JP2007194551A - 算出方法、調整方法及び露光方法、並びに像形成状態調整システム及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 制御装置が、エネルギビームの照射に伴う光学系の波面収差の変動情報を算出(ステップ222)、その算出された波面収差の変動情報と、パターンに関する情報とに基づいて、光学系の調整データを算出する(ステップ208〜216)。特に、現在の結像性能の演算に際しては、露光対象のパターン情報に応じたツェルニケ感度の情報が用いられる。これにより、像形成対象のパターンに関する情報に基づいた光学系の光学特性の調整データの算出が可能となる。従って、従来のように基準パターンについて行ったシミュレーション結果等に基づいて定められた予測演算式を用いて光学系の結像性能の照射変動の予測演算を行う場合に比べて、より精度の高い光学系の光学特性の調整データの算出、ひいては、光学系の光学特性の高精度な調整が可能になる。
【選択図】図4
Description
この式(2)の演算は、波面収差変化表(33行37列のマトリックス)とZSファイル(37行12列のマトリックス)との掛け算であるから、得られる結像性能変化表B1は、例えば次式(3)で示される33行12列のマトリックスとなる。
ここで、fは、次式(6)で表される結像性能であり、ZSは、前述のステップ100で取得した次式(8)で示されるZSファイルのデータである。また、Waは前記ステップ206で取得した次式(7)で示される波面(波面収差)のデータである。
ここで、dxは、各調整パラメータの調整量を要素とする次式(11)で示される19行1列のマトリックスである。また、(ft−f)は、次式(12)で示される396行1列のマトリックスである。
ここで、BTは、前述の結像性能変化表Bの転置行列であり、(BT・B)-1は、(BT・B)の逆行列である。
+C・W(t)・[1−exp(−Δt/τ)] ……(14)
ここで、上式(14)の左辺のδX(t)は、波面収差(ツェルニケ多項式の各項の係数)の照射変動量、右辺第1項は緩和項、右辺第2項は照射項であり、各変数の意味は以下の通りである。
τ:投影光学系の波面収差の変動の時定数であり、露光条件毎に予め求めてメモリ内にパラメータとして記憶されている定数である。ここで、露光条件とは、前述した光学条件(露光波長、投影光学系の開口数N.A.(最大N.A.、露光時に設定されるN.A.など)、及び照明条件(照明N.A.(照明光学系の開口数N.A.)又は照明σ(コヒーレンスファクタ)、照明光学系の瞳面上での照明光の光量分布、すなわち2次光源の形状)など)を含む。
C:投影光学系の波面収差の変動率であり、露光条件毎に予め求めてメモリ内にパラメータとして記憶されている定数である。
Claims (17)
- エネルギビームによりパターンの像を形成する光学系の光学特性を調整する調整データを算出する算出方法であって、
前記エネルギビームの照射に伴う前記光学系の波面収差の変動情報を算出する工程と;
算出された前記波面収差の変動情報と、前記パターンに関する情報とに基づいて、前記調整データを算出する工程と;を含む算出方法。 - 前記変動情報は、前記パターンの形成時に、前記エネルギビームの照射により変動する前記光学系の波面収差の予測情報を含むことを特徴とする請求項1に記載の算出方法。
- 前記パターンに関する情報は、パターンの種類、パターンの数、パターンの配列方向の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の算出方法。
- 前記パターンが複数種類あり、
前記調整データは、前記複数のパターンのうち、第1パターンの像の形成条件に比べて第2パターンの像の形成条件を最適化するデータを含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の算出方法。 - 前記調整データは、前記光学系の光学特性のうち、特定の成分を調整するデータであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の算出方法。
- 前記特定の成分は、ディストーション成分、フォーカス成分の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項5に記載の算出方法。
- エネルギビームによりパターンの像を形成する光学系の光学特性を調整する調整方法であって、
前記エネルギビームの照射に伴う前記光学系の波面収差の変動情報を算出する工程と;
算出された前記波面収差の変動情報と、前記パターンに関する情報とに基づいて、前記光学系の光学特性を調整する工程と;を含む調整方法。 - 請求項7に記載の調整方法を用いて前記光学系の光学特性を調整する工程と;
その光学特性が調整された光学系を介してエネルギビームにより物体を露光し、前記物体上にパターンの像を形成する工程と;を含む露光方法。 - エネルギビームにより光学系を介して形成されるパターンの像の形成状態を調整する像形成状態調整システムであって、
前記エネルギビームの照射に伴う前記光学系の波面収差の変動情報を算出する第1算出装置と;
算出された前記波面収差の変動情報と、前記パターンに関する情報とに基づいて、前記光学系を介して形成されるパターンの像の形成状態を調整する調整データを算出する第2算出装置と;を備える像形成状態調整システム。 - 前記変動情報は、前記パターンの形成時に、前記エネルギビームの照射により変動する前記光学系の波面収差の予測情報を含むことを特徴とする請求項9に記載の像形成状態調整システム。
- 前記変動情報は、前記光学系の瞳面における前記エネルギビームの強度分布の変化を含むことを特徴とする請求項9又は10に記載の像形成状態調整システム。
- 前記パターンに関する情報は、パターンの種類、パターンの数、パターンの配列方向の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項9〜11のいずれか一項に記載の像形成状態調整システム。
- 前記パターンが複数種類あり、
前記調整データは、前記複数のパターンのうち、第1パターンの像の形成条件に比べて第2パターンの像の形成条件を最適化するデータを含むことを特徴とする請求項9〜12のいずれか一項に記載の像形成状態調整システム。 - 前記調整データは、前記光学系の光学特性のうち、特定の成分を調整するデータであることを特徴とする請求項9〜13のいずれか一項に記載の像形成状態調整システム。
- 前記特定の成分は、ディストーション成分、フォーカス成分の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項14に記載の像形成状態調整システム。
- 算出された前記調整データに基づいて前記光学系の光学特性を調整する調整装置をさらに備える請求項9〜15のいずれか一項に記載の像形成状態調整システム。
- エネルギビームにより光学系を介して物体上にパターンの像を形成する露光装置であって、
前記光学系の光学特性を調整する請求項9〜16のいずれか一項に記載の像形成状態調整システムと;
前記光学系を介してエネルギビームを照射して前記物体を露光するビーム源と;を備える露光装置。
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