JP2003119501A - フレーク銅粉及びそのフレーク銅粉の製造方法並びにそのフレーク銅粉を用いた銅ペースト - Google Patents
フレーク銅粉及びそのフレーク銅粉の製造方法並びにそのフレーク銅粉を用いた銅ペーストInfo
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Abstract
に、導体の電気的抵抗を安定して低くでき、しかも、ビ
アホール等の充填性に優れるという特性を同時に達成で
きるフレーク銅粉の提供を目的とする。 【解決手段】粒径が10μm以下のフレーク銅粉であっ
て、フレーク銅粉のレーザー回折散乱式粒度分布測定法
による重量累積粒径D10、D50、D90、レーザー
回折散乱式粒度分布測定法により測定した粒度分布の標
準偏差SDを用いて表されるSD/D50の値が0.5
以下であり、且つ、D90/D10で表される値が4.
0以下であることを特徴とするフレーク銅粉を用いるこ
と等による。
Description
ーク銅粉、そのフレーク銅粉の製造方法、そのフレーク
銅粉を用いた銅ペーストに関するものである。
て広く用いられてきた。そして、銅ペーストは、プリン
ト配線板の回路形成、セラミックコンデンサの外部電極
に代表されるように各種電気的接点部等に応用され、電
気的導通確保の手段に用いられてきた。
ペーストにして導体形成を行った場合には、その導体の
抵抗を上昇させることなく、しかも同時に、プリント配
線板のビアホールの穴埋め等の場合には穴埋め性の向
上、形成する導体の形状の精度等も望まれてきた。これ
らの市場要求に応えるため、銅ペーストの製造に用いる
銅粉に、略球形の粉粒の銅粉を用いるのではなく、フレ
ーク状の粉粒で構成された銅粉(本件明細書において
は、単に「フレーク銅粉」と称する。)を用いることが
検討されてきた。フレーク銅粉を用いることで、鱗片化
又は扁平化した形状故に、粉粒の比表面積が大きくな
り、粉粒同士の接触面積が大きくなるため、電気的抵抗
を減少させ、導体形状の精度を上げるには非常に有効な
方法であった。
フレーク銅粉は、均一な粒径や厚さを備えるものでもな
く、微細な粉粒の製品は存在せず、大きな粗粒がある一
定の割合で含まれ、亀裂が見られるものもあるという品
質のもので、非常に広い粒度分布を持つ製品であった。
した意味での電気的抵抗改善という点でのある程度の目
標は達成できても安定性に欠け、銅ペーストに加工して
形成する導体回路のファインパターン化、プリント配線
板のビアホールの充填性を良好にすることが出来ないと
言うのが現実であった。従って、従来のフレーク銅粉を
用いた銅ペーストの用途は、粗いパターンの導体回路の
形成に用いる等に限定されてきた。
銅粉の用途を飛躍的に高めるためには、銅ペースト用に
加工して、導体形成に用いた際に、導体の電気的抵抗を
安定して低くすることが重要で、しかも、充填性に優れ
るという特性を同時に満足させる必要があることにな
る。従って、このような目的の達成できるフレーク銅粉
の供給が市場要求として行われてきたのである。
は、従来のフレーク銅粉の持つ問題として、粗大粒が混
入されており、粉粒の厚さが不均一であり、均一な粒度
分布を持つ微粒では無い点に着目し、この問題点のない
フレーク銅粉を開発するに到ったのである。以下に本件
発明を説明する。
ク銅粉を調査した結果、そのフレーク銅粉の持つ諸特性
は、表1に示す如きものとなる。ここで、D10、D
50、D90及びDmaxとは、レーザー回折散乱式粒
度分布測定法を用いて得られる重量累積10%、50
%、90%における粒径及び最大粒径のことであり、フ
レーク銅粉0.1gをSNディスパーサント5468の
0.1%水溶液(サンノプコ社製)と混合し、超音波ホ
モジナイザ(日本精機製作所製 US−300T)で5
分間分散させた後、レーザー回折散乱式粒度分布測定装
置 Micro Trac HRA 9320−X10
0型(Leeds+Northrup社製)を用いて測
定したものである。
きは標準偏差SDの値である。この標準偏差SDとは、
レーザー回折散乱式粒度分布測定法を用いて得られる全
粒径データのバラツキを表す指標であり、この値が大き
な程、バラツキが大きなものとなる。従って、ここで測
定した5ロットの標準偏差SDの値は、0.343〜1
4.280の範囲でばらついていることが分かり、ロッ
ト間の粒径分布のバラツキが非常に大きな事が分かる。
次に、変動係数であるSD/D50の値に着目すると
0.55〜0.87の範囲でバラツクという結果が得ら
れており、且つ、D90/D10で表される値が4.0
4〜7.61の範囲でバラツクものとなっている。更
に、Dmaxの値は、レーザー回折散乱式粒度分布測定
法を用いて得られた最大粒径を示すものであり、最大1
04.70μmという大きな粗粒が含まれている事も分
かる。この従来のフレーク銅粉を、走査電子顕微鏡で観
察したのが図2である。この図2から分かるように、従
来の銅粉は、その粉粒の厚さが薄くなりすぎ、その厚さ
にも均一性が無いものであり、粉粒としての形状自体に
も安定性が無いものである。
粉を用いて、銅ペーストを製造し、セラミックコンデン
サの外部電極を製造した場合には形状精度がバラツキ、
プリント配線板のビアホールの充填を行うと充填性及び
形成した導体の電気抵抗にバラツキが生ずる事になるの
である。
果、フレーク銅粉の持つ粉体としての特性を、請求項1
に記載したように、粒径が10μm以下のフレーク銅粉
であって、フレーク銅粉のレーザー回折散乱式粒度分布
測定法による重量累積粒径D1 0、D50、D90、レ
ーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定した粒度分
布の標準偏差SDを用いて表されるSD/D50の値が
0.5以下であり、且つ、D90/D10表される値が
4.0以下であるものとすれば、銅ペーストにして導体
形成を行った場合にも、その導体の抵抗を上昇させるこ
となく、同時に、プリント配線板のビアホールの穴埋め
性を向上させ、形成する導体の形状の精度も著しく改善
出来ることが判明したのである。この本件発明に係るフ
レーク銅粉を、走査型電子顕微鏡で観察したのが、図1
である。
明らかに、図2に示す従来のフレーク銅粉に比べて、図
1のフレーク銅粉の粉粒のサイズが揃い、しかも粉粒自
体の厚さも均一化できていることが分かるのである。即
ち、本件発明に言う「フレーク銅粉」とは、従来のフレ
ーク銅粉のように鱗片化したような状態にはなく、一定
の厚さを備えたものなのであり、厳密には「フレーク銅
粉」という用語がふさわしいものではなく、「微小ナゲ
ット状銅粉」とでも称すべきものである。しかしなが
ら、「フレーク銅粉」という用語が業界内に定着してい
ることから、球状若しくは多角形状銅粉と区別する用語
として用いたのである。
るのは、フレーク銅粉の粒径が10μm以下でなけれ
ば、100μm径以下のビアホール等の凹部の穴埋め性
の改善が出来ないためである。そして、フレーク銅粉の
粒径とは、扁平化した銅粉の粉粒を観察した際の、粉粒
の長径方向の長さを意味するものとして用いており、走
査型電子顕微鏡等を用いて粉粒を直接観察することによ
り測定するものである。
10μm以下のフレーク銅粉であって、フレーク銅粉の
レーザー回折散乱式粒度分布測定法による重量累積粒径
D5 0、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定
した粒度分布の標準偏差SDを用いて表されるSD/D
50の値が0.15〜0.35であり、且つ、フレーク
銅粉を構成する粉粒の厚さと前記重量累積粒径D50と
で表されるアスペクト比([厚さ]/[D50])の値
が0.3〜0.7であることを特徴とするフレーク銅
粉」は、プリント配線板のビアホール充填用として、特
に優れた性能を発揮するのである。
査型電子顕微鏡の観察像も、図1と同様の形態に観察で
きるが、図1の本件発明に係るフレーク銅粉と比べて、
粉粒自体の厚さがやや厚いものとなっているものであ
る。ここで述べたアスペクト比を備えるフレーク銅粉を
銅ペーストにして導体形成を行った場合には、その導体
の抵抗を上昇させることなく、同時に、プリント配線板
のビアホールの穴埋め性を向上させ、形成する導体の形
状の精度も、更に著しく改善出来るのである。特に、低
抵抗を実現できるという面において優れるものとなるの
である。
かの差はあれ、物理的に球形若しくは多角形状の銅粉粒
を塑性加工させて製造するものである。本件発明に係る
フレーク銅粉も、以下で述べるような物理的手法を用い
て、従来のフレーク銅粉に比べて加工度の低い物として
得られる。このように物理的手法を用いる限り、扁平加
工度が大きくなるほど、粉粒の内部にパッケージされる
転位密度が上昇し、結晶粒の微細化が起こることにな
る。転位密度が上昇し、結晶粒が微細化すると、当然に
粉粒自体の電気抵抗は大きくなるのである。従って、こ
の本件発明に係るフレーク銅粉を用いて、銅ペーストを
製造し、導体を形成した際に、粉粒同士の接触界面面積
を良好に保ち、且つ、加工度を低減させ転位密度の上昇
及び結晶粒の微細化による高抵抗化を抑制したバランス
の採れた粉体と言えるのである。
重量累積粒径D50とで表されるアスペクト比([厚
さ]/[D50])の値が0.3〜0.7としている。
このアスペクト比は、フレーク銅粉の加工度を表すもの
であると言える。従って、アスペクト比の値が0.3未
満の場合には、粉粒の厚さが薄くなりすぎ、粉粒内部の
転位密度の上昇及び結晶粒の微細化が急激に起こり始
め、抵抗の上昇を引き起こすのである。これに対し、ア
スペクト比の値が0.7を越えると、加工度が低く扁平
率が低いため、粉粒同士の十分な接触界面面積が得られ
ず、抵抗を下げる事が出来なくなるのである。
するためには、従来の製造方法を用いても製造すること
は出来ないのである。即ち、従来のフレーク銅粉は、ヒ
ドラジン還元法に代表される湿式法やアトマイズ法に代
表される乾式法等の手法で得られた略球形の銅粉を、直
接、ボールミル、ビーズミル等の粉砕機にかけ、メディ
アであるボールやビーズにより銅粉の粉粒を粉砕するこ
とで、粉粒を塑性変形させ扁平化させることでフレーク
状にしたものである。
当初用いる略球形の銅粉自体が、一定の凝集状態にあ
り、凝集状態を破壊することなく圧縮変形を行っても、
粉粒同士の凝集状態が保たれたまま圧縮変形を受け、凝
集状態のままのフレーク銅粉が得られ、粉粒同士が分散
した状態にはならないのである。
態の銅粉の凝集状態を破壊し、解粒処理を行い、その
後、粉粒をフレーク状に圧縮変形する方法に想到したの
である。これらに相当する製造方法が、請求項3に記載
した、凝集状態にある銅粉を解粒処理し、解粒処理の終
了した銅粉の粉粒を高エネルギーボールミルで圧縮変形
することでフレーク状にすることを特徴とするフレーク
銅粉の製造方法である。
還元法、電解法に代表される湿式法であっても、アトマ
イズ法に代表される乾式法等であっても、一定の凝集状
態が形成されるためこのように表現しているのである。
特に、湿式法の場合には、粉粒の凝集状態の形成が起こ
りやすい傾向にある。即ち、一般的に湿式法による銅粉
の製造は、硫酸銅溶液を出発原料として、水酸化ナトリ
ウム溶液を用いて反応させ、酸化銅を得て、これを所謂
ヒドラジン還元する等して、洗浄、濾過、乾燥すること
で行われる。このようにして乾燥した銅粉が得られるの
であるが、このように湿式法で得られた銅粉の粉体は、
一定の凝集状態にある。また、以下で言う「銅粉スラリ
ー」とは、ヒドラジン還元する等して銅粉が生成し、こ
れを含有したスラリー状態になったものを言う。詳細に
は実施形態を通じて説明する。この凝集した状態の粉体
を、一粒一粒の粉体に分離することを、本件明細書では
「解粒」と称しているのである。
あれば、解粒の行える手段として、高エネルギーボール
ミル、高速導体衝突式気流型粉砕機、衝撃式粉砕機、ゲ
ージミル、媒体攪拌型ミル、高水圧式粉砕装置等種々の
物を用いることが可能である。ところが、フレーク銅粉
を用いる銅ペーストの粘度を可能な限り低減させること
を考えると、銅粉の比表面積を可能な限り小さなものと
することが求められる。従って、解粒は可能であって
も、解粒時に粉粒の表面に損傷を与え、その比表面積を
増加させるような解粒手法であってはならないのであ
る。
が鋭意研究した結果、以下に述べる二つの解粒手法に想
到した。この二つの方法に共通することは、銅粉の粉粒
が装置の内壁部、攪拌羽根、粉砕媒体等の部分と接触す
ることを最小限に抑制し、凝集した粉粒同士が相互に衝
突し合い、しかも、解粒が十分可能な方法である点であ
る。即ち、装置の内壁部、攪拌羽根、粉砕媒体等の部分
と接触することで粉粒の表面を傷つけ、表面粗さを増大
させるものであってはならないのである。そして、十分
な粉粒同士の衝突を起こさせることで、凝集状態にある
粉粒を解粒し、同時に、粉粒同士の衝突による粉粒表面
の平滑化の可能な手法を採用したのである。
状態にある乾燥した銅粉を、遠心力を利用した風力サー
キュレータを用いて行うことができる。ここで言う「遠
心力を利用した風力サーキュレータ」とは、エアをブロ
ワーして、凝集した銅粉を円周軌道を描くように吹き上
げてサーキュレーションさせ、このときに発生する遠心
力により粉粒同士を気流中で相互に衝突させ、解粒作業
を行うために用いるものである。このときに、遠心力を
利用した市販の風力分級器を用いることも可能である。
かかる場合、あくまでも分級を目的としたものではな
く、風力分級器がエアをブロワーして、凝集した銅粉を
円周軌道を描くように吹き上げ、その飛程中に凝集した
粉粒同士を衝突させるサーキュレータの役割を果たすの
である。
状態にある銅粉を含有した銅粉スラリーを、遠心力を利
用した流体ミルを用いて解粒処理するのである。ここで
言う「遠心力を利用した流体ミル」とは、銅粉スラリー
を円周軌道を描くように高速でフローさせ、このときに
発生する遠心力により凝集した粉粒同士を溶媒中で相互
に衝突させ、解粒作業を行うために用いるのである。
を繰り返して行うことも可能であり、要求品質に応じ
て、解粒処理のレベルの任意選択が可能である。解粒処
理の施された銅粉は、凝集状態が破壊され新たな粉体特
性を備えることになるのである。そして、レーザー回折
散乱式粒度分布測定法による重量累積粒径D50と画像
解析により得られる平均粒径DIAとを用いてD50/
DIAで表される凝集度の値が1.5以下とすること
が、最も望ましいのである。ここで言う凝集度が1.5
以下となると、殆ど完全な単分散の状態が確保できてい
ると言えるためである。
由から採用したものである。即ち、レーザー回折散乱式
粒度分布測定法を用いて得られる重量累積粒径D50の
値は、真に粉粒の一つ一つの径を直接観察したものでは
ないと考えられる。殆どの銅粉を構成する粉粒は、個々
の粒子が完全に分離した、いわゆる単分散粉ではなく、
複数個の粉粒が凝集して集合した状態になっているから
である。レーザー回折散乱式粒度分布測定法は、凝集し
た粉粒を一個の粒子(凝集粒子)として捉えて、重量累
積粒径を算出していると言えるのである。
M)を用いて観察される銅粉の観察像を画像処理するこ
とにより得られる平均粒径DIAは、SEM観察像から
直接得るものであるため、一次粒子が確実に捉えられる
ことになり、反面には粉粒の凝集状態の存在を全く反映
させていないことになる。
レーザー回折散乱式粒度分布測定法の重量累積粒径D
50と画像解析により得られる平均粒径DIAとを用い
て、D 50/DIAで算出される値を凝集度として捉え
ることとしたのである。即ち、同一ロットの銅粉におい
てD50とDIAとの値が同一精度で測定できるものと
仮定して、上述した理論で考えると、凝集状態のあるこ
とを測定値に反映させるD50の値は、DIAの値より
も大きな値になると考えられる。
集状態が全くなくなるとすれば、限りなくDIAの値に
近づいてゆき、凝集度であるD50/DIAの値は、1
に近づくことになる。凝集度が1となった段階で、粉粒
の凝集状態が全く無くなった単分散粉と言えるのであ
る。但し、現実には、凝集度が1未満の値を示す場合も
ある。理論的に考え真球の場合には、1未満の値にはな
らないのであるが、現実には、真球ではなく1未満の凝
集度の値が得られることになるようである。なお、本件
明細書における走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観
察される銅粉の画像解析は、旭エンジニアリング株式会
社製のIP−1000PCを用いて、円度しきい値1
0、重なり度20として円形粒子解析を行い、平均粒径
DIAを求めたものである。
形の銅粉を、高エネルギーボールミルを用いて処理する
ことで、銅粉の粉粒を圧縮変形させ、フレーク銅粉とす
るのである。
ビーズミル、アトライター等のように銅粉を乾燥させた
状態で行うか、銅粉スラリーの状態で行うかは問わず、
メディアを用いて、銅粉の粉粒を圧縮して塑性変形させ
ることのできる装置の総称として用いているものであ
る。このようにして得られたフレーク銅粉は、請求項1
に記載したフレーク銅粉の持つ特性である、レーザー回
折散乱式粒度分布測定法による重量累積粒径D10、D
50、D90、レーザー回折散乱式粒度分布測定法によ
り測定した粒度分布の標準偏差SDを用いて表されるS
D/D50の値が0.5以下であり、且つ、D90/D
10表される値が4.0以下となる特徴を備えるものと
なるのである。但し、本件明細書の発明の対象となるフ
レーク銅粉は、従来にある銅粉とは、その形状が異な
り、図1から分かるようにフレーク状と言うよりは、微
小ナゲット状と称するのが適当であると言える。
た銅ペーストは、その充填性に優れ、形成した導体の電
気抵抗を低く維持できることから、多層プリント配線板
の層間導体であるビアホール、スルーホール等の穴埋め
用途に最適であり、また、スクリーン印刷アディティブ
法による導体回路及びセラミックコンデンサの外部電極
の形成に適したものとなるのである。そこで、請求項4
には、請求項1に記載のフレーク銅粉を用いて製造した
銅ペーストとしているのである。
て、本件発明に関し、より詳細に説明する。
態、比較例で共通する内容となる、湿式法による銅粉及
び銅粉スラリーの製造方法について説明する。ここで
は、硫酸銅(五水塩)100kgを、温水に溶解させ液
温60℃の200リットルの溶液とした。そして、ここ
に125リットルの25質量%濃度の水酸化ナトリウム
水溶液を添加し、液温を60℃に維持しつつ、1時間の
攪拌を行い、酸化第二銅を生成した。
0℃に維持し続け、ここに濃度450g/lのグルコー
ス水溶液80リットルを、20分かけて一定の速度で添
加し、酸化第一銅スラリーを生成した。ここで、このス
ラリーを一旦濾過し、洗浄した後、温水を加えて320
リットルの再スラリーとした。
酢酸及び0.7kgのアラビアゴムを添加し、攪拌し
て、溶液温度を50℃に保持した。この状態の再スラリ
ーに、20質量%濃度の水加ヒドラジン50リットル
を、60分かけて一定の速度で添加し、酸化第一銅を還
元して銅粉として、銅粉スラリーを生成した。この銅粉
スラリーが、以下の第2実施形態で用いる銅粉スラリー
である。
で十分に洗浄し、濾過して水切りを行い、乾燥して銅粉
を得た。この銅粉が第1実施形態で用いる凝集状態にあ
る乾燥した銅粉である。この凝集状態にある銅粉のレー
ザー回折散乱式粒度分布測定法の重量累積粒径D50は
5.56であり、画像解析により得られる平均粒径D
IAは3.18、従って、D50/DIAで算出される
凝集度は1.75であった。
に記載した製造方法を用いて、フレーク銅粉を製造し
た。
態にある乾燥した銅粉」を、市販の風力分級器である日
清エンジニアリング社製のターボクラシファイヤを用い
て、回転数6500rpmでサーキュレーションさせ、
凝集状態にある粉粒同士を衝突させて解粒作業を行っ
た。
ザー回折散乱式粒度分布測定法の重量累積粒径D50は
4.50であり、画像解析により得られる平均粒径D
IAは4.01、従って、D50/DIAで算出される
凝集度は1.12であり、十分な解粒処理が行われてい
ることが確認できた。
ミルであるWilly A.Bachofen AG
Maschinenfabrik製のダイノーミル K
DL型を用いて、0.7mm径のジルコニアビーズをメ
ディアとして用い、溶媒にメタノールを用いて30分間
分散し、銅粉の粉粒を圧縮して塑性変形させる事で、略
球形の銅粉をフレーク状の銅粉にした。
諸特性は第2実施形態及び第3実施形態の結果と併せ
て、表2に試料1として示している。この表2に示した
結果から分かるように、最大粒径Dmaxが2.31μ
mであって粗大粒は見られず、レーザー回折散乱式粒度
分布測定法による重量累積D10、D50、D90、及
びレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定した粒
度分布の標準偏差SDを用いて表されるSD/D50の
値が0.30であり、D90/D10で表される値が
2.18となっている。従って、本件発明に係るフレー
ク銅粉の具備すべき要件を満足するものであることが分
かるのである。
銅粉を用いてエポキシ系の銅ペーストを製造し、銅ペー
ストの粘度の変化率を測定したのである。ここで製造し
たエポキシ系銅ペーストは、フレーク銅粉を85重量
部、第1のエポキシ樹脂には油化シェル社製のエピコー
ト806を3.5重量部、第2のエポキシ樹脂には東都
化成株式会社製のYD−141を10.2重量部、エポ
キシ樹脂硬化剤として味の素株式会社製のアミキュアM
Y−24を1.3重量部として、これらを混錬してエポ
キシ系銅ペーストを得たのである。以上のようにして得
られたエポキシ系銅ペーストの製造直後の粘度を測定す
ると400Pa・s、一週間経過後の粘度は426Pa
・sであった。
して加熱硬化させ直径10mm、厚さ10mmの形状を
持つペレットを製造し、四探針の電圧測定器を用いて、
このペレットに電流を通電した場合の電圧を測定し、抵
抗値に換算するという手法を採用した。その結果の抵抗
値は、2.6×10−5Ω・mであった。
た方法により得られた「銅粉スラリー」を、市販の遠心
力を利用した流体ミルである太平洋機工社製のファイン
・フローミルを用いて、回転数3000rpmでサーキ
ュレーションさせ、凝集状態にある粉粒同士を衝突させ
て解粒作業を行った。
ザー回折散乱式粒度分布測定法の重量累積D50は4.
20であり、画像解析により得られる平均粒径DIAは
4.90、従って、D50/DIAで算出される凝集度
は0.86であり、十分な解粒作業が行われていること
を確認した。
リーの状態のまま、ダイノーミルを用いて、銅粉の粉粒
を圧縮して塑性変形させる事で、略球形の銅粉をフレー
ク状の銅粉にした。このときの条件は、第1実施形態と
同様である。
諸特性は表2に試料2として示している。この表2に示
した結果から分かるように、最大粒径Dmaxが3.2
7μmであって粗大粒は見られず、レーザー回折散乱式
粒度分布測定法による重量累積粒径D10、D50、D
90、及びレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測
定した粒度分布の標準偏差SDを用いて表されるSD/
D50の値が0.36であり、D90/D10表される
値が2.57となっている。従って、本件発明に係るフ
レーク銅粉の具備すべき要件を満足するものであること
が分かるのである。
容とを対比して考えれば、本実施形態により得られたフ
レーク銅粉の粉体特性は、表1に掲載した従来のフレー
ク銅粉の粉体品質に比べて、ロット間に置いても非常に
安定してバラツキの無いものであり、各ロット内におけ
る粉粒の分布も非常にシャープな分布をしていることが
分かる。即ち、微細で且つ狭い範囲に粒度分布が収まる
のである。
フレーク銅粉を用いてエポキシ系の銅ペーストを製造
し、銅ペーストの粘度の変化率を測定したのである。こ
こで製造したエポキシ系銅ペーストの組成及び製造方法
は、第1実施形態の場合と同様であるため、記載を省略
する。得られたエポキシ系銅ペーストの製造直後の粘度
を測定すると380Pa・s、一週間経過後の粘度は4
02Pa・sであった。
して加熱硬化させ直径10mm、厚さ10mmの形状を
持つペレットを製造し、四探針の電圧測定器を用いて、
このペレットに電流を通電した場合の電圧を測定し、抵
抗値に換算するという手法を採用した。その結果の抵抗
値は、2.9×10−5Ω・mであった。
施形態に記載した製造方法を用いて、フレーク銅粉を製
造した。この製造方法の内、異なるのは、解粒処理した
銅粉を、媒体分散ミルであるWilly A.Bach
ofen AG Maschinenfabrik製の
ダイノーミル KDL型を用いて、0.7mm径のジル
コニアビーズをメディアとして用い、溶媒にメタノール
を用いて15分間分散し、銅粉の粉粒を圧縮して塑性変
形させる事で、略球形の銅粉をフレーク状の銅粉にした
点のみである。従って、処理時間を短くして、圧縮変形
の度合いを軽減して、フレーク銅粉を構成する粉粒の厚
さと前記重量累積粒径D50とで表されるアスペクト比
([厚さ]/[D50])の値が0.3〜0.7の範囲
となるようにしたのである。
諸特性は、表2に試料3として示している。この表2に
示した結果から分かるように、最大粒径Dmaxが2.
87μmであって粗大粒は見られず、レーザー回折散乱
式粒度分布測定法による重量累積D10、D50、D
90、及びレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測
定した粒度分布の標準偏差SDを用いて表されるSD/
D50の値が0.25であり、D90/D10で表され
る値が2.18、アスペクト比が0.48となってい
る。従って、本件発明に係るフレーク銅粉の具備すべき
要件を満足するものであることが分かるのである。
用いて第1実施形態と同様のエポキシ系の銅ペーストを
製造し、銅ペーストの粘度の変化率を測定したのであ
る。このときのエポキシ系銅ペーストの製造直後の粘度
を測定すると360Pa・s、一週間経過後の粘度は4
00Pa・sであった。
して加熱硬化させ直径10mm、厚さ10mmの形状を
持つペレットを製造し、四探針の電圧測定器を用いて、
このペレットに電流を通電した場合の電圧を測定し、抵
抗値に換算するという手法を採用した。その結果の抵抗
値は、2.2×10−5Ω・mであった。
で用いた凝集状態にある乾燥した銅粉を、解粒処理する
ことなく、第1実施形態と同様にダイノーミルを用い
て、銅粉の粉粒を圧縮して塑性変形させる事で、略球形
の銅粉をフレーク状の銅粉にした。この結果得られたフ
レーク銅粉の粉体特性が、表1の試料番号5として示し
たものである。従って、本件発明に係るフレーク銅粉の
具備すべき要件を満足するものでないことが分かるので
ある。
てエポキシ系の銅ペーストを製造し、銅ペーストの粘度
の変化率を測定したのである。ここで製造したエポキシ
系銅ペーストの組成及び製造方法は、第1実施形態の場
合と同様であるため、記載を省略する。得られたエポキ
シ系銅ペーストの製造直後の粘度を測定すると586P
a・s、一週間経過後の粘度は975Pa・sであっ
た。
して加熱硬化させ直径10mm、厚さ10mmの形状を
持つペレットを製造し、四探針の電圧測定器を用いて、
このペレットに電流を通電した場合の電圧を測定し、抵
抗値に換算するという手法を採用した。その結果の抵抗
値は、3.6×10−5Ω・mであった。
比較すれば、実施形態に記載した銅ペーストの初期粘度
は非常に低いものとなることが分かる。しかも、経時変
化の非常に小さなものであり、ペースト管理の煩雑さを
解消するものとなることが分かる。更に、銅ペーストに
して形成した導体が低抵抗なものとなることが分かるの
である。
とで、製造する銅ペースト粘度を低くし、その銅ペース
トを用いて形成した導体の充填性の改善、電気的抵抗性
を損なうことなく、しかも、導体形状の制御が容易とな
るため、従来不可能であったファインパターン回路形状
の形成が可能となるのである。また、本件発明に係るフ
レーク銅粉の製造方法を用いることで、従来にないフレ
ーク銅粉の製造が可能となり、しかも、本件発明に係る
粉体特性を備えたフレーク銅粉の製造歩留まりを飛躍的
に向上させることが可能となるのである。この結果、特
にプリント配線板の導体形成の場において有用であり、
トータル製造コストを下げ、しかも、高品質の接続信頼
性に優れた製品供給を可能とするのである。
品)。
Claims (4)
- 【請求項1】 粒径が10μm以下のフレーク銅粉であ
って、 フレーク銅粉のレーザー回折散乱式粒度分布測定法によ
る重量累積粒径D10、D50、D90、レーザー回折
散乱式粒度分布測定法により測定した粒度分布の標準偏
差SDを用いて表されるSD/D50の値が0.5以下
であり、且つ、D90/D10で表される値が4.0以
下であることを特徴とするフレーク銅粉。 - 【請求項2】 粒径が10μm以下のフレーク銅粉であ
って、 フレーク銅粉のレーザー回折散乱式粒度分布測定法によ
る重量累積粒径D50、レーザー回折散乱式粒度分布測
定法により測定した粒度分布の標準偏差SDを用いて表
されるSD/D50の値が0.15〜0.35であり、
且つ、フレーク銅粉を構成する粉粒の厚さと前記重量累
積粒径D50とで表されるアスペクト比([厚さ]/
[D50])の値が0.3〜0.7であることを特徴と
するフレーク銅粉。 - 【請求項3】 凝集状態にある銅粉を解粒処理し、解粒
処理の終了した銅粉の粉粒を高エネルギーボールミルで
圧縮変形することでフレーク状にすることを特徴とする
請求項1又は請求項2に記載のフレーク銅粉の製造方
法。 - 【請求項4】 請求項1又は請求項2に記載のフレーク
銅粉を用いて製造した銅ペースト。
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-
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- 2002-08-07 JP JP2002229472A patent/JP4227373B2/ja not_active Expired - Lifetime
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