JP2003107479A - 液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置 - Google Patents
液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置Info
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を修正する場
合、配向膜の配向特性を効果的にかつ高速に除く方法及
び装置を提供する。 【解決手段】ビーム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と
直交方するビームを用いることで、効果的に配向膜のＶ
字溝の規則性を破壊させる。また、配向膜の上膜が４５
度で下膜が１３５度でＶ字溝が形成されている場合、ス
キャンの進行に応じてレーザビーム形状、更には、レー
ザビームのエネルギーを制御する。更に、カラーフィル
ター側及びＴＦＴ側の両方から配向膜に対する先の処理
を行う。
合、配向膜の配向特性を効果的にかつ高速に除く方法及
び装置を提供する。 【解決手段】ビーム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と
直交方するビームを用いることで、効果的に配向膜のＶ
字溝の規則性を破壊させる。また、配向膜の上膜が４５
度で下膜が１３５度でＶ字溝が形成されている場合、ス
キャンの進行に応じてレーザビーム形状、更には、レー
ザビームのエネルギーを制御する。更に、カラーフィル
ター側及びＴＦＴ側の両方から配向膜に対する先の処理
を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、液晶ディスプレイ装
置の輝点欠陥を修正する方法およびその装置に関する。
置の輝点欠陥を修正する方法およびその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】まず、液晶ディスプレイ装置について説
明すると、アクティブマトリクス型液晶ディスプレイ装
置は、概略、液晶を挟んで両側に、配向膜、ガラス基
板、偏光板が配置される構造となっている。両側のガラ
ス基板の一方はアレイ基板と称され、液晶側表面には、
多数本の信号ラインと走査ラインがマトリクス状に形成
され、これら信号ラインと走査ラインとの交差部に画素
電極に電荷を充放電するためのＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）が設けられ、更に、これらのＴＦＴに隣接して多数
の画素電極がマトリクス状に設けられる。また、他方の
ガラス基板はカラーフィルターと称されるもので、この
ガラス基板の液晶側表面には、着色層、保護膜が形成さ
れるとともに、透明導電膜が形成される。この透明導電
膜は液晶ディスプレイ装置の共通電極を形成するもので
あり、このガラス基板の表面全体を覆っている。
明すると、アクティブマトリクス型液晶ディスプレイ装
置は、概略、液晶を挟んで両側に、配向膜、ガラス基
板、偏光板が配置される構造となっている。両側のガラ
ス基板の一方はアレイ基板と称され、液晶側表面には、
多数本の信号ラインと走査ラインがマトリクス状に形成
され、これら信号ラインと走査ラインとの交差部に画素
電極に電荷を充放電するためのＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）が設けられ、更に、これらのＴＦＴに隣接して多数
の画素電極がマトリクス状に設けられる。また、他方の
ガラス基板はカラーフィルターと称されるもので、この
ガラス基板の液晶側表面には、着色層、保護膜が形成さ
れるとともに、透明導電膜が形成される。この透明導電
膜は液晶ディスプレイ装置の共通電極を形成するもので
あり、このガラス基板の表面全体を覆っている。
【０００３】また、配向膜はアクティブ液晶ディスプレ
ィ装置の液晶を９０度ねじるためにカラーフィルター
（以後ＣＦと称す）側のガラス基板とＴＦＴ側のガラス
基板の一番内側、即ち液晶自身に直接接し、対向して配
置された薄い透明膜である。この膜は一般的にはポリイ
ミド系の樹脂が塗布され、その表面には平行で細かいＶ
字溝が全面に掘られており、上下膜が丁度９０度交差し
た状態でレイアウトされている。前述の９０度交差とい
う意味合いは上膜が４５度で下膜が１３５度であっても
構わないことを意味し、一般のアクティブ液晶ディスプ
レィ装置はこの角度を成している。この膜の役割につい
て説明すると、ＴＦＴとＣＦの間の液晶に電圧を掛けた
時に液晶を全て垂直に配列させることで、アクティブ液
晶ディスプレィの最上部ならびに最下部に貼り付けられ
た偏光板によってバックライトから透過してくる白色光
を完全に遮断することになり、結果としてディスプレィ
自体は全面黒色表示となる。逆に前述の電圧を掛けない
場合には、液晶をこの配向膜のＶ字溝に沿って配列させ
る効果を生じ、前述のバックライトから透過してくる白
色光の偏光を丁度９０度ねじることで、前述の２枚の偏
光板をすり抜けて透過できるようになり、さらにＣＦを
通過することでＲＧＢの３原色を全て発生させ、結果と
して全面が白色表示となる。実際には外部の信号発生器
からＴＦＴに対して、垂直水平の同期信号を絶えず送り
込むことで、様々な図柄を表示させている。
ィ装置の液晶を９０度ねじるためにカラーフィルター
（以後ＣＦと称す）側のガラス基板とＴＦＴ側のガラス
基板の一番内側、即ち液晶自身に直接接し、対向して配
置された薄い透明膜である。この膜は一般的にはポリイ
ミド系の樹脂が塗布され、その表面には平行で細かいＶ
字溝が全面に掘られており、上下膜が丁度９０度交差し
た状態でレイアウトされている。前述の９０度交差とい
う意味合いは上膜が４５度で下膜が１３５度であっても
構わないことを意味し、一般のアクティブ液晶ディスプ
レィ装置はこの角度を成している。この膜の役割につい
て説明すると、ＴＦＴとＣＦの間の液晶に電圧を掛けた
時に液晶を全て垂直に配列させることで、アクティブ液
晶ディスプレィの最上部ならびに最下部に貼り付けられ
た偏光板によってバックライトから透過してくる白色光
を完全に遮断することになり、結果としてディスプレィ
自体は全面黒色表示となる。逆に前述の電圧を掛けない
場合には、液晶をこの配向膜のＶ字溝に沿って配列させ
る効果を生じ、前述のバックライトから透過してくる白
色光の偏光を丁度９０度ねじることで、前述の２枚の偏
光板をすり抜けて透過できるようになり、さらにＣＦを
通過することでＲＧＢの３原色を全て発生させ、結果と
して全面が白色表示となる。実際には外部の信号発生器
からＴＦＴに対して、垂直水平の同期信号を絶えず送り
込むことで、様々な図柄を表示させている。
【０００４】ところで、このような構成のアクティブマ
トリクス型液晶ディスプレイ装置は、製造工程において
不良が発生し易く、ＴＦＴが動作不良を起こす場合や、
画素電極または配向膜が正常に形成されていない場合に
は、画素において透過光を遮断することができなくな
り、その部分が輝点欠陥となって現れることが知られて
いる。そこで、このような液晶ディスプレイ装置の輝点
欠陥を修正する方法として、レーザ光を用いてＴＦＴの
ゲート電極とドレイン電極とを接続し、常に欠陥画素の
表示電極部に直流電圧を印加し、画素の透過光を減少さ
せて目立たなくする方法が考案されている。（特開平５
−２１０１１１号公報参照）しかし、このリペア方法は
画素電極部に印加される直流電圧によって液晶中のイオ
ンがリペア部の片側電極に集中し、液晶ディスプレイ装
置の寿命を短くするという難点がある。
トリクス型液晶ディスプレイ装置は、製造工程において
不良が発生し易く、ＴＦＴが動作不良を起こす場合や、
画素電極または配向膜が正常に形成されていない場合に
は、画素において透過光を遮断することができなくな
り、その部分が輝点欠陥となって現れることが知られて
いる。そこで、このような液晶ディスプレイ装置の輝点
欠陥を修正する方法として、レーザ光を用いてＴＦＴの
ゲート電極とドレイン電極とを接続し、常に欠陥画素の
表示電極部に直流電圧を印加し、画素の透過光を減少さ
せて目立たなくする方法が考案されている。（特開平５
−２１０１１１号公報参照）しかし、このリペア方法は
画素電極部に印加される直流電圧によって液晶中のイオ
ンがリペア部の片側電極に集中し、液晶ディスプレイ装
置の寿命を短くするという難点がある。
【０００５】また、欠陥部の画素電極に直流電圧を印加
せずに輝点欠陥を修正する方法として、液晶ディスプレ
イ装置の配向膜にレーザ光を照射し、配向膜を画素単位
で部分的に除去したり、配向膜のＶ溝を消しさり、欠陥
画素部の透過光を選択的に減少させ、目立たなくする方
法が提案されている。配向膜の処理によりバックライト
から透過してくる白色光の透過性を劣化させる方法は、
後工程に行く程有効な方法と考えられている。配向膜を
除いたり、配向性を与えるＶ溝を消しさる技術が特開平
８−１５６６０号公報、特開平８−２０１８１３号公報
に示されている。他方、配向膜の除去を確実に実現させ
るため液晶中に一端気泡を発生させることを特徴とした
技術も特開平９−９０３０４号公報や特開２０００−５
６２８３号公報に開示されている。
せずに輝点欠陥を修正する方法として、液晶ディスプレ
イ装置の配向膜にレーザ光を照射し、配向膜を画素単位
で部分的に除去したり、配向膜のＶ溝を消しさり、欠陥
画素部の透過光を選択的に減少させ、目立たなくする方
法が提案されている。配向膜の処理によりバックライト
から透過してくる白色光の透過性を劣化させる方法は、
後工程に行く程有効な方法と考えられている。配向膜を
除いたり、配向性を与えるＶ溝を消しさる技術が特開平
８−１５６６０号公報、特開平８−２０１８１３号公報
に示されている。他方、配向膜の除去を確実に実現させ
るため液晶中に一端気泡を発生させることを特徴とした
技術も特開平９−９０３０４号公報や特開２０００−５
６２８３号公報に開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
８−１５６６０号公報、特開平８−２０１８１３号公報
に示されている方法では、画素に比べ細いレーザビーム
で配向膜を処理しているため処理時間が長くかかり、且
つ、レーザビームのスキャンの軌跡が新たな溝として作
用するため、充分満足できる輝点欠陥修正がおこなえな
かった。
８−１５６６０号公報、特開平８−２０１８１３号公報
に示されている方法では、画素に比べ細いレーザビーム
で配向膜を処理しているため処理時間が長くかかり、且
つ、レーザビームのスキャンの軌跡が新たな溝として作
用するため、充分満足できる輝点欠陥修正がおこなえな
かった。
【０００７】従って、本発明の目的は、液晶ディスプレ
イ装置の配向膜の配向特性を充分に効果的に且つ高速で
行える液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を修正する方法
およびその装置を提供することである。
イ装置の配向膜の配向特性を充分に効果的に且つ高速で
行える液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を修正する方法
およびその装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明においては、ビー
ム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するレーザ
ビームに成形するとともに、これをスキャンして配向膜
の溝を削除することで効果的に配向膜のＶ字溝の規則性
を破壊させる液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を修正す
る方法が及び装置が得られる。
ム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するレーザ
ビームに成形するとともに、これをスキャンして配向膜
の溝を削除することで効果的に配向膜のＶ字溝の規則性
を破壊させる液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を修正す
る方法が及び装置が得られる。
【０００９】また、本発明の他の特徴としては、更に、
カラーフィルター側及びＴＦＴ側の両方から配向膜に対
する先の処理を行う液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を
修正する方法が及び装置が得られる。
カラーフィルター側及びＴＦＴ側の両方から配向膜に対
する先の処理を行う液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を
修正する方法が及び装置が得られる。
【００１０】更に、本発明においては配向膜の上膜が４
５度で下膜が１３５度でＶ字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビームの長さ方向のサイ
ズを制御することにより効率的に配向膜のＶ字溝の規則
性を破壊させる液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を修正
する方法及び装置が得られる。
５度で下膜が１３５度でＶ字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビームの長さ方向のサイ
ズを制御することにより効率的に配向膜のＶ字溝の規則
性を破壊させる液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥を修正
する方法及び装置が得られる。
【００１１】更に、本発明においては配向膜の上膜が４
５度で下膜が１３５度でＶ字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビームのサイズを制御す
る時、このエネルギーを制御することにより、他の液晶
のセルへの熱影響を防ぎながら効率的に配向膜のＶ字溝
の規則性を破壊させる液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥
を修正する方法及び装置が得られる。
５度で下膜が１３５度でＶ字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビームのサイズを制御す
る時、このエネルギーを制御することにより、他の液晶
のセルへの熱影響を防ぎながら効率的に配向膜のＶ字溝
の規則性を破壊させる液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥
を修正する方法及び装置が得られる。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を示し
た図面を参照して本発明を詳細に説明する。図１は本発
明の第１の実施の形態を示す図で、コントローラ１から
の指令に基付いてＱスイッチパルスレーザ２が発射され
る。このレーザはビームを拡大かつビームコリメーショ
ンのためエキスパンダ３を通過し、さらにビーム強度を
加減させるためのアッテネータ４を透過する。アッテネ
ータ４を透過したビームは、ビーム形状を縦長あるいは
横長に成形するため光学スリット（もしくは光学アパー
チャ）５に入射され、リレーレンズ６と対物レンズ７を
経て液晶パネル８中の配向膜に結像されることになる。
光学スリット５はビーム形状を任意に形成できるもの
で、例えば、ＸＹ方向でサイズを制御できる可変矩形ス
リットを更に回転自在にする機構と組合わせた構成とす
ればよい。
た図面を参照して本発明を詳細に説明する。図１は本発
明の第１の実施の形態を示す図で、コントローラ１から
の指令に基付いてＱスイッチパルスレーザ２が発射され
る。このレーザはビームを拡大かつビームコリメーショ
ンのためエキスパンダ３を通過し、さらにビーム強度を
加減させるためのアッテネータ４を透過する。アッテネ
ータ４を透過したビームは、ビーム形状を縦長あるいは
横長に成形するため光学スリット（もしくは光学アパー
チャ）５に入射され、リレーレンズ６と対物レンズ７を
経て液晶パネル８中の配向膜に結像されることになる。
光学スリット５はビーム形状を任意に形成できるもの
で、例えば、ＸＹ方向でサイズを制御できる可変矩形ス
リットを更に回転自在にする機構と組合わせた構成とす
ればよい。
【００１３】本実施の形態において液晶パネルについて
は、上面がカラーフィルター面でもＴＦＴ面でも構わな
い。液晶パネル８はステージ９に載せられており、コン
トローラ１の制御によりステージ９は移動し、任意の修
正点を設定ができるとともに、任意の方向へのスキャン
ができる。また、液晶パネル８の下には偏光板１０、バ
ックライト１１が配置されている。他方、ビームスプリ
ッター１２、偏光板１３を経たビームはカメラ１４で撮
像され、画像処理装置１５へ送られる。輝点欠陥の修正
個所は、カメラ１４からの画像を処理することで自動的
に検出して位置設定をしてもよいし、オペレータがモニ
ター画面から輝点欠陥の修正が必要とする点を検出し
て、コントローラ１を制御するようにしてもよい。この
点は本発明の要旨には関係しない。
は、上面がカラーフィルター面でもＴＦＴ面でも構わな
い。液晶パネル８はステージ９に載せられており、コン
トローラ１の制御によりステージ９は移動し、任意の修
正点を設定ができるとともに、任意の方向へのスキャン
ができる。また、液晶パネル８の下には偏光板１０、バ
ックライト１１が配置されている。他方、ビームスプリ
ッター１２、偏光板１３を経たビームはカメラ１４で撮
像され、画像処理装置１５へ送られる。輝点欠陥の修正
個所は、カメラ１４からの画像を処理することで自動的
に検出して位置設定をしてもよいし、オペレータがモニ
ター画面から輝点欠陥の修正が必要とする点を検出し
て、コントローラ１を制御するようにしてもよい。この
点は本発明の要旨には関係しない。
【００１４】図において、液晶パネル８の上部と下部に
は、それぞれ９０度交差した偏光板１０、１３がそれぞ
れ配される関係となるが、この偏光板はバックライトと
カメラの間にあれば良く、必ずしも液晶セルに隣接させ
る必要はない。加工の状況、ならびに透光性劣化の善し
悪しはカメラでリアルタイムで観察、あるいは良否判定
を画像処理することができる。尚、偏光板がすでに組み
込まれた状態で輝点欠陥を修正をする場合は、図の偏光
板１０、１３の配置は不要である。
は、それぞれ９０度交差した偏光板１０、１３がそれぞ
れ配される関係となるが、この偏光板はバックライトと
カメラの間にあれば良く、必ずしも液晶セルに隣接させ
る必要はない。加工の状況、ならびに透光性劣化の善し
悪しはカメラでリアルタイムで観察、あるいは良否判定
を画像処理することができる。尚、偏光板がすでに組み
込まれた状態で輝点欠陥を修正をする場合は、図の偏光
板１０、１３の配置は不要である。
【００１５】図２は上面がカラーフィルター面の場合の
配向膜のＶ溝方向とスキャンされるビームとの関係を示
す説明図で、縦方向に配向膜のＶ字溝がある場合を示
す。この場合、ビーム形状の長さ方向が配向膜の溝方向
と直交方するビームは横長のビームＢ１となり、この横
長のビームを縦方向にスキャンすることになる。図２で
は、横長ビームの長手方向のサイズは画素の横幅相当と
なる。図３は上面がＴＦＴ面の場合の配向膜のＶ溝方向
とスキャンされるビームとの関係を示す説明図で、横方
向に配向膜のＶ字溝がある場合である。この場合、ビー
ム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するビーム
は縦長のビームＢ２となり、この縦長のビームを横方向
にスキャンすることになる。図３では、縦長ビームの長
手方向のサイズは画素の縦幅相当となる。本発明におい
ては、レーザビームの形状を画素に応じた長さをもつ形
状に成形するとともに、ビーム形状の長さ方向が配向膜
の溝方向と直交方するようにしている。このようなレー
ザビームを配向膜のＶ字溝方向にスキャンすることで、
素早く効果的に配向膜のＶ字溝の規則性取り除くことが
できる。
配向膜のＶ溝方向とスキャンされるビームとの関係を示
す説明図で、縦方向に配向膜のＶ字溝がある場合を示
す。この場合、ビーム形状の長さ方向が配向膜の溝方向
と直交方するビームは横長のビームＢ１となり、この横
長のビームを縦方向にスキャンすることになる。図２で
は、横長ビームの長手方向のサイズは画素の横幅相当と
なる。図３は上面がＴＦＴ面の場合の配向膜のＶ溝方向
とスキャンされるビームとの関係を示す説明図で、横方
向に配向膜のＶ字溝がある場合である。この場合、ビー
ム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するビーム
は縦長のビームＢ２となり、この縦長のビームを横方向
にスキャンすることになる。図３では、縦長ビームの長
手方向のサイズは画素の縦幅相当となる。本発明におい
ては、レーザビームの形状を画素に応じた長さをもつ形
状に成形するとともに、ビーム形状の長さ方向が配向膜
の溝方向と直交方するようにしている。このようなレー
ザビームを配向膜のＶ字溝方向にスキャンすることで、
素早く効果的に配向膜のＶ字溝の規則性取り除くことが
できる。
【００１６】また、両図で輝点欠陥をオンさせているの
は加工結果として加工後本来の黒色表示に向け、どれだ
け透光性が劣化したか否かを、カメラを通してモニタで
即座に判定できるようにするため、或いは画像処理での
修正点の抽出を容易にするためである。さらに、周囲８
画素をオフしているのは、ＲＧＢ表示色に本加工により
異常（不良）が発生していないこと同時に確認せんがた
めである。
は加工結果として加工後本来の黒色表示に向け、どれだ
け透光性が劣化したか否かを、カメラを通してモニタで
即座に判定できるようにするため、或いは画像処理での
修正点の抽出を容易にするためである。さらに、周囲８
画素をオフしているのは、ＲＧＢ表示色に本加工により
異常（不良）が発生していないこと同時に確認せんがた
めである。
【００１７】図４は、カラーフィルター側から配向膜を
除去する場合、即ち、図１で上面がカラーフィルター面
で配向膜のＶ溝方向が１３５度の場合を示し、この場
合、ビーム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方す
るビームは斜め長ビームＢ３となり、この斜め長ビーム
を図に示す配向膜の溝方向にスキャンする。この場合、
長ビームの長さはスキャン位置によって異なり、スキャ
ン位置がＰ１、Ｐ２、Ｐ３・・・と進むに従って斜め長
ビームの長さは長く設定される。斜め長ビームの長さの
変更は、光スリット５（図１）を制御することで行われ
る。同様に図５はＴＦＴ側から配向膜を除去する場合、
即ち、図１で上面がＴＦＴ面で配向膜のＶ溝方向が４５
度の場合を示し、斜め長ビームＢ４を図に示す配向膜の
溝方向方向にスキャンする。この場合も、長ビームの長
さはスキャン位置によって異なり、スキャン位置が進む
に従ってビームの長さは長く設定される。
除去する場合、即ち、図１で上面がカラーフィルター面
で配向膜のＶ溝方向が１３５度の場合を示し、この場
合、ビーム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方す
るビームは斜め長ビームＢ３となり、この斜め長ビーム
を図に示す配向膜の溝方向にスキャンする。この場合、
長ビームの長さはスキャン位置によって異なり、スキャ
ン位置がＰ１、Ｐ２、Ｐ３・・・と進むに従って斜め長
ビームの長さは長く設定される。斜め長ビームの長さの
変更は、光スリット５（図１）を制御することで行われ
る。同様に図５はＴＦＴ側から配向膜を除去する場合、
即ち、図１で上面がＴＦＴ面で配向膜のＶ溝方向が４５
度の場合を示し、斜め長ビームＢ４を図に示す配向膜の
溝方向方向にスキャンする。この場合も、長ビームの長
さはスキャン位置によって異なり、スキャン位置が進む
に従ってビームの長さは長く設定される。
【００１８】図４、５において、ビームの長手方向が配
向膜のＶ溝方向と直交する斜め長ビームを長さを変えな
がら配向膜の配向溝方向にスキャンしているが、配向膜
のＶ溝方向が１３５度、或いは４５度の場合、スキャン
方向を画素に対して垂直方向、或いは真横方向（画素を
構成する辺の方向）にしても図４、図５の場合と同様の
作用効果が得られる。これを図６にしめす。これらスキ
ャンの方向も、コントローラ１によるステージ９の制御
により任意に行える。
向膜のＶ溝方向と直交する斜め長ビームを長さを変えな
がら配向膜の配向溝方向にスキャンしているが、配向膜
のＶ溝方向が１３５度、或いは４５度の場合、スキャン
方向を画素に対して垂直方向、或いは真横方向（画素を
構成する辺の方向）にしても図４、図５の場合と同様の
作用効果が得られる。これを図６にしめす。これらスキ
ャンの方向も、コントローラ１によるステージ９の制御
により任意に行える。
【００１９】実際、多くの液晶ディスプレイ装置におい
て、配向膜の配向溝は４５度、もしくは１３５度で形成
されているので、この場合レーザビームのスキャン（走
査）方向は１３５度、もしくは４５度となる（図４、図
５）。さらに縦長（横１００μｍ×縦３００μｍ）、も
しくは横長（前記サイズと逆）の画素（ピクセル）内を
斜め長レーザビームの長手方向の長さを走査位置に応じ
て伸縮制御させる。更に、同時にパルスエネルギーを制
御しながら走査させることが好ましい。具体的には長い
程エネルギーを下げ、短い程エネルギーを上げるように
する。これは、レーザビームの照射による液晶パネルへ
の熱影響を少なくするためであり、長いビームは短いビ
ームに比べエネルギーが大きいからである。このパルス
エネルギーは、熱影響を考慮して、例えば、一次関数、
より精密には三次関数等で校正される。
て、配向膜の配向溝は４５度、もしくは１３５度で形成
されているので、この場合レーザビームのスキャン（走
査）方向は１３５度、もしくは４５度となる（図４、図
５）。さらに縦長（横１００μｍ×縦３００μｍ）、も
しくは横長（前記サイズと逆）の画素（ピクセル）内を
斜め長レーザビームの長手方向の長さを走査位置に応じ
て伸縮制御させる。更に、同時にパルスエネルギーを制
御しながら走査させることが好ましい。具体的には長い
程エネルギーを下げ、短い程エネルギーを上げるように
する。これは、レーザビームの照射による液晶パネルへ
の熱影響を少なくするためであり、長いビームは短いビ
ームに比べエネルギーが大きいからである。このパルス
エネルギーは、熱影響を考慮して、例えば、一次関数、
より精密には三次関数等で校正される。
【００２０】本発明においては、光学スリットにより画
素に合わせて透過成形されたレーザビームを配向膜に結
像させ、当該ビームを走査してゆくが、この時オーバー
ラップさせながら走査させてもよい。通常、配向膜の配
向溝の方向性を除くためレーザビームを照射するとその
軌跡が残り、これが配向膜に新たな方向性を与えること
になり、輝点欠陥を修正効果を弱めることになってしま
うが、本発明においては、レーザビームの軌跡が元々形
成されていた配向膜のＶ溝方向と直交するため、配向膜
の方向性をより効果的にキャンセルすることができるか
らである。
素に合わせて透過成形されたレーザビームを配向膜に結
像させ、当該ビームを走査してゆくが、この時オーバー
ラップさせながら走査させてもよい。通常、配向膜の配
向溝の方向性を除くためレーザビームを照射するとその
軌跡が残り、これが配向膜に新たな方向性を与えること
になり、輝点欠陥を修正効果を弱めることになってしま
うが、本発明においては、レーザビームの軌跡が元々形
成されていた配向膜のＶ溝方向と直交するため、配向膜
の方向性をより効果的にキャンセルすることができるか
らである。
【００２１】図７は、本発明の第２の実施の形態を示す
図であり、カラーフィルター面とＴＦＴ面の両面から配
向膜を除去することで、さらに一層前述の透光性を劣化
させることができる。図７において、アッテネータ４か
らのビームはビームスプリッター１６により２つに分離
された後、光学スリット５と、ミラー１７を経て追加さ
れた他の光学スリット１８へ供給される。光学スリット
５を経たビームについては、図１の実施の形態と同様に
図面上部から液晶パネル８に入射し、上側の配向膜に結
像される。他方の光学スリット１８、ミラー１９、リレ
ーレンズ２０、対物レンズ２１を経たビームは図面下方
から液晶パネル８に入射し、下側の配向膜に結像され
る。ここで、光学スリット５、１８で形成されるビーム
の形状は、上側の配向膜と下側の配向膜の溝が互いに直
交しているため、これに合わせて互いに直交関係とな
る。即ち、図２と図３、或いは、図４と図５に示された
関係となる。本実施の形態でも、カラーフィルター面で
配向膜のＶ溝方向とＴＦＴ面で配向膜のＶ溝方向とが、
例えば、それぞれ１３５度と４５度の場合は、光学スリ
ット５、１８で形成されるレーザビーム形状は、図４、
図５に示すのと同様となり、その長手方向のサイズはス
キャン位置に応じて制御される。スキャン方向は図４、
図５で示される方向、或いは図６で示される方向であ
る。
図であり、カラーフィルター面とＴＦＴ面の両面から配
向膜を除去することで、さらに一層前述の透光性を劣化
させることができる。図７において、アッテネータ４か
らのビームはビームスプリッター１６により２つに分離
された後、光学スリット５と、ミラー１７を経て追加さ
れた他の光学スリット１８へ供給される。光学スリット
５を経たビームについては、図１の実施の形態と同様に
図面上部から液晶パネル８に入射し、上側の配向膜に結
像される。他方の光学スリット１８、ミラー１９、リレ
ーレンズ２０、対物レンズ２１を経たビームは図面下方
から液晶パネル８に入射し、下側の配向膜に結像され
る。ここで、光学スリット５、１８で形成されるビーム
の形状は、上側の配向膜と下側の配向膜の溝が互いに直
交しているため、これに合わせて互いに直交関係とな
る。即ち、図２と図３、或いは、図４と図５に示された
関係となる。本実施の形態でも、カラーフィルター面で
配向膜のＶ溝方向とＴＦＴ面で配向膜のＶ溝方向とが、
例えば、それぞれ１３５度と４５度の場合は、光学スリ
ット５、１８で形成されるレーザビーム形状は、図４、
図５に示すのと同様となり、その長手方向のサイズはス
キャン位置に応じて制御される。スキャン方向は図４、
図５で示される方向、或いは図６で示される方向であ
る。
【００２２】
【発明の効果】本発明においては、レーザビームの形状
を画素に応じた長さをもち、ビーム形状の長さ方向が配
向膜の溝方向と直交するレーザビームに成形して、この
レーザビームをスキャンすることで、素早く効率的に配
向膜のＶ字溝の規則性を破壊させることができ、しか
も、従来に比べて液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正
効果を高めることができる。
を画素に応じた長さをもち、ビーム形状の長さ方向が配
向膜の溝方向と直交するレーザビームに成形して、この
レーザビームをスキャンすることで、素早く効率的に配
向膜のＶ字溝の規則性を破壊させることができ、しか
も、従来に比べて液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正
効果を高めることができる。
【００２３】また、本発明においては、カラーフィルタ
ー側及びＴＦＴ側の両方から配向膜に対して配向膜のＶ
字溝の規則性を破壊させることができ、輝点欠陥修正効
果を更に高めることができる。
ー側及びＴＦＴ側の両方から配向膜に対して配向膜のＶ
字溝の規則性を破壊させることができ、輝点欠陥修正効
果を更に高めることができる。
【００２４】また、本発明においては配向膜の上膜が４
５度で下膜が１３５度でＶ字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビーム形状を制御するこ
とによりより効率的に配向膜のＶ字溝の規則性を破壊さ
せることができ、輝点欠陥修正を高速に行うことができ
る。
５度で下膜が１３５度でＶ字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビーム形状を制御するこ
とによりより効率的に配向膜のＶ字溝の規則性を破壊さ
せることができ、輝点欠陥修正を高速に行うことができ
る。
【００２５】更に、本発明においては配向膜の上膜が４
５度で下膜が１３５度でＶ字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビーム形状を制御する時
にエネルギーを制御することにより、他のセルへの熱影
響を防ぎながら高速に輝点欠陥を修正することができ
る。
５度で下膜が１３５度でＶ字溝が形成されている場合、
スキャンの進行に応じてレーザビーム形状を制御する時
にエネルギーを制御することにより、他のセルへの熱影
響を防ぎながら高速に輝点欠陥を修正することができ
る。
【００２６】本発明においては、更に、レーザビームを
配向膜に結像させて走査してゆく時、オーバーラップさ
せながら走査させることで、配向膜の方向性をより効果
的にキャンセルすることができる。
配向膜に結像させて走査してゆく時、オーバーラップさ
せながら走査させることで、配向膜の方向性をより効果
的にキャンセルすることができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す構成図であ
る。
る。
【図２】本発明の動作を説明する図で、上面がカラーフ
ィルター面の場合の配向膜のＶ溝方向とスキャンされる
ビームとの関係を示す説明図である。
ィルター面の場合の配向膜のＶ溝方向とスキャンされる
ビームとの関係を示す説明図である。
【図３】本発明の動作を説明する図で、上面がＴＦＴ面
の場合の配向膜のＶ溝方向とスキャンされるビームとの
関係を示す説明図である。
の場合の配向膜のＶ溝方向とスキャンされるビームとの
関係を示す説明図である。
【図４】本発明の動作を説明する図で、上面がカラーフ
ィルター面で配向膜のＶ溝方向が１３５度の場合のスキ
ャンされる斜め長ビームを示す説明図である。
ィルター面で配向膜のＶ溝方向が１３５度の場合のスキ
ャンされる斜め長ビームを示す説明図である。
【図５】本発明の動作を説明する図で、上面がＴＦＴ面
で配向膜のＶ溝方向が４５度の場合のスキャンされる斜
め長ビームを示す説明図である。
で配向膜のＶ溝方向が４５度の場合のスキャンされる斜
め長ビームを示す説明図である。
【図６】本発明において、配向膜のＶ溝方向が１３５度
の場合の斜め長ビームとスキャンされる方向関係の他の
例を示す説明図である。
の場合の斜め長ビームとスキャンされる方向関係の他の
例を示す説明図である。
【図７】本発明の第２の実施の形態を示す図であり、カ
ラーフィルター面とＴＦＴ面の両面から配向膜を除去す
る構成を示す図である。
ラーフィルター面とＴＦＴ面の両面から配向膜を除去す
る構成を示す図である。
１：コントローラ
２：Ｑスイッチパルスレーザ
３：エキスパンダ
４：アッテネータ
５：光学スリット
６：リレーレンズ
７：対物レンズ
８：液晶パネル
９：ステージ
１０、１３：偏光板
１１：バックライト
１２：ビームスプリッタ
１４：カメラ
１５：画像処理装置
Claims (11)
- 【請求項１】 液晶ディスプレイ装置の配向膜の溝の方
向性を除いて輝点欠陥を修正する方法において、ビーム
形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するビームを
用い、これをスキャンして配向膜の溝を削除することを
特徴とする液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項２】 液晶ディスプレイ装置の配向膜の溝の方
向性を除いて輝点欠陥を修正する方法において、カラー
フィルター側及びＴＦＴ側の両方の配向膜にビーム形状
の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するレーザビーム
を用いて、このレーザビームをスキャンさせることを特
徴とする液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項３】 配向膜の溝方向が４５度或いは１３５度
で形成されている場合、スキャンの進行に応じてレーザ
ビーム形状を制御して配向膜の溝の規則性を破壊させる
請求項１或いは２記載の液晶ディスプレイ装置の輝点欠
陥修正方法。 - 【請求項４】 スキャンの進行に応じて、更にレーザビ
ームのエネルギーを制御することを特徴とする請求項３
記載の液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項５】 配向膜に結像されるレーザビームをオー
バーラップさせてスキャンすることを特徴とする請求項
１或いは請求項２記載の液晶ディスプレイ装置の輝点欠
陥修正方法。 - 【請求項６】 スキャンの方向が配向膜の溝方向である
ことを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置
の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項７】 配向膜の溝方向が４５度或いは１３５度
で形成されている場合、スキャンの方向が液晶ディスプ
レイ装置の画素を構成する辺の方向であることを特徴と
する請求項１記載の液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修
正方法。 - 【請求項８】 液晶ディスプレイ装置の配向膜の溝の方
向性を除いて輝点欠陥を修正する装置において、ビーム
形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するレーザビ
ームを作り出すビーム形状制御手段と、前記レーザビー
ムを配向膜に結像させてスキャンする手段を具備するこ
とを特徴とする液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正装
置。 - 【請求項９】 配向膜の溝方向が４５度或いは１３５度
で形成されている場合、前記ビーム形状制御手段がスキ
ャンの進行に応じてビーム形状の長さ方向のサイズを変
化させることを特徴とする請求項８記載の液晶ディスプ
レイ装置の輝点欠陥修正装置。 - 【請求項１０】 レーザビームのエネルギーを制御する
制御手段を具備し、スキャンの進行に応じてレーザビー
ムのエネルギーを制御することを特徴とする請求項９記
載の液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正装置。 - 【請求項１１】 液晶ディスプレイ装置の配向膜の溝の
方向性を除いて輝点欠陥を修正する装置において、ビー
ム形状の長さ方向が配向膜の溝方向と直交方するレーザ
ビームを作り出すビーム形状制御手段と、前記レーザビ
ームを液晶ディスプレイ装置の上側及び下側の配向膜に
結像させる手段と、夫々のレーザビームをスキャンする
手段を具備することを特徴とする液晶ディスプレイ装置
の輝点欠陥修正装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001295819A JP3673742B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | 液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置 |
| TW91120460A TW574539B (en) | 2001-09-27 | 2002-09-09 | Raster defect correction method for liquid crystal display device and raster defect correction device for the same |
| KR10-2002-0058018A KR100510419B1 (ko) | 2001-09-27 | 2002-09-25 | 액정표시장치용 래스터 결함 수정 방법 및 이를 위한래스터 결함 수정 장치 |
| CNB021434395A CN1253752C (zh) | 2001-09-27 | 2002-09-25 | 液晶显示设备的光栅缺陷校正方法及其光栅缺陷校正器件 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001295819A JP3673742B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | 液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003107479A true JP2003107479A (ja) | 2003-04-09 |
| JP3673742B2 JP3673742B2 (ja) | 2005-07-20 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001295819A Expired - Fee Related JP3673742B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | 液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置 |
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|---|---|
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| KR (1) | KR100510419B1 (ja) |
| CN (1) | CN1253752C (ja) |
| TW (1) | TW574539B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JP2006337842A (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-14 | Toshiba Corp | 液晶パネルのリペア方法及びリペア装置 |
| WO2007132586A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | 表示パネルの製造方法、表示パネルの製造装置、及び表示パネル |
| US7440074B2 (en) | 2004-09-06 | 2008-10-21 | Seiko Epson Corporation | Method for repair of liquid crystal display device light point defects using detection of corrective laser light in real time |
| US7564543B2 (en) | 2006-02-03 | 2009-07-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Defective pixel correction apparatus for liquid crystal panel |
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|---|---|---|---|---|
| KR100699598B1 (ko) * | 2005-08-04 | 2007-03-23 | 세종산업개발(주) | 녹조 및 적조제거장치 |
| CN102749740A (zh) * | 2012-07-27 | 2012-10-24 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种光修复点缺陷的方法 |
| CN109934211B (zh) * | 2019-03-11 | 2021-04-09 | Oppo广东移动通信有限公司 | 指纹的校准方法及相关装置 |
| CN111580290B (zh) * | 2020-05-18 | 2022-07-12 | 北京兆维科技开发有限公司 | 一种无上偏光膜半导体显示面板的显示缺陷修复方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JPH0527111A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Sharp Corp | カラー液晶表示装置におけるカラーフイルタの欠陥修正方法 |
| JPH05210111A (ja) * | 1991-12-02 | 1993-08-20 | Nec Corp | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
| JP2994853B2 (ja) * | 1992-05-13 | 1999-12-27 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の欠陥修正方法 |
| JP3224942B2 (ja) * | 1994-06-28 | 2001-11-05 | 株式会社東芝 | 液晶表示装置の輝点欠陥修正方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表示装置の製造方法 |
| JP3138401B2 (ja) * | 1994-12-27 | 2001-02-26 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の欠陥修正方法 |
| JP3323886B2 (ja) * | 1994-12-27 | 2002-09-09 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置及びその欠陥修正方法 |
| JP3483969B2 (ja) * | 1995-01-27 | 2004-01-06 | 株式会社東芝 | 液晶ディスプレイ用レーザリペア方法及びその装置並びにアクティブマトリクス型液晶ディスプレイの製造方法 |
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| JP2000056283A (ja) * | 1998-08-06 | 2000-02-25 | Hamamatsu Photonics Kk | 液晶パネルの画素欠陥修正装置 |
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-
2001
- 2001-09-27 JP JP2001295819A patent/JP3673742B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-09-09 TW TW91120460A patent/TW574539B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-09-25 KR KR10-2002-0058018A patent/KR100510419B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-09-25 CN CNB021434395A patent/CN1253752C/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN1410821A (zh) | 2003-04-16 |
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