JPH04301616A - 液晶表示装置および液晶表示装置の欠陥修正方法 - Google Patents
液晶表示装置および液晶表示装置の欠陥修正方法Info
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- JPH04301616A JPH04301616A JP3066502A JP6650291A JPH04301616A JP H04301616 A JPH04301616 A JP H04301616A JP 3066502 A JP3066502 A JP 3066502A JP 6650291 A JP6650291 A JP 6650291A JP H04301616 A JPH04301616 A JP H04301616A
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 95
- 230000007547 defect Effects 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 81
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 33
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 12
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 7
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 48
- 238000010329 laser etching Methods 0.000 abstract description 6
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 11
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 4
- 206010027146 Melanoderma Diseases 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 2
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1306—Details
- G02F1/1309—Repairing; Testing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/50—Protective arrangements
- G02F2201/506—Repairing, e.g. with redundant arrangement against defective part
- G02F2201/508—Pseudo repairing, e.g. a defective part is brought into a condition in which it does not disturb the functioning of the device
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一対の透明基板間に液
晶が封入され、表示用の絵素がマトリクス状に配列され
た透過型液晶パネルと、該透過型液晶パネルの背面方向
より表示用の照明光を照射する光源手段とを有する液晶
表示装置および該液晶表示装置の液晶パネルに発生する
輝点欠陥を修正する欠陥修正方法に関する。
晶が封入され、表示用の絵素がマトリクス状に配列され
た透過型液晶パネルと、該透過型液晶パネルの背面方向
より表示用の照明光を照射する光源手段とを有する液晶
表示装置および該液晶表示装置の液晶パネルに発生する
輝点欠陥を修正する欠陥修正方法に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の液晶表示装置の一例として、プ
ロジェクション装置に使用されるアクティブマトリクス
駆動方式の液晶パネルがある。この液晶パネルは貼り合
わされる一対のガラス基板の内の一方のガラス基板上に
マトリクス状に配設される絵素電極にTFT(薄膜トラ
ンジスタ)を接続し、該TFTのスイッチング動作によ
り各絵素電極の選択、非選択を行って表示動作を行う。 このため、単純マトリクスの欠点である非選択時のクロ
ストークを発生せず、高画質のディスプレイを実現でき
る。
ロジェクション装置に使用されるアクティブマトリクス
駆動方式の液晶パネルがある。この液晶パネルは貼り合
わされる一対のガラス基板の内の一方のガラス基板上に
マトリクス状に配設される絵素電極にTFT(薄膜トラ
ンジスタ)を接続し、該TFTのスイッチング動作によ
り各絵素電極の選択、非選択を行って表示動作を行う。 このため、単純マトリクスの欠点である非選択時のクロ
ストークを発生せず、高画質のディスプレイを実現でき
る。
【0003】ところで、TFTはガラス基板上にゲート
電極やソース電極およびドレイン電極等を積層した多層
構造であるため、これらの金属薄膜をガラス基板上に積
層する工程と、該金属薄膜をパターニングする工程が繰
り返し行われる。このため欠陥のない完全なTFTを作
製するには、製造工程において各種条件を維持、管理す
るために非常な努力を要する。
電極やソース電極およびドレイン電極等を積層した多層
構造であるため、これらの金属薄膜をガラス基板上に積
層する工程と、該金属薄膜をパターニングする工程が繰
り返し行われる。このため欠陥のない完全なTFTを作
製するには、製造工程において各種条件を維持、管理す
るために非常な努力を要する。
【0004】それ故、場合によっては正常なTFT特性
が得られていない欠陥TFTを発生することもあり、欠
陥が修復可能なものはその欠陥内容により、それぞれの
修正技術を用いて修復が図られる。このようなTFTの
欠陥の一例として、回路形成パターン上での修復ができ
ず、表示駆動した場合に、TFTに接続された絵素電極
に相当する絵素が輝点となって表示画面上で認識される
輝点欠陥がある。
が得られていない欠陥TFTを発生することもあり、欠
陥が修復可能なものはその欠陥内容により、それぞれの
修正技術を用いて修復が図られる。このようなTFTの
欠陥の一例として、回路形成パターン上での修復ができ
ず、表示駆動した場合に、TFTに接続された絵素電極
に相当する絵素が輝点となって表示画面上で認識される
輝点欠陥がある。
【0005】この輝点欠陥の修正方法の一従来例として
図14および図16に示される方法があり、この方法は
液晶パネル1の輝点絵素5に対応するガラス基板2の表
面に不透明遮光膜6を形成し、これにより光源(図示せ
ず))から輝点絵素5に入射される照明光を減光して輝
点絵素を目立たないように修正する手法をとる。
図14および図16に示される方法があり、この方法は
液晶パネル1の輝点絵素5に対応するガラス基板2の表
面に不透明遮光膜6を形成し、これにより光源(図示せ
ず))から輝点絵素5に入射される照明光を減光して輝
点絵素を目立たないように修正する手法をとる。
【0006】ここで、不透明遮光膜6が形成されるガラ
ス基板2上の輝点絵素5に対応する部分、すなわち修正
箇所は輝点絵素5と光源からの照明光の入射経路が同一
になるガラス基板2の表面位置が選定される。より具体
的には、コンデンサレンズ7を通して光源から液晶パネ
ル1に入射され、投影レンズ8に収束される光束の内の
輝点絵素5を通過する経路A上にあるガラス基板2の表
面位置をいう。図14は、輝点絵素5と不透明遮光膜6
が同一経路上にあることを模式的に示している。なお、
ガラス基板2は貼り合わされる2枚のガラス基板2、3
の内の入射側に位置するガラス基板であり、両基板間に
表示媒体としての液晶が封入される。
ス基板2上の輝点絵素5に対応する部分、すなわち修正
箇所は輝点絵素5と光源からの照明光の入射経路が同一
になるガラス基板2の表面位置が選定される。より具体
的には、コンデンサレンズ7を通して光源から液晶パネ
ル1に入射され、投影レンズ8に収束される光束の内の
輝点絵素5を通過する経路A上にあるガラス基板2の表
面位置をいう。図14は、輝点絵素5と不透明遮光膜6
が同一経路上にあることを模式的に示している。なお、
ガラス基板2は貼り合わされる2枚のガラス基板2、3
の内の入射側に位置するガラス基板であり、両基板間に
表示媒体としての液晶が封入される。
【0007】また、不透明遮光膜6は具体的には以下の
ようにして形成される。すなわち、UV硬化型樹脂(紫
外線硬化型樹脂)インクをマーキング針の先端微小R(
アール)の箇所に付着させ、これを上記修正箇所に転写
した後、紫外線を照射して硬化させ、これによりガラス
基板2の表面に接着する。なお、この不透明遮光膜6の
大きさは液晶パネルの機種により若干異なるが、直径が
約100〜250μm、厚みが10μm程度の非常に微
小なものである。
ようにして形成される。すなわち、UV硬化型樹脂(紫
外線硬化型樹脂)インクをマーキング針の先端微小R(
アール)の箇所に付着させ、これを上記修正箇所に転写
した後、紫外線を照射して硬化させ、これによりガラス
基板2の表面に接着する。なお、この不透明遮光膜6の
大きさは液晶パネルの機種により若干異なるが、直径が
約100〜250μm、厚みが10μm程度の非常に微
小なものである。
【0008】但し、上記した修正方法が適用されるのは
輝点絵素5と修正箇所の光軸が常に一定となるプロジェ
クション装置用の液晶パネル等に限られ、直視型のよう
に視角が一定でないものには適用することができない。
輝点絵素5と修正箇所の光軸が常に一定となるプロジェ
クション装置用の液晶パネル等に限られ、直視型のよう
に視角が一定でないものには適用することができない。
【0009】また、輝点欠陥を修正する他の従来方法と
して、図16および図17に示される方法がある。この
方法は、図16に示されるように、照明光の入射側より
偏向板40、入射側のガラス基板2、液晶層41、出射
側のガラス基板3および偏向板42を配設してなる液晶
パネル1において、輝点絵素5に対応するガラス基板3
の表面(出射面)部分に粗面化処理を施し、粗面30に
より輝点絵素5を通してこの位置に入射される光源から
の入射光(照明光)Iを反射散乱させる方法をとる。す
なわち、輝点絵素5に入射される光源からの入射光Iを
減光し、これにより輝点を黒点(暗点)として目立たな
くする修正方法をとる。
して、図16および図17に示される方法がある。この
方法は、図16に示されるように、照明光の入射側より
偏向板40、入射側のガラス基板2、液晶層41、出射
側のガラス基板3および偏向板42を配設してなる液晶
パネル1において、輝点絵素5に対応するガラス基板3
の表面(出射面)部分に粗面化処理を施し、粗面30に
より輝点絵素5を通してこの位置に入射される光源から
の入射光(照明光)Iを反射散乱させる方法をとる。す
なわち、輝点絵素5に入射される光源からの入射光Iを
減光し、これにより輝点を黒点(暗点)として目立たな
くする修正方法をとる。
【0010】なお、図17に示すように、光源9からの
入射光Iはコンデンサレンズ7により集光され液晶パネ
ル1を通して投影レンズ8の位置に収束され、該投影レ
ンズ8を通してスクリーン10上に結像される。そして
、収束光の内の前記輝点絵素(輝点絵素電極に対応する
絵素)5を通る入射経路上にあるガラス基板3の位置が
具体的な粗面化処理位置として選定される。この粗面化
処理は、例えばエキシマレーザを用いたエッチング加工
によって行うことができる。
入射光Iはコンデンサレンズ7により集光され液晶パネ
ル1を通して投影レンズ8の位置に収束され、該投影レ
ンズ8を通してスクリーン10上に結像される。そして
、収束光の内の前記輝点絵素(輝点絵素電極に対応する
絵素)5を通る入射経路上にあるガラス基板3の位置が
具体的な粗面化処理位置として選定される。この粗面化
処理は、例えばエキシマレーザを用いたエッチング加工
によって行うことができる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た不透明遮光膜6を形成する修正方法は以下に示す欠点
があるため、液晶表示装置における輝点欠陥の悪影響を
完全に排除するには限界がある。
た不透明遮光膜6を形成する修正方法は以下に示す欠点
があるため、液晶表示装置における輝点欠陥の悪影響を
完全に排除するには限界がある。
【0012】■不透明遮光膜6は表面が非常に平滑なガ
ラス面に対する接着力が十分でないため、塵埃等の汚れ
を除去するために表面を拭きとる等の清掃作業を行うと
、ガラス基板2の表面から剥離したり、欠損を生じたり
する不具合を生じ易く、信頼性の面で劣る欠点がある。
ラス面に対する接着力が十分でないため、塵埃等の汚れ
を除去するために表面を拭きとる等の清掃作業を行うと
、ガラス基板2の表面から剥離したり、欠損を生じたり
する不具合を生じ易く、信頼性の面で劣る欠点がある。
【0013】■遮光特性において、この不透明遮光膜6
はほぼ完全に透過光を遮断するので、表示画面が明るい
映像場面の場合に、該不透明遮光膜6が黒点となって視
認されるため、修正箇所がディスプレイの端部位置に限
定される欠点がある。
はほぼ完全に透過光を遮断するので、表示画面が明るい
映像場面の場合に、該不透明遮光膜6が黒点となって視
認されるため、修正箇所がディスプレイの端部位置に限
定される欠点がある。
【0014】また、粗面化処理を行う上記従来方法によ
れば、不透明遮光膜6を形成する上記従来方法ほどでは
ないものの輝点絵素5が一定レベルの暗点として視認さ
れるおそれがあるため、表示画面が明るい場合に欠陥と
して目立つ。
れば、不透明遮光膜6を形成する上記従来方法ほどでは
ないものの輝点絵素5が一定レベルの暗点として視認さ
れるおそれがあるため、表示画面が明るい場合に欠陥と
して目立つ。
【0015】本発明は、このような従来技術の欠点を解
決するものであり、修正に対する信頼性の向上および修
正位置が限定されることがない液晶表示装置および液晶
表示装置の欠陥修正方法を提供することを目的とする。
決するものであり、修正に対する信頼性の向上および修
正位置が限定されることがない液晶表示装置および液晶
表示装置の欠陥修正方法を提供することを目的とする。
【0016】本発明の他の目的は、修正の度合を向上で
き、周囲の正常絵素の表示レベルに準じた表示レベルで
輝点絵素を表示画面上で表示できる液晶表示装置および
液晶表示装置の欠陥修正方法を提供することを目的とす
る。
き、周囲の正常絵素の表示レベルに準じた表示レベルで
輝点絵素を表示画面上で表示できる液晶表示装置および
液晶表示装置の欠陥修正方法を提供することを目的とす
る。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置は
、一対の透明基板間に液晶が封入され、表示用の絵素が
マトリクス状に配列された透過型液晶パネルと、該透過
型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光を照射する
光源手段とを有する液晶表示装置において、該輝点欠陥
が発生している該絵素を照射する該照明光の照射経路上
に位置する入射側の透明基板の表面部分に粗面化処理又
は遮光処理を施すと共に、出射側の透明基板の表面部分
に該絵素に隣接する絵素部に入射する該照明光の一部を
該絵素に対応した出射面を通して出射させる反射面を形
成してなり、そのことにより上記目的が達成される。
、一対の透明基板間に液晶が封入され、表示用の絵素が
マトリクス状に配列された透過型液晶パネルと、該透過
型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光を照射する
光源手段とを有する液晶表示装置において、該輝点欠陥
が発生している該絵素を照射する該照明光の照射経路上
に位置する入射側の透明基板の表面部分に粗面化処理又
は遮光処理を施すと共に、出射側の透明基板の表面部分
に該絵素に隣接する絵素部に入射する該照明光の一部を
該絵素に対応した出射面を通して出射させる反射面を形
成してなり、そのことにより上記目的が達成される。
【0018】また、本発明の液晶表示装置の欠陥修正方
法は、一対の透明基板間に液晶が封入され、表示用の絵
素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネルと、該
透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光を照射
する光源手段とを有する液晶表示装置の欠陥修正方法に
おいて、該照明光を該透過型液晶パネルに照射して該絵
素に発生している輝点欠陥を検出する工程と、該輝点欠
陥が発生している該絵素を照射する該照明光の照射経路
上に位置する入射側の透明基板の表面付近を粗面化処理
して光散乱領域を形成し又は該透明基板の表面に遮光膜
を形成する工程と、該絵素に隣接する絵素部に入射する
該照明光の一部を該絵素に対応した出射面を通して出射
させる反射面を出射側の透明基板の表面部分に形成する
工程とを含んでなり、そのことにより上記目的が達成さ
れる。
法は、一対の透明基板間に液晶が封入され、表示用の絵
素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネルと、該
透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光を照射
する光源手段とを有する液晶表示装置の欠陥修正方法に
おいて、該照明光を該透過型液晶パネルに照射して該絵
素に発生している輝点欠陥を検出する工程と、該輝点欠
陥が発生している該絵素を照射する該照明光の照射経路
上に位置する入射側の透明基板の表面付近を粗面化処理
して光散乱領域を形成し又は該透明基板の表面に遮光膜
を形成する工程と、該絵素に隣接する絵素部に入射する
該照明光の一部を該絵素に対応した出射面を通して出射
させる反射面を出射側の透明基板の表面部分に形成する
工程とを含んでなり、そのことにより上記目的が達成さ
れる。
【0019】好ましくは、前記反射面としてエキシマレ
ーザ照射等で光を散乱させる粗面を形成する。また、好
ましくは、エキシマレーザビームを前記出射側の透明基
板の表面部分に所定角度傾けて照射して前記反射面を形
成する。
ーザ照射等で光を散乱させる粗面を形成する。また、好
ましくは、エキシマレーザビームを前記出射側の透明基
板の表面部分に所定角度傾けて照射して前記反射面を形
成する。
【0020】また、本発明の液晶表示装置は、一対の透
明基板間に液晶が封入され、表示用の絵素がマトリクス
状に配列された透過型液晶パネルと、該透過型液晶パネ
ルの背面方向より表示用の照明光を照射する光源手段と
を有する液晶表示装置において、該輝点欠陥が発生して
いる該絵素を照射する該照明光の照射経路上に位置する
入射側の透明基板の表面部分に粗面化処理又は遮光処理
を施すと共に、出射側の透明基板の表面部分に、該絵素
の中心に対応する位置を中心として外側縁が隣接する絵
素部の該絵素側端部位置におよぶ粗面を形成してなり、
そのことにより上記目的が達成される。
明基板間に液晶が封入され、表示用の絵素がマトリクス
状に配列された透過型液晶パネルと、該透過型液晶パネ
ルの背面方向より表示用の照明光を照射する光源手段と
を有する液晶表示装置において、該輝点欠陥が発生して
いる該絵素を照射する該照明光の照射経路上に位置する
入射側の透明基板の表面部分に粗面化処理又は遮光処理
を施すと共に、出射側の透明基板の表面部分に、該絵素
の中心に対応する位置を中心として外側縁が隣接する絵
素部の該絵素側端部位置におよぶ粗面を形成してなり、
そのことにより上記目的が達成される。
【0021】また、本発明の液晶表示装置の欠陥修正方
法は、一対の透明基板間に液晶が封入され、表示用の絵
素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネルと、該
透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光を照射
する光源手段とを有する液晶表示装置の欠陥修正方法に
おいて、該照明光を該透過型液晶パネルに照射して該絵
素に発生している輝点欠陥を検出する工程と、該輝点欠
陥が発生している該絵素を照射する該照明光の照射経路
上に位置する入射側の透明基板の表面付近を粗面化処理
して光散乱領域を形成し又は該透明基板の表面に遮光膜
を形成する工程と、出射側の透明基板の表面部分に、該
絵素の中心に対応する位置を中心として外側縁が隣接す
る絵素部の該絵素側端部位置におよぶ粗面を形成する工
程とを含んでなり、そのことにより上記目的が達成され
る。
法は、一対の透明基板間に液晶が封入され、表示用の絵
素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネルと、該
透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光を照射
する光源手段とを有する液晶表示装置の欠陥修正方法に
おいて、該照明光を該透過型液晶パネルに照射して該絵
素に発生している輝点欠陥を検出する工程と、該輝点欠
陥が発生している該絵素を照射する該照明光の照射経路
上に位置する入射側の透明基板の表面付近を粗面化処理
して光散乱領域を形成し又は該透明基板の表面に遮光膜
を形成する工程と、出射側の透明基板の表面部分に、該
絵素の中心に対応する位置を中心として外側縁が隣接す
る絵素部の該絵素側端部位置におよぶ粗面を形成する工
程とを含んでなり、そのことにより上記目的が達成され
る。
【0022】
【作用】上記のように、入射側の透明基板の表面部分に
粗面化処理又は遮光化処理を施すと、輝点絵素を通過す
る照明光が減光又は遮光される。一方、出射側の透明基
板の表面部分に上記のような反射面を形成すると、光源
手段より隣接する絵素部分に入射される照明光の一部が
輝点欠陥を発生している絵素の位置に回り込んだ後に観
測者に到達する。従って、表示画面上において、輝点欠
陥を発生している絵素が周囲の正常絵素の表示レベルに
準じた明るさの表示レベルで表示される。すなわち、周
囲の正常絵素が輝点欠陥を発生している絵素に対してい
わば“にじんだ”状態になる。この結果、輝点絵素の存
在が周囲の正常絵素に対して目立たない状態に修正され
る。
粗面化処理又は遮光化処理を施すと、輝点絵素を通過す
る照明光が減光又は遮光される。一方、出射側の透明基
板の表面部分に上記のような反射面を形成すると、光源
手段より隣接する絵素部分に入射される照明光の一部が
輝点欠陥を発生している絵素の位置に回り込んだ後に観
測者に到達する。従って、表示画面上において、輝点欠
陥を発生している絵素が周囲の正常絵素の表示レベルに
準じた明るさの表示レベルで表示される。すなわち、周
囲の正常絵素が輝点欠陥を発生している絵素に対してい
わば“にじんだ”状態になる。この結果、輝点絵素の存
在が周囲の正常絵素に対して目立たない状態に修正され
る。
【0023】
【実施例】以下本発明の一実施例を説明する。
【0024】図1は本発明の一実施例にかかる液晶パネ
ル1の断面構造を示しており、光源からの入射光Iの入
射側より入射側のガラス基板2、液晶層(ツイステッド
ネマティック液晶層)41および出射側のガラス基板3
を配設した概略構造をとる。液晶層41の入射側表面層
には絵素電極50がパターン形成される。絵素電極50
の内、絵素電極50aは輝点欠陥が発生している絵素5
0a(以下絵素電極と対応する絵素を同一の番号を付し
て説明する)に対応した絵素電極を示し、該絵素電極5
0aに隣接する絵素電極50b、50cは該輝点欠陥が
発生していない正常な絵素50b、50cに対応した絵
素電極を示している。正常な絵素50b、50cはTF
T52により正常にスイッチングされる。一方、液晶層
の出射側表面層にはブラックマスク51、51…がパタ
ーン形成される。遮光マスク51は隣接する絵素50間
の隙間位置に対応した位置にパターン形成される。なお
、輝点絵素50aの検出は、前工程において、液晶パネ
ル1に光源より照明光を照射し、駆動状態にある液晶パ
ネル1の表示画像をスクリーン上に投影し、この投影像
を検査員が視認して行われる。
ル1の断面構造を示しており、光源からの入射光Iの入
射側より入射側のガラス基板2、液晶層(ツイステッド
ネマティック液晶層)41および出射側のガラス基板3
を配設した概略構造をとる。液晶層41の入射側表面層
には絵素電極50がパターン形成される。絵素電極50
の内、絵素電極50aは輝点欠陥が発生している絵素5
0a(以下絵素電極と対応する絵素を同一の番号を付し
て説明する)に対応した絵素電極を示し、該絵素電極5
0aに隣接する絵素電極50b、50cは該輝点欠陥が
発生していない正常な絵素50b、50cに対応した絵
素電極を示している。正常な絵素50b、50cはTF
T52により正常にスイッチングされる。一方、液晶層
の出射側表面層にはブラックマスク51、51…がパタ
ーン形成される。遮光マスク51は隣接する絵素50間
の隙間位置に対応した位置にパターン形成される。なお
、輝点絵素50aの検出は、前工程において、液晶パネ
ル1に光源より照明光を照射し、駆動状態にある液晶パ
ネル1の表示画像をスクリーン上に投影し、この投影像
を検査員が視認して行われる。
【0025】加えて、入射側のガラス基板2の表面付近
には底面に粗面21が形成された凹部20が形成されて
いる。該凹部20は輝点絵素50aに対応した位置に選
定される。具体的には、輝点絵素50aを通る入射光I
の入射経路上の位置に選定される。凹部20および粗面
21は輝点絵素50aを透過する入射光Iを散乱させ、
輝点絵素50aを透過する入射光を減光させるために形
成される。凹部20および粗面21は、例えばエキシマ
レーザを用いたエッチング加工により形成される。
には底面に粗面21が形成された凹部20が形成されて
いる。該凹部20は輝点絵素50aに対応した位置に選
定される。具体的には、輝点絵素50aを通る入射光I
の入射経路上の位置に選定される。凹部20および粗面
21は輝点絵素50aを透過する入射光Iを散乱させ、
輝点絵素50aを透過する入射光を減光させるために形
成される。凹部20および粗面21は、例えばエキシマ
レーザを用いたエッチング加工により形成される。
【0026】一方、出射側のガラス基板3の表面部分に
は底面が入射光の光軸に対して所定角度(例えば、45
度)傾斜した反射面31からなる凹部30が形成されて
いる。この凹部30および反射面31はエキシマレーザ
を用いたエッチング加工により形成される。凹部30は
サイズが異なる2種類形成され、輝点絵素50aに対応
した位置に大サイズの凹部30a、30aが形成され、
該輝点絵素50aに隣接する正常絵素50b、50cの
輝点絵素50a側の端部位置に対応した部位に小サイズ
の凹部30b、30cが形成される。凹部30aおよび
30b、30cにはそれぞれ対応したサイズの反射面3
1a、31b、31cが形成される。
は底面が入射光の光軸に対して所定角度(例えば、45
度)傾斜した反射面31からなる凹部30が形成されて
いる。この凹部30および反射面31はエキシマレーザ
を用いたエッチング加工により形成される。凹部30は
サイズが異なる2種類形成され、輝点絵素50aに対応
した位置に大サイズの凹部30a、30aが形成され、
該輝点絵素50aに隣接する正常絵素50b、50cの
輝点絵素50a側の端部位置に対応した部位に小サイズ
の凹部30b、30cが形成される。凹部30aおよび
30b、30cにはそれぞれ対応したサイズの反射面3
1a、31b、31cが形成される。
【0027】このような反射面31a、31b、31c
を形成する場合は、正常絵素50bの位置に入射される
入射光Iの一部が輝点絵素50aの位置に回り込んだ状
態で出射され、結果的に輝点絵素50aがスクリーン上
において隣接する正常な絵素50に準じた明るさの表示
レベルで表示される。すなわち、輝点絵素50aが隣接
する正常絵素50bに対して目立たなくなるように修正
される。
を形成する場合は、正常絵素50bの位置に入射される
入射光Iの一部が輝点絵素50aの位置に回り込んだ状
態で出射され、結果的に輝点絵素50aがスクリーン上
において隣接する正常な絵素50に準じた明るさの表示
レベルで表示される。すなわち、輝点絵素50aが隣接
する正常絵素50bに対して目立たなくなるように修正
される。
【0028】より具体的には、図1および図2に示され
るように、絵素50bを透過してガラス基板3に入射す
る入射光Iの一部(例えば、該入射光Iの光束の1/3
〜1/4程度)は反射面31bにより反射散乱される。 反射散乱され光路を90度変換された反射光I1は反射
面31aに入射し、該反射面31aにより光路を再度9
0度変換され、入射光Iの平行光となってスクリーンに
向けて出射される。一方、入射光Iの残りの光束は反射
面31bをそのまま透過する透過光I2としてスクリー
ンに向けて出射される。
るように、絵素50bを透過してガラス基板3に入射す
る入射光Iの一部(例えば、該入射光Iの光束の1/3
〜1/4程度)は反射面31bにより反射散乱される。 反射散乱され光路を90度変換された反射光I1は反射
面31aに入射し、該反射面31aにより光路を再度9
0度変換され、入射光Iの平行光となってスクリーンに
向けて出射される。一方、入射光Iの残りの光束は反射
面31bをそのまま透過する透過光I2としてスクリー
ンに向けて出射される。
【0029】すなわち、反射面31a、31bを形成し
たことにより、輝点絵素50aに隣接する正常絵素50
bを透過する入射光Iの一部が輝点絵素50a側に回り
込んで出射されることになる。この結果、スクリーン上
において輝点絵素50aの明るさのレベルが周囲の正常
絵素50bの明るさのレベルに準じたものになり、且つ
、周囲の絵素からの光の侵入によって周囲の絵素50b
の色調が輝点絵素50aに対していわば“にじんだ”状
態になる。従って、輝点絵素50aが暗点としてスクリ
ーン上に表示されることがなく、輝点絵素50aがほぼ
完全に修正されたことになる。
たことにより、輝点絵素50aに隣接する正常絵素50
bを透過する入射光Iの一部が輝点絵素50a側に回り
込んで出射されることになる。この結果、スクリーン上
において輝点絵素50aの明るさのレベルが周囲の正常
絵素50bの明るさのレベルに準じたものになり、且つ
、周囲の絵素からの光の侵入によって周囲の絵素50b
の色調が輝点絵素50aに対していわば“にじんだ”状
態になる。従って、輝点絵素50aが暗点としてスクリ
ーン上に表示されることがなく、輝点絵素50aがほぼ
完全に修正されたことになる。
【0030】加えて、入射光Iの残りの光束が反射面3
1aをそのまま透過するので、正常絵素50bの端部寄
りの部分が完全に遮光されてスクリーン上に黒点として
表示される不具合を生じることもない。なお、反射、透
過の程度はエキシマレーザ加工方法の条件を適宜設定す
ることにより可変できる。また、反射面31b、31c
に反射材を塗装等して正常絵素50bの端部を通る入射
光Iを輝点絵素50aに完全に回り込ませるようにする
ことにしてもよい。
1aをそのまま透過するので、正常絵素50bの端部寄
りの部分が完全に遮光されてスクリーン上に黒点として
表示される不具合を生じることもない。なお、反射、透
過の程度はエキシマレーザ加工方法の条件を適宜設定す
ることにより可変できる。また、反射面31b、31c
に反射材を塗装等して正常絵素50bの端部を通る入射
光Iを輝点絵素50aに完全に回り込ませるようにする
ことにしてもよい。
【0031】次に、図3ないし図5に従い入射側のガラ
ス基板2の表面付近に施される粗面化処理について説明
する。図3において、エキシマレーザ発振器9から出射
されたレーザビーム10はスリットパターン11を通り
、紫外線反射ミラー12で反射された後、レンズ13を
経て載置台14上にセットされた液晶パネル1の輝点修
正部16に集光されて照射される。図4に斜線で示すよ
うに、この輝点修正部16は入射光Iに対して輝点絵素
50aと同一の照射経路上にある。
ス基板2の表面付近に施される粗面化処理について説明
する。図3において、エキシマレーザ発振器9から出射
されたレーザビーム10はスリットパターン11を通り
、紫外線反射ミラー12で反射された後、レンズ13を
経て載置台14上にセットされた液晶パネル1の輝点修
正部16に集光されて照射される。図4に斜線で示すよ
うに、この輝点修正部16は入射光Iに対して輝点絵素
50aと同一の照射経路上にある。
【0032】スリットパターン11には輝点修正部16
の外形サイズが拡大された形状のパターンが形成されて
おり、該スリットパターン11を通した縮小スリット露
光によりレーザビーム10が輝点修正部16の位置に精
度よく照射されるようになっている。加えて、このよう
なスリットパターン11を用いれば、次に説明する粗面
21を種々の凹凸段差で形成できる利点がある。また、
載置台14は、例えば水平面内において、X−Y直交2
軸方向に移動可能になっており、該載置台14の移動に
よりレーザビーム10を所望の輝点修正部16に照射で
きるようになっている。
の外形サイズが拡大された形状のパターンが形成されて
おり、該スリットパターン11を通した縮小スリット露
光によりレーザビーム10が輝点修正部16の位置に精
度よく照射されるようになっている。加えて、このよう
なスリットパターン11を用いれば、次に説明する粗面
21を種々の凹凸段差で形成できる利点がある。また、
載置台14は、例えば水平面内において、X−Y直交2
軸方向に移動可能になっており、該載置台14の移動に
よりレーザビーム10を所望の輝点修正部16に照射で
きるようになっている。
【0033】図5に矢印RBで示す方向から輝点修正部
16にレーザビーム10を垂直方向に照射すると、照射
部がレーザエッチングされ、ガラス基板2のエッチング
部底面、即ち凹部20の底面に微小な凹凸からなる粗面
21が形成される。従って、以後、この粗面化処理部に
光源より入射光Iを照射すると、粗面21により入射光
Iが拡散され、同一の経路上にある輝点絵素50aの輝
度レベルがスクリーン上において、周囲の正常絵素50
b、50cの輝度レベル範囲迄低下される。
16にレーザビーム10を垂直方向に照射すると、照射
部がレーザエッチングされ、ガラス基板2のエッチング
部底面、即ち凹部20の底面に微小な凹凸からなる粗面
21が形成される。従って、以後、この粗面化処理部に
光源より入射光Iを照射すると、粗面21により入射光
Iが拡散され、同一の経路上にある輝点絵素50aの輝
度レベルがスクリーン上において、周囲の正常絵素50
b、50cの輝度レベル範囲迄低下される。
【0034】しかし、このままでは上記従来技術で説明
したように、スクリーン上の表示レベルが明るい場合に
は、輝点絵素50aが一定レベルの暗点として視認され
る不具合がある。そこで、本発明では上記のように出射
側のガラス基板3の表面部分に反射面31a、31b、
31cを形成する。
したように、スクリーン上の表示レベルが明るい場合に
は、輝点絵素50aが一定レベルの暗点として視認され
る不具合がある。そこで、本発明では上記のように出射
側のガラス基板3の表面部分に反射面31a、31b、
31cを形成する。
【0035】一般に出射側のガラス基板3における凹部
および反射面はエキシマレーザによるエッチング加工に
より以下のようにして形成される。すなわち、出射側の
ガラス基板3を前記レンズ13側に位置させた状態で液
晶パネル1を載置第14上にセットし、この状態から図
6に矢印RBで示すようにレーザビーム10をガラス基
板3に対して垂直に照射し、且つ該レーザビーム10の
焦点距離やエネルギ密度を適宜の値に設定すると、ガラ
ス基板3の照射部分にテーパ状をなす凹部300および
反射面310が形成される。
および反射面はエキシマレーザによるエッチング加工に
より以下のようにして形成される。すなわち、出射側の
ガラス基板3を前記レンズ13側に位置させた状態で液
晶パネル1を載置第14上にセットし、この状態から図
6に矢印RBで示すようにレーザビーム10をガラス基
板3に対して垂直に照射し、且つ該レーザビーム10の
焦点距離やエネルギ密度を適宜の値に設定すると、ガラ
ス基板3の照射部分にテーパ状をなす凹部300および
反射面310が形成される。
【0036】これに対して、本発明で採用する凹部30
a(又は30b、30c)および反射面31a(又は3
1b、31c)は、図7に示すように液晶パネル1、す
なわちガラス基板3を載置台14に対して角度αだけ傾
けた状態でセットし、この状態でガラス基板3の表面に
レーザビーム10を照射して形成される。図8はこの時
形成される凹部30a(又は30b、30c)および反
射面30a(又は30b、30c)を示しており、反射
面30a等の傾斜角度は前記角度αを変更することによ
り種々の傾斜角度を選択できる。なお、この場合にも上
記同様にレーザビーム10の焦点距離およびエネルギ密
度が適宜の値に調節される。
a(又は30b、30c)および反射面31a(又は3
1b、31c)は、図7に示すように液晶パネル1、す
なわちガラス基板3を載置台14に対して角度αだけ傾
けた状態でセットし、この状態でガラス基板3の表面に
レーザビーム10を照射して形成される。図8はこの時
形成される凹部30a(又は30b、30c)および反
射面30a(又は30b、30c)を示しており、反射
面30a等の傾斜角度は前記角度αを変更することによ
り種々の傾斜角度を選択できる。なお、この場合にも上
記同様にレーザビーム10の焦点距離およびエネルギ密
度が適宜の値に調節される。
【0037】反射面31a(又は31b、31c)にお
ける反射散乱効果を高めるためには、該反射面31aに
図9に示される粗面32を形成すればよい。粗面32は
エキシマレーザガスの種類(例えば、発振波長193n
mのArF、発振波長248nmのKrF、発振波長3
08nmのXeCl等)を適宜のものに選択したり、図
10に示すように多数の丸穴61が開口されたマスクパ
ターン60をスリットパターン11に挿入し、上記のよ
うにして形成された凹部30a(又は30b、30c)
および反射面31a(又は31b、31c)にエキシマ
レーザによる再加工を行って形成される。もちろん、こ
の場合においても前記した加工条件を変更することによ
り粗面32の表面粗さを可変にできる。
ける反射散乱効果を高めるためには、該反射面31aに
図9に示される粗面32を形成すればよい。粗面32は
エキシマレーザガスの種類(例えば、発振波長193n
mのArF、発振波長248nmのKrF、発振波長3
08nmのXeCl等)を適宜のものに選択したり、図
10に示すように多数の丸穴61が開口されたマスクパ
ターン60をスリットパターン11に挿入し、上記のよ
うにして形成された凹部30a(又は30b、30c)
および反射面31a(又は31b、31c)にエキシマ
レーザによる再加工を行って形成される。もちろん、こ
の場合においても前記した加工条件を変更することによ
り粗面32の表面粗さを可変にできる。
【0038】なお、上記した粗面化処理や反射面の形成
はCO2レーザによるレーザエッチングで行ってもよい
し、あるいはダイヤモンド針や超硬合金製の針を用いた
触刻によって行うこともできるが、エキシマレーザエッ
チングによればこれらの方法に比して以下に示す利点が
ある。
はCO2レーザによるレーザエッチングで行ってもよい
し、あるいはダイヤモンド針や超硬合金製の針を用いた
触刻によって行うこともできるが、エキシマレーザエッ
チングによればこれらの方法に比して以下に示す利点が
ある。
【0039】まず、触彫法と比較すると、粗面加工が容
易になると共に、凹凸形状の精度がよい粗面や反射面を
形成できる利点がある。
易になると共に、凹凸形状の精度がよい粗面や反射面を
形成できる利点がある。
【0040】一方、CO2レーザと比較すると、CO2
レーザエッチングは熱加工であるため、輝点修正部周囲
のガラスに熱的ダメージを与えることになるが、エキシ
マレーザエッチングによればこのような熱的ダメージを
与えることがないという利点がある。従って、以上の理
由によりエキシマレーザエッチングにより粗面や反射面
を形成することが実施する上で最も好ましいものになる
。
レーザエッチングは熱加工であるため、輝点修正部周囲
のガラスに熱的ダメージを与えることになるが、エキシ
マレーザエッチングによればこのような熱的ダメージを
与えることがないという利点がある。従って、以上の理
由によりエキシマレーザエッチングにより粗面や反射面
を形成することが実施する上で最も好ましいものになる
。
【0041】なお、上記実施例では本発明を投影型液晶
表示装置に適用する場合について説明したが、バックラ
イトを備えた直視型の液晶表示装置についても同様に適
用できる。また、上記実施例では入射側のガラス基板の
表面付近に粗面化処理を行ったが、これに代えてガラス
基板表面の該当部位に不透明遮光膜を形成することにし
てもよい。この場合にも上記実施例同様に輝点絵素がス
クリーン上において暗点となることがない。
表示装置に適用する場合について説明したが、バックラ
イトを備えた直視型の液晶表示装置についても同様に適
用できる。また、上記実施例では入射側のガラス基板の
表面付近に粗面化処理を行ったが、これに代えてガラス
基板表面の該当部位に不透明遮光膜を形成することにし
てもよい。この場合にも上記実施例同様に輝点絵素がス
クリーン上において暗点となることがない。
【0042】図11および図12は本発明の他の実施例
を示しており、この実施例ではバックライトを備えた直
視型の液晶表示装置に供される液晶パネル1を例示して
いる。バックライトからの入射光Iは、偏向板54、入
射側のガラス基板2、カラーフィルタ53、53…、液
晶層41、絵素電極50、出射側のガラス基板2および
偏向板55を透過して出射される。カラーフィルタ53
はR(赤)、G(緑)、B(青)の三原色カラーフィル
タをブラックマスク51、51…を介して交互に配置し
てなる。また、絵素50の内、絵素50aは上記同様に
輝点絵素を示し、該輝点50aに隣接する絵素50b、
50cは正常な絵素を示している。正常な絵素50b、
50cはTFT52により正常にスイッチングされる。
を示しており、この実施例ではバックライトを備えた直
視型の液晶表示装置に供される液晶パネル1を例示して
いる。バックライトからの入射光Iは、偏向板54、入
射側のガラス基板2、カラーフィルタ53、53…、液
晶層41、絵素電極50、出射側のガラス基板2および
偏向板55を透過して出射される。カラーフィルタ53
はR(赤)、G(緑)、B(青)の三原色カラーフィル
タをブラックマスク51、51…を介して交互に配置し
てなる。また、絵素50の内、絵素50aは上記同様に
輝点絵素を示し、該輝点50aに隣接する絵素50b、
50cは正常な絵素を示している。正常な絵素50b、
50cはTFT52により正常にスイッチングされる。
【0043】本実施例においても、入射側のガラス基板
2の輝点絵素50aに対応する表面付近には上記実施例
同様の凹部20および粗面21が形成され、出射側のガ
ラス基板3の表面部分には矩形環状をなす凹部70が形
成され、その底面に粗面71が形成されている。図12
に示すように、この粗面71は輝点絵素50aを中心に
して外側縁が周囲の正常絵素50b(50c)…の輝点
絵素50a側端部位置におよぶ領域72にわたって形成
される。凹部70および粗面71の形成は、上記したレ
ーザビーム10を出射側のガラス基板3の該当部位に照
射して形成される。凹部70の形状および粗面71の表
面粗さはエキシマレーザ発振器9から出射されるレーザ
ビーム10のエネルギ密度を適宜設定したり、スリット
パターン11を適宜選択することにより所望のものを選
択できる。
2の輝点絵素50aに対応する表面付近には上記実施例
同様の凹部20および粗面21が形成され、出射側のガ
ラス基板3の表面部分には矩形環状をなす凹部70が形
成され、その底面に粗面71が形成されている。図12
に示すように、この粗面71は輝点絵素50aを中心に
して外側縁が周囲の正常絵素50b(50c)…の輝点
絵素50a側端部位置におよぶ領域72にわたって形成
される。凹部70および粗面71の形成は、上記したレ
ーザビーム10を出射側のガラス基板3の該当部位に照
射して形成される。凹部70の形状および粗面71の表
面粗さはエキシマレーザ発振器9から出射されるレーザ
ビーム10のエネルギ密度を適宜設定したり、スリット
パターン11を適宜選択することにより所望のものを選
択できる。
【0044】本実施例によれば、バックライトからの照
明光は入射側のガラス基板2に形成された粗面21によ
り減光され、輝点絵素50aの輝度がこれにより低下さ
れる。加えて、輝点絵素50aに隣接する絵素50b(
50c)を透過する入射光Iの一部は透明ガラス3の前
記領域72に形成された粗面71を透過する際に散乱作
用を受ける。この結果、輝点絵素50aに隣接する正常
絵素50b、50cからの色がにじみ込む“にじみ”現
象が発生する。従って、本実施例による場合も上記実施
例同様に輝点絵素50aを周囲の正常絵素50b、50
cに対してほぼ完全に目立たなくすることができる。
明光は入射側のガラス基板2に形成された粗面21によ
り減光され、輝点絵素50aの輝度がこれにより低下さ
れる。加えて、輝点絵素50aに隣接する絵素50b(
50c)を透過する入射光Iの一部は透明ガラス3の前
記領域72に形成された粗面71を透過する際に散乱作
用を受ける。この結果、輝点絵素50aに隣接する正常
絵素50b、50cからの色がにじみ込む“にじみ”現
象が発生する。従って、本実施例による場合も上記実施
例同様に輝点絵素50aを周囲の正常絵素50b、50
cに対してほぼ完全に目立たなくすることができる。
【0045】図13は図12の粗面71の変形例を示し
ており、この変形例では輝点絵素50aを中心にして外
側縁が隣接する絵素50b(50c)の輝点絵素50a
側端部におよぶ領域73の全面に粗面71を形成する構
成をとる。この変形例においても、上記同様の効果を奏
する。
ており、この変形例では輝点絵素50aを中心にして外
側縁が隣接する絵素50b(50c)の輝点絵素50a
側端部におよぶ領域73の全面に粗面71を形成する構
成をとる。この変形例においても、上記同様の効果を奏
する。
【0046】
【発明の効果】以上の本発明によれば、上記従来技術に
比して以下に示す利点を有する。
比して以下に示す利点を有する。
【0047】■従来方法によれば、修正部に入射する入
射光を完全に遮光するか或いは一定レベルで減光するだ
けであったので、表示画面が明るい場合には表示画面上
において輝点絵素が黒点又は暗点となる不具合を生じる
。これに対して本発明では、輝点絵素に隣接する正常絵
素に入射される入射光の一部が輝点絵素の部分に回り込
んだ後に出射されるので、表示画面上において輝点絵素
の明るさのレベルが周囲の正常絵素の明るさのレベルに
準じたものになる。加えて、周囲の絵素からの光の侵入
によって周囲の絵素の色が輝点絵素に対していわば“に
じんだ”状態になる。従って、本発明によれば、輝点絵
素が暗点又は黒点として表示画面上に表示されることが
なく、輝点絵素がほぼ完全に修正される。
射光を完全に遮光するか或いは一定レベルで減光するだ
けであったので、表示画面が明るい場合には表示画面上
において輝点絵素が黒点又は暗点となる不具合を生じる
。これに対して本発明では、輝点絵素に隣接する正常絵
素に入射される入射光の一部が輝点絵素の部分に回り込
んだ後に出射されるので、表示画面上において輝点絵素
の明るさのレベルが周囲の正常絵素の明るさのレベルに
準じたものになる。加えて、周囲の絵素からの光の侵入
によって周囲の絵素の色が輝点絵素に対していわば“に
じんだ”状態になる。従って、本発明によれば、輝点絵
素が暗点又は黒点として表示画面上に表示されることが
なく、輝点絵素がほぼ完全に修正される。
【0048】■修正する範囲や光量を加工条件により可
変できるため液晶表示装置の種々の光学系に対応できる
利点がある。
変できるため液晶表示装置の種々の光学系に対応できる
利点がある。
【0049】また、特に入射側の透明基板に粗面を形成
し、出射側の透明基板に反射面を形成する場合は、輝点
絵素の信頼性を向上できると共に、修正部が限定されな
い利点がある。
し、出射側の透明基板に反射面を形成する場合は、輝点
絵素の信頼性を向上できると共に、修正部が限定されな
い利点がある。
【0050】また、特に請求項3、請求項4記載のよう
に反射面を形成する場合は、反射面の反射散乱効果を向
上できる利点がある。
に反射面を形成する場合は、反射面の反射散乱効果を向
上できる利点がある。
【図1】本発明の一実施例にかかる液晶パネルを示す断
面図。
面図。
【図2】図1の部分拡大図。
【図3】入射側のガラス基板に施される粗面化処理を示
す模式的構成図。
す模式的構成図。
【図4】輝点欠陥を発生している絵素電極と入射側のガ
ラス基板における粗面化処理部が光源からの入射光の同
一経路上にあることを示す図面。
ラス基板における粗面化処理部が光源からの入射光の同
一経路上にあることを示す図面。
【図5】入射側のガラス基板に形成された粗面を示す図
面。
面。
【図6】エキシマレーザ加工によって形成される凹部お
よび反射面の一般的な形状を示す図面。
よび反射面の一般的な形状を示す図面。
【図7】本発明方法により出射側のガラス基板に凹部お
よび反射面を形成する状態を示す模式的構成図。
よび反射面を形成する状態を示す模式的構成図。
【図8】本発明方法により形成される凹部および反射面
の形状を示す図面。
の形状を示す図面。
【図9】凹部および反射面に形成される粗面を示す図面
。
。
【図10】凹部および反射面における粗面を形成するた
めに使用されるマスクパターンを示す図面。
めに使用されるマスクパターンを示す図面。
【図11】本発明の他の実施例を示す液晶パネルの断面
図。
図。
【図12】図11の液晶パネルの出射側のガラス基板に
形成される粗面領域を示す図面。
形成される粗面領域を示す図面。
【図13】図12で示される粗面の変形例を示す図面。
【図14】従来方法を示す側面図。
【図15】従来方法における図4同様の図面。
【図16】液晶パネルの従来例を示す斜視図。
【図17】図16に示される液晶パネルが組み込まれた
液晶表示装置を示す模式的構成図。
液晶表示装置を示す模式的構成図。
1 液晶パネル
2 入射側のガラス基板
20 凹部
21 粗面
3 出射側のガラス基板
30a、30b 凹部
31a、31b 反射面
9 エキシマレーザ発振器
10 レーザビーム
11 スリットパターン
14 載置台
41 液晶層
50a 輝点欠陥が発生している絵素電極(輝点絵素
)50b、50c 正常絵素電極(正常絵素)70
凹部 71 粗面 72 粗面が形成される領域
)50b、50c 正常絵素電極(正常絵素)70
凹部 71 粗面 72 粗面が形成される領域
Claims (7)
- 【請求項1】一対の透明基板間に液晶が封入され、表示
用の絵素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネル
と、該透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光
を照射する光源手段とを有する液晶表示装置において、
該輝点欠陥が発生している該絵素を照射する該照明光の
照射経路上に位置する入射側の透明基板の表面部分に粗
面化処理又は遮光処理を施すと共に、出射側の透明基板
の表面部分に該絵素に隣接する絵素部に入射する該照明
光の一部を該絵素に対応した出射面を通して出射させる
反射面を形成した液晶表示装置。 - 【請求項2】前記反射面に粗面を形成した請求項1記載
の液晶表示装置。 - 【請求項3】一対の透明基板間に液晶が封入され、表示
用の絵素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネル
と、該透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光
を照射する光源手段とを有する液晶表示装置の欠陥修正
方法において、該照明光を該透過型液晶パネルに照射し
て該絵素に発生している輝点欠陥を検出する工程と、該
輝点欠陥が発生している該絵素を照射する該照明光の照
射経路上に位置する入射側の透明基板の表面付近を粗面
化処理して光散乱領域を形成し又は該透明基板の表面に
遮光膜を形成する工程と、該絵素に隣接する絵素部に入
射する該照明光の一部を該絵素に対応した出射面を通し
て出射させる反射面を出射側の透明基板の表面部分に形
成する工程とを含む液晶表示装置の欠陥修正方法。 - 【請求項4】前記反射面に粗面を形成する工程を含む請
求項3記載の液晶表示装置の欠陥修正方法。 - 【請求項5】エキシマレーザビームを前記出射側の透明
基板の表面部分に所定角度傾けて照射して前記反射面を
形成する請求項3記載の液晶表示装置の欠陥修正方法。 - 【請求項6】一対の透明基板間に液晶が封入され、表示
用の絵素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネル
と、該透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光
を照射する光源手段とを有する液晶表示装置において、
該輝点欠陥が発生している該絵素を照射する該照明光の
照射経路上に位置する入射側の透明基板の表面部分に粗
面化処理又は遮光処理を施すと共に、出射側の透明基板
の表面部分に、該絵素の中心に対応する位置を中心とし
て外側縁が隣接する絵素部の該絵素側端部位置におよぶ
粗面を形成した液晶表示装置。 - 【請求項7】一対の透明基板間に液晶が封入され、表示
用の絵素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネル
と、該透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光
を照射する光源手段とを有する液晶表示装置の欠陥修正
方法において、該照明光を該透過型液晶パネルに照射し
て該絵素に発生している輝点欠陥を検出する工程と、該
輝点欠陥が発生している該絵素を照射する該照明光の照
射経路上に位置する入射側の透明基板の表面付近を粗面
化処理して光散乱領域を形成し又は該透明基板の表面に
遮光膜を形成する工程と、出射側の透明基板の表面部分
に、該絵素の中心に対応する位置を中心として外側縁が
隣接する絵素部の該絵素側端部位置におよぶ粗面を形成
する工程とを含む液晶表示装置の欠陥修正方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3066502A JP2584906B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 液晶表示装置および液晶表示装置の欠陥修正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3066502A JP2584906B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 液晶表示装置および液晶表示装置の欠陥修正方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04301616A true JPH04301616A (ja) | 1992-10-26 |
JP2584906B2 JP2584906B2 (ja) | 1997-02-26 |
Family
ID=13317670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3066502A Expired - Fee Related JP2584906B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 液晶表示装置および液晶表示装置の欠陥修正方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2584906B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05127152A (ja) * | 1991-10-31 | 1993-05-25 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
WO2001086616A1 (fr) * | 2000-05-11 | 2001-11-15 | Iizuka Electric Industry Co., Ltd. | Dispositif d'affichage d'images, procede servant a reparer l'ebrechement de ce dispositif, procede servant a fixer un materiau de reparation de l'ebrechement et procede servant a appliquer un materiau de reparation a l'ebrechement |
WO2003034375A1 (fr) * | 2001-10-17 | 2003-04-24 | Iizuka Electric Industry Co., Ltd. | Procede de reparation d'un dispositif d'affichage d'image, film de reparation et dispositif de reparation d'image |
JP2007241067A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示パネル |
WO2008081616A1 (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
WO2008096472A1 (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
WO2009019913A1 (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
CN104460057A (zh) * | 2013-09-23 | 2015-03-25 | 三星显示有限公司 | 用于检测有缺陷的基板的液晶调制器和具有其的检查设备 |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP3066502A patent/JP2584906B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8064004B2 (en) | 2006-12-28 | 2011-11-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display apparatus and process for manufacturing the same |
WO2008096472A1 (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
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JPWO2009019913A1 (ja) * | 2007-08-09 | 2010-10-28 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
US8203690B2 (en) | 2007-08-09 | 2012-06-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method of manufacturing same |
CN104460057A (zh) * | 2013-09-23 | 2015-03-25 | 三星显示有限公司 | 用于检测有缺陷的基板的液晶调制器和具有其的检查设备 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2584906B2 (ja) | 1997-02-26 |
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