JP2007180101A - 光学特性計測方法及びパターン誤差計測方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】投影光学系PLによる計測用マークPMの像をスリット122で走査して得られる検出信号S3に基づいて、投影光学系PLの光学特性を求める光学特性計測方法において、スリット122の透過率分布のフーリエ関数を予め求めておき、検出信号S3のフーリエ関数にそのスリット122のフーリエ関数の逆数を乗じて得られた関数を逆フーリエ変換して像強度分布を回復し、回復された像強度分布に基づいて投影光学系PLの光学特性を求める。
【選択図】図2
Description
また、OPE特性を評価するために使用する特性評価用のパターンの形状が誤差を含む場合には、それが計測誤差を生ずるため、予めその特性評価用のパターンの形状誤差を正確に計測しておくことが望ましい。
さらに本発明は、そのような光学特性を計測する際に使用できるパターンの誤差を高精度に計測できるパターン誤差計測技術を提供することを第2の目的とする。
また、本発明による第1のパターン誤差計測方法は、周期性を持つパターン(PM)の像を所定開口(122)で走査することによって得られる光量情報に基づいて、そのパターンの形状誤差を求めるパターン誤差計測方法において、その所定開口の空間周波数の成分を求める第1工程と、その光量情報のうち、そのパターンの像のピッチのm倍(mは1以上の整数)の領域の情報をフーリエ変換して得られる空間周波数の成分をその第1工程で求められたその所定開口の空間周波数の成分で補正し、該補正された空間周波数の成分を逆フーリエ変換して強度分布を回復する第2工程と、その第2工程で回復された強度分布を所定の閾値で2値化して得られる情報に基づいてそのパターンの形状誤差を求める第3工程とを有するものである。本発明によれば、空間周波数の成分が既知の所定開口を用いることによって、そのパターンの形状誤差を高精度に計測できる。
図1は、本例のスキャニングステッパー型の投影露光装置10の概略構成を示す。図1において、投影露光装置10は、レーザビームLBを発生する光源14(露光光源)、照明光学系12、マスクとしてのレチクルRを保持して移動するレチクルステージRST、投影光学系PL、ウエハW(基板)を保持して移動するウエハステージWST、及びこれらを制御する主制御装置50等を備えている。光源14として、ArFエキシマレーザ光源(発振波長193nm)が用いられているが、その代わりに、KrFエキシマレーザ(波長248nm)、F2 レーザ(波長157nm)、固体レーザ(半導体レーザ等)の高調波発生装置、又は水銀ランプ等も使用できる。
図1において、ウエハステージWSTは、XYステージ42と、このXYステージ42上に搭載されたZチルトステージ38とを含んで構成されている。XYステージ42は、ウエハベース16上でウエハステージ駆動系56Wを構成する不図示のリニアモータ等によってX方向及びY方向に2次元的に駆動される。Zチルトステージ38上にウエハホルダ25を介してウエハWが真空吸着等により保持されている。Zチルトステージ38は、照射系60aと受光系60bとを含むオートフォーカスセンサの計測結果に基づいて、ウエハW又は後述のスリット板90の表面を投影光学系PLの像面に合わせ込む。
即ち、スリット122の幅2Dの影響によって、図3(B)に示すように、検出信号S3(Y)は、像PM’の強度分布S1(Y)に対して鈍った波形となる。この場合、像PM’のY軸の空間周波数をf[cycle /μm](1μm当たりの明部又は暗部の本数)として、強度分布S1(Y)、透過率分布S2(Y)、及び検出信号S3(Y)をY座標に関してフーリエ変換して得られるフーリエ関数(空間周波数の成分)をそれぞれFS1(f)、FS2(f)、及びFS3(f)とすると、周知のコンボリューション定理から所定の比例係数を除いて次のようになる。図1の信号処理装置80では、(1)式の検出信号S3(Y)を離散フーリエ変換することによって、フーリエ関数FS3(f)を計算することができる。
本例では一例として予め透過率分布S2(Y)のフーリエ関数FS2(f)を求めておき、その逆数の関数を装置関数として例えば図1のメモリ51に記憶しておく(第1工程)。なお、図2のスリット122の後に続く光学系の開口数によっても空間像計測装置59の空間周波数特性は変わるので、フーリエ関数FS2(f)は、その光学系の開口数も考慮して求めることが望ましい。その後のOPE特性の計測時に、信号処理装置80では、(2)式のフーリエ関数FS3(f)にその装置関数(1/FS2(f))を乗じて得られる関数FS3(f)/FS2(f)を逆フーリエ変換することによって、次のように像PM’の強度分布S1(Y)を回復する(第2工程の前半部)。なお、次式において、記号invFは逆フーリエ変換を意味する。
=S1(Y) …(3)
なお、図2の投影光学系PLの像の空間数周波数の最大値は、投影光学系PLの開口数NA及び照明光の波長λを用いて2NA/λである。また、(3)式の計算は、実際にはデジタル処理によって離散的に計算されるため、像PM’のピッチをP、所定の1以上の整数をm、整数よりなる変数をiとして、フーリエ関数FS2(f),FS3(f)は、一例として幅P(又はm・P)の領域において、空間周波数がi/P(又はi/mP)の離散的な位置で計算される。なお、変数iの初期値は1、最大値はI(又はI’)であり、空間周波数の最大値I/P(又はI’/mP)は、次のように2NA/λ以下の最大値である。なお、(3)式のような演算処理の一例が、特開2002−14005号公報、特開2003−218024号公報にも開示されている。また、これらの公報の開示である、フーリエ関数FS2(f),FS3(f)を計算する際に用いる関数が位置Yに関して不等間隔でもよいことは、本例にも適用できる。
その回復された強度分布S1(Y)を所定の閾値で2値化することによって、像PM’の各明部のY方向の線幅を求めることができる。その線幅は主制御装置50に供給され、主制御装置50において、例えばその線幅の平均値を計測用マークPMのピッチの関数として表すことによって、投影光学系PLのOPE特性が求められる(第2工程の後半部)。
第2の方法は、予め図2の計測用マークPMのフーリエ関数FS1(f)を理論的に計算(推定)しておき、その投影光学系PLによる像をスリット122で走査して得られる検出信号S3(Y)を求め、これをフーリエ変換してフーリエ関数FS3(f)を求め(実測し)、(2)式からスリット122のフーリエ関数FS2(f)を算出するものである。この場合の計算は、上記のように空間周波数がi/P(又はi/mP)で2・NA/λ以下の離散的な位置で行われる。また、フーリエ関数は、振幅成分と位相成分とを有するが、近似的に振幅成分(いわゆる空間周波数特性)のみを用いて計算を行ってもよい。
図4の実線のフーリエ関数FS2(f)はそのように計算された関数の一例を示し、この図4において、横軸は空間周波数f[cycle /μm]、縦軸はその関数の振幅Pである。その関数FS2(f)の逆数の関数1/FS2(f)が装置関数として記憶される。
1)2次高調波振幅による計測
図2に示すように、設計上でデューティー50%の計測用マーク(PMとする)の像を投影光学系PLを介して投影する際に、可変開口絞りASを制御することで、0次光D0及び±1次光D(−1),D(+1)の3光束干渉状態と、0次光D0、±1次光D(−1),D(+1)、及び±2次光D(−2),D(+2)の5光束干渉状態との2つの結像状態を順次設定する。デューティーが正確に50%のマークでは、製造誤差がなければ2次以上の偶数次の回折光は発生しないため、その2つの結像状態でスリット122を走査して得られる検出信号S3から2次高調波を求め、それらの振幅の実測値を設計値(シミュレーションの値)と比較することで、デューティーの50%からのずれ量、ひいてはそのマークの線幅が推定できる。
2)回折光強度による計測
例えば図2の計測用マークPMの形状誤差を計測する際に、図1の照明光学系12からの照明光の主光線の傾斜角(テレセントリシティ)の調整と図2の投影光学系PLの可変開口絞りASの調整とによって、計測用マークPMからの所望の次数の回折光だけを投影光学系PL内を通過させて、ウエハステージWST上の光電センサ(不図示)によってその回折光の強度を計測する。例えば2次回折光の強度を、同じピッチで線幅を次第に変えてシミュレーションを行って計算した2次回折光の強度と比較することで、計測用マークPMの線幅を求めることができる。
上述のように予めデューティー50%のマークを用いてスリット122のフーリエ関数FS2(f)を求めておき(第1工程)、次に計測対象のマークの像をスリット122で走査して検出信号S3(光量情報)を求め、その像のピッチのm倍(mは1以上の整数)の領域の情報を1/(m・P)から2・NA/λまでの空間周波数域でフーリエ変換して得られるフーリエ関数FS3(f)に、(3)式のようにそのフーリエ関数FS2(f)の逆数の関数を乗じて得られる関数を逆フーリエ変換して強度分布S1(Y)を回復する(第2工程)。その後、回復された強度分布を所定の閾値で2値化して得られる波形に基づいてそのパターンの形状誤差を求める(第3工程)。
コマ収差の量を空間像の基本波と高調波との位相ずれ量から計測する方法、及びパターンの線幅によってコマ収差の位相差の発生量が異なることも知られている(例えば、特開2003−218024号公報参照)。そこで、本例においても、図2の計測用マークPMの空間像から基本波と高調波との位相ずれ量を求め、その位相ずれ量からコマ収差を求め、このコマ収差から線幅を推定することができる。なお、このコマ収差はスリット122の幅に依存しないので、高精度にパターンの線幅を推定できる。
6)図2の投影光学系PLの可変開口絞りASを絞って、計測用マークPMからの0次光のみを投影光学系PLを通過させて、0次光の強度の計測値をシミュレーション結果と比較することによってパターン線幅を推定してもよい。
以上に挙げる線幅計測方法のいずれかによって、線幅を計測した後(方法3)を除く)、スリット122のフーリエ関数FS2(f)を求めることが望ましい。このようにして求められたフーリエ関数FS2(f)の一例が、図4のフーリエ関数FS2A(f)として示されている。
図5は、像のピッチP1が350nm程度でデューティーが50%程度の、透過光の設計上の強度分布がS1で表される周期的な計測用マークのシミュレーション結果を示し、その横軸はY座標[μm]、縦軸は光強度又は検出信号の相対値である。その計測用マークの像の周期方向の幅は、数μm〜数10μmである。図6は、図5の中央の2μm幅の領域の拡大図であり、図5及び図6において、検出信号S3は、その計測用マークの像を図2のスリット122で走査して得られる光量分布に対応しており、強度分布S4は、検出信号S3のフーリエ関数を(3)式に代入して逆フーリエ変換を行うことによって回復される(3)式のS1(Y)に対応している。
次に、図7は、像のピッチP2が500nm程度でデューティーが50%から外れているとともに、透過光の設計上の強度分布がS1Aで表される周期的な計測用マークのシミュレーション結果を示し、図8は、図7の中央の2μm幅の領域の拡大図であり、図7及び図8において、検出信号S3Aは、その計測用マークの像を図2のスリット122で走査して得られる光量分布に、強度分布S4Aは、検出信号S3Aのフーリエ関数を(3)式に代入して逆フーリエ変換を行うことによって回復される(3)式のS1(Y)に対応している。
Claims (10)
- 投影光学系によるパターンの像を所定開口で走査することによって得られる光量情報に基づいて、前記投影光学系の光学特性を求める光学特性計測方法において、
前記所定開口の空間周波数の成分を求める第1工程と、
前記光量情報をフーリエ変換して得られる空間周波数の成分を前記第1工程で求められた前記所定開口の空間周波数の成分で補正し、該補正された空間周波数の成分を逆フーリエ変換して回復された強度分布情報に基づいて前記投影光学系の光学特性を求める第2工程とを有することを特徴とする光学特性計測方法。 - 前記第1工程は、第1パターンの空間周波数の成分を推定する推定工程と、前記第1パターンの前記投影光学系による像を前記所定開口で走査することによって得られる光量情報をフーリエ変換して空間周波数の成分を実測する実測工程と、前記推定した空間周波数の成分と、前記実測した空間周波数の成分とに基づいて前記所定開口の空間周波数の成分を算出する算出工程とを備えることを特徴とする請求項1に記載の光学特性計測方法。
- 前記第1工程は、前記第1パターンの形状誤差の実測値に基づいて空間周波数の成分を推定する工程を含むことを特徴とする請求項2に記載の光学特性計測方法。
- 前記第1パターンの形状誤差は、前記第1パターンの回折光の強度情報を用いて求められることを特徴とする請求項3に記載の光学特性計測方法。
- 前記第1パターンの形状誤差は、前記第1パターンの空間像をフーリエ変換して得られる空間周波数の成分中の高調波の振幅を用いて求められることを特徴とする請求項3に記載の光学特性計測方法。
- 周期性を持つパターンの像を所定開口で走査することによって得られる光量情報に基づいて、前記パターンの形状誤差を求めるパターン誤差計測方法において、
前記所定開口の空間周波数の成分を求める第1工程と、
前記光量情報のうち、前記パターンの像のピッチのm倍(mは1以上の整数)の領域の情報をフーリエ変換して得られる空間周波数の成分を前記第1工程で求められた前記所定開口の空間周波数の成分で補正し、該補正された空間周波数の成分を逆フーリエ変換して強度分布を回復する第2工程と、
前記第2工程で回復された強度分布を所定の閾値で2値化して得られる情報に基づいて前記パターンの形状誤差を求める第3工程とを有することを特徴とするパターン誤差計測方法。 - 前記パターンを照明する照明光の波長をλ、前記パターンの像を投影する投影光学系の開口数をNA、前記パターンの像のピッチをPとして、前記第2工程は、前記光量情報のうち、前記パターンの像のピッチのm倍の領域の情報を少なくとも1/(m・P)から2・NA/λまでの空間周波数域でフーリエ変換する工程を含むことを特徴とする請求項6に記載のパターン誤差計測方法。
- 周期的なパターンの形状誤差を計測するパターン誤差計測方法において、
前記パターンからの第1組の回折光を用いて形成される像と、前記パターンからの前記第1組の回折光とは異なる第2組の回折光を用いて形成される像とに基づいて前記パターンの形状誤差を求めることを特徴とするパターン誤差計測方法。 - 前記第1組の回折光を用いて形成される像の所定次数の空間周波数の成分と、前記第2組の回折光を用いて形成される像の前記所定次数の空間周波数の成分とに基づいて前記パターンの形状誤差を求めることを特徴とする請求項8に記載のパターン誤差計測方法。
- 前記第1組の回折光は、0次光及び±1次光であり、前記第2組の回折光は、0次光、±1次光、及び±2次光であることを特徴とする請求項8又は9に記載のパターン誤差計測方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
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JP2007180101A true JP2007180101A (ja) | 2007-07-12 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4798353B2 (ja) |
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