JP2003218024A - 計測方法、結像特性調整方法、露光方法及び露光装置の製造方法 - Google Patents
計測方法、結像特性調整方法、露光方法及び露光装置の製造方法Info
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Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004059710A1 (ja) * | 2002-12-24 | 2004-07-15 | Nikon Corporation | 収差計測方法、露光方法及び露光装置 |
| WO2005124834A1 (ja) * | 2004-06-22 | 2005-12-29 | Nikon Corporation | ベストフォーカス検出方法及び露光方法、並びに露光装置 |
| KR100671350B1 (ko) | 2004-03-31 | 2007-01-19 | 캐논 가부시끼가이샤 | 위치계측기술 |
| JP2007180101A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Nikon Corp | 光学特性計測方法及びパターン誤差計測方法 |
| JP2007194551A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-02 | Nikon Corp | 算出方法、調整方法及び露光方法、並びに像形成状態調整システム及び露光装置 |
| JP2009081414A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-04-16 | Asml Netherlands Bv | 透過イメージセンシングのためのデバイスおよび方法 |
| JP2010114463A (ja) * | 2005-03-03 | 2010-05-20 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置の専用計量ステージ |
| JP2010183028A (ja) * | 2009-02-09 | 2010-08-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
| JP2012094860A (ja) * | 2010-10-22 | 2012-05-17 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィプロセス、デバイス製造方法、リソグラフィ装置、コンピュータプログラム製品およびシミュレーション装置を最適化する方法 |
| JP2012151508A (ja) * | 2012-04-26 | 2012-08-09 | Canon Inc | 収差計測方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
| US8547522B2 (en) | 2005-03-03 | 2013-10-01 | Asml Netherlands B.V. | Dedicated metrology stage for lithography applications |
| KR20210051683A (ko) * | 2019-10-31 | 2021-05-10 | 고려대학교 산학협력단 | 수차를 야기하는 샘플 내의 타겟 오브젝트를 이미징하기 위한 초점 스캔 방식의 이미징 장치 |
| CN116577075A (zh) * | 2023-07-10 | 2023-08-11 | 睿励科学仪器(上海)有限公司 | 一种物镜远心度的测量系统、方法及存储介质 |
-
2002
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Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004059710A1 (ja) * | 2002-12-24 | 2004-07-15 | Nikon Corporation | 収差計測方法、露光方法及び露光装置 |
| KR100671350B1 (ko) | 2004-03-31 | 2007-01-19 | 캐논 가부시끼가이샤 | 위치계측기술 |
| JP4873242B2 (ja) * | 2004-06-22 | 2012-02-08 | 株式会社ニコン | ベストフォーカス検出方法及び露光方法、並びに露光装置 |
| WO2005124834A1 (ja) * | 2004-06-22 | 2005-12-29 | Nikon Corporation | ベストフォーカス検出方法及び露光方法、並びに露光装置 |
| JPWO2005124834A1 (ja) * | 2004-06-22 | 2008-04-17 | 株式会社ニコン | ベストフォーカス検出方法及び露光方法、並びに露光装置 |
| US7566893B2 (en) | 2004-06-22 | 2009-07-28 | Nikon Corporation | Best focus detection method, exposure method, and exposure apparatus |
| JP2010114463A (ja) * | 2005-03-03 | 2010-05-20 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置の専用計量ステージ |
| US8547522B2 (en) | 2005-03-03 | 2013-10-01 | Asml Netherlands B.V. | Dedicated metrology stage for lithography applications |
| JP2007180101A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Nikon Corp | 光学特性計測方法及びパターン誤差計測方法 |
| JP2007194551A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-02 | Nikon Corp | 算出方法、調整方法及び露光方法、並びに像形成状態調整システム及び露光装置 |
| US9036130B2 (en) | 2007-06-29 | 2015-05-19 | Asml Netherlands B.V. | Device and method for transmission image sensing |
| JP2013048276A (ja) * | 2007-06-29 | 2013-03-07 | Asml Netherlands Bv | 透過イメージセンシングのためのデバイスおよび方法 |
| JP2009081414A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-04-16 | Asml Netherlands Bv | 透過イメージセンシングのためのデバイスおよび方法 |
| JP2010183028A (ja) * | 2009-02-09 | 2010-08-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
| JP2012094860A (ja) * | 2010-10-22 | 2012-05-17 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィプロセス、デバイス製造方法、リソグラフィ装置、コンピュータプログラム製品およびシミュレーション装置を最適化する方法 |
| US9170502B2 (en) | 2010-10-22 | 2015-10-27 | Asml Netherlands B.V. | Method of optimizing a lithographic process, device manufacturing method, lithographic apparatus, computer program product and simulation apparatus |
| JP2012151508A (ja) * | 2012-04-26 | 2012-08-09 | Canon Inc | 収差計測方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
| KR20210051683A (ko) * | 2019-10-31 | 2021-05-10 | 고려대학교 산학협력단 | 수차를 야기하는 샘플 내의 타겟 오브젝트를 이미징하기 위한 초점 스캔 방식의 이미징 장치 |
| KR102271053B1 (ko) | 2019-10-31 | 2021-06-30 | 고려대학교 산학협력단 | 수차를 야기하는 샘플 내의 타겟 오브젝트를 이미징하기 위한 초점 스캔 방식의 이미징 장치 |
| CN116577075A (zh) * | 2023-07-10 | 2023-08-11 | 睿励科学仪器(上海)有限公司 | 一种物镜远心度的测量系统、方法及存储介质 |
| CN116577075B (zh) * | 2023-07-10 | 2023-10-03 | 睿励科学仪器(上海)有限公司 | 一种物镜远心度的测量系统、方法及存储介质 |
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