JP4801634B2 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法 - Google Patents
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Description
更に、本発明の他の観点によれば、レーザビームを出射するレーザ光源と、加工痕を有する加工対象物を保持するステージと、前記レーザ光源を出射したレーザビームを、前記ステージに保持された加工対象物上に伝搬する伝搬光学系と、前記ステージに保持された加工対象物の加工痕の、基準位置からのずれ量を検出する検出手段と、前記検出手段による加工痕のずれ量の検出と併行的に、検出されたずれ量に基いて、前記伝搬光学系を介し、前記ステージに保持された加工対象物上へのレーザビームの入射位置を制御する制御装置とを有し、レーザビームは、ずれ量を検出する位置とは異なる位置に照射されるレーザ加工装置が提供される。
22 バリアブルアッテネータ
23 エキスパンダ
24 均一光学系
25 マスク
26 可動式イメージングレンズ
27 ダイクロイックミラー
28 ガルバノスキャナ
29 照明光源
30 ステージ
31 ガルバノスキャナ
32 可動式イメージングレンズ
33 CCDカメラ
34 制御装置
34a 記憶装置
35 パルスレーザビーム
50 パネル
51 ガラス基板
52 ITO膜
53 アモルファスシリコン膜
54 Ag膜
52a〜54a 除去部
81、83 目標加工軌跡
82、84 加工痕
85、86 加工痕
87 撮像領域
88 観察点
89 加工位置
90、91、92 目標加工軌跡
Claims (8)
- レーザビームを出射するレーザ光源と、
加工対象物を保持するステージと、
前記レーザ光源を出射したレーザビームを、その入射位置が前記ステージに保持された加工対象物上で移動するように走査する第1の光偏向器を含む光学系と、
第2の光偏向器と、
前記第1及び第2の光偏向器を介して、前記ステージに保持された加工対象物の表面上の一部の領域を撮像する撮像素子と、
前記ステージに保持された加工対象物の表面のうち前記レーザビームの入射している位置とは異なる領域であって、既に加工された領域が、前記撮像素子で撮像されるように前記第2の光偏向器を制御する制御装置と
を有するレーザ加工装置。 - 前記制御装置は、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを入射させるべき位置を表す目標入射位置情報を記憶する記憶装置を有し、前記撮像素子で撮像された前記加工対象物の表面の画像情報に基づいて、前記目標入射位置情報を補正し、補正後の目標入射位置情報で表される位置にレーザビームが入射するように、前記第1の偏向器を制御する請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記制御装置は、前記撮像素子で撮像された前記加工対象物の表面の加工痕の位置に基づいて、前記目標入射位置情報を補正する請求項2に記載のレーザ加工装置。
- レーザビームを出射するレーザ光源と、
加工痕を有する加工対象物を保持するステージと、
前記レーザ光源を出射したレーザビームを、前記ステージに保持された加工対象物上に伝搬する伝搬光学系と、
前記ステージに保持された加工対象物の加工痕の、基準位置からのずれ量を検出する検出手段と、
前記検出手段による加工痕のずれ量の検出と併行的に、検出されたずれ量に基いて、前記伝搬光学系を介し、前記ステージに保持された加工対象物上へのレーザビームの入射位置を制御する制御装置と
を有し、
レーザビームは、ずれ量を検出する位置とは異なる位置に照射されるレーザ加工装置。 - レーザ加工すべき第1の目標線と第2の目標線とが画定された加工対象物を準備する工程と、
前記加工対象物上の第1の目標線上をレーザビームが走査するようにレーザ照射光学系を制御してレーザ加工を行い第1の加工痕を形成する工程と、
前記第1の目標線に対する前記第1の加工痕のずれを測定しながら、測定結果に基づいて第2の目標線を補正し、補正後の第2の目標線上をレーザビームが走査するように前記レーザ照射光学系を制御してレーザ加工を行い第2の加工痕を形成する工程と
を有するレーザ加工方法。 - 前記加工対象物の表面にXY直交座標系を定義したとき、
前記第1の目標線及び第2の目標線が、X方向と平行であり、
前記第2の加工痕を形成する工程が、
現時点でレーザビームが入射している第1のX座標よりも走査方向前方の第2のX座標の位置における前記第1の加工痕を観測し、該第1の加工痕のY座標を算出する工程と、
前記第2のX座標の位置における前記第1の目標線から前記第2の加工痕までのY軸方向のずれ量を計測する工程と、
計測されたずれ量に基づいて、前記第2のX座標の位置における第2の目標線のY座標を補正する工程と、
前記第2のX座標の位置にレーザビームが入射するとき、前記第2のX座標の位置における前記第2の目標線の補正後のY座標の位置にレーザビームが入射するように前記レーザ照射光学系を制御する工程と
を含む請求項5に記載のレーザ加工方法。 - 前記加工対象物に、さらにレーザ加工すべき第3の目標線が画定されており、
前記第2の加工痕を形成した後、さらに、
前記第2の目標線に対する前記第2の加工痕のずれを測定し、測定結果に基づいて前記第3の目標線を補正し、補正後の第3の目標線上をレーザビームが走査するように前記レーザ照射光学系を制御してレーザ加工を行い第3の加工痕を形成する工程を有する請求項5または6に記載のレーザ加工方法。 - 前記加工対象物に、さらにレーザ加工すべき第3の目標線が画定されており、
前記第2の加工痕を形成した後、さらに、
前記第1の目標線に対する前記第1の加工痕のずれを測定し、測定結果に基づいて前記第3の目標線を補正し、補正後の第3の目標線上をレーザビームが走査するように前記レーザ照射光学系を制御してレーザ加工を行い第3の加工痕を形成する工程を有する請求項5または6に記載のレーザ加工方法。
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