265.8g/L
の珪酸ソーダ水溶液を絞り部径(d1)2.6mmに
3.73L/min.で各々供給し、絞り部の流出口か
ら合流部までの距離(R)と絞り部径(d1)の比を
3.8、排出口径9mm,排出時の流速1.8m/秒に
して、25分反応させ、170Lのゲル化物の無いシリ
カゾルを得た。その結果を表1に示す。
【0025】実施例4 4.24Nの硫酸を絞り部径1.4mmに1.05L/
min.及びSiO成分の含有量が271.7g/L
の珪酸ソーダ水溶液を絞り部径(d1)1.2mmに
1.2L/min.で各々供給し、絞り部の流出口から
合流部までの距離(R)と絞り部径(d1)の比を8.
3、排出口径6mm、排出時の流速1.3m/秒にした
以外は実施例3と同様の操作を行った。その結果を表1
に示す。 比較例1 実施例1と同じ大きさのY字管反応装置を用いて、4.
12Nの硫酸を絞り部径4mmに10L/min.及び
SiO成分の含有量が270g/Lの珪酸ソーダ水溶
液を絞り部径(d1)4mmに11.5L/min.で
各々供給し、絞り部の流出口から合流部までの距離
(R)と絞り部径(d1)の比を6.3、排出口径30
mm、排出時の流速0.51m/秒とした以外は実施例
1と同様の操作を行った。得られた反応生成物は、反応
開始時から白いゲル化物を含んでなり、そのゲル化物が
反応液液面に浮かんだものであった。その結果を表1に
示す。
【0026】比較例2 実施例1の大きさのY字管反応装置を用いて、4.03
Nの硫酸を絞り部径4mmに9.34L/min.及び
SiO成分の含有量が275.7g/Lの珪酸ソーダ
水溶液を絞り部径(d1)4.2mmに10.7L/m
in.で各々供給し、絞り部の流出口から合流部までの
距離(R)と絞り部径(d1)の比を2.5、排出口径
を30mm、排出時の流速0.47m/秒とした以外
は、実施例1と同様の操作を行った。得られた反応生成
物は、反応開始時よりゲル化物を含んでいた。その結果
を表1に示す。
【0027】比較例3 実施例3と同じ大きさのY字管反応装置を用いて、4.
03Nの硫酸を絞り部径2.4mmに3.75L/mi
n.及びSiO成分の含有量が275.7g/Lの珪
酸ソーダ水溶液を絞り部径(d1)2.6mmに4.4
8L/min.で各々供給し、絞り部の流出口から合流
部までの距離(R)と絞り部径(d1)の比を3.8、
排出口径を14mm、排出時の流速を0.89m/秒と
した以外は、実施例3と同様の操作を行った。得られた
反応生成物は、反応開始時から白色のゲル化物を含んで
いた。その結果を表1に示す。
【0028】比較例4 実施例4において、硫酸を0.92L/min.珪酸ソー
ダ水溶液を1.02L/min.で各々供給し、排出口
径9mmにして排出時の流速を0.51m/秒とした以
外は、実施例3と同様の操作を行った。得られた反応生
成物は、反応開始時から白色のゲル化物を含んでいた。
その結果を表1に示す。
【0029】
【表1】
【0030】
【発明の効果】本発明の方法によれば、鉱酸と珪酸ソー
ダ溶液を接触させて得られたシリカゾルを特定の流速で
取り出すことにより、高濃度であって均質なシリカゾル
を簡便に生成することができる。また、本発明の方法に
より得られたシリカゾルは、土壌固化剤、水処理の凝集
剤、紙のコーティング剤、鋳物の成形助剤、シリカゲ
ル,合成石英等の原材料として使用することができる。
【0031】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に用いる反応装置の代表的な1例を示す
概要図である。
【図2】本発明の代表的なフロー図である。
【符号の説明】
1、1’:原料供給管 2:排出管 3:合流部 4、4’:絞り部 R:絞り部の流出口から合流部までの距離 d1、d1’:絞り部径 d2:排出口径 5、5’:原料貯槽 6、6’:ポンプ 7:シリカゾル貯槽

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】2つの原料供給管が合流し、該合流部にて
    1つの排出管と連結してなるY字型の反応装置を使用
    し、該反応装置の原料供給管から鉱酸と珪酸ソーダ溶液
    を各々供給し、上記合流部にて、両成分を接触させて得
    られた反応生成物を流速1.0m/秒以上で排出管から
    流出させることを特徴とするシリカゾルの製造方法。
  2. 【請求項2】鉱酸が2〜7Nであって、珪酸ソーダ溶液
    中のSiO成分の含有量が100〜300g/Lであ
    ることを特徴とする請求項1記載のシリカゾルの製造方
    法。
JP2002021879A 2002-01-30 2002-01-30 シリカゾルの製造方法 Expired - Fee Related JP4014882B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002021879A JP4014882B2 (ja) 2002-01-30 2002-01-30 シリカゾルの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002021879A JP4014882B2 (ja) 2002-01-30 2002-01-30 シリカゾルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003221222A true JP2003221222A (ja) 2003-08-05
JP4014882B2 JP4014882B2 (ja) 2007-11-28

Family

ID=27745002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002021879A Expired - Fee Related JP4014882B2 (ja) 2002-01-30 2002-01-30 シリカゾルの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4014882B2 (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005194463A (ja) * 2004-01-09 2005-07-21 Tokuyama Corp 地盤注入薬液用非アルカリ性珪酸水溶液の製造方法
JP2006036627A (ja) * 2004-06-24 2006-02-09 Tokuyama Corp 表面処理シリカ系酸化物の製造方法、および該表面処理シリカ系酸化物スラリーの製造方法
JP2008024542A (ja) * 2006-07-20 2008-02-07 Fuji Kagaku Kk シリカゾル及びその製造方法
JP2008231866A (ja) * 2007-03-23 2008-10-02 Chugoku Electric Power Co Inc:The 土質改良方法
WO2008139999A1 (ja) * 2007-05-11 2008-11-20 Tokuyama Corporation 鉄-シリカ水処理凝集剤の製造方法
JP2010513200A (ja) * 2006-12-22 2010-04-30 ロディア オペレーションズ 高速ブレンダーを使用した沈降シリカの新規な製造方法
US7988866B2 (en) 2005-08-24 2011-08-02 Tokuyama Corporation Method of treating fumed silica-containing drainage water
US7988867B2 (en) 2005-08-24 2011-08-02 Tokuyama Corporation Method of treating silicon powder-containing drainage water
JP2014224004A (ja) * 2013-05-15 2014-12-04 株式会社トクヤマ 金属酸化物ゾルの製造方法
JP2014240036A (ja) * 2013-06-11 2014-12-25 株式会社トクヤマ 混合器、および、それを用いる金属酸化物ゾルの製造方法
WO2015107961A1 (ja) 2014-01-14 2015-07-23 株式会社トクヤマ 疎水化球状ポリアルキルシルセスキオキサン微粒子、トナー用外添剤、電子写真用乾式トナー、および、疎水化球状ポリアルキルシルセスキオキサン微粒子の製造方法
JP2017071740A (ja) * 2015-10-09 2017-04-13 信越化学工業株式会社 球状ポリオルガノシルセスキオキサン粒子の製造方法
WO2020009068A1 (ja) 2018-07-03 2020-01-09 株式会社トクヤマ 球状ポリメチルシルセスキオキサン粒子
WO2023219004A1 (ja) * 2022-05-13 2023-11-16 多摩化学工業株式会社 コロイダルシリカ及びその製造方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005194463A (ja) * 2004-01-09 2005-07-21 Tokuyama Corp 地盤注入薬液用非アルカリ性珪酸水溶液の製造方法
JP2006036627A (ja) * 2004-06-24 2006-02-09 Tokuyama Corp 表面処理シリカ系酸化物の製造方法、および該表面処理シリカ系酸化物スラリーの製造方法
US7988866B2 (en) 2005-08-24 2011-08-02 Tokuyama Corporation Method of treating fumed silica-containing drainage water
US7988867B2 (en) 2005-08-24 2011-08-02 Tokuyama Corporation Method of treating silicon powder-containing drainage water
JP2008024542A (ja) * 2006-07-20 2008-02-07 Fuji Kagaku Kk シリカゾル及びその製造方法
JP2010513200A (ja) * 2006-12-22 2010-04-30 ロディア オペレーションズ 高速ブレンダーを使用した沈降シリカの新規な製造方法
JP2008231866A (ja) * 2007-03-23 2008-10-02 Chugoku Electric Power Co Inc:The 土質改良方法
WO2008139999A1 (ja) * 2007-05-11 2008-11-20 Tokuyama Corporation 鉄-シリカ水処理凝集剤の製造方法
JP2014224004A (ja) * 2013-05-15 2014-12-04 株式会社トクヤマ 金属酸化物ゾルの製造方法
JP2014240036A (ja) * 2013-06-11 2014-12-25 株式会社トクヤマ 混合器、および、それを用いる金属酸化物ゾルの製造方法
WO2015107961A1 (ja) 2014-01-14 2015-07-23 株式会社トクヤマ 疎水化球状ポリアルキルシルセスキオキサン微粒子、トナー用外添剤、電子写真用乾式トナー、および、疎水化球状ポリアルキルシルセスキオキサン微粒子の製造方法
JP2017071740A (ja) * 2015-10-09 2017-04-13 信越化学工業株式会社 球状ポリオルガノシルセスキオキサン粒子の製造方法
WO2020009068A1 (ja) 2018-07-03 2020-01-09 株式会社トクヤマ 球状ポリメチルシルセスキオキサン粒子
WO2023219004A1 (ja) * 2022-05-13 2023-11-16 多摩化学工業株式会社 コロイダルシリカ及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4014882B2 (ja) 2007-11-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003221222A (ja) シリカゾルの製造方法
JP4014896B2 (ja) 水処理用凝集剤の製造方法
JP2738981B2 (ja) 低濃度ポリシリケートマイクロゲルの改良された調製方法
AU780244B2 (en) Continuous production of silica-based microgels
JP4593046B2 (ja) ミクロゲルを調製するための改善された連続方法
TW381066B (en) Process for spraying concrete or mortar
JP4535518B2 (ja) 低濃度ポリアルミノケイ酸塩ミクロゲルを調製するための改善された方法
JP4679811B2 (ja) 地盤注入用シリカ溶液および地盤注入工法
JP6826587B2 (ja) 石英ガラスを製造するための連続的なゾル−ゲル法
JP4410221B2 (ja) 水処理用凝集剤の製造方法及び製造装置
EP1833760B1 (en) High velocity, low pressure process for making silica gels and microgels
DE60132625D1 (de) Verfahren zur herstellung von siliciumoxidsolen
JP4353983B2 (ja) 水処理用凝集剤の製造装置
CA2300615C (en) Continuous production of activated silica
JPH08333112A (ja) シリカゾル又はシリカゲルの製造方法
JPH0575692B2 (ja)
JP5200238B2 (ja) シリカゾルの製造方法
JPH0155679B2 (ja)
JP4933688B2 (ja) 低濃度ポリアルミノケイ酸塩ミクロゲルを調製するための改善された方法
TW528728B (en) Improved continuous process for preparing microgels
JP2005194463A (ja) 地盤注入薬液用非アルカリ性珪酸水溶液の製造方法
JP6161966B2 (ja) 混合器、および、それを用いる金属酸化物ゾルの製造方法
KR20020048303A (ko) 마이크로겔의 개선된 연속 제조 방법
JPS5848488B2 (ja) シリカゾル製造方法
JP2000073059A (ja) 地盤固結材および地盤固結材製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041227

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070425

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070507

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070628

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070828

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070912

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130921

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130921

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160921

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees