JP2005275135A - 液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法および修正装置 - Google Patents
液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法および修正装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005275135A JP2005275135A JP2004090117A JP2004090117A JP2005275135A JP 2005275135 A JP2005275135 A JP 2005275135A JP 2004090117 A JP2004090117 A JP 2004090117A JP 2004090117 A JP2004090117 A JP 2004090117A JP 2005275135 A JP2005275135 A JP 2005275135A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- defective pixel
- crystal display
- lens
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136259—Repairing; Defects
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01G—HORTICULTURE; CULTIVATION OF VEGETABLES, FLOWERS, RICE, FRUIT, VINES, HOPS OR SEAWEED; FORESTRY; WATERING
- A01G7/00—Botany in general
- A01G7/06—Treatment of growing trees or plants, e.g. for preventing decay of wood, for tingeing flowers or wood, for prolonging the life of plants
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/082—Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/083—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction
- B23K26/0853—Devices involving movement of the workpiece in at least in two axial directions, e.g. in a plane
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D47/00—Closures with filling and discharging, or with discharging, devices
- B65D47/04—Closures with discharging devices other than pumps
- B65D47/043—Closures with discharging devices other than pumps with pouring baffles, e.g. for controlling the flow
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D47/00—Closures with filling and discharging, or with discharging, devices
- B65D47/04—Closures with discharging devices other than pumps
- B65D47/06—Closures with discharging devices other than pumps with pouring spouts or tubes; with discharge nozzles or passages
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/50—Protective arrangements
- G02F2201/506—Repairing, e.g. with redundant arrangement against defective part
- G02F2201/508—Pseudo repairing, e.g. a defective part is brought into a condition in which it does not disturb the functioning of the device
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Forests & Forestry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ecology (AREA)
- Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Environmental Sciences (AREA)
- Botany (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
【課題】大型液晶ディスプレイの欠陥画素の修正が可能であり、さらに結像光学系の搭載も可能である液晶ディスプレイの欠陥画像修正方法および修正装置を提供すること。
【解決手段】集光レンズ3で集光されたレーザ光Lを照射することで、液晶ディスプレイDの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイDの欠陥画素修正方法において、上記液晶ディスプレイDを移動させて、上記欠陥画素を上記集光レンズ3の直下に位置決めする位置決め工程と、上記位置決め工程の後、上記集光レンズ3を上記レーザ光Lの光軸と交差する方向に移動させることにより、上記集光レンズ3から出射するレーザ光Lで上記欠陥画素を走査する走査工程とを具備する。
【選択図】 図1
【解決手段】集光レンズ3で集光されたレーザ光Lを照射することで、液晶ディスプレイDの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイDの欠陥画素修正方法において、上記液晶ディスプレイDを移動させて、上記欠陥画素を上記集光レンズ3の直下に位置決めする位置決め工程と、上記位置決め工程の後、上記集光レンズ3を上記レーザ光Lの光軸と交差する方向に移動させることにより、上記集光レンズ3から出射するレーザ光Lで上記欠陥画素を走査する走査工程とを具備する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、液晶ディスプレイに発生した欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置および修正方法に関する。
液晶ディスプレイの製造過程において、TFTが動作しない画素や液晶が駆動しない画素が形成されると、液晶が透過光を遮断できなくなり、その部分が輝点欠陥となって現れることがある。この輝点欠陥は、液晶ディスプレイの表示品質を著しく低下させるため、設計や製造プロセスの工夫により発生率の低減が図られている。しかしながら、設計や製造プロセスの工夫では発生率の低減に限界があり、未だ完全な解消には至っていない。そこで、現在では、液晶ディスプレイを製造した後に、各画素上に輝点欠陥が存在するかどうかを調べ、存在した場合にその輝点欠陥を1つずつ修正する方法が採られている。液晶ディスプレイの輝点欠陥を修正する方法として、輝点欠陥が存在する画素(以下、「欠陥画素」と称する。)にレーザ光を照射して、透過光を減少させるリペア法が開示されている(例えば、特許文献1〜4参照。)。
このリペア法において、レーザ発振器から出射したレーザ光は、集光レンズを通ってステージ上の液晶ディスプレイに照射される。このとき、ステージを駆動(以下、「位置決め駆動」と称する。)して液晶ディスプレイ上の欠陥画素を集光レンズの直下に位置決めしておくことで、集光レンズから出射したレーザ光を目標の欠陥画素に照射する。欠陥画素に照射されたレーザ光は、ガラス基板上の配向膜を加工し、微細な粒子を発生させる。この粒子は加工点の周囲に飛散して欠陥画素の表面に堆積し、液晶分子に対する配向膜の配向性を低下させる。これによって、加工点の周囲では液晶分子の配列がランダムとなり、透過光が減少するため、輝点欠陥が目立たなくなる。
特開平7−225381号公報
特開平8−015660号公報
特開平8−201813号公報
特開平10−260419号公報
ところで、上述のリペア法を用いて配向膜を加工する場合、レーザ光を欠陥画素上で走査する必要がある。従来、この方法として、ステージの駆動(以下、「走査駆動」と称する。)により、レーザ光を液晶ディスプレイに対して相対移動させることで、欠陥画素を走査する走査法が採用されていた。この方法では、レーザ光の光軸が常に集光レンズの中心を通るため、欠陥画素上の走査経路が安定するというメリットがある。
しかしながら、テレビ等に用いられる大型の液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する場合、位置決め駆動の分解能と走査駆動の分解能とが極端に異なるため、これらの駆動を1つのテーブルで行うことは困難であった。
そこで、最近では、位置決め駆動と走査駆動とを別のステージに行わせる方法が採用されている。具体的には、レーザ発振器、アッテネータ、モニタ、及び光学系などを1つの板に載せ、この板を駆動することによりレーザ光で欠陥画素を走査する方法が採用されている。
また、液晶ディスプレイ上に発生する欠陥の種類は、リペア装置に搬入されてから判明することが多い。そのため、1台のリペア装置で複数種の欠陥をリペアできれば、作業上、非常に効率的である。
そこで、最近は多数種の欠陥修正に対応できるように、集光光学系と結像光学系の両方を搭載したリペア装置が求められている。しかしながら、結像光学系は大型であるため、集光光学系と結像光学系の両方を板に搭載した場合、これらを高分解能で走査駆動するのは非常に困難である。
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、大型液晶ディスプレイの欠陥画素の修正が可能であり、さらに結像光学系の搭載も可能である液晶ディスプレイの欠陥画像修正方法および修正装置を提供することにある。
上記課題を解決し目的を達成するために、本発明の液晶ディスプレイの欠陥画素方法および修正装置は次のように構成されている。
(1)レンズで集光されたレーザ光を照射することで、液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズと対向するように位置決めする位置決め工程と、上記位置決め工程の後、上記レンズを上記レーザ光の光軸方向と交差する方向に移動させることで、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する走査工程とを具備することを特徴とする。
(2)レンズで集光されたレーザ光を照射することで、液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズと対向するように位置決めする位置決め工程と、上記位置決め工程の後、上記レンズに入射するレーザ光をその光軸方向と交差する方向に移動させることで、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する走査工程とを具備することを特徴とする。
(3)(1)または(2)に記載した液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法であって、上記走査工程の前に、上記欠陥画素にレーザ光を照射してその周辺に気泡を発生させる気泡発生工程をさらに具備することを特徴とする。
(4)(3)に記載した液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法であって、上記気泡発生工程ではマルチモードのレーザ光を用い、上記走査工程ではシングルモードのレーザ光を用いることを特徴とする。
(5)(4)に記載した液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法であって、上記レーザ光はLD励起固体レーザ光であり、LDの温度を変化させることで、LDの発振波長を制御して、上記レーザ光のモードを制御することを特徴とする。
(6)(1)または(2)に記載した液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法であって、上記走査工程では、上記レーザ光によって上記欠陥画素内に形成された配向膜を加工することを特徴とする。
(7)レーザ光の照射により液晶ディスプレイ上の欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、上記レーザ光を出射するレーザ出射部と、上記レーザ出射部から出射したレーザ光を集光するレンズと、上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズに対向するように位置決めする第1のステージと、上記レンズを上記レーザ光の光軸方向と交差する方向に移動させることにより、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する第2のステージとを具備することを特徴とする。
(8)レーザ光の照射により液晶ディスプレイ上の欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、上記レーザ光を出射するレーザ出射部と、上記レーザ出射部から出射したレーザ光を集光するレンズと、上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズに対向するように位置決めするステージと、上記レンズに入射するレーザ光をその光軸方向と交差する方向に移動させることにより、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査するスキャナとを具備することを特徴とする。
本発明によれば、大型液晶ディスプレイの欠陥画素の修正に対応でき、さらに結像光学系の搭載にも対応できる。
以下、図1〜図6を参照しながら本発明の第1の実施の形態について説明する。
最初に、図6を用いて液晶ディスプレイの構成を簡単に説明する。
図6は液晶ディスプレイの断面図である。
図6に示すように、この液晶ディスプレイDは、対向配置された2枚のガラス基板61、62を有している。これらガラス基板61、62の外側面にはそれぞれ偏光フィルム63、64が貼り付けられ、ガラス基板61、62の間には液晶65が封入されている。
一方のガラス基板61の内側面には、複数のTFT66(薄膜トランジスタ)がマトリクス状に形成されており、その上には配向膜67が形成されている。また、他方のガラス基板62の内側面には、各TFT66と対応位置してR(赤色)、G(緑色)、B(青色)のカラーフィルタ68がそれぞれ設けられており、その上には保護膜69、ITO膜70、及び配向膜71が順に形成されている。
上記構成の液晶ディスプレイDにおいては、TFT66の駆動によって液晶分子の配列を変えることで、光の透過、遮断を制御している。
次に、図1〜図5を用いて本発明の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置を説明する。
図1は本発明の第1の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略的構成図である。
図1に示すように、この液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置は、液晶ディスプレイDを保持するための第1のステージ1を有している。この第1のステージ1には制御装置2が接続されており、この制御装置2から指令信号を与えることで、保持した液晶ディスプレイDをXY方向に駆動できるようになっている。なお、この第1のステージ1は、大ストローク用のもので、数mm〜数100mm程度の駆動を対象としている。
第1のステージ1の上面側には、高倍率の集光レンズ3が配置されている。この集光レンズ3は円柱状に形成されており、その軸心線は略垂直方向に向けられている。集光レンズ3の径方向中心部には、軸心線方向に沿って透光穴4が形成されており、この透光穴4に集光レンズ3の上方からレーザ光Lを導入することで、集光レンズ3の下方にレーザスポットSが形成されるようになっている。
なお、本実施の形態で用いるレーザ光Lの光径は、集光レンズ3の透光穴4の内径よりも小さい。そのため、レーザ出射部6から出射したレーザ光Lは、完全に透光穴4内に入射するようになっている。
この集光レンズ3は、電動式の保持レボルバ41に保持されている。この保持レボルバ41は、集光レンズ3の他に欠陥画素Gを観察するための低倍率の観察用レンズ42を保持しており、保持レボルバ41を回転駆動することで、集光レンズ3と観察用レンズ42とを交換できるようになっている。
この保持レボルバ41は、第2のステージ5によって保持されている。この第2のステージ5には制御装置2が接続されており、この制御装置2から指令信号を与えることで、集光レンズ3を保持レボルバ41ごとXY方向に駆動できるようになっている。なお、この第2のステージ5は、微小ストローク用のもので、数μm〜数100μm程度の駆動を対象としている。
集光レンズ3に導入されるレーザ光Lは、レーザ出射部6から出射される。このレーザ出射部6は、レーザ発振器7、アッテネータ8、パワーモニタ9、及び反射ミラー10を備えている。
図2は同実施の形態に係るレーザ発振器7の概略的構成図である。
図2に示すように、このレーザ発振器7は、レーザダイオード11(以下、「LD」と称する。)、励起光レンズ12、レーザロッド13、Qスイッチ14、及び出力ミラー15を備えている。レーザロッド13としては、YVO4からなる母材結晶にNdをドープしたものを用いている。
LD11に電流を供給すると、その活性層から励起光Mが出射し、励起光レンズ12を通ってレーザロッド13に入射する。この励起光Mは、レーザロッド13、Qスイッチ14、及び出力ミラー15により共振され、レーザ光Lとなってレーザ発振器7から出射する。このときレーザ発振器7から出射するレーザ光Lは、励起光Mの温度依存性によってLD温度に応じたモードとなる。
この温度依存性とは、LD温度の変化によって励起光Mの波長が変化することを言う。励起光Mの波長が変化すると、Ndに対する励起光Mの吸収率が変化し、レーザロッド13が加熱される。その結果、レーザロッド13が熱レンズ効果により変形し、レーザ光Lのモードを変化させるのである。
図3は同実施の形態に係るレーザ発振器7から出射するレーザ光LとLD温度との関係を示す概略図である。なお、LD11に供給する電流は20.0A、繰り返し周波数は1kHzである。
図3に示すように、LD温度を26℃〜28℃に設定すれば、レーザ光Lはリング状の強度分布を呈する、いわゆるマルチモードとなり、LD温度を38℃〜40℃に設定すれば、レーザ光Lはガウシアン状の強度分布を呈する、いわゆるシングルモード(TEM00)となることがわかる。
次に、上記構成の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置を使用する際の作用について説明する。
液晶ディスプレイDから欠陥画素Gが検出されたら、第1のステージ1を駆動して欠陥画素Gを集光レンズ3の直下に位置決めする。そして、欠陥画素Gが集光レンズ3の透光穴4と対向したら、LD温度を26℃〜28℃に設定し、レーザ発振器7からマルチモードのレーザ光Lを出射させる。
このレーザ光Lは、アッテネータ8、パワーモニタ9を経た後、反射ミラー10により集光レンズ3の透光穴4に導かれ、上記集光レンズ3の集光作用によりレーザスポットSとなって欠陥画素Gに照射される。
このレーザスポットSは欠陥画素Gを緩やかに加熱し、ガラス基板61、62の間に気泡を発生させる。なお、マルチモードのレーザスポットSはエネルギー密度が低いため、配向膜67、71を損傷することがない。
ガラス基板61、62の間に気泡が発生したら、LD温度を38℃〜40℃に設定し、レーザ発振器7からシングルモードのレーザ光Lを繰り返し周波数fでパルス状に出射させる。このレーザ光Lは、アッテネータ8、パワーモニタ9を経た後、反射ミラー10により集光レンズ3の透光穴4に導かれ、集光レンズ3の集光作用によりレーザスポットSとなって欠陥画素Gに照射される。
このレーザスポットSは、ガラス基板61、62上に形成された配向膜67、71の一部を溶融蒸発(以下、「加工」と呼ぶ。)させ、加工点の周囲にPI(ポリイミド)の微粒子を発生させる。この微粒子は、配向膜67、71の周囲に付着、堆積し、配向膜67、71の液晶65に対する配向性を低下させる。これによって、加工点の周囲では液晶分子の配列がランダムとなり、輝点欠陥の原因となる透過光が減少するため、輝点欠陥が目立たなくなる。
このとき、第2のステージ5を駆動して集光レンズ3をXY方向(レーザ光Lの光軸に対して略垂直方向)に移動させる。集光レンズ3を移動させると、集光レンズ3の下方に形成されるレーザスポットSも集光レンズ3と同じ距離だけ同じ方向に移動する。
そのため、配向膜67、71の加工中に集光レンズ3を移動させて、図4に示すように欠陥画素G上でレーザスポットSを蛇行させると、欠陥画素G上の配向膜全体を加工することができる。
欠陥画素Gを走査するときは、図5に示すように、下記[数1]で定義されるオーバーラップ率aが一定となるように、繰り返し周波数fを第2のステージ5と同期させる。なお、[数1]中のvは走査速度、dはレーザスポット径である。
このように、レーザ光Lの繰り返し周波数fを第2のステージ5と同期させると、走査経路上の折り返し部F付近で走査速度が減速しても、その部分が過剰に加熱されることがないから、カラーフィルタ68を損傷することなく、配向膜67、71全体を均一なエネルギーで加工することができる。
上記構成の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法および修正装置によれば、分解能が大きく異なる2つの動作、つまり欠陥画素Gを集光レンズ3の直下に位置決めする動作と、レーザ光Lで欠陥画素Gを走査する動作とを異なるステージ、つまり第1のステージ1と第2のステージ5にそれぞれ行わせている。
そのため、本発明の液晶ディスプレイ欠陥画素修正方法および修正装置を用いれば、テレビ等に使用される大型の液晶ディスプレイであっても、欠陥画素の修正に対応することができる。しかも、集光レンズ3のみを駆動する構成であり、レーザ出射部6を駆動しないため、大型の結像光学系を搭載することも可能である。
また、LD温度を変化させることで、レーザ光Lをマルチモードとシングルモードとに切り換えている。そのため、気泡の発生と配向膜の加工とを1つのレーザ出射部6で行うことができる。しかも、LD温度の制御は非常に簡単なので、装置構成を複雑化することなく実現できる。
次に、図7を参照しながら本発明の第2の実施の形態について説明する。
図7は本発明の第2の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略的構成図である。
図7に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法および修正装置では、レーザ発振器7から出射したレーザ光Lを集光レンズ3に入射する前にスキャナユニット21によってスキャンする方式を用いている。
このスキャナユニット21は、2枚のミラー(図示しない)を備えており、これらミラーの角度を変えることで、集光レンズ3に入射するレーザ光LをXY方向にスキャンできるようになっている。
スキャナユニット21から出射したレーザ光Lは、固定配置された集光レンズ3に入射し、集光レンズ3の下方にレーザスポットSを形成する。このレーザスポットSは、レーザ光Lのスキャンに伴って、欠陥画素G上を走査しながら配向膜67、71を加工する。
このような構成であっても、上記第1の実施の形態と同様に、大型液晶ディスプレイの欠陥画素の修正に対応でき、かつ集光光学系と結像光学系を搭載することによるレーザ出射部6の大型化にも対応することができる。
次に、図8と図9を参照しながら本発明の第3の実施の形態について説明する。
図8は本発明の第3の実施の形態に係るレーザ光の強度分布を示す概略図、図9は同実施の形態に係るレーザスポットの強度を示す概略図である。
図8に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置では、集光レンズ3の透光穴4の内径よりも大きな光径を有するレーザ光Lを用いている。
このレーザ光Lは、上述のようにガウシアンビームであり、空間的に不均一な強度分布を持っている。そのため、図9に示すように、集光レンズ3の透光穴4とレーザ光Lとの相対位置(横軸)によっては、集光レンズ3の下方に形成されるレーザスポットSの強度(縦軸)に差が生じてしまう。そのため、集光レンズ3とレーザ光Lとの相対位置をずらしながら欠陥画素Gを走査する場合、欠陥画素G全体を一定のエネルギーで加工することができなかった。
しかしながら、ガウシアンビームは、強度分布が理論的に求められているため、この理論値に基づいてレーザスポットSの強度をアッテネータ8で補正することにより、欠陥画素全体を一定のエネルギーで加工することができる。
なお、ガウシアン分布以外の強度分布を持つレーザ光を用いる場合には、加工前に集光レンズ3に対するレーザ光Lの相対位置とレーザスポットSの強度との関係を実測しておき、その実測データに基づいてレーザスポットSの強度を補正してもよい。
次に、図10を参照しながら本発明の第4の実施の形態について説明する。
図10は本発明の第4の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略的構成図である。
図10に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置では、第2のステージ5の下方に気泡発生用LD31を配置している。この気泡発生用LD31は、第1のステージ1に設けられた挿通孔1aを介して液晶ディスプレイDにレーザ光Kを照射し、欠陥画素Gを緩やかに加熱する。このような構成であっても、ガラス基板61、62の間に気泡を発生させることができる。
次に、図11を参照しながら本発明の第5の実施の形態について説明する。
図11は本発明の第5の実施の形態に係る欠陥画素上の走査経路の概略図である。
図11に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置では、レーザスポットSの折り返し部F付近で走査方向を滑らかに変化させることで、走査速度を略一定に保っている。
このように走査すれば、オーバーラップ率aが一定となるように繰り返し周波数fを制御しなくても、カラーフィルタ68やITO膜70を損傷することなく、配向膜全体を略均一な強度で加工することができる。
次に、図12を参照しながら本発明の第6の実施の形態について説明する。
図12は本発明の第6の実施の形態に係る欠陥画素上の走査経路の概略図である。
図12に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置では、レーザスポットSによって本来必要な走査範囲よりも大きな範囲を走査し、レーザスポットSが本来走査する必要の無い範囲に照射されているときに、機械的シャッターや電気的シャッターを使ってレーザ光Lをオン/オフしている。
このように走査すれば、オーバーラップ率aが一定となるよう繰り返し周波数fを制御することなく、カラーフィルタ68やITO膜70を損傷することなく、配向膜全体を略均一なエネルギーで加工することができる。
なお、本発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
1…第1のステージ、3…集光レンズ(レンズ)、5…第2のステージ、6…レーザ出射部、21…スキャナユニット(スキャナ)、D…液晶ディスプレイ、L…レーザ光、G…欠陥画素、67、71…配向膜。
Claims (8)
- レンズで集光されたレーザ光を照射することで、液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、
上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズと対向するように位置決めする位置決め工程と、
上記位置決め工程の後、上記レンズを上記レーザ光の光軸方向と交差する方向に移動させることで、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する走査工程と、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。 - レンズで集光されたレーザ光を照射することで、液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、
上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズと対向するように位置決めする位置決め工程と、
上記位置決め工程の後、上記レンズに入射するレーザ光をその光軸方向と交差する方向に移動させることで、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する走査工程と、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。 - 上記走査工程の前に、上記欠陥画素にレーザ光を照射してその周辺に気泡を発生させる気泡発生工程をさらに具備することを特徴とする請求項1または2記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
- 上記気泡発生工程ではマルチモードのレーザ光を用い、上記走査工程ではシングルモードのレーザ光を用いることを特徴とする請求項3に記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
- 上記レーザ光はLD励起固体レーザ光であり、LDの温度を変化させることで、LDの発振波長を制御して、上記レーザ光のモードを制御することを特徴とする請求項4記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
- 上記走査工程では、上記レーザ光によって上記欠陥画素内に形成された配向膜を加工することを特徴とする請求項1または請求項2記載の欠陥画素修正方法。
- レーザ光の照射により液晶ディスプレイ上の欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、
上記レーザ光を出射するレーザ出射部と、
上記レーザ出射部から出射したレーザ光を集光するレンズと、
上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズに対向するように位置決めする第1のステージと、
上記レンズを上記レーザ光の光軸方向と交差する方向に移動させることにより、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する第2のステージと、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。 - レーザ光の照射により液晶ディスプレイ上の欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、
上記レーザ光を出射するレーザ出射部と、
上記レーザ出射部から出射したレーザ光を集光するレンズと、
上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズに対向するように位置決めするステージと、
上記レンズに入射するレーザ光をその光軸方向と交差する方向に移動させることにより、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査するスキャナと、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004090117A JP2005275135A (ja) | 2004-03-25 | 2004-03-25 | 液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法および修正装置 |
CNB2005100564715A CN100437315C (zh) | 2004-03-25 | 2005-03-22 | 用于校正液晶显示器的坏点的方法和装置 |
TW094108798A TWI331685B (en) | 2004-03-25 | 2005-03-22 | Method and apparatus for correcting a defective pixel of a liquid crystal display |
SG200502788A SG115854A1 (en) | 2004-03-25 | 2005-03-23 | Method and apparatus for correcting a defective pixel of a liquid crystal display |
US11/086,230 US20050213022A1 (en) | 2004-03-25 | 2005-03-23 | Method and apparatus for correcting a defective pixel of a liquid crystal display |
KR1020050024763A KR100755817B1 (ko) | 2004-03-25 | 2005-03-25 | 액정 표시 장치의 결함 화소를 보정하는 방법 및 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004090117A JP2005275135A (ja) | 2004-03-25 | 2004-03-25 | 液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法および修正装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005275135A true JP2005275135A (ja) | 2005-10-06 |
Family
ID=34989383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004090117A Pending JP2005275135A (ja) | 2004-03-25 | 2004-03-25 | 液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法および修正装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050213022A1 (ja) |
JP (1) | JP2005275135A (ja) |
KR (1) | KR100755817B1 (ja) |
CN (1) | CN100437315C (ja) |
SG (1) | SG115854A1 (ja) |
TW (1) | TWI331685B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013113969A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Ntn Corp | 欠陥修正装置 |
JP2014157335A (ja) * | 2013-02-18 | 2014-08-28 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置の輝点欠陥修正方法および液晶表示装置の製造方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4723915B2 (ja) * | 2005-06-03 | 2011-07-13 | 株式会社東芝 | 液晶パネルのリペア方法及びリペア装置 |
JP4776291B2 (ja) * | 2005-07-14 | 2011-09-21 | 株式会社東芝 | 液晶パネル及びそのリペア方法 |
JP2007206550A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Toshiba Corp | 液晶パネルの欠陥画素修正装置 |
US8330070B2 (en) * | 2006-05-11 | 2012-12-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Laser shock hardening method and apparatus |
KR100776000B1 (ko) * | 2006-11-29 | 2007-11-15 | 삼성전자주식회사 | 평판 디스플레이 및 평판 디스플레이의 결함 보상방법 |
JP5640328B2 (ja) * | 2009-05-20 | 2014-12-17 | ソニー株式会社 | 欠陥修正装置及び欠陥修正方法 |
US8773451B2 (en) * | 2011-05-03 | 2014-07-08 | Apple Inc. | Color correction method and apparatus for displays |
CN104730679A (zh) * | 2013-12-24 | 2015-06-24 | 昆山国显光电有限公司 | 改进型镜片承载装置及其使用方法 |
CN104935838B (zh) * | 2015-06-04 | 2018-04-06 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 一种图像还原的方法 |
CN110598332A (zh) * | 2019-09-19 | 2019-12-20 | 长春理工大学 | 一种大功率激光切割光学系统焦点轴向位置的计算方法 |
CN111299811A (zh) * | 2020-02-26 | 2020-06-19 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种激光修复设备及修复顶发射自发光显示面板的方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57192023A (en) * | 1981-05-22 | 1982-11-26 | Hitachi Ltd | Correcting device for photo-mask |
US5280374A (en) * | 1991-03-01 | 1994-01-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method of compensating for a defect |
JP2766563B2 (ja) * | 1991-03-27 | 1998-06-18 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
JP3078102B2 (ja) * | 1992-04-28 | 2000-08-21 | 株式会社東芝 | 液晶ディスプレイの修正方法及びその装置 |
JPH071173A (ja) * | 1993-06-18 | 1995-01-06 | Hoya Corp | 観察機能付レーザ加工装置 |
JP3063688B2 (ja) * | 1997-07-30 | 2000-07-12 | 日本電気株式会社 | レーザ加工装置及びその制御方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体 |
EP1173302B1 (en) * | 1999-04-27 | 2005-04-20 | GSI Lumonics Inc. | Laser calibration apparatus and method |
US6713715B2 (en) * | 2001-01-16 | 2004-03-30 | Potomac Photonics, Inc. | Method and system for laser marking a gemstone |
-
2004
- 2004-03-25 JP JP2004090117A patent/JP2005275135A/ja active Pending
-
2005
- 2005-03-22 CN CNB2005100564715A patent/CN100437315C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-22 TW TW094108798A patent/TWI331685B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-03-23 SG SG200502788A patent/SG115854A1/en unknown
- 2005-03-23 US US11/086,230 patent/US20050213022A1/en not_active Abandoned
- 2005-03-25 KR KR1020050024763A patent/KR100755817B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013113969A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Ntn Corp | 欠陥修正装置 |
JP2014157335A (ja) * | 2013-02-18 | 2014-08-28 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置の輝点欠陥修正方法および液晶表示装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG115854A1 (en) | 2005-10-28 |
TW200602725A (en) | 2006-01-16 |
CN100437315C (zh) | 2008-11-26 |
TWI331685B (en) | 2010-10-11 |
KR100755817B1 (ko) | 2007-09-07 |
KR20060044721A (ko) | 2006-05-16 |
US20050213022A1 (en) | 2005-09-29 |
CN1673835A (zh) | 2005-09-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100755817B1 (ko) | 액정 표시 장치의 결함 화소를 보정하는 방법 및 장치 | |
US8045132B2 (en) | Method and apparatus for repairing a liquid crystal panel | |
US8785810B2 (en) | Laser optical system, repair apparatus and method using the same | |
WO2011065373A1 (ja) | レーザ加工方法 | |
JP4640029B2 (ja) | 波長変換光学系、レーザ光源、露光装置、被検物検査装置、及び高分子結晶の加工装置 | |
JP2006278491A (ja) | 照射装置 | |
JP2011031284A (ja) | レーザ加工方法 | |
KR100778316B1 (ko) | 레이저를 이용한 액정패널의 흑화장치 및 방법 | |
JP2003255552A (ja) | レーザ照射装置並びに走査レーザ光を用いた露光方法及び走査レーザ光を用いたカラーフィルタの製造方法 | |
JP6327735B2 (ja) | 液晶表示パネルの輝点欠陥除去方法及び装置 | |
JP2019176079A (ja) | ウェーハ加工方法及びウェーハ加工装置 | |
JP4801634B2 (ja) | レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法 | |
JP2014102445A (ja) | 液晶表示パネルの輝点欠陥除去方法及び装置 | |
JP2007029959A (ja) | レーザ加工機 | |
JP2000042764A (ja) | パターン修正装置および修正方法 | |
JP2006091671A (ja) | 液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び欠陥画素修正装置 | |
JP5205035B2 (ja) | 光ビーム分岐装置、照射装置、光ビームの分岐方法、電子デバイスの製造方法、および精密部品の製造方法 | |
JP2006326629A (ja) | レーザー加工装置およびそれを用いたレーザー加工方法 | |
JP2005345602A (ja) | 液晶パネルの製造方法および液晶パネル、並びにプロジェクタおよびリアプロジェクションテレビ | |
JP2005274709A (ja) | レーザリペア装置、レーザリペア装置動作プログラム及び液晶表示装置の修正方法 | |
KR100685145B1 (ko) | 칼라필터 결함 리페어 장치 | |
KR100831882B1 (ko) | 결함 수정 장치 | |
JPH06175096A (ja) | 液晶ディスプレイの修正方法 | |
WO2020022552A1 (ko) | 레이저 어닐링 장치 | |
JP2024075966A (ja) | 発光素子の製造方法および発光素子修復装置 |