JP2003107479A - 液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置 - Google Patents
液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置Info
- Publication number
- JP2003107479A JP2003107479A JP2001295819A JP2001295819A JP2003107479A JP 2003107479 A JP2003107479 A JP 2003107479A JP 2001295819 A JP2001295819 A JP 2001295819A JP 2001295819 A JP2001295819 A JP 2001295819A JP 2003107479 A JP2003107479 A JP 2003107479A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment film
- liquid crystal
- crystal display
- display device
- spot defect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1306—Details
- G02F1/1309—Repairing; Testing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
- G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/50—Protective arrangements
- G02F2201/506—Repairing, e.g. with redundant arrangement against defective part
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
合、配向膜の配向特性を効果的にかつ高速に除く方法及
び装置を提供する。 【解決手段】ビーム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と
直交方するビームを用いることで、効果的に配向膜のV
字溝の規則性を破壊させる。また、配向膜の上膜が45
度で下膜が135度でV字溝が形成されている場合、ス
キャンの進行に応じてレーザビーム形状、更には、レー
ザビームのエネルギーを制御する。更に、カラーフィル
ター側及びTFT側の両方から配向膜に対する先の処理
を行う。
Description
置の輝点欠陥を修正する方法およびその装置に関する。
明すると、アクティブマトリクス型液晶ディスプレイ装
置は、概略、液晶を挟んで両側に、配向膜、ガラス基
板、偏光板が配置される構造となっている。両側のガラ
ス基板の一方はアレイ基板と称され、液晶側表面には、
多数本の信号ラインと走査ラインがマトリクス状に形成
され、これら信号ラインと走査ラインとの交差部に画素
電極に電荷を充放電するためのTFT(薄膜トランジス
タ)が設けられ、更に、これらのTFTに隣接して多数
の画素電極がマトリクス状に設けられる。また、他方の
ガラス基板はカラーフィルターと称されるもので、この
ガラス基板の液晶側表面には、着色層、保護膜が形成さ
れるとともに、透明導電膜が形成される。この透明導電
膜は液晶ディスプレイ装置の共通電極を形成するもので
あり、このガラス基板の表面全体を覆っている。
ィ装置の液晶を90度ねじるためにカラーフィルター
(以後CFと称す)側のガラス基板とTFT側のガラス
基板の一番内側、即ち液晶自身に直接接し、対向して配
置された薄い透明膜である。この膜は一般的にはポリイ
ミド系の樹脂が塗布され、その表面には平行で細かいV
字溝が全面に掘られており、上下膜が丁度90度交差し
た状態でレイアウトされている。前述の90度交差とい
う意味合いは上膜が45度で下膜が135度であっても
構わないことを意味し、一般のアクティブ液晶ディスプ
レィ装置はこの角度を成している。この膜の役割につい
て説明すると、TFTとCFの間の液晶に電圧を掛けた
時に液晶を全て垂直に配列させることで、アクティブ液
晶ディスプレィの最上部ならびに最下部に貼り付けられ
た偏光板によってバックライトから透過してくる白色光
を完全に遮断することになり、結果としてディスプレィ
自体は全面黒色表示となる。逆に前述の電圧を掛けない
場合には、液晶をこの配向膜のV字溝に沿って配列させ
る効果を生じ、前述のバックライトから透過してくる白
色光の偏光を丁度90度ねじることで、前述の2枚の偏
光板をすり抜けて透過できるようになり、さらにCFを
通過することでRGBの3原色を全て発生させ、結果と
して全面が白色表示となる。実際には外部の信号発生器
からTFTに対して、垂直水平の同期信号を絶えず送り
込むことで、様々な図柄を表示させている。
トリクス型液晶ディスプレイ装置は、製造工程において
不良が発生し易く、TFTが動作不良を起こす場合や、
画素電極または配向膜が正常に形成されていない場合に
は、画素において透過光を遮断することができなくな
り、その部分が輝点欠陥となって現れることが知られて
いる。そこで、このような液晶ディスプレイ装置の輝点
欠陥を修正する方法として、レーザ光を用いてTFTの
ゲート電極とドレイン電極とを接続し、常に欠陥画素の
表示電極部に直流電圧を印加し、画素の透過光を減少さ
せて目立たなくする方法が考案されている。(特開平5
−210111号公報参照)しかし、このリペア方法は
画素電極部に印加される直流電圧によって液晶中のイオ
ンがリペア部の片側電極に集中し、液晶ディスプレイ装
置の寿命を短くするという難点がある。
せずに輝点欠陥を修正する方法として、液晶ディスプレ
イ装置の配向膜にレーザ光を照射し、配向膜を画素単位
で部分的に除去したり、配向膜のV溝を消しさり、欠陥
画素部の透過光を選択的に減少させ、目立たなくする方
法が提案されている。配向膜の処理によりバックライト
から透過してくる白色光の透過性を劣化させる方法は、
後工程に行く程有効な方法と考えられている。配向膜を
除いたり、配向性を与えるV溝を消しさる技術が特開平
8−15660号公報、特開平8−201813号公報
に示されている。他方、配向膜の除去を確実に実現させ
るため液晶中に一端気泡を発生させることを特徴とした
技術も特開平9−90304号公報や特開2000−5
6283号公報に開示されている。
8−15660号公報、特開平8−201813号公報
に示されている方法では、画素に比べ細いレーザビーム
で配向膜を処理しているため処理時間が長くかかり、且
つ、レーザビームのスキャンの軌跡が新たな溝として作
用するため、充分満足できる輝点欠陥修正がおこなえな
かった。
イ装置の配向膜の配向特性を充分に効果的に且つ高速で
行える液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を修正する方法
およびその装置を提供することである。
ム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するレーザ
ビームに成形するとともに、これをスキャンして配向膜
の溝を削除することで効果的に配向膜のV字溝の規則性
を破壊させる液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を修正す
る方法が及び装置が得られる。
カラーフィルター側及びTFT側の両方から配向膜に対
する先の処理を行う液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を
修正する方法が及び装置が得られる。
5度で下膜が135度でV字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビームの長さ方向のサイ
ズを制御することにより効率的に配向膜のV字溝の規則
性を破壊させる液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を修正
する方法及び装置が得られる。
5度で下膜が135度でV字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビームのサイズを制御す
る時、このエネルギーを制御することにより、他の液晶
のセルへの熱影響を防ぎながら効率的に配向膜のV字溝
の規則性を破壊させる液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥
を修正する方法及び装置が得られる。
た図面を参照して本発明を詳細に説明する。図1は本発
明の第1の実施の形態を示す図で、コントローラ1から
の指令に基付いてQスイッチパルスレーザ2が発射され
る。このレーザはビームを拡大かつビームコリメーショ
ンのためエキスパンダ3を通過し、さらにビーム強度を
加減させるためのアッテネータ4を透過する。アッテネ
ータ4を透過したビームは、ビーム形状を縦長あるいは
横長に成形するため光学スリット(もしくは光学アパー
チャ)5に入射され、リレーレンズ6と対物レンズ7を
経て液晶パネル8中の配向膜に結像されることになる。
光学スリット5はビーム形状を任意に形成できるもの
で、例えば、XY方向でサイズを制御できる可変矩形ス
リットを更に回転自在にする機構と組合わせた構成とす
ればよい。
は、上面がカラーフィルター面でもTFT面でも構わな
い。液晶パネル8はステージ9に載せられており、コン
トローラ1の制御によりステージ9は移動し、任意の修
正点を設定ができるとともに、任意の方向へのスキャン
ができる。また、液晶パネル8の下には偏光板10、バ
ックライト11が配置されている。他方、ビームスプリ
ッター12、偏光板13を経たビームはカメラ14で撮
像され、画像処理装置15へ送られる。輝点欠陥の修正
個所は、カメラ14からの画像を処理することで自動的
に検出して位置設定をしてもよいし、オペレータがモニ
ター画面から輝点欠陥の修正が必要とする点を検出し
て、コントローラ1を制御するようにしてもよい。この
点は本発明の要旨には関係しない。
は、それぞれ90度交差した偏光板10、13がそれぞ
れ配される関係となるが、この偏光板はバックライトと
カメラの間にあれば良く、必ずしも液晶セルに隣接させ
る必要はない。加工の状況、ならびに透光性劣化の善し
悪しはカメラでリアルタイムで観察、あるいは良否判定
を画像処理することができる。尚、偏光板がすでに組み
込まれた状態で輝点欠陥を修正をする場合は、図の偏光
板10、13の配置は不要である。
配向膜のV溝方向とスキャンされるビームとの関係を示
す説明図で、縦方向に配向膜のV字溝がある場合を示
す。この場合、ビーム形状の長さ方向が配向膜の溝方向
と直交方するビームは横長のビームB1となり、この横
長のビームを縦方向にスキャンすることになる。図2で
は、横長ビームの長手方向のサイズは画素の横幅相当と
なる。図3は上面がTFT面の場合の配向膜のV溝方向
とスキャンされるビームとの関係を示す説明図で、横方
向に配向膜のV字溝がある場合である。この場合、ビー
ム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するビーム
は縦長のビームB2となり、この縦長のビームを横方向
にスキャンすることになる。図3では、縦長ビームの長
手方向のサイズは画素の縦幅相当となる。本発明におい
ては、レーザビームの形状を画素に応じた長さをもつ形
状に成形するとともに、ビーム形状の長さ方向が配向膜
の溝方向と直交方するようにしている。このようなレー
ザビームを配向膜のV字溝方向にスキャンすることで、
素早く効果的に配向膜のV字溝の規則性取り除くことが
できる。
は加工結果として加工後本来の黒色表示に向け、どれだ
け透光性が劣化したか否かを、カメラを通してモニタで
即座に判定できるようにするため、或いは画像処理での
修正点の抽出を容易にするためである。さらに、周囲8
画素をオフしているのは、RGB表示色に本加工により
異常(不良)が発生していないこと同時に確認せんがた
めである。
除去する場合、即ち、図1で上面がカラーフィルター面
で配向膜のV溝方向が135度の場合を示し、この場
合、ビーム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方す
るビームは斜め長ビームB3となり、この斜め長ビーム
を図に示す配向膜の溝方向にスキャンする。この場合、
長ビームの長さはスキャン位置によって異なり、スキャ
ン位置がP1、P2、P3・・・と進むに従って斜め長
ビームの長さは長く設定される。斜め長ビームの長さの
変更は、光スリット5(図1)を制御することで行われ
る。同様に図5はTFT側から配向膜を除去する場合、
即ち、図1で上面がTFT面で配向膜のV溝方向が45
度の場合を示し、斜め長ビームB4を図に示す配向膜の
溝方向方向にスキャンする。この場合も、長ビームの長
さはスキャン位置によって異なり、スキャン位置が進む
に従ってビームの長さは長く設定される。
向膜のV溝方向と直交する斜め長ビームを長さを変えな
がら配向膜の配向溝方向にスキャンしているが、配向膜
のV溝方向が135度、或いは45度の場合、スキャン
方向を画素に対して垂直方向、或いは真横方向(画素を
構成する辺の方向)にしても図4、図5の場合と同様の
作用効果が得られる。これを図6にしめす。これらスキ
ャンの方向も、コントローラ1によるステージ9の制御
により任意に行える。
て、配向膜の配向溝は45度、もしくは135度で形成
されているので、この場合レーザビームのスキャン(走
査)方向は135度、もしくは45度となる(図4、図
5)。さらに縦長(横100μm×縦300μm)、も
しくは横長(前記サイズと逆)の画素(ピクセル)内を
斜め長レーザビームの長手方向の長さを走査位置に応じ
て伸縮制御させる。更に、同時にパルスエネルギーを制
御しながら走査させることが好ましい。具体的には長い
程エネルギーを下げ、短い程エネルギーを上げるように
する。これは、レーザビームの照射による液晶パネルへ
の熱影響を少なくするためであり、長いビームは短いビ
ームに比べエネルギーが大きいからである。このパルス
エネルギーは、熱影響を考慮して、例えば、一次関数、
より精密には三次関数等で校正される。
素に合わせて透過成形されたレーザビームを配向膜に結
像させ、当該ビームを走査してゆくが、この時オーバー
ラップさせながら走査させてもよい。通常、配向膜の配
向溝の方向性を除くためレーザビームを照射するとその
軌跡が残り、これが配向膜に新たな方向性を与えること
になり、輝点欠陥を修正効果を弱めることになってしま
うが、本発明においては、レーザビームの軌跡が元々形
成されていた配向膜のV溝方向と直交するため、配向膜
の方向性をより効果的にキャンセルすることができるか
らである。
図であり、カラーフィルター面とTFT面の両面から配
向膜を除去することで、さらに一層前述の透光性を劣化
させることができる。図7において、アッテネータ4か
らのビームはビームスプリッター16により2つに分離
された後、光学スリット5と、ミラー17を経て追加さ
れた他の光学スリット18へ供給される。光学スリット
5を経たビームについては、図1の実施の形態と同様に
図面上部から液晶パネル8に入射し、上側の配向膜に結
像される。他方の光学スリット18、ミラー19、リレ
ーレンズ20、対物レンズ21を経たビームは図面下方
から液晶パネル8に入射し、下側の配向膜に結像され
る。ここで、光学スリット5、18で形成されるビーム
の形状は、上側の配向膜と下側の配向膜の溝が互いに直
交しているため、これに合わせて互いに直交関係とな
る。即ち、図2と図3、或いは、図4と図5に示された
関係となる。本実施の形態でも、カラーフィルター面で
配向膜のV溝方向とTFT面で配向膜のV溝方向とが、
例えば、それぞれ135度と45度の場合は、光学スリ
ット5、18で形成されるレーザビーム形状は、図4、
図5に示すのと同様となり、その長手方向のサイズはス
キャン位置に応じて制御される。スキャン方向は図4、
図5で示される方向、或いは図6で示される方向であ
る。
を画素に応じた長さをもち、ビーム形状の長さ方向が配
向膜の溝方向と直交するレーザビームに成形して、この
レーザビームをスキャンすることで、素早く効率的に配
向膜のV字溝の規則性を破壊させることができ、しか
も、従来に比べて液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正
効果を高めることができる。
ー側及びTFT側の両方から配向膜に対して配向膜のV
字溝の規則性を破壊させることができ、輝点欠陥修正効
果を更に高めることができる。
5度で下膜が135度でV字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビーム形状を制御するこ
とによりより効率的に配向膜のV字溝の規則性を破壊さ
せることができ、輝点欠陥修正を高速に行うことができ
る。
5度で下膜が135度でV字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビーム形状を制御する時
にエネルギーを制御することにより、他のセルへの熱影
響を防ぎながら高速に輝点欠陥を修正することができ
る。
配向膜に結像させて走査してゆく時、オーバーラップさ
せながら走査させることで、配向膜の方向性をより効果
的にキャンセルすることができる。
る。
ィルター面の場合の配向膜のV溝方向とスキャンされる
ビームとの関係を示す説明図である。
の場合の配向膜のV溝方向とスキャンされるビームとの
関係を示す説明図である。
ィルター面で配向膜のV溝方向が135度の場合のスキ
ャンされる斜め長ビームを示す説明図である。
で配向膜のV溝方向が45度の場合のスキャンされる斜
め長ビームを示す説明図である。
の場合の斜め長ビームとスキャンされる方向関係の他の
例を示す説明図である。
ラーフィルター面とTFT面の両面から配向膜を除去す
る構成を示す図である。
Claims (11)
- 【請求項1】 液晶ディスプレイ装置の配向膜の溝の方
向性を除いて輝点欠陥を修正する方法において、ビーム
形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するビームを
用い、これをスキャンして配向膜の溝を削除することを
特徴とする液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項2】 液晶ディスプレイ装置の配向膜の溝の方
向性を除いて輝点欠陥を修正する方法において、カラー
フィルター側及びTFT側の両方の配向膜にビーム形状
の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するレーザビーム
を用いて、このレーザビームをスキャンさせることを特
徴とする液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項3】 配向膜の溝方向が45度或いは135度
で形成されている場合、スキャンの進行に応じてレーザ
ビーム形状を制御して配向膜の溝の規則性を破壊させる
請求項1或いは2記載の液晶ディスプレイ装置の輝点欠
陥修正方法。 - 【請求項4】 スキャンの進行に応じて、更にレーザビ
ームのエネルギーを制御することを特徴とする請求項3
記載の液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項5】 配向膜に結像されるレーザビームをオー
バーラップさせてスキャンすることを特徴とする請求項
1或いは請求項2記載の液晶ディスプレイ装置の輝点欠
陥修正方法。 - 【請求項6】 スキャンの方向が配向膜の溝方向である
ことを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置
の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項7】 配向膜の溝方向が45度或いは135度
で形成されている場合、スキャンの方向が液晶ディスプ
レイ装置の画素を構成する辺の方向であることを特徴と
する請求項1記載の液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修
正方法。 - 【請求項8】 液晶ディスプレイ装置の配向膜の溝の方
向性を除いて輝点欠陥を修正する装置において、ビーム
形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するレーザビ
ームを作り出すビーム形状制御手段と、前記レーザビー
ムを配向膜に結像させてスキャンする手段を具備するこ
とを特徴とする液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正装
置。 - 【請求項9】 配向膜の溝方向が45度或いは135度
で形成されている場合、前記ビーム形状制御手段がスキ
ャンの進行に応じてビーム形状の長さ方向のサイズを変
化させることを特徴とする請求項8記載の液晶ディスプ
レイ装置の輝点欠陥修正装置。 - 【請求項10】 レーザビームのエネルギーを制御する
制御手段を具備し、スキャンの進行に応じてレーザビー
ムのエネルギーを制御することを特徴とする請求項9記
載の液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正装置。 - 【請求項11】 液晶ディスプレイ装置の配向膜の溝の
方向性を除いて輝点欠陥を修正する装置において、ビー
ム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するレーザ
ビームを作り出すビーム形状制御手段と、前記レーザビ
ームを液晶ディスプレイ装置の上側及び下側の配向膜に
結像させる手段と、夫々のレーザビームをスキャンする
手段を具備することを特徴とする液晶ディスプレイ装置
の輝点欠陥修正装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001295819A JP3673742B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | 液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置 |
TW91120460A TW574539B (en) | 2001-09-27 | 2002-09-09 | Raster defect correction method for liquid crystal display device and raster defect correction device for the same |
KR10-2002-0058018A KR100510419B1 (ko) | 2001-09-27 | 2002-09-25 | 액정표시장치용 래스터 결함 수정 방법 및 이를 위한래스터 결함 수정 장치 |
CNB021434395A CN1253752C (zh) | 2001-09-27 | 2002-09-25 | 液晶显示设备的光栅缺陷校正方法及其光栅缺陷校正器件 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001295819A JP3673742B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | 液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003107479A true JP2003107479A (ja) | 2003-04-09 |
JP3673742B2 JP3673742B2 (ja) | 2005-07-20 |
Family
ID=19117179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001295819A Expired - Fee Related JP3673742B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | 液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3673742B2 (ja) |
KR (1) | KR100510419B1 (ja) |
CN (1) | CN1253752C (ja) |
TW (1) | TW574539B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006337842A (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-14 | Toshiba Corp | 液晶パネルのリペア方法及びリペア装置 |
WO2007132586A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | 表示パネルの製造方法、表示パネルの製造装置、及び表示パネル |
US7440074B2 (en) | 2004-09-06 | 2008-10-21 | Seiko Epson Corporation | Method for repair of liquid crystal display device light point defects using detection of corrective laser light in real time |
US7564543B2 (en) | 2006-02-03 | 2009-07-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Defective pixel correction apparatus for liquid crystal panel |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100699598B1 (ko) * | 2005-08-04 | 2007-03-23 | 세종산업개발(주) | 녹조 및 적조제거장치 |
CN102749740A (zh) * | 2012-07-27 | 2012-10-24 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种光修复点缺陷的方法 |
CN109934211B (zh) * | 2019-03-11 | 2021-04-09 | Oppo广东移动通信有限公司 | 指纹的校准方法及相关装置 |
CN111580290B (zh) * | 2020-05-18 | 2022-07-12 | 北京兆维科技开发有限公司 | 一种无上偏光膜半导体显示面板的显示缺陷修复方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0527111A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Sharp Corp | カラー液晶表示装置におけるカラーフイルタの欠陥修正方法 |
JPH05210111A (ja) * | 1991-12-02 | 1993-08-20 | Nec Corp | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JP2994853B2 (ja) * | 1992-05-13 | 1999-12-27 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の欠陥修正方法 |
JP3224942B2 (ja) * | 1994-06-28 | 2001-11-05 | 株式会社東芝 | 液晶表示装置の輝点欠陥修正方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表示装置の製造方法 |
JP3138401B2 (ja) * | 1994-12-27 | 2001-02-26 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の欠陥修正方法 |
JP3323886B2 (ja) * | 1994-12-27 | 2002-09-09 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置及びその欠陥修正方法 |
JP3483969B2 (ja) * | 1995-01-27 | 2004-01-06 | 株式会社東芝 | 液晶ディスプレイ用レーザリペア方法及びその装置並びにアクティブマトリクス型液晶ディスプレイの製造方法 |
JP3640439B2 (ja) * | 1995-09-20 | 2005-04-20 | 浜松ホトニクス株式会社 | 液晶パネル、画素欠陥修正方法及び画素欠陥修正装置 |
JP2000056283A (ja) * | 1998-08-06 | 2000-02-25 | Hamamatsu Photonics Kk | 液晶パネルの画素欠陥修正装置 |
JP2001133803A (ja) * | 1999-11-01 | 2001-05-18 | Toshiba Corp | 液晶表示装置の製造方法と液晶表示装置およびレーザリペア装置 |
-
2001
- 2001-09-27 JP JP2001295819A patent/JP3673742B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-09-09 TW TW91120460A patent/TW574539B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-09-25 KR KR10-2002-0058018A patent/KR100510419B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-09-25 CN CNB021434395A patent/CN1253752C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7440074B2 (en) | 2004-09-06 | 2008-10-21 | Seiko Epson Corporation | Method for repair of liquid crystal display device light point defects using detection of corrective laser light in real time |
JP2006337842A (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-14 | Toshiba Corp | 液晶パネルのリペア方法及びリペア装置 |
JP4723915B2 (ja) * | 2005-06-03 | 2011-07-13 | 株式会社東芝 | 液晶パネルのリペア方法及びリペア装置 |
US7564543B2 (en) | 2006-02-03 | 2009-07-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Defective pixel correction apparatus for liquid crystal panel |
WO2007132586A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | 表示パネルの製造方法、表示パネルの製造装置、及び表示パネル |
KR100948734B1 (ko) | 2006-05-16 | 2010-03-22 | 샤프 가부시키가이샤 | 표시 패널의 제조 방법 및 제조 장치 |
CN101416099B (zh) * | 2006-05-16 | 2010-09-29 | 夏普株式会社 | 显示面板的制造方法和显示面板的制造装置 |
US7880844B2 (en) | 2006-05-16 | 2011-02-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display panel manufacturing method, display panel manufacturing apparatus, and display panel |
US8023097B2 (en) | 2006-05-16 | 2011-09-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display panel manufacturing method, display panel manufacturing apparatus, and display panel |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1253752C (zh) | 2006-04-26 |
CN1410821A (zh) | 2003-04-16 |
KR100510419B1 (ko) | 2005-08-26 |
KR20030027710A (ko) | 2003-04-07 |
TW574539B (en) | 2004-02-01 |
JP3673742B2 (ja) | 2005-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100463018C (zh) | 有源矩阵衬底、显示装置以及像素缺陷修正方法 | |
KR100879011B1 (ko) | 표시장치의 휘점불량 수리방법 | |
KR101117982B1 (ko) | 액정표시소자 및 그 휘점 리페어 방법 | |
JP5235896B2 (ja) | レーザーを用いた液晶パネルの黒化装置および方法 | |
KR0181529B1 (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
US5926246A (en) | Method for the correction of a defect in a liquid crystal display device | |
JP3673742B2 (ja) | 液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置 | |
CN101681070B (zh) | 有源矩阵基板、液晶面板、液晶显示单元、液晶显示装置、电视接收机、和有源矩阵基板的制造方法 | |
KR101133080B1 (ko) | 표시장치의 휘점불량 수리장치 | |
KR100829005B1 (ko) | 칼라필터 흑화장치 및 그 방법 | |
TWI706559B (zh) | 用於修復液晶顯示器中之熱像素缺陷之方法及設備 | |
JP3386735B2 (ja) | アクティブマトリクス基板の欠陥修正方法及び液晶パネルの製造方法 | |
JP2003262842A (ja) | 液晶表示装置の欠陥画素修正方法及び液晶表示装置の欠陥画素修正装置 | |
KR100695614B1 (ko) | 레이저 화학증착장비를 이용한 원 픽셀 리페어 방법 및 이를 이용하여 리페어된 액정표시소자의 기판 | |
JP3224942B2 (ja) | 液晶表示装置の輝点欠陥修正方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表示装置の製造方法 | |
JP3443236B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法及びそれに用いる検査修正装置 | |
JP6362013B2 (ja) | 表示装置とその製造方法と製造装置 | |
JP3098915B2 (ja) | 液晶表示装置の修正方法および修正装置 | |
JPH08146370A (ja) | 液晶表示装置の欠陥修正方法 | |
KR101087238B1 (ko) | 액정표시패널의 리페어 장치 및 방법 | |
KR100819865B1 (ko) | 액정표시장치용 어레이 기판 | |
JP3505223B2 (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
KR20060096575A (ko) | 액정표시소자 및 그 휘점 리페어 방법 | |
JP2003114448A (ja) | 液晶表示装置 | |
KR100431624B1 (ko) | 화소 결함 수리 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20040511 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041101 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041109 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050405 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050425 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080428 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080428 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080428 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |