JP2584906B2

JP2584906B2 - 液晶表示装置および液晶表示装置の欠陥修正方法

Info

Publication number: JP2584906B2
Application number: JP3066502A
Authority: JP
Inventors: 敏男前田
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1991-03-29
Filing date: 1991-03-29
Publication date: 1997-02-26
Anticipated expiration: 2012-02-26
Also published as: JPH04301616A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、一対の透明基板間に液
晶が封入され、表示用の絵素がマトリクス状に配列され
た透過型液晶パネルと、該透過型液晶パネルの背面方向
より表示用の照明光を照射する光源手段とを有する液晶
表示装置および該液晶表示装置の液晶パネルに発生する
輝点欠陥を修正する欠陥修正方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の液晶表示装置の一例として、プ
ロジェクション装置に使用されるアクティブマトリクス
駆動方式の液晶パネルがある。この液晶パネルは貼り合
わされる一対のガラス基板の内の一方のガラス基板上に
マトリクス状に配設される絵素電極にＴＦＴ（薄膜トラ
ンジスタ）を接続し、該ＴＦＴのスイッチング動作によ
り各絵素電極の選択、非選択を行って表示動作を行う。
このため、単純マトリクスの欠点である非選択時のクロ
ストークを発生せず、高画質のディスプレイを実現でき
る。

【０００３】ところで、ＴＦＴはガラス基板上にゲート
電極やソース電極およびドレイン電極等を積層した多層
構造であるため、これらの金属薄膜をガラス基板上に積
層する工程と、該金属薄膜をパターニングする工程が繰
り返し行われる。このため欠陥のない完全なＴＦＴを作
製するには、製造工程において各種条件を維持、管理す
るために非常な努力を要する。

【０００４】それ故、場合によっては正常なＴＦＴ特性
が得られていない欠陥ＴＦＴを発生することもあり、欠
陥が修復可能なものはその欠陥内容により、それぞれの
修正技術を用いて修復が図られる。このようなＴＦＴの
欠陥の一例として、回路形成パターン上での修復ができ
ず、表示駆動した場合に、ＴＦＴに接続された絵素電極
に相当する絵素が輝点となって表示画面上で認識される
輝点欠陥がある。

【０００５】この輝点欠陥の修正方法の一従来例として
図１４および図１６に示される方法があり、この方法は
液晶パネル１の輝点絵素５に対応するガラス基板２の表
面に不透明遮光膜６を形成し、これにより光源（図示せ
ず））から輝点絵素５に入射される照明光を減光して輝
点絵素を目立たないように修正する手法をとる。

【０００６】ここで、不透明遮光膜６が形成されるガラ
ス基板２上の輝点絵素５に対応する部分、すなわち修正
箇所は輝点絵素５と光源からの照明光の入射経路が同一
になるガラス基板２の表面位置が選定される。より具体
的には、コンデンサレンズ７を通して光源から液晶パネ
ル１に入射され、投影レンズ８に収束される光束の内の
輝点絵素５を通過する経路Ａ上にあるガラス基板２の表
面位置をいう。図１４は、輝点絵素５と不透明遮光膜６
が同一経路上にあることを模式的に示している。なお、
ガラス基板２は貼り合わされる２枚のガラス基板２、３
の内の入射側に位置するガラス基板であり、両基板間に
表示媒体としての液晶が封入される。

【０００７】また、不透明遮光膜６は具体的には以下の
ようにして形成される。すなわち、ＵＶ硬化型樹脂（紫
外線硬化型樹脂）インクをマーキング針の先端微小Ｒ
（アール）の箇所に付着させ、これを上記修正箇所に転
写した後、紫外線を照射して硬化させ、これによりガラ
ス基板２の表面に接着する。なお、この不透明遮光膜６
の大きさは液晶パネルの機種により若干異なるが、直径
が約１００〜２５０μｍ、厚みが１０μｍ程度の非常に
微小なものである。

【０００８】但し、上記した修正方法が適用されるのは
輝点絵素５と修正箇所の光軸が常に一定となるプロジェ
クション装置用の液晶パネル等に限られ、直視型のよう
に視角が一定でないものには適用することができない。

【０００９】また、輝点欠陥を修正する他の従来方法と
して、図１６および図１７に示される方法がある。この
方法は、図１６に示されるように、照明光の入射側より
偏向板４０、入射側のガラス基板２、液晶層４１、出射
側のガラス基板３および偏向板４２を配設してなる液晶
パネル１において、輝点絵素５に対応するガラス基板３
の表面（出射面）部分に粗面化処理を施し、粗面３０に
より輝点絵素５を通してこの位置に入射される光源から
の入射光（照明光）Ｉを反射散乱させる方法をとる。す
なわち、輝点絵素５に入射される光源からの入射光Ｉを
減光し、これにより輝点を黒点（暗点）として目立たな
くする修正方法をとる。

【００１０】なお、図１７に示すように、光源９からの
入射光Ｉはコンデンサレンズ７により集光され液晶パネ
ル１を通して投影レンズ８の位置に収束され、該投影レ
ンズ８を通してスクリーン１０上に結像される。そし
て、収束光の内の前記輝点絵素（輝点絵素電極に対応す
る絵素）５を通る入射経路上にあるガラス基板３の位置
が具体的な粗面化処理位置として選定される。この粗面
化処理は、例えばエキシマレーザを用いたエッチング加
工によって行うことができる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た不透明遮光膜６を形成する修正方法は以下に示す欠点
があるため、液晶表示装置における輝点欠陥の悪影響を
完全に排除するには限界がある。

【００１２】不透明遮光膜６は表面が非常に平滑なガ
ラス面に対する接着力が十分でないため、塵埃等の汚れ
を除去するために表面を拭きとる等の清掃作業を行う
と、ガラス基板２の表面から剥離したり、欠損を生じた
りする不具合を生じ易く、信頼性の面で劣る欠点があ
る。

【００１３】遮光特性において、この不透明遮光膜６
はほぼ完全に透過光を遮断するので、表示画面が明るい
映像場面の場合に、該不透明遮光膜６が黒点となって視
認されるため、修正箇所がディスプレイの端部位置に限
定される欠点がある。

【００１４】また、粗面化処理を行う上記従来方法によ
れば、不透明遮光膜６を形成する上記従来方法ほどでは
ないものの輝点絵素５が一定レベルの暗点として視認さ
れるおそれがあるため、表示画面が明るい場合に欠陥と
して目立つ。

【００１５】本発明は、このような従来技術の欠点を解
決するものであり、修正に対する信頼性の向上および修
正位置が限定されることがない液晶表示装置および液晶
表示装置の欠陥修正方法を提供することを目的とする。

【００１６】本発明の他の目的は、修正の度合を向上で
き、周囲の正常絵素の表示レベルに準じた表示レベルで
輝点絵素を表示画面上で表示できる液晶表示装置および
液晶表示装置の欠陥修正方法を提供することを目的とす
る。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、一対の透明基板間に液晶が封入され、表示用の絵素
がマトリクス状に配列された透過型液晶パネルと、該透
過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光を照射す
る光源手段とを有する液晶表示装置において、該輝点欠
陥が発生している該絵素を照射する該照明光の照射経路
上に位置する入射側の透明基板の表面部分に粗面化処理
又は遮光処理を施すと共に、出射側の透明基板の表面部
分に該絵素に隣接する絵素部に入射する該照明光の一部
を該絵素に対応した出射面を通して出射させる反射面を
形成してなり、そのことにより上記目的が達成される。

【００１８】また、本発明の液晶表示装置の欠陥修正方
法は、一対の透明基板間に液晶が封入され、表示用の絵
素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネルと、該
透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光を照射
する光源手段とを有する液晶表示装置の欠陥修正方法に
おいて、該照明光を該透過型液晶パネルに照射して該絵
素に発生している輝点欠陥を検出する工程と、該輝点欠
陥が発生している該絵素を照射する該照明光の照射経路
上に位置する入射側の透明基板の表面付近を粗面化処理
して光散乱領域を形成し又は該透明基板の表面に遮光膜
を形成する工程と、該絵素に隣接する絵素部に入射する
該照明光の一部を該絵素に対応した出射面を通して出射
させる反射面を出射側の透明基板の表面部分に形成する
工程とを含んでなり、そのことにより上記目的が達成さ
れる。

【００１９】好ましくは、前記反射面としてエキシマレ
ーザ照射等で光を散乱させる粗面を形成する。また、好
ましくは、エキシマレーザビームを前記出射側の透明基
板の表面部分に所定角度傾けて照射して前記反射面を形
成する。

【００２０】また、本発明の液晶表示装置は、一対の透
明基板間に液晶が封入され、表示用の絵素がマトリクス
状に配列された透過型液晶パネルと、該透過型液晶パネ
ルの背面方向より表示用の照明光を照射する光源手段と
を有する液晶表示装置において、該輝点欠陥が発生して
いる該絵素を照射する該照明光の照射経路上に位置する
入射側の透明基板の表面部分に粗面化処理又は遮光処理
を施すと共に、出射側の透明基板の表面部分に、該絵素
の中心に対応する位置を中心として外側縁が隣接する絵
素部の該絵素側端部位置におよぶ粗面を形成してなり、
そのことにより上記目的が達成される。

【００２１】また、本発明の液晶表示装置の欠陥修正方
法は、一対の透明基板間に液晶が封入され、表示用の絵
素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネルと、該
透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光を照射
する光源手段とを有する液晶表示装置の欠陥修正方法に
おいて、該照明光を該透過型液晶パネルに照射して該絵
素に発生している輝点欠陥を検出する工程と、該輝点欠
陥が発生している該絵素を照射する該照明光の照射経路
上に位置する入射側の透明基板の表面付近を粗面化処理
して光散乱領域を形成し又は該透明基板の表面に遮光膜
を形成する工程と、出射側の透明基板の表面部分に、該
絵素の中心に対応する位置を中心として外側縁が隣接す
る絵素部の該絵素側端部位置におよぶ粗面を形成する工
程とを含んでなり、そのことにより上記目的が達成され
る。

【００２２】

【作用】上記のように、入射側の透明基板の表面部分に
粗面化処理又は遮光化処理を施すと、輝点絵素を通過す
る照明光が減光又は遮光される。一方、出射側の透明基
板の表面部分に上記のような反射面を形成すると、光源
手段より隣接する絵素部分に入射される照明光の一部が
輝点欠陥を発生している絵素の位置に回り込んだ後に観
測者に到達する。従って、表示画面上において、輝点欠
陥を発生している絵素が周囲の正常絵素の表示レベルに
準じた明るさの表示レベルで表示される。すなわち、周
囲の正常絵素が輝点欠陥を発生している絵素に対してい
わば“にじんだ”状態になる。この結果、輝点絵素の存
在が周囲の正常絵素に対して目立たない状態に修正され
る。

【００２３】

【実施例】以下本発明の一実施例を説明する。

【００２４】図１は本発明の一実施例にかかる液晶パネ
ル１の断面構造を示しており、光源からの入射光Ｉの入
射側より入射側のガラス基板２、液晶層（ツイステッド
ネマティック液晶層）４１および出射側のガラス基板３
を配設した概略構造をとる。液晶層４１の入射側表面層
には絵素電極５０がパターン形成される。絵素電極５０
の内、絵素電極５０ａは輝点欠陥が発生している絵素５
０ａ（以下絵素電極と対応する絵素を同一の番号を付し
て説明する）に対応した絵素電極を示し、該絵素電極５
０ａに隣接する絵素電極５０ｂ、５０ｃは該輝点欠陥が
発生していない正常な絵素５０ｂ、５０ｃに対応した絵
素電極を示している。正常な絵素５０ｂ、５０ｃはＴＦ
Ｔ５２により正常にスイッチングされる。一方、液晶層
の出射側表面層にはブラックマスク５１、５１…がパタ
ーン形成される。遮光マスク５１は隣接する絵素５０間
の隙間位置に対応した位置にパターン形成される。な
お、輝点絵素５０ａの検出は、前工程において、液晶パ
ネル１に光源より照明光を照射し、駆動状態にある液晶
パネル１の表示画像をスクリーン上に投影し、この投影
像を検査員が視認して行われる。

【００２５】加えて、入射側のガラス基板２の表面付近
には底面に粗面２１が形成された凹部２０が形成されて
いる。該凹部２０は輝点絵素５０ａに対応した位置に選
定される。具体的には、輝点絵素５０ａを通る入射光Ｉ
の入射経路上の位置に選定される。凹部２０および粗面
２１は輝点絵素５０ａを透過する入射光Ｉを散乱させ、
輝点絵素５０ａを透過する入射光を減光させるために形
成される。凹部２０および粗面２１は、例えばエキシマ
レーザを用いたエッチング加工により形成される。

【００２６】一方、出射側のガラス基板３の表面部分に
は底面が入射光の光軸に対して所定角度（例えば、４５
度）傾斜した反射面３１からなる凹部３０が形成されて
いる。この凹部３０および反射面３１はエキシマレーザ
を用いたエッチング加工により形成される。凹部３０は
サイズが異なる２種類形成され、輝点絵素５０ａに対応
した位置に大サイズの凹部３０ａ、３０ａが形成され、
該輝点絵素５０ａに隣接する正常絵素５０ｂ、５０ｃの
輝点絵素５０ａ側の端部位置に対応した部位に小サイズ
の凹部３０ｂ、３０ｃが形成される。凹部３０ａおよび
３０ｂ、３０ｃにはそれぞれ対応したサイズの反射面３
１ａ、３１ｂ、３１ｃが形成される。

【００２７】このような反射面３１ａ、３１ｂ、３１ｃ
を形成する場合は、正常絵素５０ｂの位置に入射される
入射光Ｉの一部が輝点絵素５０ａの位置に回り込んだ状
態で出射され、結果的に輝点絵素５０ａがスクリーン上
において隣接する正常な絵素５０に準じた明るさの表示
レベルで表示される。すなわち、輝点絵素５０ａが隣接
する正常絵素５０ｂに対して目立たなくなるように修正
される。

【００２８】より具体的には、図１および図２に示され
るように、絵素５０ｂを透過してガラス基板３に入射す
る入射光Ｉの一部（例えば、該入射光Ｉの光束の１／３
〜１／４程度）は反射面３１ｂにより反射散乱される。
反射散乱され光路を９０度変換された反射光Ｉ₁は反射
面３１ａに入射し、該反射面３１ａにより光路を再度９
０度変換され、入射光Ｉの平行光となってスクリーンに
向けて出射される。一方、入射光Ｉの残りの光束は反射
面３１ｂをそのまま透過する透過光Ｉ₂としてスクリー
ンに向けて出射される。

【００２９】すなわち、反射面３１ａ、３１ｂを形成し
たことにより、輝点絵素５０ａに隣接する正常絵素５０
ｂを透過する入射光Ｉの一部が輝点絵素５０ａ側に回り
込んで出射されることになる。この結果、スクリーン上
において輝点絵素５０ａの明るさのレベルが周囲の正常
絵素５０ｂの明るさのレベルに準じたものになり、且
つ、周囲の絵素からの光の侵入によって周囲の絵素５０
ｂの色調が輝点絵素５０ａに対していわば“にじんだ”
状態になる。従って、輝点絵素５０ａが暗点としてスク
リーン上に表示されることがなく、輝点絵素５０ａがほ
ぼ完全に修正されたことになる。

【００３０】加えて、入射光Ｉの残りの光束が反射面３
１ａをそのまま透過するので、正常絵素５０ｂの端部寄
りの部分が完全に遮光されてスクリーン上に黒点として
表示される不具合を生じることもない。なお、反射、透
過の程度はエキシマレーザ加工方法の条件を適宜設定す
ることにより可変できる。また、反射面３１ｂ、３１ｃ
に反射材を塗装等して正常絵素５０ｂの端部を通る入射
光Ｉを輝点絵素５０ａに完全に回り込ませるようにする
ことにしてもよい。

【００３１】次に、図３ないし図５に従い入射側のガラ
ス基板２の表面付近に施される粗面化処理について説明
する。図３において、エキシマレーザ発振器９から出射
されたレーザビーム１０はスリットパターン１１を通
り、紫外線反射ミラー１２で反射された後、レンズ１３
を経て載置台１４上にセットされた液晶パネル１の輝点
修正部１６に集光されて照射される。図４に斜線で示す
ように、この輝点修正部１６は入射光Ｉに対して輝点絵
素５０ａと同一の照射経路上にある。

【００３２】スリットパターン１１には輝点修正部１６
の外形サイズが拡大された形状のパターンが形成されて
おり、該スリットパターン１１を通した縮小スリット露
光によりレーザビーム１０が輝点修正部１６の位置に精
度よく照射されるようになっている。加えて、このよう
なスリットパターン１１を用いれば、次に説明する粗面
２１を種々の凹凸段差で形成できる利点がある。また、
載置台１４は、例えば水平面内において、Ｘ−Ｙ直交２
軸方向に移動可能になっており、該載置台１４の移動に
よりレーザビーム１０を所望の輝点修正部１６に照射で
きるようになっている。

【００３３】図５に矢印ＲＢで示す方向から輝点修正部
１６にレーザビーム１０を垂直方向に照射すると、照射
部がレーザエッチングされ、ガラス基板２のエッチング
部底面、即ち凹部２０の底面に微小な凹凸からなる粗面
２１が形成される。従って、以後、この粗面化処理部に
光源より入射光Ｉを照射すると、粗面２１により入射光
Ｉが拡散され、同一の経路上にある輝点絵素５０ａの輝
度レベルがスクリーン上において、周囲の正常絵素５０
ｂ、５０ｃの輝度レベル範囲迄低下される。

【００３４】しかし、このままでは上記従来技術で説明
したように、スクリーン上の表示レベルが明るい場合に
は、輝点絵素５０ａが一定レベルの暗点として視認され
る不具合がある。そこで、本発明では上記のように出射
側のガラス基板３の表面部分に反射面３１ａ、３１ｂ、
３１ｃを形成する。

【００３５】一般に出射側のガラス基板３における凹部
および反射面はエキシマレーザによるエッチング加工に
より以下のようにして形成される。すなわち、出射側の
ガラス基板３を前記レンズ１３側に位置させた状態で液
晶パネル１を載置第１４上にセットし、この状態から図
６に矢印ＲＢで示すようにレーザビーム１０をガラス基
板３に対して垂直に照射し、且つ該レーザビーム１０の
焦点距離やエネルギ密度を適宜の値に設定すると、ガラ
ス基板３の照射部分にテーパ状をなす凹部３００および
反射面３１０が形成される。

【００３６】これに対して、本発明で採用する凹部３０
ａ（又は３０ｂ、３０ｃ）および反射面３１ａ（又は３
１ｂ、３１ｃ）は、図７に示すように液晶パネル１、す
なわちガラス基板３を載置台１４に対して角度αだけ傾
けた状態でセットし、この状態でガラス基板３の表面に
レーザビーム１０を照射して形成される。図８はこの時
形成される凹部３０ａ（又は３０ｂ、３０ｃ）および反
射面３０ａ（又は３０ｂ、３０ｃ）を示しており、反射
面３０ａ等の傾斜角度は前記角度αを変更することによ
り種々の傾斜角度を選択できる。なお、この場合にも上
記同様にレーザビーム１０の焦点距離およびエネルギ密
度が適宜の値に調節される。

【００３７】反射面３１ａ（又は３１ｂ、３１ｃ）にお
ける反射散乱効果を高めるためには、該反射面３１ａに
図９に示される粗面３２を形成すればよい。粗面３２は
エキシマレーザガスの種類（例えば、発振波長193ｎｍ
のＡｒＦ、発振波長248ｎｍのＫｒＦ、発振波長308ｎｍ
のＸｅＣｌ等）を適宜のものに選択したり、図１０に示
すように多数の丸穴６１が開口されたマスクパターン６
０をスリットパターン１１に挿入し、上記のようにして
形成された凹部３０ａ（又は３０ｂ、３０ｃ）および反
射面３１ａ（又は３１ｂ、３１ｃ）にエキシマレーザに
よる再加工を行って形成される。もちろん、この場合に
おいても前記した加工条件を変更することにより粗面３
２の表面粗さを可変にできる。

【００３８】なお、上記した粗面化処理や反射面の形成
はＣＯ₂レーザによるレーザエッチングで行ってもよい
し、あるいはダイヤモンド針や超硬合金製の針を用いた
触刻によって行うこともできるが、エキシマレーザエッ
チングによればこれらの方法に比して以下に示す利点が
ある。

【００３９】まず、触彫法と比較すると、粗面加工が容
易になると共に、凹凸形状の精度がよい粗面や反射面を
形成できる利点がある。

【００４０】一方、ＣＯ₂レーザと比較すると、ＣＯ₂レ
ーザエッチングは熱加工であるため、輝点修正部周囲の
ガラスに熱的ダメージを与えることになるが、エキシマ
レーザエッチングによればこのような熱的ダメージを与
えることがないという利点がある。従って、以上の理由
によりエキシマレーザエッチングにより粗面や反射面を
形成することが実施する上で最も好ましいものになる。

【００４１】なお、上記実施例では本発明を投影型液晶
表示装置に適用する場合について説明したが、バックラ
イトを備えた直視型の液晶表示装置についても同様に適
用できる。また、上記実施例では入射側のガラス基板の
表面付近に粗面化処理を行ったが、これに代えてガラス
基板表面の該当部位に不透明遮光膜を形成することにし
てもよい。この場合にも上記実施例同様に輝点絵素がス
クリーン上において暗点となることがない。

【００４２】図１１および図１２は本発明の他の実施例
を示しており、この実施例ではバックライトを備えた直
視型の液晶表示装置に供される液晶パネル１を例示して
いる。バックライトからの入射光Ｉは、偏向板５４、入
射側のガラス基板２、カラーフィルタ５３、５３…、液
晶層４１、絵素電極５０、出射側のガラス基板２および
偏向板５５を透過して出射される。カラーフィルタ５３
はＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三原色カラーフィル
タをブラックマスク５１、５１…を介して交互に配置し
てなる。また、絵素５０の内、絵素５０ａは上記同様に
輝点絵素を示し、該輝点５０ａに隣接する絵素５０ｂ、
５０ｃは正常な絵素を示している。正常な絵素５０ｂ、
５０ｃはＴＦＴ５２により正常にスイッチングされる。

【００４３】本実施例においても、入射側のガラス基板
２の輝点絵素５０ａに対応する表面付近には上記実施例
同様の凹部２０および粗面２１が形成され、出射側のガ
ラス基板３の表面部分には矩形環状をなす凹部７０が形
成され、その底面に粗面７１が形成されている。図１２
に示すように、この粗面７１は輝点絵素５０ａを中心に
して外側縁が周囲の正常絵素５０ｂ（５０ｃ）…の輝点
絵素５０ａ側端部位置におよぶ領域７２にわたって形成
される。凹部７０および粗面７１の形成は、上記したレ
ーザビーム１０を出射側のガラス基板３の該当部位に照
射して形成される。凹部７０の形状および粗面７１の表
面粗さはエキシマレーザ発振器９から出射されるレーザ
ビーム１０のエネルギ密度を適宜設定したり、スリット
パターン１１を適宜選択することにより所望のものを選
択できる。

【００４４】本実施例によれば、バックライトからの照
明光は入射側のガラス基板２に形成された粗面２１によ
り減光され、輝点絵素５０ａの輝度がこれにより低下さ
れる。加えて、輝点絵素５０ａに隣接する絵素５０ｂ
（５０ｃ）を透過する入射光Ｉの一部は透明ガラス３の
前記領域７２に形成された粗面７１を透過する際に散乱
作用を受ける。この結果、輝点絵素５０ａに隣接する正
常絵素５０ｂ、５０ｃからの色がにじみ込む“にじみ”
現象が発生する。従って、本実施例による場合も上記実
施例同様に輝点絵素５０ａを周囲の正常絵素５０ｂ、５
０ｃに対してほぼ完全に目立たなくすることができる。

【００４５】図１３は図１２の粗面７１の変形例を示し
ており、この変形例では輝点絵素５０ａを中心にして外
側縁が隣接する絵素５０ｂ（５０ｃ）の輝点絵素５０ａ
側端部におよぶ領域７３の全面に粗面７１を形成する構
成をとる。この変形例においても、上記同様の効果を奏
する。

【００４６】

【発明の効果】以上の本発明によれば、上記従来技術に
比して以下に示す利点を有する。

【００４７】従来方法によれば、修正部に入射する入
射光を完全に遮光するか或いは一定レベルで減光するだ
けであったので、表示画面が明るい場合には表示画面上
において輝点絵素が黒点又は暗点となる不具合を生じ
る。これに対して本発明では、輝点絵素に隣接する正常
絵素に入射される入射光の一部が輝点絵素の部分に回り
込んだ後に出射されるので、表示画面上において輝点絵
素の明るさのレベルが周囲の正常絵素の明るさのレベル
に準じたものになる。加えて、周囲の絵素からの光の侵
入によって周囲の絵素の色が輝点絵素に対していわば
“にじんだ”状態になる。従って、本発明によれば、輝
点絵素が暗点又は黒点として表示画面上に表示されるこ
とがなく、輝点絵素がほぼ完全に修正される。

【００４８】修正する範囲や光量を加工条件により可
変できるため液晶表示装置の種々の光学系に対応できる
利点がある。

【００４９】また、特に入射側の透明基板に粗面を形成
し、出射側の透明基板に反射面を形成する場合は、輝点
絵素の信頼性を向上できると共に、修正部が限定されな
い利点がある。

【００５０】また、特に請求項３、請求項４記載のよう
に反射面を形成する場合は、反射面の反射散乱効果を向
上できる利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例にかかる液晶パネルを示す断
面図。

【図２】図１の部分拡大図。

【図３】入射側のガラス基板に施される粗面化処理を示
す模式的構成図。

【図４】輝点欠陥を発生している絵素電極と入射側のガ
ラス基板における粗面化処理部が光源からの入射光の同
一経路上にあることを示す図面。

【図５】入射側のガラス基板に形成された粗面を示す図
面。

【図６】エキシマレーザ加工によって形成される凹部お
よび反射面の一般的な形状を示す図面。

【図７】本発明方法により出射側のガラス基板に凹部お
よび反射面を形成する状態を示す模式的構成図。

【図８】本発明方法により形成される凹部および反射面
の形状を示す図面。

【図９】凹部および反射面に形成される粗面を示す図
面。

【図１０】凹部および反射面における粗面を形成するた
めに使用されるマスクパターンを示す図面。

【図１１】本発明の他の実施例を示す液晶パネルの断面
図。

【図１２】図１１の液晶パネルの出射側のガラス基板に
形成される粗面領域を示す図面。

【図１３】図１２で示される粗面の変形例を示す図面。

【図１４】従来方法を示す側面図。

【図１５】従来方法における図４同様の図面。

【図１６】液晶パネルの従来例を示す斜視図。

【図１７】図１６に示される液晶パネルが組み込まれた
液晶表示装置を示す模式的構成図。

【符号の説明】

１液晶パネル２入射側のガラス基板２０凹部２１粗面３出射側のガラス基板３０ａ、３０ｂ凹部３１ａ、３１ｂ反射面９エキシマレーザ発振器１０レーザビーム１１スリットパターン１４載置台４１液晶層５０ａ輝点欠陥が発生している絵素電極（輝点絵素）５０ｂ、５０ｃ正常絵素電極（正常絵素）７０凹部７１粗面７２粗面が形成される領域

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の透明基板間に液晶が封入され、表示
用の絵素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネル
と、該透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光
を照射する光源手段とを有する液晶表示装置において、
該輝点欠陥が発生している該絵素を照射する該照明光の
照射経路上に位置する入射側の透明基板の表面部分に粗
面化処理又は遮光処理を施すと共に、出射側の透明基板
の表面部分に該絵素に隣接する絵素部に入射する該照明
光の一部を該絵素に対応した出射面を通して出射させる
反射面を形成した液晶表示装置。
【請求項２】前記反射面に粗面を形成した請求項１記載
の液晶表示装置。
【請求項３】一対の透明基板間に液晶が封入され、表示
用の絵素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネル
と、該透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光
を照射する光源手段とを有する液晶表示装置の欠陥修正
方法において、該照明光を該透過型液晶パネルに照射し
て該絵素に発生している輝点欠陥を検出する工程と、該
輝点欠陥が発生している該絵素を照射する該照明光の照
射経路上に位置する入射側の透明基板の表面付近を粗面
化処理して光散乱領域を形成し又は該透明基板の表面に
遮光膜を形成する工程と、該絵素に隣接する絵素部に入
射する該照明光の一部を該絵素に対応した出射面を通し
て出射させる反射面を出射側の透明基板の表面部分に形
成する工程とを含む液晶表示装置の欠陥修正方法。
【請求項４】前記反射面に粗面を形成する工程を含む請
求項３記載の液晶表示装置の欠陥修正方法。
【請求項５】エキシマレーザビームを前記出射側の透明
基板の表面部分に所定角度傾けて照射して前記反射面を
形成する請求項３記載の液晶表示装置の欠陥修正方法。
【請求項６】一対の透明基板間に液晶が封入され、表示
用の絵素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネル
と、該透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光
を照射する光源手段とを有する液晶表示装置において、
該輝点欠陥が発生している該絵素を照射する該照明光の
照射経路上に位置する入射側の透明基板の表面部分に粗
面化処理又は遮光処理を施すと共に、出射側の透明基板
の表面部分に、該絵素の中心に対応する位置を中心とし
て外側縁が隣接する絵素部の該絵素側端部位置におよぶ
粗面を形成した液晶表示装置。
【請求項７】一対の透明基板間に液晶が封入され、表示
用の絵素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネル
と、該透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光
を照射する光源手段とを有する液晶表示装置の欠陥修正
方法において、該照明光を該透過型液晶パネルに照射し
て該絵素に発生している輝点欠陥を検出する工程と、該
輝点欠陥が発生している該絵素を照射する該照明光の照
射経路上に位置する入射側の透明基板の表面付近を粗面
化処理して光散乱領域を形成し又は該透明基板の表面に
遮光膜を形成する工程と、出射側の透明基板の表面部分
に、該絵素の中心に対応する位置を中心として外側縁が
隣接する絵素部の該絵素側端部位置におよぶ粗面を形成
する工程とを含む液晶表示装置の欠陥修正方法。