JP3273910B2 - 液晶表示装置の欠陥絵素修正方法 - Google Patents

液晶表示装置の欠陥絵素修正方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置、特
に反射型液晶表示装置の欠陥絵素修正方法に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置では、たとえばマトリクス
状に配列された絵素を用いて、文字、記号および図形な
どの各種情報が表示される。液晶表示装置は、大略的
に、一対の基板と、該基板間に挟持される液晶層と、各
基板の液晶層側にマトリクス状にそれぞれ設けられる表
示用の電極と、を含んで構成される。電極を用いて各絵
素の液晶層に独立に液晶駆動電圧を印加して液晶の光学
特性を制御することによって、各種情報が表示される。
特に、各絵素毎に、液晶層への印加電圧をオン/オフす
るTFT素子やMIM素子などのスイッチング素子を設
けたアクティブマトリクス駆動方式では、コントラスト
比や応答速度の優れた高画質な表示が可能である。
【0003】液晶表示装置では、液晶層への入射光の出
射光量が、液晶の光学特性によって制御される。すなわ
ち、液晶の光学特性によって入射光が透過または遮断さ
れ、光透過状態と光遮断状態とによって、たとえば白黒
表示が実施される。透過型では光は一方基板側から入射
して他方基板側から出射し、反射型では一方基板側から
入射して再び該一方基板側から出射する。したがって、
反射型では他方基板側に反射板が設けられる。反射板を
液晶層側に設ける場合、高い光反射率を有する電極材料
を用いて表示用の電極を実現することによって、反射板
と表示電極とを共通化して構成要素を簡略化することが
できる。
【0004】前記アクティブマトリクス駆動方式を実現
するために必要なスイッチング素子は、一般的に、半導
体層、絶縁層および電極などを積層した多層構造を有
し、微細であり、このような素子を作製するためにはパ
ターニングやエッチングなどの工程が繰返される。した
がって、断線や短絡などの欠陥が生じる可能性が高い。
欠陥素子は正常に動作しないので、該素子を有する絵素
では、液晶層に所望の駆動電圧を印加することができ
ず、液晶の光学特性を制御することができない。すなわ
ち、該絵素は正常な表示動作を実施できず、欠陥絵素と
して認識される。駆動電圧が常に印加された状態となる
欠陥絵素は、特に電圧無印加時に黒色状態となるノーマ
リブラックモードにおいて、輝点となって表示品位を著
しく低下させる。なお、欠陥絵素は、スイッチング素子
によるもののみならず、表示用の電極の断線や短絡、必
要に応じて設けられる液晶分子の初期配向状態を規制す
る配向膜の破損、またはスイッチング素子を駆動回路と
接続するための配線の断線や短絡などによっても生じ
る。
【0005】前記欠陥絵素の修正方法に関する技術が、
たとえば特開昭60−243635号公報や特開平4−
301615号公報に開示されている。特開昭60−2
43635号公報では、レーザ光を照射して欠陥絵素の
液晶層の配向状態を乱し、液晶の配向規制力を失わせて
液晶配向状態をランダムにし、光の透過量を低減させて
いる。特開平4−301615号公報では、レーザ光を
照射して基板に凹所を形成し、かつ該凹所の底面を粗面
化している。これによって、光の透過量を低減させてい
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】特開昭60−2436
35号公報に記載された修正方法、すなわちレーザ光を
照射して欠陥絵素の液晶層の配向状態を乱す方法では、
実際には、欠陥絵素からの光漏れを防ぐために絵素領域
よりも広い領域にレーザ光を照射しなければならない。
絵素の高開口率化が進むにつれて絵素間領域が狭くなる
ので、上述のような手法で修正する場合、欠陥絵素に隣
接する絵素の表示に対して悪影響を及ぼす。また、欠陥
絵素の液晶層の配向状態を乱すようにしているが、動的
散乱モードなどの配向膜を必要としない動作モードの場
合にはこのような手法では欠陥絵素を修正することはで
きず、表示品位が著しく低下することとなる。さらに、
特開平4−301615号公報に記載された修正方法、
すなわちレーザ光を照射して基板に凹所を形成し、かつ
該凹所の底面を粗面化する方法でも、基板の厚みやレー
ザ光の照射角度などによっては、隣接する絵素の表示に
対して悪影響を及ぼす。
【0007】本発明の目的は、隣接する絵素の表示には
悪影響を及ぼさないように欠陥絵素のみを確実に修正で
き、また配向膜を必要としない装置の欠陥絵素をも修正
できる液晶表示装置の欠陥絵素修正方法を提供すること
である。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、予め定められ
た状態に配列された複数の絵素を用いて表示する液晶表
示装置であって、少なくともいずれか一方が透光性を有
する一対の基板間に液晶層が配置され、各基板の液晶層
側に各絵素毎に表示用の電極がそれぞれ設けられ、一対
の前記基板のうちの透光性を有する一方基板とは異なる
他方基板の液晶層側の表示用の電極は一方基板側からの
入射光を反射する光反射機能を有する液晶表示装置の欠
陥絵素修正方法において、欠陥絵素の光反射電極にレー
ザ光を照射して該電極の液晶層側表面を粗面化させて、
前記入射光を入射方向とは異なる方向へ反射させること
を特徴とする液晶表示装置の欠陥絵素修正方法である。
【0009】本発明に従えば、液晶表示装置は、予め定
められた状態に配列された複数の絵素を用いて表示す
る。該液晶表示装置は、少なくともいずれか一方が透光
性を有する一対の基板と、該基板間に配置される液晶層
と、各基板の液晶層側に各絵素毎にそれぞれ設けられる
表示用の電極とを含んで構成される。一対の前記基板の
うちの透光性を有する前記一方基板とは異なる他方基板
の液晶層側の表示用の電極は一方基板側からの入射光を
反射する光反射機能を有する。すなわち、該液晶表示装
置は反射型であり、反射板が他方基板の液晶層側に設け
られ、表示用電極と共通化された装置である。一方基板
側から入射した光は、光反射電極で反射されて一方基板
側から出射する。このとき、一方および他方基板の液晶
層側に設けられた表示用の電極を用いて液晶層に液晶駆
動用の電圧が印加され、液晶の光学特性が制御され、入
射光の透過状態および遮断状態が得られる。これによっ
て、たとえば白黒表示が実施される。
【0010】このような液晶表示装置の欠陥絵素は、欠
陥絵素の光反射電極にレーザ光を照射して該電極の液晶
層側表面を粗面化させることによって修正される。これ
によって、前記入射光を入射方向とは異なる方向へ反射
させて散乱させることができ、表示品位の低下が抑制で
きる。各絵素毎に設けられる光反射電極に対して修正を
施すので、隣接する絵素の表示に悪影響を及ぼすことは
なく、所望の絵素のみを確実に修正できる。また、入射
光が散乱されるように光反射電極を修正するものであ
り、液晶の配向状態を乱すように修正するものではない
ので、動的散乱モードなどの配向膜を用いないモードの
液晶表示装置であっても修正が可能である。
【0011】
【0012】
【0013】また本発明は、予め定められた状態に配列
された複数の絵素を用いて表示する液晶表示装置であっ
て、少なくともいずれか一方が透光性を有する一対の基
板間に液晶層が配置され、各基板の液晶層側に各絵素毎
に表示用の電極がそれぞれ設けられ、一対の前記基板の
うちの透光性を有する一方基板とは異なる他方基板の液
晶層側の表示用の電極は一方基板側からの入射光を反射
する光反射機能を有する液晶表示装置の欠陥絵素修正方
法において、欠陥絵素の光反射電極にレーザ光を照射し
て該電極を黒色化させて、前記入射光の反射率を低下さ
せることを特徴とする液晶表示装置の欠陥絵素修正方法
である。
【0014】本発明に従えば、前記液晶表示装置の欠陥
絵素は、欠陥絵素の光反射電極にレーザ光を照射して該
電極を黒色化させることによって修正される。これによ
って、前記入射光を吸収して反射率を低下させることが
でき、表示品位の低下が抑制できる。
【0015】
【0016】
【0017】また本発明は、波長およびエネルギ量が調
整された前記レーザ光を照射することを特徴とする。
【0018】本発明に従えば、前記欠陥絵素には、波長
およびエネルギ量が調整されたレーザ光が照射される。
これらの値を調整することによって、光反射電極の表面
粗面化、黒色化などを実現することができる。
【0019】また本発明は、前記レーザ光の波長が24
8nmに選ばれ、前記レーザ光のエネルギ量が13.6
J/cm2 に選ばれることを特徴とする。
【0020】本発明に従えば、前記欠陥絵素には、波長
およびエネルギ量が248nmおよび13.6J/cm
2 にそれぞれ調整されたレーザ光が照射される。これに
よって、光反射電極の表面を粗面化することができる。
【0021】特に、前記他方基板の液晶層側に各絵素毎
にスイッチング素子が設けられている液晶表示装置にお
いて、前記スイッチング素子は、一般的に、半導体層、
絶縁層および電極などを積層した多層構造を有し、微細
であり、パターニングやエッチングなどの工程を繰返し
て作製され、断線や短絡などの欠陥が生じる可能性が高
いが、上述したような修正方法をこのような装置に対し
て施した場合、優れた表示品位の液晶表示装置が得られ
る。
【0022】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施形態であ
る欠陥絵素の修正方法によって修正が施された液晶表示
装置1を示す断面図である。図2は、液晶表示装置1の
修正前の状態を示す断面図である。本実施形態では、ノ
ーマリブラックモードの液晶表示装置について説明す
る。
【0023】液晶表示装置1では、マトリクス状に配列
された複数の絵素9を用いて各種情報が表示される。液
晶表示装置1は、大略的に、一対の基板2,3と、該基
板間に挟持される液晶層4と、各基板2,3の液晶層側
に各絵素毎にそれぞれ配置される表示用の電極5,6と
を含んで構成される。
【0024】一対の基板2,3のうちの一方基板2は透
光性および絶縁性を有し、たとえばガラス基板で実現さ
れる。他方基板3は、少なくとも絶縁性を有する基板で
実現され、たとえばガラス基板を用いてもかまわない。
【0025】絶縁性基板3の液晶層側表面には、また、
各絵素毎にスイッチング素子であるTFT(薄膜トラン
ジスタ)素子8が設けられる。TFT素子8は、一般的
な、半導体層、絶縁層および電極などを積層した微細な
多層構造を有する。表示用の電極5は、TFT素子8の
ドレイン電極に接続され、たとえば絶縁層7を介して、
基板3の液晶層側に設けられる。電極5は、Al(アル
ミニウム)などの光反射率の高い材料から成り、反射板
としても機能する。また、図示しないけれども、基板3
の液晶層側表面には、TFT素子8以外に液晶駆動用の
回路とTFT素子8とを接続するための配線などが設け
られる。透光性基板2の液晶層側表面には、表示用の電
極6であり、光反射電極5に対向する電極6が設けられ
る。
【0026】スイッチング素子としては、上述のTFT
素子8以外に、たとえばMIM(金属−絶縁層−金属)
素子を設けてもかまわない。TFT素子8やMIM素子
などのスイッチング素子のみならず上述の光反射電極5
および配線などは、パターニングやエッチングなどの工
程を繰返して作製される。したがって、断線や短絡など
の欠陥が生じる可能性が高い。本発明の欠陥絵素修正方
法は、スイッチング素子の有無にかかわらず適用可能で
あるが、欠陥が生じ易いスイッチング素子を有する装置
に対して適用することによって、優れた効果が得られる
ものである。
【0027】このように液晶表示装置1は反射型であ
り、反射板が絶縁性基板3の液晶層側に設けられ、表示
用の電極と共通化された装置である。透光性基板2側か
ら入射した光10aは、光反射電極5で反射される。こ
のとき、TFT素子8をオン/オフすることによって、
電極5,6間の液晶層4への電圧印加/無印加状態が作
られ、液晶の光学特性が制御される。
【0028】図3は、液晶表示装置1の表示の原理を説
明するための図である。図3(A)はTFT素子8がオ
フ状態の絵素9bを示し、図3(B)はTFT素子8が
オン状態の絵素9aを示す。光源11からの光は、PB
S(偏光ビームスプリッタ)12によって直線偏光とな
って透光性基板2側から液晶層4に入射する。
【0029】TFT素子8がオフ状態の絵素9bでは、
液晶層4には所定の電圧が印加されない。したがって、
入射した直線偏光の偏光方向と反射光の偏光方向とは同
じままであり、反射光10bはPBS12によって光源
11の方向に戻される。したがって、入射光10aが遮
断された黒色表示状態となる。
【0030】一方、TFT素子8がオン状態の絵素9a
では、液晶層4には所定の電圧が印加される。したがっ
て、入射した直線偏光の偏光方向は90°回転し、反射
光10bはPBS12によって光源11の方向に戻され
ることなく通過する。したがって、入射光10aが透過
する白色表示状態となる。
【0031】正常な絵素9a,9bでは上述のようにし
て白黒表示が実施されるが、欠陥絵素9dでは、常に電
圧が印加されたり、印加されなかったりする。その結
果、TFT素子8のオン/オフ状態にかかわらず、入射
した直線偏光の方向が90°回転し、反射光10bがP
BS12によって光源11の方向に戻されることなく通
過すると、輝点となって認識されてしまう。
【0032】このような欠陥絵素9dは、本発明に基づ
き、光反射電極5にレーザ光を照射して該電極5を変形
させることによって修正される。これによって、前記入
射光10aの入射方向への反射が抑制され、修正後の欠
陥絵素9cでは、入射光10aは光反射電極5で散乱ま
たは吸収されて出射しないので、黒点となる。したがっ
て、表示品位の低下が抑制できる。特に、ノーマリブラ
ックモードにおいて、黒色の背景中の輝点が低減するの
で、表示品位が著しく向上する。
【0033】図4は、液晶表示装置1の修正された欠陥
絵素を拡大して示す断面図である。図4(A)は第1の
修正方法で修正された絵素を示し、図4(B)は第2の
修正方法で修正された絵素を示し、図4(C)は参考ま
でに説明しておく修正方法で修正された絵素を示す。図
5は、修正を施す必要のない正常な絵素を示す断面図で
ある。
【0034】第1の欠陥絵素修正方法は、光反射電極5
の表面5aにレーザ光を照射して、表面5aを粗面化さ
せる方法である。これによって、入射光10aを入射方
向とは異なる方向へ反射させて散乱させて、黒点とする
ことができる。具体的には、光反射電極5の表面5a
は、光の反射を効率的に行うために平面構造または計画
的に凹凸状に加工されており、広い視野角が得られるよ
う構成されている。第1の修正方法では、レーザ光によ
って光反射電極5の表面5aに無秩序に凹凸を形成して
粗面としている。
【0035】第2の欠陥絵素修正方法は、光反射電極5
にレーザ光を照射して焼き、該電極5を黒色化させる方
法である。これによって、入射光10aを吸収でき反射
率が低減し、入射方向への反射を抑制することができ
る。表示上は欠陥絵素の輝度レベルが低下するので、欠
陥絵素が目立たなくなる。
【0036】図4(C)の欠陥絵素修正方法は、参考ま
でに説明しておくと、光反射電極5にレーザ光を照射し
て、該電極5を除去する方法である。これによって、入
射光10aを絶縁層7や絶縁性基板3に到達させること
ができ、反射光をなくすことができる。表示上は欠陥絵
素が黒点となる。入射光10aは絶縁層7や絶縁性基板
3で吸収される。
【0037】光反射電極5を上述のように変形するため
には、波長およびエネルギ量が調整されたレーザ光が照
射される。したがって、これらの値を調整することによ
って、光反射電極5の表面5aの粗面化、黒色化などを
実現することができる。たとえば、Kr(クリプトン)
・F(フッ素)ガスを用い、波長が248nmでエネル
ギ量が13.6J/cm2 のレーザ光を、2μmのスポ
ット径、2パルス、16打点照射することによって、光
反射電極5の表面5aを粗面化することができる。
【0038】また、本発明の欠陥絵素修正方法によれ
ば、各絵素毎に設けられる光反射電極5に対して修正を
施すので、隣接する絵素の表示に悪影響を及ぼすことは
なく、所望の欠陥絵素9dのみを確実に修正できる。ま
た、入射光が散乱または吸収されるように光反射電極5
を修正するものであり、液晶の配向状態を乱すように修
正するものではないので、配向膜を用いたモードの装置
のみならず、動的散乱モードなどの配向膜を用いないモ
ードの装置であっても、欠陥絵素の修正が可能である。
【0039】また、液晶表示装置1はTFT素子8を有
する。TFT素子8などのスイッチング素子は、その作
製において断線や短絡などの欠陥が生じる可能性が高い
が、上述したような修正方法を施すことによって、優れ
た表示品位の液晶表示装置1が得られる。
【0040】また、液晶層4側に設けられた光反射電極
5に対して直接修正を施すので、視角に依存することな
く修正が施せる。したがって、プロジェクション装置な
どの投影用液晶表示装置および直視用液晶表示装置に対
してともに適用することができる。
【0041】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、光反射電
極を備える液晶表示装置の欠陥絵素を光反射電極にレー
ザ光を照射して該電極の液晶層側表面を粗面化させるこ
とによって修正でき、これによって入射光を入射方向と
は異なる方向へ反射させて散乱させることができるの
で、入射光の入射方向への反射が抑制され、表示品位の
低下が抑制できる。各絵素毎に設けられる光反射電極に
対して修正を施すので、隣接する絵素の表示に悪影響を
及ぼすことなく修正でき、また配向膜を用いないモード
の装置に対しても修正が可能となる。
【0042】
【0043】また本発明によれば、前記欠陥絵素を光反
射電極にレーザ光を照射して該電極を黒色化させること
によって修正でき、これによって入射光を吸収して反射
率を低減させることができる。
【0044】
【0045】また本発明によれば、前記欠陥絵素の光反
射電極に波長およびエネルギ量が調整されたレーザ光を
照射するようにしたので、これらの値を選ぶことによっ
て光反射電極の表面粗面化、黒色化などが実現できる。
【0046】また本発明によれば、前記欠陥絵素の光反
射電極に波長およびエネルギ量が248nmおよび1
3.6J/cm2 にそれぞれ調整されたレーザ光を照射
することによって、光反射電極の表面粗面化が実現でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態である欠陥絵素の修正方法
によって修正が施された液晶表示装置1を示す断面図で
ある。
【図2】液晶表示装置1の修正前の状態を示す断面図で
ある。
【図3】液晶表示装置1の表示の原理を説明するための
図であり、図3(A)はTFT素子8がオフ状態の絵素
9bを示し、図3(B)はTFT素子8がオン状態の絵
素9aを示す。
【図4】液晶表示装置1の修正された欠陥絵素を拡大し
て示す断面図であり、図4(A)は第1の修正方法で修
正された絵素を示し、図4(B)は第2の修正方法で修
正された絵素を示し、図4(C)は参考までに説明する
修正方法で修正された絵素を示す。
【図5】修正を施す必要のない正常な絵素を示す断面図
である。
【符号の説明】
1 液晶表示装置 2 透光性基板 3 絶縁性基板 4 液晶層 5 光反射電極 5a 光反射電極の表面 6 対向電極 8 TFT素子 9,9a〜9d 絵素 10a 入射光 10b 反射光
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/13 101 G02F 1/1335 520 G02F 1/1345

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 予め定められた状態に配列された複数の
    絵素を用いて表示する液晶表示装置であって、少なくと
    もいずれか一方が透光性を有する一対の基板間に液晶層
    が配置され、各基板の液晶層側に各絵素毎に表示用の電
    極がそれぞれ設けられ、一対の前記基板のうちの透光性
    を有する一方基板とは異なる他方基板の液晶層側の表示
    用の電極は一方基板側からの入射光を反射する光反射機
    能を有する液晶表示装置の欠陥絵素修正方法において、 欠陥絵素の光反射電極にレーザ光を照射して該電極の液
    晶層側表面を粗面化させて、前記入射光を入射方向とは
    異なる方向へ反射させることを特徴とする液晶表示装置
    の欠陥絵素修正方法。
  2. 【請求項2】 予め定められた状態に配列された複数の
    絵素を用いて表示する液晶表示装置であって、少なくと
    もいずれか一方が透光性を有する一対の基板間に液晶層
    が配置され、各基板の液晶層側に各絵素毎に表示用の電
    極がそれぞれ設けられ、一対の前記基板のうちの透光性
    を有する一方基板とは異なる他方基板の液晶層側の表示
    用の電極は一方基板側からの入射光を反射する光反射機
    能を有する液晶表示装置の欠陥絵素修正方法において、 欠陥絵素の光反射電極にレーザ光を照射して該電極を黒
    色化させて、前記入射光の反射率を低下させることを特
    徴とする液晶表示装置の欠陥絵素修正方法。
  3. 【請求項3】 波長およびエネルギ量が調整された前記
    レーザ光を照射することを特徴とする請求項1または請
    求項2記載の液晶表示装置の欠陥絵素修正方法。
  4. 【請求項4】 前記レーザ光の波長が248nmに選ば
    れ、前記レーザ光のエネルギ量が13.6J/cm2
    選ばれることを特徴とする請求項3記載の液晶表示装置
    の欠陥絵素修正方法。
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