JP2000056283A

JP2000056283A - 液晶パネルの画素欠陥修正装置

Info

Publication number: JP2000056283A
Application number: JP22289798A
Authority: JP
Inventors: Kenji Fukumitsu; 憲志福満; Yoshihisa Kato; 喜久加藤; Kiyosumi Shikauchi; 聖純鹿内
Original assignee: Casio Computer Co Ltd; Hamamatsu Photonics KK
Current assignee: Casio Computer Co Ltd; Hamamatsu Photonics KK
Priority date: 1998-08-06
Filing date: 1998-08-06
Publication date: 2000-02-25

Abstract

(57)【要約】【課題】画素サイズが大きくかつＢＭ線幅の細い液晶
パネルであっても安定して欠陥画素の修正が可能な装置
を提供する。【解決手段】液晶パネル１の光像をビデオカメラ２０
により撮影しながらＸＹステージにより移動させて、欠
陥画素を検索し、吸引板５の開口部５ａの空気を吸引す
ることで検索した欠陥画素周辺部分の液晶パネル１にか
かる圧力を減少させて、液晶層のセルギャップを拡大し
たうえで、レーザ発振器２２から欠陥画素部分にレーザ
光を複数回照射することで、液晶層内に気泡を発生させ
たうえ、この気泡中で欠陥画素の構成材を溶融・飛散さ
せて欠陥画素を修正する装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、薄型平面表示装置
等として用いられる液晶パネルに発生した欠陥画素を修
正する装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの高密度加工技術等の向
上に伴い、高密度で画素数が多く且つ表示面積の広い液
晶パネルが開発されるようになった。しかし、製造工程
等における画素欠陥の発生を皆無にすことは極めて困難
であり、歩留まりの向上が重要な課題となっている。

【０００３】そこで、僅かな個数の欠陥画素が存在する
からといって液晶パネルを不良品として廃棄してしまう
のではなく、その欠陥部分を修正（修理）加工して良品
とする技術が開発されている。

【０００４】このような修正加工方法として、特開平９
−９０３０４号に開示された技術が知られている。これ
は、白欠陥画素の部分にレーザ光を照射することによ
り、液晶層内に、少なくともこの欠陥画素を含む周辺領
域にまで広がる気泡を発生させ、気泡が発生している間
にさらにレーザ光を１回若しくは複数回照射して欠陥画
素部分の構成物を飛散及び堆積させるものである。

【０００５】この方法によれば、飛散物は液晶層中に混
入することなく、飛散物の堆積により液晶の配向膜に付
着、堆積する。そして、この付着物のため、この欠陥画
素部分は画素駆動電圧の印加の有無にかかわらず常に黒
表示をするようになる。黒表示部分は通常の画像中で目
立たなくなり、白欠陥画素を効果的に修正できる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】液晶パネルの大型化、
高開口率化、高精細化の進展に伴い、個々の画素サイズ
が大きくかつＢＭ（ブラックマトリックス）の線幅が細
くなってきたが、こうした液晶パネルでは、前述の特開
平９−９０３０４号に開示された技術を適用することが
難しい。というのは、薄く広がっている液晶層全体に気
泡を安定して発生させることが困難であり、レーザによ
り過大な熱量が投入されて、欠陥画素周囲の正常な画素
までが影響を受けるなど、調整が困難だった。

【０００７】そこで、本発明は、上記問題点に鑑みて、
画素サイズが大きくかＢＭ線幅の細い液晶パネルであっ
ても安定して欠陥画素の修正が可能な装置を提供するこ
とを課題とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の液晶パネルの画素欠陥修正装置は、液晶パ
ネルの欠陥画素の部分に所定の時間間隔で複数回レーザ
を照射することにより、この欠陥画素を修正する装置で
あって、液晶パネルの欠陥画素の周辺部分をレーザ照射
面の反対面から負圧をかけて吸引する吸引装置、あるい
は、液晶パネルの欠陥画素の周辺部分を除いた液晶層を
加圧する加圧装置を備えていることを特徴とする。

【０００９】本発明によれば、吸引装置あるいは加圧装
置を用いることで、欠陥画素周辺部分の液晶層にかかる
圧力がその周囲の部分の液晶層にかかる圧力より相対的
に減少する。この結果、欠陥画素周辺部分の液晶層の厚
みが増すので、最初のレーザ照射により安定した気泡が
発生し、この気泡発生中に１回または複数回レーザを照
射することで欠陥部分が修正される。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の好適な実施の形態について説明する。なお、説明の理
解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に
対しては可能な限り同一の参照番号を附し、重複する説
明は省略する。

【００１１】図１は、本発明に係る第１の実施形態であ
る液晶パネルの欠陥修正装置の構成を示すブロック図で
ある。

【００１２】この欠陥修正装置には、検査及び修正の対
象である液晶パネル１を支持するＸＹステージ２が備え
られている。このＸＹステージ２は、制御部４からの駆
動制御信号に従って作動するステッピングモータを備え
る駆動機構を有し、液晶パネル１を吸引板５上に浮動状
態で支持してＸＹ座標の何れの方向へも移動可能に配置
され、このＸＹステージ２の移動動作により液晶パネル
１を吸引板５上の任意の位置へ位置決め調整する。

【００１３】この吸引板５の中央部には、Ｚ方向（ＸＹ
座標に直交する方向）に向けて貫通した径４〜２０ｍｍ
の開口部５ａが形成され、開口部５ａの下側には、開口
部５ａを密封する窓材７が取り付けられており、その下
側には、偏光フィルタ８を介して透過照明装置１０が設
けられている。そして、制御部４からの照明制御信号に
従って透過照明装置１０が点灯されると、偏光フィルタ
８を通過した照明光が開口部５ａを介して液晶パネル１
の裏面側を照明し、液晶パネル１のいわゆるバックライ
トとして機能する。

【００１４】吸引板５には、吸引用のポンプ９が取り付
けられており、開口部５ａ内部の空気を吸引することが
できる。この吸引動作は制御部４により制御される。こ
の吸引板５は、図示していないＺ方向駆動手段により、
Ｚ方向に移動可能であって、液晶パネル１にその開口部
５ａを密着させることができる。

【００１５】液晶パネル１の上方には、Ｚ座標方向に沿
って、結像レンズ１２、ダイクロイックミラー１４、偏
光フィルタ１６、カメラレンズ１８及びＣＣＤビデオカ
メラ２０が設けられ、かかる光学系を構成する何れの構
成要素も同一の光軸に合致している。そして、この光軸
は、吸引板５の開口部５ａのほぼ中心を通るように配置
されている。なお、偏光フィルタ８と１６は相互に偏光
方向が直交状態になるよう配置されている。

【００１６】ダイクロイックミラー１４に対向する位置
には、上記光学系と光軸合わせされたレーザ発振器２２
が設けられ、更に、ダイクロイックミラー１４とレーザ
発振器２２との間には、所定部分にのみ光透過パターン
を有する遮光マスク２４と、所定の光透過率を有する減
光フィルタ２６が設けられている。

【００１７】遮光マスク２４には、２種類の光透過パタ
ーンが備えられている。第１の光透過パターンは、レー
ザ発振器２２から出射されるレーザ光を、所定直径の単
一レーザビームにする単一の透過部からなり、その単一
レーザビーム（以下、第１のレーザビームという）をダ
イクロイックミラー１４及び結像レンズ１２を介して、
被修正対象である液晶パネル１の欠陥画素の一部分へ照
射させるようになっている。即ち、図２（ａ）に示すよ
うに、結像レンズ１２の光軸上に合致する単一の欠陥画
素ＥＰの範囲内の一部分だけに第１のレーザビームが照
射されるように、第１の透過パターンの径（又は面積
Ｓ）が極めて微細に設計されている。

【００１８】第２の光透過パターンは、レーザ発振器２
２から出射されるレーザ光を、夫々所定直径の複数個の
レーザビームにする複数個の透過部からなり、その複数
のレーザビーム（以下、第２のレーザビームという）を
ダイクロイックミラー１４及び結像レンズ１２を介し
て、被修正対象である液晶パネルＬＣＤの欠陥画素の範
囲内へ照射させるようになっている。すなわち、図２
（ｂ）に示すように、結像レンズ１２の光軸上に合致す
る単一の欠陥画素ＥＰの範囲内に第２のレーザビームが
照射されるように、第２の透過パターンの複数個の透過
部は、極めて微細に設計されている。なお、透過部の個
数は特に限定されるものではないが、本実施形態では、
図２（ｂ）又は（ｃ）に示すように、４個又は６個のレ
ーザビームを照射する構成としている。

【００１９】これら第１、第２の光透過パターンを除く
領域は光の透過を完全に遮断する遮光部分となってい
る。

【００２０】そして、制御部４からの切換制御信号に従
って駆動モータ２８が遮光マスク２４の位置を調節する
ことにより、第１の光透過パターンと第２の光透過パタ
ーンの挿入切換を行うようになっている。

【００２１】一方、減衰フィルタ２６は、レーザ発振器
２２から出射されるレーザ光を所定の光透過率で透過さ
せると共に、制御部４からの切換制御信号に従って駆動
モータ３０が作動することにより、レーザ発振器２２と
遮光マスク２４との間に挿入又は除去される構成となっ
ている。なお、遮光マスク２４の上記第１の透過パター
ンが選択・挿入されるときは、減衰フィルタ２６がレー
ザ光の光路中から除去され、遮光マスク２４の上記第２
の透過パターンが選択・挿入されるときは、減衰フィル
タ２６が挿入される。

【００２２】レーザ発振器２２は、波長ν、出射エネル
ギーρ、繰り返し周期τを有する所定のパルスレーザ光
を出射し、その起動及び停止制御は制御部４からの制御
信号に従って行われる。

【００２３】ビデオカメラ２０は、前記光学系中の結像
レンズ１２、ダイクロイックミラー１４、偏光フィルタ
１６及びカメラレンズ１８を介して、液晶パネル１の光
像を撮像し、その映像信号を画像処理部３２へ出力す
る。そして、画像処理部３２は、液晶パネル１の光像を
ＣＲＴモニタ等の表示部３４に再生表示させると共に、
適時にレーザ発振器２２のレーザ発光を停止させるため
の発光停止信号を制御部４へ出力する。

【００２４】制御部４及び画像処理部３２は、マイクロ
コンピュータシステム等によって実現され、このマイク
ロコンピュータシステム等を操作者が操作することによ
り、かかる欠陥修正装置全体を制御することができる構
成となっている。

【００２５】次に、本実施形態の動作を図１、図２に加
えて図３のフローチャートを参照して説明する。なお、
典型例として、ノーマリホワイトタイプのＴＦＴ液晶パ
ネルを修正加工する場合を例として説明する。

【００２６】まず、ステップ１００において、操作者
が、被修正対象である液晶パネル１をＸＹステージ２に
装着すると共に、透過照明装置１０を点灯させることに
より、液晶パネル１の裏面を照明させる。これにより、
液晶パネル１を通過した光像は、結像レンズ１２、ダイ
クロイックミラー１４、偏光フィルタ１６及びカメラレ
ンズ１８を介してビデオカメラ２０に入射し、撮像が開
始される。

【００２７】次に、ステップ１０２において、ＬＣＤ駆
動回路３を駆動させ、液晶表示パネル１を均一輝度の表
示状態に設定し、操作者が、表示部３４に表示される液
晶パネル１の再生映像を見ながらＸＹステージ２を駆動
することにより、表示部３４に表示される液晶パネル１
の位置を移動させて、液晶パネル１中の白欠陥画素を検
索し、発見したその白欠陥画素が結像レンズ１２の光軸
上に位置するようにＸＹステージ２を駆動して位置合わ
せ操作を行う。

【００２８】ここで、ノーマリホワイトタイプのＴＦＴ
液晶パネル１では、偏光フィルタ８、１６、窓材７及び
この液晶パネル１を通過する照明光の透過率が、白欠陥
画素の箇所で最大となるので、表示部３４に表示される
高輝度の部分を調べることによって、白欠陥画素を検出
することができ、その位置合わせ調整を行うことができ
る。

【００２９】次に、ステップ１０３において、吸引板５
をＺ方向に移動させて、その開口部５ａを液晶パネル１
の位置合わせされた白欠陥画素周辺部分に密着させる。
この状態で、ポンプ９により吸引を開始して、開口部５
ａ内部を約３６０Ｔｏｒｒ以下に減圧する。この結果、
開口部５ａに対応する部分の液晶パネル１の液晶層のセ
ルギャップが拡大する。図４は、吸引部の直径が６ｍｍ
のときの吸引部の圧力とセルギャップの関係を示したグ
ラフである。約３６０Ｔｏｒｒに減圧すると、常圧のと
きよりセルギャップは約０．２μｍ拡大して約５．１μ
ｍになる。

【００３０】次に、ステップ１０４において、遮光マス
ク２４の第１の光透過パターンを選択・挿入させると共
に、減光フィルタ２６を取り外した状態にして、レーザ
発振器２２を作動させる。これにより、レーザ発振器２
２から出射されたレーザパルスからパルス状の第１のレ
ーザビームが生成され、この第１のレーザビームがダイ
クロイックミラー１４及び結像レンズ１２を介して、液
晶パネルＬＣＤの白欠陥画素ＥＰに照射される。

【００３１】この結果、図５（ａ）に示す如く、白欠陥
画素ＥＰの対向電極（ＩＴＯ透明電極）３６及びポリイ
ミドの配向膜３８が第１のレーザビームのエネルギーに
よって気化されて穴が空き、さらにパルスレーザビーム
のエネルギー密度（即ち、出射エネルギーとレーザビー
ム径（面積）の比ρ／Ｓ）に対応した体積の気泡４０が
液晶層４２内に発生する。本実施形態では、気泡４０が
白欠陥画素ＥＰの下だけでなくその周囲の複数個の画素
の下の領域まで広がるように、第１のレーザビームのエ
ネルギー密度を設定している。より具体的には、白欠陥
画素ＥＰを中心としてその最大径の数倍〜１０数倍の広
い範囲まで気泡４０が広がるように設定している。

【００３２】このとき、前述したように液晶層のセルギ
ャップを拡大しているので、薄型の液晶パネル１におい
ても気泡が安定して形成される。また、画素が大きくて
もセルギャップを拡大して発生する気泡の厚みを増すこ
とで横方向への広がりを容易にしている。

【００３３】なお、図５（ａ）の上側の図は、ＴＦＴ液
晶パネルの白欠陥画素ＥＰに第１のレーザビームが照射
される状態と気泡４０の発生範囲を概念的に示す平面
図、同図（ａ）の下側の図は、気泡４０の発生状態を上
側の図に対応して示す縦断面図である。

【００３４】そして、気泡４０の発生した領域を通過す
る透過照明装置１０からの照明光は、偏光フィルタ８，
１６の遮光比で得られる透過率に限りなく近づくこと
で、その透過率が小さくなるので、表示部３４の再生映
像を見るだけで、気泡４０が白欠陥画素ＥＰのみならず
その周囲の画素の下にも広がって発生していることを視
認することができる。

【００３５】このように操作者が気泡４０の発生を確認
（ステップ１０６）した後、ステップ１０８において、
遮光マスク２４を第２の光透過パターンに切換えると共
に、減光フィルタ２６を挿入させる。

【００３６】次に、ステップ１１０において、レーザ発
振器２２を作動させることにより、所定周期τで複数個
（例えば１０個）のパルスレーザ光を出射させる。この
結果、図５（ｂ）に示すように、減光フィルタ２６によ
り減光され且つ遮光マスク２４の第２の光透過パターン
で形成された第２のレーザビームが、白欠陥画素ＥＰの
範囲内に照射される。そして、第２のレーザビームの複
数のパルスレーザビームのエネルギーにより、白欠陥画
素ＥＰを構成する部分の対向電極（ＩＴＯ透明電極）３
６及び配向膜３８等が気化及び破壊されて飛散し、その
飛散物（炭素、インジウム等）が配向膜の表面に被着し
堆積する。

【００３７】なお、図５（ｂ）の上側の図は、ＴＦＴ液
晶パネルの白欠陥画素ＥＰに第２のレーザビームが照射
される状態と気泡４０の発生範囲を概念的に示す平面
図、同図（ｂ）の下側の図は、飛散物の付着状態を概念
的に示す縦断面図である。

【００３８】ここで注目すべき点は、上記の飛散物は、
気泡４０による空間中に飛散すると共に、気泡４０の発
生範囲が前記の如く広いので液晶層４２中に混入せず、
配向膜３８の表面に付着・堆積する。更に、その気泡４
０による空間領域に第２のレーザビームが照射されるの
で、そのエネルギーが液晶層４２に吸収されない。した
がって、比較的低いエネルギーのパルスレーザビームに
よって、構成物を飛散させることができる。

【００３９】そして、第２のレーザビームの照射を停止
した後、時間の経過に伴って気泡４０が消滅しても、図
５（ｃ）に示す如く、堆積物は液晶層４２中に混入する
ことなく、配向膜３８に付着・堆積したままになる。な
お、図５（ｃ）の上側の図は、ＴＦＴ液晶パネルの気泡
４０の消滅後の状態を示す平面図、下側の図は上側の図
に対応する縦断面図である。

【００４０】このように、配向膜上に構成物が付着する
と配向膜の配向性が変化するので、画素駆動電圧が印加
されなくとも、垂直配向に変化することが実験的に確認
された。そして、修正された欠陥画素は、画素駆動電圧
の印加の有無にかかわらず常に黒表示をするようにな
り、白欠陥の様な輝点が現れなくなる。また、常時黒の
状態であれば、通常の表示動作中であっても目立たない
ので、品質のよい再生画像等を提供することができる。

【００４１】そして、ステップ１１１において、ポンプ
９を停止し、開口部５ａを外気と直結してリークするこ
とで、吸引動作を終了したあと、ステップ１１２におい
て、表示部３４の映像を見ながら白欠陥画素の修正状況
を検査する。そして、液晶パネル１全体の白欠陥画素の
修正を終えるまで、ステップ１０２から１１２の動作を
繰り返す。

【００４２】このように、本実施形態によれば、欠陥画
素の液晶層のセルギャップを拡大して修正動作を行うの
で、白欠陥を確実且つ容易に修正することができる。ま
た、欠陥画素を直接修正するので、遮光性に優れた画素
に修正することができ、特に、広がり角の大きなＴＦＴ
液晶パネルの画素欠陥修正に好適である。

【００４３】なお、本実施の形態では、レーザ発振器２
２を特に限定していないが、フッ素、キセノン、ヘリウ
ム及びネオンの混合ガスを放電させることによりパルス
レーザ光を出射するエキシマレーザ発振器や、ＸｅＣ
ｌ，ＫｒＦエキシマレーザ発振器や、Ｎｄ：ＹＡＧレー
ザ発振器等を使用することが好適である。また、Ｎｄ：
ＹＡＧレーザの２〜４倍波など、液晶パネル表面に設け
られているガラス基板を透過する透過波長であって、対
向電極（ＩＴＯ透明電極）及び配向膜に吸収されるレー
ザを出射するレーザ発振器を適用することができる。

【００４４】次に、本発明の第２の実施形態を図６を参
照して説明する。この実施形態の基本的な構成は、図１
に示される第１の実施形態と同一である。したがって、
相違する点のみを説明する。

【００４５】本実施形態では、図１に示される実施形態
の吸引板５等からなる吸引装置に代えて、液晶パネル１
の欠陥画素部分の回りの部分のみを加圧する加圧装置を
設けている点が相違する。具体的には、液晶パネル１
は、中心に開口部２ａを有するＸＹステージ２に載置さ
れており、この液晶パネル１の上方に中心に開口部１１
ａを有する加圧板１１が、開口部１１ａの中心が光学系
の光軸に一致するように配置されている。この加圧板１
１は、エアシリンダ１３によりＺ方向に移動可能であ
り、加圧装置を構成する。

【００４６】この実施形態を用いた欠陥画素の修正動作
のフローチャートを図７に示す。この修正動作は図３に
フローチャートを示す第１の実施形態による修正動作と
ステップ１０３と１０３’、ステップ１１１と１１１’
がそれぞれ相違するのみである。つまり、ステップ１０
０、１０２で液晶パネル１の欠陥画素位置を検索し、こ
の欠陥画素を光軸上に位置合わせした後、ステップ１０
３’においてエアシリンダー１３を駆動して、加圧板１
１を液晶パネル１上に押しつける。加圧板１１の中心に
は開口部１１ａが設けられており、この開口部１１ａの
中心は、上記欠陥画素位置に対応しているので、液晶パ
ネル１の欠陥画素位置周辺部を除く全面が加圧される。
一方、欠陥画素位置周辺部は加圧されていないので、欠
陥画素位置の液晶層のセルギャップが拡大する。

【００４７】この状態で、第１の実施形態の場合と同様
に、ステップ１０４〜１１０により、欠陥画素の修正を
行う。この場合も液晶層のセルギャップが拡大している
ため、気泡を安定して発生させることができ、修正が確
実かつ容易に行える。

【００４８】欠陥画素の修正が完了したら、ステップ１
１１’において、エアシリンダー１３を駆動して、加圧
板１１を液晶パネル１から離隔させ、液晶パネルにかか
っていた圧力を開放する。その後、第１の実施形態と同
様にステップ１１２で修正箇所の検査を行い、液晶パネ
ル１全体の欠陥画素修正が完了するまでステップ１０２
〜１１２を繰り返す。

【００４９】ここでは、液晶パネル１の表示面側から加
圧する例を説明したが、表示面と反対側から加圧しても
よい。また、エアシリンダ以外の駆動機構を用いて加圧
板あるいは液晶パネルを駆動して加圧動作を行ってもよ
い。

【００５０】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、欠
陥画素位置にかかる圧力をその他の部分にかかる圧力よ
り低い状態にして、欠陥画素の液晶層のセルギャップを
拡大してから、レーザ光を画素欠陥に照射することによ
って、液晶パネルの液晶層中に形状安定性、再現性を有
した気泡を最小限の大きさで発生させた状態で、更にレ
ーザ光の照射により、欠陥画素の構成材の一部を飛散さ
せてその飛散物を構成材に付着・堆積させるので、飛散
物が液晶層中に混入すること無く、上記被着・堆積によ
って欠陥画素を修正加工することができる。

【００５１】例えば、ノーマリホワイトタイプの各画素
が大型でセルギャップの狭い液晶パネルの白欠陥画素で
あっても、常に黒表示の状態に修正加工する事ができる
ので、表示中に目立つ輝点の発生を防止して、高品位の
表示装置を提供することができる。また、液晶パネルを
投影プロジェクタの液晶シャッターに適用する場合に
も、白欠陥画素を黒表示の状態に修正する事により、高
品位の投影プロジェクタ等を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る欠陥画素修正装置の第１の実施形
態の構成を示すブロック図である。

【図２】第１のレーザビームと第２のレーザビームの照
射パターンを示す説明図である。

【図３】図１に示す欠陥画素修正装置の作動及び欠陥画
素修正手順を説明するためのフローチャートである。

【図４】吸引部の直径が６ｍｍのときの吸引部の圧力と
セルギャップの関係を示したグラフである。

【図５】欠陥画素の修正原理を説明するための説明図で
ある。

【図６】本発明に係る欠陥画素修正装置の第２の実施形
態の構成を示すブロック図である。

【図７】図６に示す欠陥画素修正装置の作動及び欠陥画
素修正手順を説明するためのフローチャートである。

【符号の説明】

１…液晶パネル、２…ＸＹステージ、２ａ…開口部、３
…ＬＣＤ駆動回路、４…制御部、５…吸引板、６…駆動
部、７…窓材、８…偏光フィルタ、９…ポンプ、１０…
透過照明装置、１１…加圧板、１２…結像レンズ、１３
…エアシリンダ、１４…ダイクロイックミラー、１６…
偏光フィルタ、１８…カメラレンズ、２０…ビデオカメ
ラ、２２…レーザ発振器、２４…遮光マスク、２６…減
光フィルタ、２８，３０…駆動モータ、３２…画像処理
部、３４…表示部、３６…対向電極、３８…配向膜、４
０…気泡、４２…液晶層、ＥＰ…欠陥画素。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者加藤喜久東京都八王子市石川町2951番地の５カシオ計算機株式会社八王子研究所内 (72)発明者鹿内聖純東京都八王子市石川町2951番地の５カシオ計算機株式会社八王子研究所内Ｆターム(参考） 2H088 FA14 FA30 HA06 HA13 HA14 HA18 HA21 HA24 MA20 2H092 MA46 NA30 PA06 PA08 PA09 PA11 5C094 AA42 BA43 GA01 GA10 GB10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】液晶パネルの欠陥画素の部分に所定の時
間間隔で複数回レーザを照射することにより、前記欠陥
画素を修正する液晶パネルの画素欠陥修正装置におい
て、前記液晶パネルの前記欠陥画素の周辺部分をレーザ照射
面の反対面から負圧をかけて吸引する吸引装置を備えて
いることを特徴とする液晶パネルの画素欠陥修正装置。
【請求項２】液晶パネルの欠陥画素の部分に所定の時
間間隔で複数回レーザを照射することにより、前記欠陥
画素を修正する液晶パネルの画素欠陥修正装置におい
て、前記液晶パネルの前記欠陥画素の周辺部分を除いた液晶
層を加圧する加圧装置を備えていることを特徴とする液
晶パネルの画素欠陥修正装置。