JP3640439B2 - 液晶パネル、画素欠陥修正方法及び画素欠陥修正装置 - Google Patents
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Description
本発明は、薄型平面表示装置等として用いられる液晶パネルに発生した欠陥画素を修正する方法、及びその修正装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイスの高密度加工技術等の向上に伴い、高密度で画素数が多く且つ表示面積の広い液晶パネルが開発されるようになった。しかし、製造工程等における画素欠陥の発生を皆無にすことは極めて困難であり、歩留まりの向上が重要な課題となっている。
【0003】
そこで、僅かな個数の欠陥画素が存在するからといって液晶パネルを不良品として廃棄してしまうのではなく、その欠陥部分を修正(修理)加工して良品とする技術が開発されている。
【0004】
このような修正加工方法の従来例として、特開昭63−240521号公報 (液晶表示装置のトリミング方法)、修正加工装置の従来例として、文献「液晶ディスプレイリペア装置;NTN TECHNICAL REVIEW No.58(1990),pp66 〜pp69」が知られている。
【0005】
いずれの従来技術も、液晶ディスプレイの製造時に付着したゴミや、ITO透明電極や配線等の短絡に起因する欠陥部分にレーザ光を照射し、そのレーザ光のエネルギーによって上記のゴミや短絡部分を実質的に焼き切ることによって、修正加工を行うものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来技術にあっては、画素間配線の短絡等に起因する欠陥部分を焼き切るという手段を講じることによって、欠陥部分を除去しようとするものであるので、基本的に配線の短絡部分等の修正しかできず、ノーマリホワイトタイプの液晶パネルに多い所謂白欠陥を修正することができなかった。
【0007】
ノーマリホワイトタイプの液晶パネルとは、画素を駆動するための画素駆動電圧が印加された画素は光の透過を阻止するように作用するので黒表示となり、画素駆動電圧が印加されない画素は光を透過させるので白表示となるという駆動表示方式を採用するものである。
【0008】
したがって、従来技術によれば、製造工程で付着した異物や配線パターンの不備を除去することによって、該当する欠陥画素に駆動電圧が印加されないように加工することになり、その欠陥画素の機能を完全に殺すことで修正加工を実現することになるので、その欠陥画素は常に白表示のままになってしまい、上記の白欠陥を生じることとなる。そして、この白欠陥は、残余の正常な画素による表示領域内に輝点となって現れるので目立ち易く、高品位の再生画像を提供することができないという問題を生じていた。
【0009】
例えば、液晶パネルをパーソナルコンピュータの表示装置として使用して、静止画像を再生表示させた場合に、白欠陥が目障りとなったり、白欠陥を有する液晶パネルを用いた映像投影装置(プロジェクタ)で映像を投影表示させると、その映像中に常に白欠陥が現れて目障りとなる等の問題を生じる。
【0010】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、白欠陥を除去することができる、液晶パネルの画素欠陥修正方法及びその装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
請求項1に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法によれば、液晶パネルの欠陥画素の部分にレーザを照射することにより、前記欠陥画素を修正する液晶パネルの画素欠陥修正方法において、前記欠陥画素の部分にレーザ光を照射することにより、少なくとも前記欠陥画素を含む周辺領域まで広がる気泡を、前記液晶パネルの液晶層中に発生させ、前記気泡発生状態中に、ブラックマスクの開口下に位置する前記欠陥画素の部分にレーザ光を1又は2以上の回数で照射することにより、前記欠陥画素の部分の構成物を前記ブラックマスクの開口内で飛散させ及び配向膜上に堆積させて前記配向膜の配向性を変化させることを特徴とする。
【0012】
請求項2に係る液晶パネルの欠陥修正装置は、液晶パネルの欠陥画素の部分にレーザを照射することにより、前記欠陥画素を修正する液晶パネルの欠陥修正装置において、前記欠陥画素の部分に第1のレーザ光を照射することにより、少なくとも前記欠陥画素を含む周辺領域まで広がる気泡を、前記液晶パネルの液晶層中に発生させると共に、前記気泡発生状態中に、ブラックマスクの開口下に位置する前記欠陥画素の部分にレーザ光を1又は2以上の回数で照射することにより、前記欠陥画素の部分の構成物を前記ブラックマスクの開口内で飛散させ及び配向膜上に堆積させて前記配向膜の配向性を変化させるレーザ光照射手段を具備することを特徴とする。
請求項3に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法は、一対の基板の対向面にそれぞれ形成された画素電極及び対向電極と、これらの電極を覆う配向膜と、前記一対の基板間に介在する液晶層とを備える液晶パネルの輝点欠陥部分を黒表示とすることにより、欠陥を目立たなくさせる液晶パネルの画素欠陥修正方法において、前記液晶パネルのブラックマスクの開口下に位置する欠陥部分に第1のレーザ照射を行い、この第1のレーザ照射によりレーザ照射地点を含む周辺に気泡が発生した領域内に第2のレーザ照射を行うことにより、前記ブラックマスクの開口内で前記配向膜を飛散させ及び前記配向膜上に堆積させる方法であって、気泡発生用の前記第1のレーザ照射は単数回であり、飛散用の前記第2のレーザ照射は複数回であることを特徴とする。
請求項4に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法は、前記一対の基板の外側に2枚の偏光フィルタを設けることを特徴とする。
請求項5に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法は前記第2のレーザ照射地点を含む周辺に飛散物は堆積することを特徴とする。
請求項6に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法は、前記気泡の大きさは第1のレーザ照射のエネルギー密度により制御されることを特徴とする。
請求項7に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法は、前記レーザはエキシマレーザであることを特徴とする。
請求項8に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法は、前記レーザはYAGレーザであることを特徴とする。
請求項9に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法は、一対の基板の対向面にそれぞれ形成された画素電極及び対向電極と、これらの電極を覆う配向膜と、前記一対の基板間に介在する液晶層と、前記一対の基板の外側に設けられた2枚の偏光フィルタとを有し、液晶パネルの輝点欠陥部分を黒表示とすることにより、欠陥を目立たなくさせる液晶パネルの画素欠陥修正方法において、前記液晶パネルのブラックマスクの開口下に位置する欠陥部分に単数回の第1のレーザ照射を行い、この第1のレーザ照射によりレーザ照射地点を含む周辺に気泡が発生した前記ブラックマスクの開口内の領域内に複数回の第2のレーザ照射を行うことにより、その構成物を飛散させ及び前記配向膜上に堆積させて、前記配向膜の配向性を、画素駆動電圧の印加の有無に拘わらず欠陥画素が黒表示となるように変化させることを特徴とする。
請求項10に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法は、一対の基板の対向面にそれぞれ形成された画素電極及び対向電極と、これらの電極を覆う配向膜と、前記一対の基板間に介在する液晶層と、前記一対の基板の外側に設けられた2枚の偏光フィルタとを有し、液晶パネルの輝点欠陥部分を黒表示とすることにより、欠陥を目立たなくさせる液晶パネルの画素欠陥修正方法において、前記液晶パネルのブラックマスクの開口下に位置する欠陥部分に単数回の第1のレーザ照射を行い、この第1のレーザ照射によりレーザ照射地点を含む周辺に気泡が発生した前記ブラックマスクの開口内の領域内に複数回の第2のレーザ照射を行うことにより、その構成物を飛散させ及び前記配向膜上に堆積させ、前記配向膜上に構成物を付着させて前記配向膜の配向性を変化させ、修正された欠陥画素が画素駆動電圧の印加の有無に拘わらず常に黒表示となるようにすることを特徴とする。
請求項11に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法は、前記液晶パネルは前記液晶層を挟むTFT基板及びこれに対向する対向基板とを備えており、前記レーザ照射を行うレーザ光は前記TFT基板とは反対側の前記対向基板側から前記液晶層に入射することを特徴とする。
請求項12に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法は、TFT基板上に配向膜を介して位置する液晶層を備えた液晶パネルの画素欠陥修正方法において、前記TFT基板とは反対側からレーザ光を前記液晶層に入射することで気泡を発生させる第1の工程と、前記気泡の消失前に、ブラックマスクの開口下に位置する1つの欠陥画素内の複数の位置に、前記TFT基板とは反対側からレーザ光を照射し、その構成物を飛散させ及び前記配向膜上に堆積させて、前記欠陥画素の部分の前記配向膜の配向性を変化させる第2の工程とを備えることを特徴とする。
請求項13に係る液晶パネルの画素欠陥修正方法は、前記第2の工程のレーザ光のビームの直径は前記欠陥画素の最大径の1/16以下であることを特徴とする。
請求項14に係る液晶パネルは、請求項1及び3乃至13のいずれか1項に記載の画素欠陥修正方法によって欠陥修正されたことを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】
図1は、実施の形態に係る液晶パネルの欠陥修正装置の構成を示すブロック図である。
【0014】
この欠陥修正装置には、検査及び修正の対象である液晶パネルLCDを載置するためのXYステージ2が備えられている。このXYステージ2は、制御部4からの駆動制御信号に従って作動するステッピングモータを備える駆動機構6によってXY座標の何れの方向へも移動され、このXYステージ2の移動動作により液晶パネルLCDを任意の位置へ位置決め調整する。
【0015】
XYステージ2の中央部には、Z方向(XY座標に直交する方向)に向けて貫通した開口部2aが形成され、開口部2aの下側には、偏光フィルタ8を介して透過照明装置10が設けられている。そして、制御部4からの照明制御信号に従って透過照明装置10が点灯すると、偏光フィルタ8を通過した照明光が開口部2aを介して液晶パネルLCDの裏面側を照明し、液晶パネルLCDの所謂バックライトと同様の機能が発揮される。
【0016】
XYステージ2の上方には、Z座標方向に沿って、結像レンズ12、ダイクロイックミラー14、偏光フィルタ16、カメラレンズ18及びCCDビデオカメラ20が設けられ、かかる光学系を構成する何れの構成要素も同一の光軸に合致している。尚、偏光フィルタ8と16は相互に直交状態に配置されている。
【0017】
ダイクロイックミラー14に対向する位置には、上記光学系と光軸合わせされたレーザ発振器22が設けられ、更に、ダイクロイックミラー14とレーザ発振器22との間には、所定部分にのみ光透過パターンを有する遮光マスク24と、所定の光透過率を有する減光フィルタ26が設けられている。
【0018】
遮光マスク24は、2種類の光透過パターンが備えられている。第1の光透過パターンは、レーザ発振器22から出射されるレーザ光を、所定直径の単一レーザビームにする単一の透過部からなり、その単一レーザビーム(以下、第1のレーザビームという)をダイクロイックミラー14及び結像レンズ12を介して、被修正対象である液晶パネルLCDの欠陥画素の一部分へ照射させるようになっている。即ち、図2(a)に示すように、結像レンズ12の光軸上に合致する単一の欠陥画素EPの範囲内の一部分だけに第1のレーザビームが照射されるように、第1の透過パターンの径(又は面積S)が極めて微細に設計されている。
【0019】
第2の光透過パターンは、レーザ発振器22から出射されるレーザ光を、夫々所定直径の複数個のレーザビームにする複数個の透過部からなり、その複数のレーザビーム(以下、第2のレーザビームという)をダイクロイックミラー14及び結像レンズ12を介して、被修正対象である液晶パネルLCDの欠陥画素の範囲内へ照射させるようになっている。即ち、図2(b)に示すように、結像レンズ12の光軸上に合致する単一の欠陥画素EPの範囲内に第2のレーザビームが照射されるように、第2の透過パターンの複数個の透過部は、極めて微細に設計されている。尚、透過部の個数は特に限定されるものではないが、この実施の形態では、図2(b)又は(c)に示すように、4個又は6個のレーザビームを照射する構成としている。
【0020】
また、第1,第2の光透過パターンを除く領域は光の透過を完全に遮断する遮光部分となっている。
【0021】
そして、制御部4からの切換制御信号に従って駆動モータ28が遮光マスク24の位置を調節することにより、第1の光透過パターンと第2の光透過パターンの挿入切換を行うようになっている。
【0022】
減衰フィルタ26は、レーザ発振器22から出射されるレーザ光を所定の光透過率で透過させると共に、制御部4からの切換制御信号に従って駆動モータ30が作動することにより、レーザ発振器22と遮光マスク24との間に挿入又は取り外す構成となっている。尚、遮光マスク24の上記第1の透過パターンが選択・挿入されるときは、減衰フィルタ26がレーザ光の光路中から取り外され、遮光マスク24の上記第2の透過パターンが選択・挿入されるときは、減衰フィルタ26が挿入される。
【0023】
レーザ発振器22は、所定波長ν、所定出射エネルギーρ、且つ所定の繰り返し周期τのパルスレーザ光を出射し、その起動及び停止制御は制御部4からの制御信号に従って行われる。
【0024】
ビデオカメラ20は、前記光学系中の結像レンズ12、ダイクロイックミラー14、偏光フィルタ16及びカメラレンズ18を介して、液晶パネルLCDの光像を撮像し、その映像信号を画像処理部32へ出力する。そして、画像処理部32は、液晶パネルLCDの光像をCRTモニタ等の表示部34に再生表示させると共に、適時にレーザ発振器22のレーザ発光を停止させるための発光停止信号を制御部4へ出力する。
【0025】
制御部4及び画像処理部32は、マイクロコンピュータシステム等によって実現され、このマイクロコンピュータシステム等を操作者が操作することにより、かかる欠陥修正装置全体を制御することができる構成となっている。
【0026】
次に、かかる構成を有する画素欠陥修正装置の作動及び画素欠陥修正方法を図3のフローチャートと共に説明する。尚、典型例として、ノーマリホワイトタイプのTFT液晶パネルを修正加工する場合を説明する。
【0027】
まず、ステップ100において、操作者が、被修正対象である液晶パネルLCDをXYステージ2上に装着すると共に、透過照明装置10を点灯させることにより、液晶パネルLCDの裏面を照明させる。これにより、ビデオカメラ20が、液晶パネルLCDを通過した光像を結像レンズ12、ダイクロイックミラー14、偏光フィルタ16及びカメラレンズ18を介して撮影を開始する。
【0028】
次に、ステップ102において、LCD駆動回路をオンにすることにより、液晶表示パネルLCDを均一輝度の表示状態に設定し、操作者が、表示部34に表示される液晶パネルLCDの再生映像を見ながらXYステージ2の位置を適宜に移動させることにより、液晶パネルLCD中の白欠陥画素を検索し、その白欠陥画素を結像レンズ12の光軸に合致させるようにXYステージ2の位置決め操作を行う。
【0029】
即ち、ノーマリホワイトタイプのTFT液晶パネルLCDでは、偏光フィルタ8,16及びこの液晶パネルLCDを通過する照明光の透過率が、不良画素の箇所で最大となるので、表示部34に表示される高輝度の部分を調べることによって、白欠陥画素を検出し且つ位置決め調整を行うことができる。
【0030】
次に、ステップ104において、遮光マスク24の第1の光透過パターンを選択・挿入させると共に、減光フィルタ26を取り外した状態にして、レーザ発振器22を作動させる。これにより、レーザ発振器22から出射される1発(単発)のパルスレーザ光からパルス状の第1のレーザビームが形成され、この第1のレーザビームがダイクロイックミラー14及び結像レンズ12を介して、液晶パネルLCDの白欠陥画素EPに照射する。
【0031】
この結果、図4(a)に示す如く、白欠陥画素EPの対向電極(ITO透明電極)36及びポリイミドの配向膜38が第1のレーザビームのエネルギーによって気化されて穴が空き、更にパルスレーザビームのエネルギー密度(即ち、出射エネルギーとレーザビーム径(面積)の比ρ/S)に対応した体積の気泡40が液晶層42内に発生する。この実施の形態では、気泡40が白欠陥画素EPの下だけでなくその周囲の複数個の画素の下の領域まで広がるように、第1のレーザビームのエネルギー密度を設定している。より具体的には、白欠陥画素EPを中心としてその最大径の数倍〜10数倍の広い範囲まで気泡40が広がるように設定している。
【0032】
尚、図4(a)の上側の図は、TFT液晶パネルの白欠陥画素EPに第1のレーザビームが照射される状態と気泡40の発生範囲を概念的に示す平面図、同図(a)の下側の図は、気泡40の発生状態を上側の図に対応して示す縦断面図である。
【0033】
そして、気泡40の発生した領域を通過する透過照明装置10からの照明光は、偏光フィルタ8,16の遮光比で得られる透過率に限りなく近づくことで、その透過率が小さくなるので、表示部34の再生映像を見るだけで、気泡40が白欠陥画素EPのみならずその周囲の画素の下にも広がって発生していることを視認することができる。
【0034】
このように操作者が気泡40の発生を確認(ステップ106)した後、ステップ108において、遮光マスク24を第2の光透過パターンに切換えると共に、減光フィルタ26を挿入させる。
【0035】
次に、ステップ110において、レーザ発振器22を作動させることにより、所定周期τで複数個(例えば10個)のパルスレーザ光を出射させる。この結果、図4(b)に示すように、減光フィルタ26により減光され且つ遮光マスク24の第2の光透過パターンで形成された第2のレーザビームが、白欠陥画素EPの範囲内に照射される。そして、第2のレーザビームの複数のパルスレーザビームのエネルギーにより、白欠陥画素EPを構成する部分の対向電極(ITO透明電極)36及び配向膜38等が気化及び破壊されて飛散し、その飛散物(炭素、インジウム等)が配向膜の表面に被着し堆積する。
【0036】
尚、図4(b)の上側の図は、TFT液晶パネルの白欠陥画素EPに第2のレーザビームが照射される状態と気泡40の発生範囲を概念的に示す平面図、同図(b)の下側の図は、飛散物の付着状態を概念的に示す縦断面図である。
【0037】
ここで注目すべき点は、上記の飛散物は、気泡40による空間中に飛散すると共に、気泡40の発生範囲が前記の如く広いので液晶層42中に混入せず、配向膜38の表面に付着・堆積する。更に、その気泡40による空間領域に第2のレーザビームが照射されるので、そのエネルギーが液晶層42に吸収されない。したがって、比較的低いエネルギーのパルスレーザビームによって、構成物を飛散させることができる。
【0038】
そして、第2のレーザビームの照射を停止した後、時間の経過に伴って気泡40が消滅しても、図4(c)に示す如く、堆積物は液晶層42中に混入することなく、配向膜38に付着・堆積したままになる。尚、図4(c)の上側の図は、TFT液晶パネルの気泡38の消滅後の状態を示す平面図、下側の図は上側の図に対応する縦断面図である。
【0039】
このように、配向膜上に構成物が付着すると配向膜の配向性が変化するので、画素駆動電圧が印加されなくとも、偏光を90°変化することが実験的に確認された。そして、修正された欠陥画素は、画素駆動電圧の印加の有無に拘わらず常に黒表示をするようになり、白欠陥の様な輝点が現れなくなる。また、常時黒の状態であれば、通常の表示動作中であっても目立たないので、品質のよい再生画像等を提供することができる。
【0040】
そして、ステップ112において、表示部34の映像を見ながら白欠陥画素の修正状況を検査して、修正加工処理を終了する。
【0041】
このように、本実施の形態によれば、白欠陥を確実且つ容易に修正することができる。また、欠陥画素を直接修正するので、遮光性に優れた画素に修正することができ、特に、広がり角の大きなTFT液晶パネルの画素欠陥修正に好適である。
【0042】
尚、本実施の形態では、レーザ発振器22を特に限定していないが、フッ素、キセノン、ヘリウム及びネオンの混合ガスを放電させることによりパルスレーザ光を出射するエキシマレーザ発振器や、XeCl,KrFエキシマレーザ発振器や、Nd:YAGレーザ発振器等を使用することが好適である。また、Nd:YAGレーザの2〜4倍波など、液晶パネル表面に設けられているガラス基板を透過する透過波長であって、対向電極(ITO透明電極)及び配向膜に吸収されるレーザを出射するレーザ発振器を適用することができる。
【0043】
【実施例】
以下、実施例を説明する。この実施例では、図1に示すレーザ発振器22として、フッ素、キセノン、ヘリウム及びネオンの混合ガスを放電させることによりパルスレーザ光を出射するエキシマレーザ発振器を適用し、出射パルスエネルギーが100mJ、波長が351nm、繰り返し周波数が200Hzのパルスレーザ光を出射させた。
【0044】
第1のレーザビームを発生させるための遮光マスク24の第1の光透過パターンの径は、第1のレーザビームの照射によって、TFT液晶パネルの液晶層中に欠陥画素の約9倍の範囲の気泡が生じる程度の大きさにした。
【0045】
第2のレーザビームを発生させるための減光フィルタ26の透過率を40%とした。また、第2のレーザビームのビーム数を4個(図2(c)参照)とし、各ビームの直径をTFT液晶パネルの各画素の最大径の1/16以下とした。
【0046】
各画素を構成する対向電極(ITO透明電極)の膜厚が約1500、配向膜 (ポリイミド)の膜厚が約1000であるTFT液晶パネルLCDの白画素欠陥を修正することとした。
【0047】
TFT液晶パネルLCD中の液晶層に気泡を発生させるための第1のレーザビームのエネルギー密度を10J/cm2 、飛散処理を施すための第2のレーザビームのエネルギー密度を2.5J/cm2 とした。
【0048】
図5(a)は、修正加工前にビデオカメラ20にて撮影したTFT液晶パネルLCD中の欠陥画素EP及びその周辺の映像を線画にて描いたものであり、同図(b)は、修正加工後に液晶パネルの全ての画素を白表示させた場合の映像を線画にて描いたものである。これらの図からも明らかなように、白欠陥画素EPは、修正加工によって所謂黒欠陥画素になり、修正処理時に第2のレーザビームによって形成された微少な部分だけが僅かに白くなる。しかし、欠陥画素の占有面積に比べてその白い部分の面積は僅かであるので、ほとんど目立ないことが確認された。特に、本発明は、ノーマルホワイトタイプの液晶パネルの白欠陥画素の修正に好適であることが確認された。
【0049】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明によれば、レーザ光を画素欠陥に照射することによって、液晶パネルの液晶層中に欠陥画素より広い範囲にわたって気泡を発生させた状態で、更にレーザ光の照射により、欠陥画素の構成材の一部を飛散させてその飛散物を構成材に付着・堆積させるので、飛散物が液晶層中に混入すること無く、上記被着・堆積によって欠陥画素を修正加工することができる。
【0050】
例えば、ノーマリホワイトタイプの液晶パネルの白欠陥画素を常に黒表示の状態に修正加工する事ができるので、表示中に目立つ輝点の発生を防止して、高品位の表示装置を提供することができる。また、液晶パネルを所謂投影プロジェクタの液晶シャッターに適用される場合にも、白欠陥画素を黒表示の状態に修正する事により、高品位の投影プロジェクタを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】欠陥画素修正装置の実施の形態の構成を示すブロック図である。
【図2】第1のレーザビームと第2のレーザビームの照射パターンを示す説明図である。
【図3】図1に示す欠陥画素修正装置の作動及び欠陥画素修正手順を説明するためのフローチャートである。
【図4】欠陥画素の修正原理を説明するための説明図である。
【図5】実際に液晶パネルの欠陥画素の修正を行った結果を示す説明図である。
【符号の説明】
2…XYステージ、2a…開口部、4…制御部、6…駆動部、8…偏光フィルタ、10…透過照明装置、12…結像レンズ、14…ダイクロイックミラー、16…偏光フィルタ、18…カメラレンズ、20…ビデオカメラ、22…レーザ発振器、24…遮光マスク、26…減光フィルタ、28,30…駆動モータ、32…画像処理部、34…表示部、36…対向電極、38…配向膜、40…気泡、42…液晶層、EP…欠陥画素。
Claims (14)
- 液晶パネルの欠陥画素の部分にレーザを照射することにより、前記欠陥画素を修正する液晶パネルの画素欠陥修正方法において、前記欠陥画素の部分にレーザ光を照射することにより、少なくとも前記欠陥画素を含む周辺領域まで広がる気泡を、前記液晶パネルの液晶層中に発生させ、前記気泡発生状態中に、ブラックマスクの開口下に位置する前記欠陥画素の部分にレーザ光を1又は2以上の回数で照射することにより、前記欠陥画素の部分の構成物を前記ブラックマスクの開口内で飛散させ及び配向膜上に堆積させて前記配向膜の配向性を変化させることを特徴とする液晶パネルの画素欠陥修正方法。
- 液晶パネルの欠陥画素の部分にレーザを照射することにより、前記欠陥画素を修正する液晶パネルの欠陥修正装置において、前記欠陥画素の部分に第1のレーザ光を照射することにより、少なくとも前記欠陥画素を含む周辺領域まで広がる気泡を、前記液晶パネルの液晶層中に発生させると共に、前記気泡発生状態中に、ブラックマスクの開口下に位置する前記欠陥画素の部分にレーザ光を1又は2以上の回数で照射することにより、前記欠陥画素の部分の構成物を前記ブラックマスクの開口内で飛散させ及び配向膜上に堆積させて前記配向膜の配向性を変化させるレーザ光照射手段を具備することを特徴とする液晶パネルの画素欠陥修正装置。
- 一対の基板の対向面にそれぞれ形成された画素電極及び対向電極と、これらの電極を覆う配向膜と、前記一対の基板間に介在する液晶層とを備える液晶パネルの輝点欠陥部分を黒表示とすることにより、欠陥を目立たなくさせる液晶パネルの画素欠陥修正方法において、
前記液晶パネルのブラックマスクの開口下に位置する欠陥部分に第1のレーザ照射を行い、この第1のレーザ照射によりレーザ照射地点を含む周辺に気泡が発生した領域内に第2のレーザ照射を行うことにより、前記ブラックマスクの開口内で前記配向膜を飛散させ及び前記配向膜上に堆積させる方法であって、
気泡発生用の前記第1のレーザ照射は単数回であり、飛散用の前記第2のレーザ照射は複数回であることを特徴とする液晶パネルの画素欠陥修正方法。 - 前記一対の基板の外側に2枚の偏光フィルタを設けることを特徴とする請求項3に記載の液晶パネルの画素欠陥修正方法。
- 前記第2のレーザ照射地点を含む周辺に飛散物は堆積することを特徴とする請求項3又は4に記載の液晶パネルの画素欠陥修正方法。
- 前記気泡の大きさは第1のレーザ照射のエネルギー密度により制御されることを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1項に記載の液晶パネルの画素欠陥修正方法。
- 前記レーザはエキシマレーザであることを特徴とする請求項3乃至6のいずれか1項に記載の液晶パネルの画素欠陥修正方法。
- 前記レーザはYAGレーザであることを特徴とする請求項3乃至6のいずれか1項に記載の液晶パネルの画素欠陥修正方法。
- 一対の基板の対向面にそれぞれ形成された画素電極及び対向電極と、これらの電極を覆う配向膜と、前記一対の基板間に介在する液晶層と、
前記一対の基板の外側に設けられた2枚の偏光フィルタとを有し、
液晶パネルの輝点欠陥部分を黒表示とすることにより、欠陥を目立たなくさせる液晶パネルの画素欠陥修正方法において、
前記液晶パネルのブラックマスクの開口下に位置する欠陥部分に単数回の第1のレーザ照射を行い、この第1のレーザ照射によりレーザ照射地点を含む周辺に気泡が発生した前記ブラックマスクの開口内の領域内に複数回の第2のレーザ照射を行うことにより、その構成物を飛散させ及び前記配向膜上に堆積させて、前記配向膜の配向性を、画素駆動電圧の印加の有無に拘わらず欠陥画素が黒表示となるように変化させることを特徴とする液晶パネルの画素欠陥修正方法。 - 一対の基板の対向面にそれぞれ形成された画素電極及び対向電極と、これらの電極を覆う配向膜と、前記一対の基板間に介在する液晶層と、前記一対の基板の外側に設けられた2枚の偏光フィルタとを有し、
液晶パネルの輝点欠陥部分を黒表示とすることにより、欠陥を目立たなくさせる液晶パネルの画素欠陥修正方法において、
前記液晶パネルのブラックマスクの開口下に位置する欠陥部分に単数回の第1のレーザ照射を行い、この第1のレーザ照射によりレーザ照射地点を含む周辺に気泡が発生した前記ブラックマスクの開口内の領域内に複数回の第2のレーザ照射を行うことにより、その構成物を飛散させ及び前記配向膜上に堆積させ、前記配向膜上に構成物を付着させて前記配向膜の配向性を変化させ、修正された欠陥画素が画素駆動電圧の印加の有無に拘わらず常に黒表示となるようにすることを特徴とする液晶パネルの画素欠陥修正方法。 - 前記液晶パネルは前記液晶層を挟むTFT基板及びこれに対向する対向基板とを備えており、前記レーザ照射を行うレーザ光は前記TFT基板とは反対側の前記対向基板側から前記液晶層に入射することを特徴とする請求項1及び3乃至10のいずれか1項に記載の液晶パネルの画素欠陥修正方法。
- TFT基板上に配向膜を介して位置する液晶層を備えた液晶パネルの画素欠陥修正方法において、
前記TFT基板とは反対側からレーザ光を前記液晶層に入射することで気泡を発生させる第1の工程と、
前記気泡の消失前に、ブラックマスクの開口下に位置する1つの欠陥画素内の複数の位置に、前記TFT基板とは反対側からレーザ光を照射し、その構成物を飛散させ及び前記配向膜上に堆積させて、前記欠陥画素の部分の前記配向膜の配向性を変化させる第2の工程と、
を備えることを特徴とする液晶パネルの画素欠陥修正方法。 - 前記第2の工程のレーザ光のビームの直径は前記欠陥画素の最大径の1/16以下であることを特徴とする請求項12に記載の液晶パネルの画素欠陥修正方法。
- 請求項1及び3乃至13のいずれか1項に記載の欠陥修正方法によって欠陥修正されたことを特徴とする液晶パネル。
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