JPH052160A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH052160A JPH052160A JP3178395A JP17839591A JPH052160A JP H052160 A JPH052160 A JP H052160A JP 3178395 A JP3178395 A JP 3178395A JP 17839591 A JP17839591 A JP 17839591A JP H052160 A JPH052160 A JP H052160A
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1306—Details
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136259—Repairing; Defects
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- G—PHYSICS
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
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- G02F2201/508—Pseudo repairing, e.g. a defective part is brought into a condition in which it does not disturb the functioning of the device
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶表示装置の不良画素に対応する領域から
の光の漏れを防止し、表示品位を向上する。 【構成】 液晶表示装置５の電極２ａ，３ａの少なくと
もいずれか一方に接続されている配線が破損などした場
合、電極２ａ，３ａは不良画素領域７ａとなる。不良画
素領域７ａを通る光の光路上に遮蔽片６を形成し、光を
遮断する。
の光の漏れを防止し、表示品位を向上する。 【構成】 液晶表示装置５の電極２ａ，３ａの少なくと
もいずれか一方に接続されている配線が破損などした場
合、電極２ａ，３ａは不良画素領域７ａとなる。不良画
素領域７ａを通る光の光路上に遮蔽片６を形成し、光を
遮断する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】画素をマトリクス状に配置して形成され
ている液晶表示装置は、各画素に対応する電極に電圧を
印加するか否かによって光の透過／遮蔽が行われ、光の
透過／遮蔽を制御することによって表示が行われる。
ている液晶表示装置は、各画素に対応する電極に電圧を
印加するか否かによって光の透過／遮蔽が行われ、光の
透過／遮蔽を制御することによって表示が行われる。
【０００３】画素に対応する電極に電圧を印加する配線
が短絡や断線などによって電圧を印加することができな
い場合がある。このように電極に電圧を印加することが
できない画素は、常に電圧が印加されない表示状態とな
り、表示を制御できないため不良画素となる。
が短絡や断線などによって電圧を印加することができな
い場合がある。このように電極に電圧を印加することが
できない画素は、常に電圧が印加されない表示状態とな
り、表示を制御できないため不良画素となる。
【０００４】画素に対応する電極に電圧を印加すること
によって光を遮蔽する場合、不良画素部分は光を遮蔽す
ることができず、周囲の画素が光を遮蔽している状態で
ある場合、不良部分のみ白く光る輝点となり、表示の品
位が著しく低下する。
によって光を遮蔽する場合、不良画素部分は光を遮蔽す
ることができず、周囲の画素が光を遮蔽している状態で
ある場合、不良部分のみ白く光る輝点となり、表示の品
位が著しく低下する。
【０００５】前述のような不良画素の発生を防止するた
めに、従来では各画素電極に２本の配線を接続してお
き、１本の配線が破損しても表示に影響が生じないよう
にしている。また、各画素を２つに分割して複数の電極
で１画素を表示し、１つの電極に電圧を印加することが
できない場合には残りの電極で画素の表示を行ってい
る。
めに、従来では各画素電極に２本の配線を接続してお
き、１本の配線が破損しても表示に影響が生じないよう
にしている。また、各画素を２つに分割して複数の電極
で１画素を表示し、１つの電極に電圧を印加することが
できない場合には残りの電極で画素の表示を行ってい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】各画素に２本の配線を
接続したり、１画素を２つに分割して複数の電極で１画
素を表示するような液晶表示装置では、回路が複雑にな
り、回路の設計および製造が困難であるという問題があ
る。また、回路が複雑になり、配線数が増加するため、
配線を形成する面積を増加しなければならず、各電極面
積が縮小され、表示の輝度が低下するという問題があ
る。
接続したり、１画素を２つに分割して複数の電極で１画
素を表示するような液晶表示装置では、回路が複雑にな
り、回路の設計および製造が困難であるという問題があ
る。また、回路が複雑になり、配線数が増加するため、
配線を形成する面積を増加しなければならず、各電極面
積が縮小され、表示の輝度が低下するという問題があ
る。
【０００７】また、複数の電極で１画素を表示する場合
には、表示を行う駆動回路に負担がかかるという問題が
ある。
には、表示を行う駆動回路に負担がかかるという問題が
ある。
【０００８】さらに、上述のような従来技術を用いるこ
とによっても、各画素に接続されている２本の配線のい
ずれもが破損した場合、１画素を表示する複数の電極の
各々に接続されている各配線が破損した場合には、輝点
の発生を防ぐことはできない。
とによっても、各画素に接続されている２本の配線のい
ずれもが破損した場合、１画素を表示する複数の電極の
各々に接続されている各配線が破損した場合には、輝点
の発生を防ぐことはできない。
【０００９】本発明の目的は、不良画素に対応する領域
からの光の漏れを防止し、表示品位が向上する液晶表示
装置を提供することである。
からの光の漏れを防止し、表示品位が向上する液晶表示
装置を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、複数の画素を
マトリクス状に配置して形成される液晶表示装置におい
て、不良画素に対応する領域に遮蔽手段を設けることを
特徴とする液晶表示装置である。
マトリクス状に配置して形成される液晶表示装置におい
て、不良画素に対応する領域に遮蔽手段を設けることを
特徴とする液晶表示装置である。
【００１１】また本発明は、前記遮蔽手段を、前記不良
画素に対応する領域に形成された凹部に設けることを特
徴とする。
画素に対応する領域に形成された凹部に設けることを特
徴とする。
【００１２】また本発明は、前記凹部をレーザビームを
用いて形成することを特徴とする。
用いて形成することを特徴とする。
【００１３】また本発明は、前記レーザビームとして、
エキシマレーザビームを用いることを特徴とする。
エキシマレーザビームを用いることを特徴とする。
【００１４】また本発明は、前記レーザビームとして、
ＣＯ2 レーザビームを用いることを特徴とする。
ＣＯ2 レーザビームを用いることを特徴とする。
【００１５】
【作用】本発明に従えば、複数の画素をマトリクス状に
配置して形成される液晶表示装置において、不良画素に
対応する領域には、光を遮蔽する遮蔽手段が設けられ
る。
配置して形成される液晶表示装置において、不良画素に
対応する領域には、光を遮蔽する遮蔽手段が設けられ
る。
【００１６】また本発明に従えば、前記遮蔽手段は前記
不良画素に対応する領域に形成された凹部に設けられ、
前記凹部はレーザビームを用いて形成することができ
る。
不良画素に対応する領域に形成された凹部に設けられ、
前記凹部はレーザビームを用いて形成することができ
る。
【００１７】前記レーザビームとしては、エキシマレー
ザビームまたはＣＯ2 レーザビームを用いることができ
る。
ザビームまたはＣＯ2 レーザビームを用いることができ
る。
【００１８】
【実施例】図１は本発明の一実施例である液晶表示装置
５を示す断面図であり、図２は図１に示される液晶表示
装置５の平面図である。基板１ａに液晶表示装置５の画
素領域を形成する複数の電極２，２ａが形成されてい
る。基板１ｂにも基板１ａの電極２，２ａに対応する位
置に電極３，３ａが形成されている。両基板１ａ，１ｂ
は、各々に形成されている電極２，２ａ，３，３ａが対
向するように配置され、液晶４を介して貼合わせられ、
液晶表示装置５が完成する。
５を示す断面図であり、図２は図１に示される液晶表示
装置５の平面図である。基板１ａに液晶表示装置５の画
素領域を形成する複数の電極２，２ａが形成されてい
る。基板１ｂにも基板１ａの電極２，２ａに対応する位
置に電極３，３ａが形成されている。両基板１ａ，１ｂ
は、各々に形成されている電極２，２ａ，３，３ａが対
向するように配置され、液晶４を介して貼合わせられ、
液晶表示装置５が完成する。
【００１９】電極２ａ，３ａに光が入射されないよう
に、基板１ｂの電極３ａに対応する位置に遮蔽手段であ
る遮断片６が形成されている。
に、基板１ｂの電極３ａに対応する位置に遮蔽手段であ
る遮断片６が形成されている。
【００２０】電極２，３によって形成される画素領域７
には、光が矢符Ａ方向に入射している。電極２ａ，３ａ
の少なくとも一方の配線が破損しているため、電極２
ａ，３ａ間に電圧を印加することができず、電極２ａ，
３ａは不良画素に対応する領域である不良画素領域７ａ
を形成している。不良画素領域７ａは電圧が印加されて
いない状態である光を透過する表示しか行うことができ
ない。したがって、周囲の電極２，３間に電圧が印加さ
れた場合、画素領域７は光を遮断するけれども、不良画
素領域７ａは光を透過するため輝点となり、表示品位を
低下する。
には、光が矢符Ａ方向に入射している。電極２ａ，３ａ
の少なくとも一方の配線が破損しているため、電極２
ａ，３ａ間に電圧を印加することができず、電極２ａ，
３ａは不良画素に対応する領域である不良画素領域７ａ
を形成している。不良画素領域７ａは電圧が印加されて
いない状態である光を透過する表示しか行うことができ
ない。したがって、周囲の電極２，３間に電圧が印加さ
れた場合、画素領域７は光を遮断するけれども、不良画
素領域７ａは光を透過するため輝点となり、表示品位を
低下する。
【００２１】不良画素領域７ａに入射する光を遮断片６
で遮断することによって、不良画素領域７ａには光が入
射せず、輝点となることが防止される。
で遮断することによって、不良画素領域７ａには光が入
射せず、輝点となることが防止される。
【００２２】図３は、本発明の一実施例である液晶表示
装置５の変形例を示す平面図である。不良画素領域７ａ
上に方形を有する遮断片６Ａを形成しても、前述と同様
の遮断効果が得られる。
装置５の変形例を示す平面図である。不良画素領域７ａ
上に方形を有する遮断片６Ａを形成しても、前述と同様
の遮断効果が得られる。
【００２３】図４は、本発明の他の実施例である液晶表
示装置５ａを示す断面図である。図１と同じ箇所には同
一の参照符号を付す。図３に示される液晶表示装置５ａ
が図１に示される液晶表示装置５と異なる点は、遮断片
６が基板１ｂの不良画素領域７ａ上に形成された凹部８
内に形成されていることである。凹部８はエッチング、
切削または後述するレーザエッチング等によって形成さ
れる。凹部８の深さＤは遮断片６の厚みＴよりも大きく
選ばれる。この液晶表示装置５ａによっても液晶表示装
置５と同様の効果が得られる。
示装置５ａを示す断面図である。図１と同じ箇所には同
一の参照符号を付す。図３に示される液晶表示装置５ａ
が図１に示される液晶表示装置５と異なる点は、遮断片
６が基板１ｂの不良画素領域７ａ上に形成された凹部８
内に形成されていることである。凹部８はエッチング、
切削または後述するレーザエッチング等によって形成さ
れる。凹部８の深さＤは遮断片６の厚みＴよりも大きく
選ばれる。この液晶表示装置５ａによっても液晶表示装
置５と同様の効果が得られる。
【００２４】図５は、図４に示される凹部８に形成され
る遮断片６の変形例を示す断面図である。図４に示され
る遮断片６の厚みＴは、前述した凹部８の深さＤよりも
小さくなるように選ばれている。しかしながら、遮断片
６の厚みＴと凹部８の深さＤの関係はこれに限られるも
のではなく、光を遮断する厚みを有していればよい。
る遮断片６の変形例を示す断面図である。図４に示され
る遮断片６の厚みＴは、前述した凹部８の深さＤよりも
小さくなるように選ばれている。しかしながら、遮断片
６の厚みＴと凹部８の深さＤの関係はこれに限られるも
のではなく、光を遮断する厚みを有していればよい。
【００２５】図５（１）は、凹部８の深さＤと、遮断片
６ａの厚みＴａとが等しく選ばれており、図５（２）は
遮断片６ｂの中央部が低くなるように形成されており、
凹部８の深さＤより遮断片６ｂの中央部の厚みＴｂが小
さく選ばれており、図５（３）は凹部８の深さＤより遮
断片６ｃの厚みＴｃが大きく選ばれている。以上のよう
な変形例においても、前述と同様の効果が得られる。
６ａの厚みＴａとが等しく選ばれており、図５（２）は
遮断片６ｂの中央部が低くなるように形成されており、
凹部８の深さＤより遮断片６ｂの中央部の厚みＴｂが小
さく選ばれており、図５（３）は凹部８の深さＤより遮
断片６ｃの厚みＴｃが大きく選ばれている。以上のよう
な変形例においても、前述と同様の効果が得られる。
【００２６】図６は、本発明の他の実施例の凹部４８の
形成に用いられるレーザ凹部形成装置３０の側面図であ
る。レーザ発振器３１から出射されたレーザビーム３２
は、不良画素領域７ａ上に形成する凹部４８の外形サイ
ズが拡大された形状のパターンが形成されているスリッ
トパターン３３を通り、紫外線反射ミラー３４で反射さ
れた後、レンズ３５を経て載置台３６上に載置された液
晶表示装置５の不良画素領域７ａに集光されて照射され
る。レーザビーム３２は、スリットパターン３３を介し
て縮小スリット露光するため、不良画素領域７ａの位置
に精度よく照射される。また、遮断片６を方形の不良画
素領域７ａに対応する形状に形成することは困難だけれ
ども、スリットパターン３３を用いることによって、凹
部４８を方形に形成することができ、形成領域を小さく
することができる。また、載置台３６は、たとえば水平
面内においてＸ−Ｙ直交２軸方向に移動可能になってお
り、該載置台３６の移動によってレーザビーム３２を所
望の不良画素領域７ａに照射することができる。
形成に用いられるレーザ凹部形成装置３０の側面図であ
る。レーザ発振器３１から出射されたレーザビーム３２
は、不良画素領域７ａ上に形成する凹部４８の外形サイ
ズが拡大された形状のパターンが形成されているスリッ
トパターン３３を通り、紫外線反射ミラー３４で反射さ
れた後、レンズ３５を経て載置台３６上に載置された液
晶表示装置５の不良画素領域７ａに集光されて照射され
る。レーザビーム３２は、スリットパターン３３を介し
て縮小スリット露光するため、不良画素領域７ａの位置
に精度よく照射される。また、遮断片６を方形の不良画
素領域７ａに対応する形状に形成することは困難だけれ
ども、スリットパターン３３を用いることによって、凹
部４８を方形に形成することができ、形成領域を小さく
することができる。また、載置台３６は、たとえば水平
面内においてＸ−Ｙ直交２軸方向に移動可能になってお
り、該載置台３６の移動によってレーザビーム３２を所
望の不良画素領域７ａに照射することができる。
【００２７】なお、不良画素領域７ａの検出は、前工程
において、液晶表示装置５に光源から光を照射し、駆動
状態にある液晶表示装置５の表示画像を表示画面上に投
影し、この投影像を検査員が視認して行われる。
において、液晶表示装置５に光源から光を照射し、駆動
状態にある液晶表示装置５の表示画像を表示画面上に投
影し、この投影像を検査員が視認して行われる。
【００２８】図７は、図５に示されるレーザ凹部形成装
置３０を用いて液晶表示装置５の基板１ｂに形成された
凹部４８の断面図である。液晶表示装置５の基板１ｂの
不良画素領域７ａ位置に、レーザビーム３２を矢符Ｂ方
向から照射することによって凹部４８が形成される。凹
部４８の底面４８ａは、強度制御されたレーザビーム３
２によって微少な凹凸から成る粗面となっている。
置３０を用いて液晶表示装置５の基板１ｂに形成された
凹部４８の断面図である。液晶表示装置５の基板１ｂの
不良画素領域７ａ位置に、レーザビーム３２を矢符Ｂ方
向から照射することによって凹部４８が形成される。凹
部４８の底面４８ａは、強度制御されたレーザビーム３
２によって微少な凹凸から成る粗面となっている。
【００２９】図８は、図７に示される凹部４８に遮断片
４６ａ，４６ｂ，４６ｃ，４６ｄを形成した断面図であ
る。図８（１）では凹部４８の深さＤ１と遮断片４６ａ
の厚みＴ１とが等しく選ばれており、図８（２）では遮
断片４６ｂの中央部が低くなるように形成されており、
凹部４８の深さＤ１より遮断片４６ｂの中央部の厚みＴ
２が小さく選ばれている。また、図８（３）では凹部８
の深さＤ１より遮断片４６ｃの厚みＴ３が大きく選ばれ
ており、図８（４）では遮断片４６ｄの中央部が高くな
るように形成されているけれども、凹部４８の深さＤ１
より遮断片４６ｄの厚みＴ４が小さく選ばれている。以
上のような変形例においても、同様の効果が得られる。
４６ａ，４６ｂ，４６ｃ，４６ｄを形成した断面図であ
る。図８（１）では凹部４８の深さＤ１と遮断片４６ａ
の厚みＴ１とが等しく選ばれており、図８（２）では遮
断片４６ｂの中央部が低くなるように形成されており、
凹部４８の深さＤ１より遮断片４６ｂの中央部の厚みＴ
２が小さく選ばれている。また、図８（３）では凹部８
の深さＤ１より遮断片４６ｃの厚みＴ３が大きく選ばれ
ており、図８（４）では遮断片４６ｄの中央部が高くな
るように形成されているけれども、凹部４８の深さＤ１
より遮断片４６ｄの厚みＴ４が小さく選ばれている。以
上のような変形例においても、同様の効果が得られる。
【００３０】図９は、図７および図８の変形例を示す断
面図である。図９では、レーザビーム３２によって基板
１ｂ上に凹部４８を形成せず、凹凸面４９を形成してお
り、その上に遮断片４６ｅが形成されている。このよう
な変形例においても、同様の効果が得られる。
面図である。図９では、レーザビーム３２によって基板
１ｂ上に凹部４８を形成せず、凹凸面４９を形成してお
り、その上に遮断片４６ｅが形成されている。このよう
な変形例においても、同様の効果が得られる。
【００３１】前述した凹部４８および凹凸面４９の形成
は、ＣＯ2 レーザによるレーザエッチングで行ってもよ
いし、あるいはダイヤモンド針や超硬合金製の針を用い
た触刻によって行うこともできる。しかしながら、エキ
シマレーザエッチングによれば、これらの方法に比べて
以下に示す利点がある。
は、ＣＯ2 レーザによるレーザエッチングで行ってもよ
いし、あるいはダイヤモンド針や超硬合金製の針を用い
た触刻によって行うこともできる。しかしながら、エキ
シマレーザエッチングによれば、これらの方法に比べて
以下に示す利点がある。
【００３２】まず、触彫法と比較すると、粗面加工が容
易になるとともに、凹凸形状の精度がよい底面４８ａお
よび凹凸面４９を形成できる利点がある。
易になるとともに、凹凸形状の精度がよい底面４８ａお
よび凹凸面４９を形成できる利点がある。
【００３３】一方、ＣＯ2レーザと比較すると、ＣＯ2レ
ーザエッチングは熱加工であるため、不良画素領域７ａ
の周辺のガラスに熱的ダメージを与えることになるが、
エキシマレーザエッチングによれば、このような熱的ダ
メージを与えることがないという利点がある。
ーザエッチングは熱加工であるため、不良画素領域７ａ
の周辺のガラスに熱的ダメージを与えることになるが、
エキシマレーザエッチングによれば、このような熱的ダ
メージを与えることがないという利点がある。
【００３４】さらに、エキシマレーザエッチングは、封
入ガスとして発振波長１９３ｎｍのＡｒＦ（フッ化アル
ゴン）、発振波長２４８ｎｍのＫｒＦ（フッ化クリプト
ン）、発振波長３０８ｎｍのＸｅＣｌ（塩化キセノン）
等が使用され、該封入ガスの種類によってレーザ発振器
３１であるエキシマレーザ発振器のパルスエネルギが異
なり、底面４８ａおよび凹凸面４９の表面粗さも異なる
ことになるが、本発明者等による以下の実験結果によっ
て、封入ガスとしてＫｒＦを使用したエキシマレーザエ
ッチングが最も好ましい修正方法であることを確認でき
た。
入ガスとして発振波長１９３ｎｍのＡｒＦ（フッ化アル
ゴン）、発振波長２４８ｎｍのＫｒＦ（フッ化クリプト
ン）、発振波長３０８ｎｍのＸｅＣｌ（塩化キセノン）
等が使用され、該封入ガスの種類によってレーザ発振器
３１であるエキシマレーザ発振器のパルスエネルギが異
なり、底面４８ａおよび凹凸面４９の表面粗さも異なる
ことになるが、本発明者等による以下の実験結果によっ
て、封入ガスとしてＫｒＦを使用したエキシマレーザエ
ッチングが最も好ましい修正方法であることを確認でき
た。
【００３５】実験結果では、インクを強固に固着せしめ
るために必要な底面４８ａが得られる発振波長を検討し
た結果、２４８ｎｍのＫｒＦが目的に合った底面４８ａ
を呈し、１９３ｎｍのＡｒＦはＫｒＦに比較して平滑面
であり、目的からは外れる。また、３０８ｎｍのＸｅＣ
ｌはレーザビームがガラス面を透過するため、粗面化形
成はできなかった。
るために必要な底面４８ａが得られる発振波長を検討し
た結果、２４８ｎｍのＫｒＦが目的に合った底面４８ａ
を呈し、１９３ｎｍのＡｒＦはＫｒＦに比較して平滑面
であり、目的からは外れる。また、３０８ｎｍのＸｅＣ
ｌはレーザビームがガラス面を透過するため、粗面化形
成はできなかった。
【００３６】図１に示されるように、基板１ｂ上に遮断
片６を形成すれば、遮断片６は基板１ｂ上の突起物とな
り、液晶表示装置５の実装工程で、他の部品と摺動され
たり、また基板１ｂ上を布等で清掃する際に、遮断片６
が剥がれ易く、光遮断の信頼性が低下するという問題が
生じる場合がある。
片６を形成すれば、遮断片６は基板１ｂ上の突起物とな
り、液晶表示装置５の実装工程で、他の部品と摺動され
たり、また基板１ｂ上を布等で清掃する際に、遮断片６
が剥がれ易く、光遮断の信頼性が低下するという問題が
生じる場合がある。
【００３７】図４、図５、図８および図９に示されるよ
うに、基板１ｂに形成された凹部８，４８内または凹凸
面４９上に遮断片６，６Ａ，６ａ，６ｂ，６ｃ，４６
ａ，４６ｂ，４６ｃ，４６ｄ，４６ｅ（遮断片を総称し
て参照符を５６とする）を形成することによって、上述
の問題の発生を防止することができる。
うに、基板１ｂに形成された凹部８，４８内または凹凸
面４９上に遮断片６，６Ａ，６ａ，６ｂ，６ｃ，４６
ａ，４６ｂ，４６ｃ，４６ｄ，４６ｅ（遮断片を総称し
て参照符を５６とする）を形成することによって、上述
の問題の発生を防止することができる。
【００３８】遮断片５６は、たとえば紫外線硬化樹脂を
硬化させたものであって、紫外線硬化樹脂としては、光
を遮断する性質を有しているもの、または光を遮断する
性質を有している顔料が混入されているものが選ばれ
る。
硬化させたものであって、紫外線硬化樹脂としては、光
を遮断する性質を有しているもの、または光を遮断する
性質を有している顔料が混入されているものが選ばれ
る。
【００３９】遮断片５６は、不良画素領域７ａを覆うこ
とができる大きさであり、また光を遮断することができ
る厚みで形成される。
とができる大きさであり、また光を遮断することができ
る厚みで形成される。
【００４０】図１０、図１１および図１２は、本発明の
他の実施例を示す断面図である。前述の実施例と同じ箇
所には、同一の参照符号を付す。図１０に示される液晶
表示装置５ｂでは、基板１０ａに凹部８が形成されて遮
断片６が形成されている。図１１および図１２に示され
る液晶表示装置５ｃ，５ｄは、基板１ａ，１ｂ上に偏光
板５０ａ，５０ｂが形成されている。図１１に示される
液晶表示装置５ｃでは、偏光板５０ｂに凹部８が形成さ
れて遮断片６が形成されており、図１２に示される液晶
表示装置５ｄでは、偏光板５０ａに凹部８が形成されて
遮断片６が形成されている。
他の実施例を示す断面図である。前述の実施例と同じ箇
所には、同一の参照符号を付す。図１０に示される液晶
表示装置５ｂでは、基板１０ａに凹部８が形成されて遮
断片６が形成されている。図１１および図１２に示され
る液晶表示装置５ｃ，５ｄは、基板１ａ，１ｂ上に偏光
板５０ａ，５０ｂが形成されている。図１１に示される
液晶表示装置５ｃでは、偏光板５０ｂに凹部８が形成さ
れて遮断片６が形成されており、図１２に示される液晶
表示装置５ｄでは、偏光板５０ａに凹部８が形成されて
遮断片６が形成されている。
【００４１】遮断片５６は、不良画素領域７ａを通る光
の光路上にあればよく、図１、図４、図５、図８および
図９に示すように液晶表示装置５，５ａの光が入射する
基板１ｂ上に形成しても、図１０に示すように光が出射
する基板１ａ上に形成してもよい。また、液晶表示装置
５上ではなく、図１１および図１２に示されるように液
晶表示装置上に配置される偏光板５０ａ，５０ｂやガラ
ス等の不良画素領域７ａに対応する位置に、必要ならば
凹部８を形成した後に遮断片６を形成してもよい。この
ような変形例においても、前述と同様の効果が得られ
る。
の光路上にあればよく、図１、図４、図５、図８および
図９に示すように液晶表示装置５，５ａの光が入射する
基板１ｂ上に形成しても、図１０に示すように光が出射
する基板１ａ上に形成してもよい。また、液晶表示装置
５上ではなく、図１１および図１２に示されるように液
晶表示装置上に配置される偏光板５０ａ，５０ｂやガラ
ス等の不良画素領域７ａに対応する位置に、必要ならば
凹部８を形成した後に遮断片６を形成してもよい。この
ような変形例においても、前述と同様の効果が得られ
る。
【００４２】図１０、図１１および図１２に示される凹
部８は、レーザビーム３２によって形成される凹部４８
または凹凸面４９でもよく、また凹部８を形成せずに遮
断片６を形成してもよい。また、遮断片６の形状も、こ
れに限られるものではない。
部８は、レーザビーム３２によって形成される凹部４８
または凹凸面４９でもよく、また凹部８を形成せずに遮
断片６を形成してもよい。また、遮断片６の形状も、こ
れに限られるものではない。
【００４３】なお、凹部４８の深さＤ１と遮光性との関
係を実験した結果では、完全に遮光するためには深さＤ
１は１０μｍ以上は必要であった。
係を実験した結果では、完全に遮光するためには深さＤ
１は１０μｍ以上は必要であった。
【００４４】図１３は本発明の一実施例に用いられる遮
断片設置装置２０を示す図であり、図１３（１）は後述
する図１４の工程ａ１を示す図であり、図１３（２）は
図１４の工程ａ５を示す図である。
断片設置装置２０を示す図であり、図１３（１）は後述
する図１４の工程ａ１を示す図であり、図１３（２）は
図１４の工程ａ５を示す図である。
【００４５】フレーム１９によって水平に設置されてい
るレール１０の下面側に、レール１０に沿って摺動する
摺動部材１１が設置されている。摺動部材１１のレール
１０での摺動範囲は、レール１０に設置されている２つ
のストッパ１２ａ，１２ｂによって規定される。
るレール１０の下面側に、レール１０に沿って摺動する
摺動部材１１が設置されている。摺動部材１１のレール
１０での摺動範囲は、レール１０に設置されている２つ
のストッパ１２ａ，１２ｂによって規定される。
【００４６】摺動部材１１には図１３の下方に向かって
支持部材１３が設置されており、支持部材１３には図４
の上下方向に摺動自在に摺動片１４が設置されている。
摺動片１４には図４の下方に向かって針１５が設置され
ている。
支持部材１３が設置されており、支持部材１３には図４
の上下方向に摺動自在に摺動片１４が設置されている。
摺動片１４には図４の下方に向かって針１５が設置され
ている。
【００４７】摺動部材１１にバネ１６の一端が接続され
ており、バネ１６の他端は摺動片１４に接続されてい
る。摺動片１４は、バネ１６によって摺動部材１１方向
にバネ付勢されている。
ており、バネ１６の他端は摺動片１４に接続されてい
る。摺動片１４は、バネ１６によって摺動部材１１方向
にバネ付勢されている。
【００４８】前述の構造の図４の下方には、台１８が設
置されている。台１８上には遮断片５６となる樹脂５６
ａの入った容器１７と、不良画素領域７ａを有する液晶
表示装置５とが設置されている。樹脂５６ａは紫外線硬
化樹脂であり、紫外線照射処理前は液体である。
置されている。台１８上には遮断片５６となる樹脂５６
ａの入った容器１７と、不良画素領域７ａを有する液晶
表示装置５とが設置されている。樹脂５６ａは紫外線硬
化樹脂であり、紫外線照射処理前は液体である。
【００４９】摺動部材１１をストッパ１２ａと接触さ
せ、摺動片１４を降下させて樹脂５６ａが針１５に付着
する位置に、容器１７は設置されている。また、摺動部
材１１をストッパ１２ｂと接触させ、摺動片１４を降下
させて針１５が接触する位置Ｐに不良画素領域７ａがく
るように、液晶表示素子５が設置されている。
せ、摺動片１４を降下させて樹脂５６ａが針１５に付着
する位置に、容器１７は設置されている。また、摺動部
材１１をストッパ１２ｂと接触させ、摺動片１４を降下
させて針１５が接触する位置Ｐに不良画素領域７ａがく
るように、液晶表示素子５が設置されている。
【００５０】図１４は、図１３に示した遮断片設置装置
２０を用いて、遮断片５６を設置する工程を説明する工
程図である。工程ａ１では、図１３（１）に示すよう
に、摺動部材１１をストッパ１２ａに接触する位置に摺
動させる。この位置では、針１５が樹脂５６ａ上に位置
する。工程ａ２では、摺動片１４を降下して針１５の先
端に樹脂５６ａを付着させる。
２０を用いて、遮断片５６を設置する工程を説明する工
程図である。工程ａ１では、図１３（１）に示すよう
に、摺動部材１１をストッパ１２ａに接触する位置に摺
動させる。この位置では、針１５が樹脂５６ａ上に位置
する。工程ａ２では、摺動片１４を降下して針１５の先
端に樹脂５６ａを付着させる。
【００５１】工程ａ３では、ストッパ１２ｂに摺動部材
１１を接触させて、摺動片１４を降下したときに針１５
が接触する位置Ｐに、液晶表示装置５の不良画素領域７
ａがくるように液晶表示装置５を位置決めする。
１１を接触させて、摺動片１４を降下したときに針１５
が接触する位置Ｐに、液晶表示装置５の不良画素領域７
ａがくるように液晶表示装置５を位置決めする。
【００５２】工程ａ４では、摺動部材１１をストッパ１
２ｂに接触するまで摺動させ、工程ａ５では、図１３
（２）に示すように、摺動片１４を降下させて不良画素
領域７ａ上に針１５の先端を接触させ、樹脂５６ａを付
着する。
２ｂに接触するまで摺動させ、工程ａ５では、図１３
（２）に示すように、摺動片１４を降下させて不良画素
領域７ａ上に針１５の先端を接触させ、樹脂５６ａを付
着する。
【００５３】その後、樹脂５６ａに紫外線を照射して硬
化させる。樹脂５６ａは硬化するとともに液晶表示装置
５上に固着される。
化させる。樹脂５６ａは硬化するとともに液晶表示装置
５上に固着される。
【００５４】形成される遮断片５６の大きさは、針１５
の先端形状や太さ、容器１７内の樹脂５６ａの膜厚など
によって任意に選ばれる。
の先端形状や太さ、容器１７内の樹脂５６ａの膜厚など
によって任意に選ばれる。
【００５５】台１８上には、液晶表示装置５を設置した
けれども、液晶表示装置５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄでも良
く、また前述のように、液晶表示装置５上にガラス等を
配置したものでもよい。 液晶表示装置５，５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄの不良画素領域７ａの位置決めは、液晶
表示装置５，５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄの表示画面をスク
リーンに拡大投影し、スクリーン上の特定の点に不良画
素７ａを位置決めすることによって、位置Ｐに位置決め
を行うことができるようにしてもよい。
けれども、液晶表示装置５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄでも良
く、また前述のように、液晶表示装置５上にガラス等を
配置したものでもよい。 液晶表示装置５，５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄの不良画素領域７ａの位置決めは、液晶
表示装置５，５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄの表示画面をスク
リーンに拡大投影し、スクリーン上の特定の点に不良画
素７ａを位置決めすることによって、位置Ｐに位置決め
を行うことができるようにしてもよい。
【００５６】また、遮断片５６の設置は、遮断片設置装
置２０を用いての設置に限られるものではなく、人手を
用いて行ってもよく、また光センサなどを用いて自動的
に行ってもよい。
置２０を用いての設置に限られるものではなく、人手を
用いて行ってもよく、また光センサなどを用いて自動的
に行ってもよい。
【００５７】また、遮断片５６として、紫外線硬化樹脂
を用いたけれども、樹脂は紫外線硬化樹脂に限られるも
のではなく、黒色系インク等でも実施可能である。
を用いたけれども、樹脂は紫外線硬化樹脂に限られるも
のではなく、黒色系インク等でも実施可能である。
【００５８】以上のように本実施例によれば、不良画素
領域７ａを透過する光の光路を遮断することによって、
不良画素からの光の漏れを防止することができ、表示品
位を向上することができる。
領域７ａを透過する光の光路を遮断することによって、
不良画素からの光の漏れを防止することができ、表示品
位を向上することができる。
【００５９】
【発明の効果】本発明によれば、不良画素に対応する領
域から漏れる光は、不良画素に対応する領域に設けられ
る遮蔽手段によって遮蔽される。したがって、不良画素
に対応する領域からの光の漏れを容易に防止することが
でき、表示品位を向上することができる。
域から漏れる光は、不良画素に対応する領域に設けられ
る遮蔽手段によって遮蔽される。したがって、不良画素
に対応する領域からの光の漏れを容易に防止することが
でき、表示品位を向上することができる。
【図１】本発明の一実施例である液晶表示装置５を示す
断面図である。
断面図である。
【図２】図１に示される液晶表示装置５の平面図であ
る。
る。
【図３】本発明の一実施例である液晶表示装置５の変形
例を示す平面図である。
例を示す平面図である。
【図４】本発明の他の実施例である液晶表示装置５ａを
示す断面図である。
示す断面図である。
【図５】図４に示される凹部８に形成される遮断片６の
変形例を示す断面図である。
変形例を示す断面図である。
【図６】本発明の他の実施例の凹部４８の形成に用いら
れるレーザ凹部形成装置３０の側面図である。
れるレーザ凹部形成装置３０の側面図である。
【図７】図５に示されるレーザ凹部形成装置３０を用い
て液晶表示装置５の基板１ａに形成された凹部４８の断
面図である。
て液晶表示装置５の基板１ａに形成された凹部４８の断
面図である。
【図８】図７に示される凹部４８に遮断片４６ａ，４６
ｂ，４６ｃ，４６ｄを形成した断面図である。
ｂ，４６ｃ，４６ｄを形成した断面図である。
【図９】図７および図８の変形例を示す断面図である。
【図１０】本発明の他の実施例を示す断面図である。
【図１１】本発明の他の実施例を示す断面図である。
【図１２】本発明の他の実施例を示す断面図である。
【図１３】本発明の一実施例に用いられる遮断片設置装
置２０を示す図である。
置２０を示す図である。
【図１４】図１３に示される遮断片設置装置２０を用い
て、遮断片５６を設置する工程を説明する工程図であ
る。
て、遮断片５６を設置する工程を説明する工程図であ
る。
５，５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ 液晶表示装置
６，６Ａ，６ａ，６ｂ，６ｃ，４６ａ，４６ｂ，４６
ｃ，４６ｄ，４６ｅ，５６遮断片 ７ａ 不良画素領域 ８，４８ 凹部 ３１ レーザ発振器 ４９ 凹凸面
ｃ，４６ｄ，４６ｅ，５６遮断片 ７ａ 不良画素領域 ８，４８ 凹部 ３１ レーザ発振器 ４９ 凹凸面
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 井野 繁晴
大阪市阿倍野区長池町22番22号 シヤープ
株式会社内
(72)発明者 熊谷 冬人
大阪市阿倍野区長池町22番22号 シヤープ
株式会社内
(72)発明者 畑中 正嗣
大阪市阿倍野区長池町22番22号 シヤープ
株式会社内
(72)発明者 中井 俊治
大阪市阿倍野区長池町22番22号 シヤープ
株式会社内
(72)発明者 前田 敏男
大阪市阿倍野区長池町22番22号 シヤープ
株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 複数の画素をマトリクス状に配置して形
成される液晶表示装置において、不良画素に対応する領
域に遮蔽手段を設けることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 前記遮蔽手段を、前記不良画素に対応す
る領域に形成された凹部に設けることを特徴とする請求
項１記載の液晶表示装置。 - 【請求項３】 前記凹部をレーザビームを用いて形成す
ることを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置。 - 【請求項４】 前記レーザビームとして、エキシマレー
ザビームを用いることを特徴とする請求項３記載の液晶
表示装置。 - 【請求項５】 前記レーザビームとして、ＣＯ2 レーザ
ビームを用いることを特徴とする請求項３記載の液晶表
示装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3178395A JP2766563B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-07-18 | 液晶表示装置 |
| US07/858,137 US5267066A (en) | 1991-03-27 | 1992-03-26 | Liquid crystal display device, method of correcting defective pixels, and defective-pixel correcting apparatus used therein |
| DE69215729T DE69215729T2 (de) | 1991-03-27 | 1992-03-27 | Flüssigkristallanzeigevorrichtung, Verfahren zur Korrektur defekter Bildpunkte und dazu benutztes Gerät |
| EP92302708A EP0506454B1 (en) | 1991-03-27 | 1992-03-27 | Liquid crystal display device, method of correcting defective pixels, and defective-pixel correcting apparatus used therein |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6329491 | 1991-03-27 | ||
| JP3-63294 | 1991-03-27 | ||
| JP3178395A JP2766563B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-07-18 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH052160A true JPH052160A (ja) | 1993-01-08 |
| JP2766563B2 JP2766563B2 (ja) | 1998-06-18 |
Family
ID=26404388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3178395A Expired - Lifetime JP2766563B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-07-18 | 液晶表示装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5267066A (ja) |
| EP (1) | EP0506454B1 (ja) |
| JP (1) | JP2766563B2 (ja) |
| DE (1) | DE69215729T2 (ja) |
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